KR100921638B1 - 습식 세정 장치 - Google Patents

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Abstract

습식 세정 장치가 개시된다. 습식 세정 장치는 기판이 수용된 풉(FOUP)이 로딩되는 반입부; 반입부를 통해 로딩된 풉을 저장하는 풉 저장부; 풉 저장부의 측부에서 풉 저장부와 일렬적으로 배치되며, 풉 저장부에 저장된 풉에 수용된 기판을 정렬하는 기판 정렬부; 반입부 및 풉 저장부와 기판 정렬부 사이에 장착되어 풉을 이송하는 풉 이송부; 및 기판 정렬부에 의해 정렬된 기판을 세정 처리하는 세정 처리부를 포함한다.

Description

습식 세정 장치 {WET STATION}
본 발명은 반도체 소자를 제조하기 위한 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 소자의 제조시 이용되는 기판을 세정하기 위한 습식 세정 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 소자는 기판, 예를 들어, 실리콘 웨이퍼를 이용하여 증착, 사진 및 식각 공정 등을 반복 수행함으로써 제조될 수 있다. 상기 공정들을 거치는 동안 상기 기판 상에는 각종 파티클, 금속 불순물, 유기 불순물 등과 같은 오염 물질이 잔존할 수 있다. 상기 오염 물질은 반도체 소자의 수율 및 신뢰성에 악영향을 미치기 때문에, 반도체 제조시에는 상기 기판에 잔존하는 오염 물질을 제거하는 세정 공정을 수행한다.
상기 세정 공정은 크게 건식(Dry) 세정 공정 및 습식(Wet) 세정 공정으로 구분될 수 있다. 그 중에서, 습식 세정 공정은 여러 가지 약액이 일정 비율로 혼합된 세정액이 수용된 세정조 내부에, 상기 기판을 일정 시간 침지시켜 상기 기판을 세정하는 공정을 말한다.
상기 습식 세정 공정에 이용되는 습식 세정 장치는 크게 사이드(side) 타입 의 습식 세정 장치 및 프론트(front) 타입의 습식 세정 장치로 구분할 수 있다. 상기 사이드 타입의 습식 세정 장치란 처리될 기판이 장치의 일측으로 로딩되고, 처리가 완료된 기판은 다시 로딩된 측으로 언로딩되도록 구성된 장치를 말한다. 또한, 프론트 타입의 습식 세정 장치란 처리될 기판이 장치의 일측으로 로딩되고, 처리가 완료된 기판은 장치의 다른 일측으로 언로딩되도록 구성된 장치를 말한다. 이하에서는, 상기 습식 세정 장치 중에서 프론트 타입의 습식 세정 장치를 예로 들어 설명한다.
도 1은 배경기술에 따른 습식 세정 장치의 구성을 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 1을 참조하면, 배경기술에 따른 습식 세정 장치(1)는 반입부(10), 제1 풉 저장부(20), 제1 기판 정렬부(30), 제1 풉 이송부(40) 및 세정 처리부(50)를 포함한다. 또한, 배경기술에 따른 습식 세정 장치(1)는 반출부(60), 제2 풉 저장부(70), 제2 기판 정렬부(80), 제2 풉 이송부(90)를 더 포함할 수 있다.
반입부(10)는 장치 일측에 배치될 수 있으며, 소정 매수, 예를 들어, 25매의 처리될 기판(12), 예를 들어, 실리콘 웨이퍼가 그룹 단위로 수용되는 풉(FOUP: Front Opening Unified Pod: 14)이 로딩될 수 있도록 제공된다.
제1 풉 저장부(20)는 상기 반입부(10)를 통해 로딩된 풉(14)을 저장하도록 제공될 수 있다. 즉, 상기 제1 풉 저장부(20)에는 복수개의 선반(Shelf: 22)이 설치되어 있으며, 각 선반(22)에는 1개의 풉(14)이 저장될 수 있다.
제1 기판 정렬부(30)는 처리될 기판(12)을 그룹 형태로 재배치 및 재배열할 수 있다. 이를 위해, 상기 제1 기판 정렬부(30)는 제1 덤핑 로봇(32), 제1 수취 유닛(34) 및 제1 푸셔 유닛(36)을 구비할 수 있다.
세정 처리부(50)는 제1 기판 정렬부(30)에 의해 정렬된 상기 기판(12)을 세정 및 건조 처리할 수 있도록 제공될 수 있다. 이러한 세정 처리부(50)는 1열로 배치되는 복수개의 세정조(52) 및 건조 챔버(54)를 포함하여 구성될 수 있다.
반출부(60)는 반입부(10)와 대칭되는 장치 타측에 배치될 수 있으며, 처리 완료된 기판(12)이 언로딩될 수 있도록 제공될 수 있다.
제2 풉 저장부(70)는 제2 기판 정렬부(80)를 통해 배출된 처리 완료된 기판 그룹이 수용된 풉(14)을 저장하도록 제공될 수 있다. 즉, 상기 제2 풉 저장부(70)에는 복수개의 선반(72)이 설치되어 있으며, 각 선반(72)에는 1개의 풉(14)이 저장될 수 있다.
제2 기판 정렬부(80)는 처리 완료된 기판(12)을 그룹 형태로 재배치 및 재배열할 수 있다. 이를 위해, 상기 제2 기판 정렬부(80)는 제2 푸셔 유닛(82), 제2 수취 유닛(84) 및 제2 덤핑 로봇(86)을 구비할 수 있다.
제2 풉 이송부(90)는 상기 반출부(60) 및 상기 제2 풉 저장부(70)와 상기 제2 기판 정렬부(80) 사이에 장착되어 상기 풉(14)을 이송하도록 제공될 수 있다.
전술한 구성을 갖는 배경기술에 따른 습식 세정 장치(1)에서는 상기 제1 풉 저장부(20)의 선반(22)이 제1 풉 이송부(40)의 이동 경로를 따라 일렬적으로 배치되므로, 제1 풉 이송부(40)의 전후 이동 공간의 폭(W1)을 넓게 설계해야 하는 문제점이 발생한다. 이와 마찬가지로, 상기 제2 풉 저장부(70)의 선반(72)이 제2 풉 이 송부(90)의 이동 경로를 따라 일렬적으로 설치되므로, 제2 풉 이송부(90)의 전후 이동 공간의 폭(W2)을 넓게 설계해야 하는 문제점이 발생한다. 이 때문에, 상기 습식 세정 장치(1)의 소형화에 한계가 발생하고 있다.
따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 장치를 풉 이송부의 전후 이동 공간을 줄임으로써 장치를 소형화할 수 있는 습식 세정 장치를 제공하는 것이다.
또한, 본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 풉 이송부의 전후 이동 공간을 줄임으로써 공간 활용성 및 설계 자유도를 향상시킬 수 있는 습식 세정 장치를 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 해결하고자 하는 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 세정 장치는 기판이 수용된 풉(FOUP)이 로딩되는 반입부; 상기 반입부를 통해 로딩된 풉을 저장하는 풉 저장부; 상기 풉 저장부의 측부에서 상기 풉 저장부와 일렬적으로 배치되며, 상기 풉 저장부에 저장된 상기 풉에 수용된 상기 기판을 정렬하는 기판 정렬부; 상기 반입부 및 상기 풉 저장부와 상기 기판 정렬부 사이에 장착되어 상기 풉을 이송하는 풉 이송부; 및 상기 기판 정렬부에 의해 정렬된 상기 기판을 세정 처리하는 세정 처리부를 포함한다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다.
본 발명에 따르면, 풉 저장부 및 기판 정렬부를 일렬적으로 배치함으로써, 풉 이송부의 전후 이동 공간을 줄일 수 있다. 이를 통해, 습식 세정 장치를 소형화할 수 있다. 또한, 풉 저장부에 구비되는 선반의 배치를 통해 습식 세정 장치의 공간 활용성, 설계 자유도 및 소형화를 더욱 배가시킬 수 있다. 아울러, 세정 처리부를 2열로 배치할 경우, 공간 활용성 및 기판 처리 능력을 더욱 향상시킬 수 있으며, 2종 이상의 기판을 서로 다른 처리 프로그램으로 처리할 수 있다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 세정 장치에 대하여 상세히 설명한다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
본 발명의 일 실시예에서는 프론트 타입의 습식 세정 장치를 예로 들어 설명한다. 그러나, 이는 본 발명의 습식 세정 장치는 이에 국한되지 않는다. 일 예로, 본 발명은 사이드 타입의 습식 세정 장치에도 적용 가능하다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 세정 장치의 구성을 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 세정 장치(100)는 반입부(110), 제1 풉 저장부(120), 제1 기판 정렬부(130), 제1 풉 이송부(140) 및 세정 처리부(150)를 포함한다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 세정 장치(100) 는 반출부(160), 제2 풉 저장부(170), 제2 기판 정렬부(180), 제2 풉 이송부(190)를 더 포함할 수 있다. 여기서, 반출부(160), 제2 풉 저장부(170), 제2 기판 정렬부(180), 제2 풉 이송부(190) 각각은 반입부(110), 제1 풉 저장부(120), 제1 기판 정렬부(130), 제1 풉 이송부(140) 각각과 대칭적으로 설계될 수 있으나, 이는 요구되는 조건 및 설계환경에 따라 다양하게 변경될 수 있으므로, 이에 국한되지 않는다.
반입부(110)는 장치 일측에 배치될 수 있으며, 소정 매수, 예를 들어, 25매의 처리될 기판(112), 예를 들어, 실리콘 웨이퍼가 그룹 단위로 수용되는 풉(FOUP: 114)이 로딩될 수 있도록 제공된다. 여기서, 반입부(110)의 크기 및 그에 따라 로딩될 수 있는 최대 풉(114)의 개수는 요구되는 조건 및 설계환경에 따라 다양하게 변경될 수 있으므로, 이에 의해 본 발명이 한정되거나 제한되지는 않는다.
제1 풉 저장부(120)는 장치 외측으로 돌출될 수 있으며, 제1 풉 이송부(140)에 의해 반입부(110)와 이격되도록 배치될 수 있다. 이때, 상기 반입부(110)의 크기를 도시된 바보다 더 크게 변경하거나 반입부(110)의 위치 변경을 통해 상기 제1 풉 저장부(120)가 상기 반입부(110)와 대향하도록 할 수 있다.
상기 제1 풉 저장부(120)는 상기 반입부(110)를 통해 로딩된 풉(114)을 저장하도록 제공될 수 있다. 즉, 상기 제1 풉 저장부(120)에는 복수개의 선반(122)이 설치되어 있으며, 각 선반(122)에는 1개의 풉(114)이 저장될 수 있다. 상기 선반(122)에 저장된 풉(114)은 제1 풉 이송부(140)에 의해 제1 기판 정렬부(130)로 이송될 수 있는 바, 상기 제1 풉 이송부(140)의 구조, 크기 및 운동 경로, 및 제1 풉 저장부(120)의 크기 등을 고려하여 상기 선반(122)을 배치할 수 있다. 일 예로, 상기 선반(122)을 “U”자형으로 배치하거나, 또는 2열로 배치할 수 있다. 상술한 바와 같이 선반(122)을 배치할 경우, 상기 습식 세정 장치(100)의 공간 활용성 및 설계 자유도를 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 및 장치 소형화를 이룰 수 있다.
제1 기판 정렬부(130)는 상기 제1 풉 저장부(120)의 측부에서 상기 제1 풉 저장부(120)와 일렬적으로 배치될 수 있다. 이 때문에, 장치의 공간 활용성 및 설계 자유도를 향상시킬 수 있다.
상기 제1 기판 정렬부(130)는 처리될 기판(112)을 그룹 형태로 재배치 및 재배열할 수 있다. 즉, 상기 제1 기판 정렬부(130)는 상기 제1 풉 저장부(120)에 저장된 상기 풉(114)에 수용된 상기 기판(112)을 세정 처리부(150)에서 처리하기에 적합하도록 정렬할 수 있다. 일 예로, 제1 기판 정렬부(130)에는 1개의 풉(114) 내부에 수용된 기판 그룹, 예를 들어, 25매의 기판(112)으로 이루어진 기판 그룹을 풉(114) 외부로 수평 방향으로 반출하는 제1 덤핑 로봇(132), 제1 덤핑 로봇(132)에 의해 수평 방향으로 반출된 25매의 기판(112)으로 이루어진 기판 그룹을 수직 방향으로 배열시키는 제1 수취 유닛(134), 상기 제1 수취 유닛(134)에 의해 수직 방향으로 배열된 25매의 기판(112)으로 이루어진 기판 그룹을 2개조 인계받아 50매의 기판(112)으로 이루어진 기판 그룹으로 재정렬시키는 제1 푸셔 유닛(136)이 구비될 수 있다. 이러한 구조에 의해, 세정 처리될 기판(112)은 제1 덤핑 로봇(132)에 의해 반출된 후 제1 수취 유닛(134)을 거쳐 제1 푸셔 유닛(136)을 통해 재정렬될 수 있으며, 그 후 세정 처리부(150)를 따라 일련의 처리 과정을 거치게 된다. 한편, 상기 제1 기판 정렬부(130)의 구조 및 방식은 요구되는 조건 및 설계환경에 따라 다양하게 변경될 수 있으므로, 상기한 바에 국한되지 않는다.
제1 풉 이송부(140)는 상기 반입부(110) 및 상기 제1 풉 저장부(120)와 상기 제1 기판 정렬부(130) 사이에 장착되어 상기 풉(114)을 이송하도록 제공될 수 있다. 즉, 제1 풉 이송부(140)는 제1 좌우 이송부(142), 제1 전후 이송부(144) 및 제1 풉 지지대(146)를 포함하도록 구성되어 반입부(110)에 처리될 기판(112)이 수용된 풉(114)이 로딩되면 상기 풉(114)을 이송한 후 이를 제1 풉 저장부(120)에 저장한다. 아울러, 상기 제1 풉 이송부(140)는 상기 제1 풉 저장부(120)에 저장된 상기 풉(114)을 제1 덤핑 로봇(132)과 인접하도록 설치된 제1 오프너(opener: 148)까지 이송할 수 있다. 이때, 제1 오프너(148)는 자신의 위치까지 상기 풉(114)이 이송되면 상기 풉(114) 뚜껑을 자동으로 열어 제1 덤핑 로봇(132)이 상기 풉(114)에 수용된 기판(112) 그룹을 반출할 수 있도록 한다. 한편, 제1 덤핑 로봇(132)에 의해 기판(112) 그룹이 반출됨으로써 그 내부가 빈 풉(114)은 도시되지 않은 풉 이송라인을 따라 제2 오프너(198) 위치까지 이동할 수 있다.
세정 처리부(150)는 제1 기판 정렬부(130)에 의해 정렬된 상기 기판(112)을 세정 및 건조 처리할 수 있도록 제공될 수 있다. 이러한 세정 처리부(150)는 1열로 배치되는 복수개의 세정조(152) 및 건조 챔버(154)를 포함하여 구성될 수 있다. 이때, 기판(112)의 세정 공정은 여러 가지 약액이 일정 비율로 혼합된 세정액이 수용된 세정조(152) 내부에 기판(112)을 일정시간 침지 시킴으로써 구현될 수 있고, 기판(112)의 건조 공정은 기판(112)을 순수(DIW: Distilled Water) 안에서 수직 방향 으로 건조 챔버(154)로 끌어올림과 동시에 이소프로필 알콜(IPA : Iso-Propyl Alcohol) 및 질소 가스를 기판(112) 표면의 기액(氣液)계면 부근에 불어 넣는 것에 의해 마란고니 효과(Marangoni effect)를 발생시킴으로써 구현될 수 있다. 상기 세정 처리부(150)의 구조는 요구되는 조건 및 세정 환경에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 일 예로, 세정 처리부(150)는 그 입구단이 상기 제1 기판 정렬부(130)에 연결되고, 출구단이 제2 기판 정렬부(180)에 연결될 수 있으나, 이에 국한되지 않는다. 여기서, 상기 기판(112)은 세정 처리부(150)의 처리 경로를 따라 이동하는 이송 유닛(156)에 의해 이송될 수 있다.
반출부(160)는 반입부(110)와 대칭되는 장치 타측에 배치될 수 있으며, 처리 완료된 기판(112)이 언로딩될 수 있도록 제공될 수 있다. 여기서, 반출부(160)의 크기 및 그에 따라 언로딩될 수 있는 최대 풉(114)의 개수는 요구되는 조건 및 설계환경에 따라 다양하게 변경될 수 있으므로, 이에 의해 본 발명이 한정되거나 제한되지는 않는다.
제2 풉 저장부(170)는 장치 외측으로 돌출될 수 있으며, 제2 풉 이송부(190)에 의해 반출부(160)와 이격되도록 배치될 수 있다. 이때, 상기 반출부(160)의 크기를 도시된 바보다 더 크게 변경하거나 반출부(160)의 위치 변경을 통해 상기 제2 풉 저장부(170)가 상기 반출부(160)와 대향하도록 할 수 있다.
상기 제2 풉 저장부(170)는 제2 기판 정렬부(180)를 통해 배출된 처리 완료된 기판 그룹이 수용된 풉(114)을 저장하도록 제공될 수 있다. 즉, 상기 제2 풉 저장부(170)에는 복수개의 선반(172)이 설치되어 있으며, 각 선반(172)에는 1개의 풉(114)이 저장될 수 있다. 상기 선반(172)에 저장된 풉(114)은 제2 풉 이송부(190)에 의해 반출부(160)로 이송될 수 있는 바, 상기 제2 풉 이송부(190)의 구조, 크기 및 운동 경로, 및 제2 풉 저장부(170)의 크기 등을 고려하여 상기 선반(172)을 배치할 수 있다. 일 예로, 상기 선반(172)을 “U”자형으로 배치하거나, 또는 2열로 배치할 수 있으나, 이에 국한되지 않는다. 상술한 바와 같이 선반(172)을 배치할 경우, 상기 습식 세정 장치(100)의 공간 활용성 및 설계 자유도를 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 및 장치 소형화를 이룰 수 있다.
제2 기판 정렬부(180)는 상기 제2 풉 저장부(170)의 측부에서 상기 제2 풉 저장부(170)와 일렬적으로 배치될 수 있다. 이 때문에, 장치의 공간 활용성 및 설계 자유도를 향상시킬 수 있다.
상기 제2 기판 정렬부(180)는 처리 완료된 기판(112)을 그룹 형태로 재배치 및 재배열할 수 있다. 즉, 상기 제2 기판 정렬부(180)는 상기 풉(114)에 수용될 수 있는 매수만큼 상기 기판(112)을 정렬할 수 있다. 일 예로, 제2 기판 정렬부(180)에는 세정 완료된 50매의 기판 그룹을 수직 방향으로 대기시키는 제2 푸셔 유닛(182), 상기 제2 푸셔 유닛(182)에 대기하는 50매의 기판 그룹 중에서 25매의 기판(112)씩 수취하여 이를 수평 방향으로 배열시키는 제2 수취 유닛(184), 상기 제2 수취 유닛(184)에 의해 수평 방향으로 배열된 25매의 기판(112)으로 이루어진 기판 그룹을 그 내부가 빈 풉(114)에 수용시키는 제2 덤핑 로봇(186)이 구비될 수 있다. 한편, 상기 제1 기판 정렬부(130)의 구조 및 방식은 요구되는 조건 및 설계환경에 따라 다양하게 변경될 수 있으므로, 상기한 바에 국한되지 않는다.
제2 풉 이송부(190)는 상기 반출부(160) 및 상기 제2 풉 저장부(170)와 상기 제2 기판 정렬부(180) 사이에 장착되어 상기 풉(114)을 이송하도록 제공될 수 있다. 즉, 제2 풉 이송부(190)는 제2 좌우 이송부(192), 제2 전후 이송부(194) 및 제2 풉 지지대(196)를 포함하도록 구성되어 처리 완료된 기판 그룹이 수용된 풉(114)을 이송하여 제2 풉 저장부(170)에 저장한다. 아울러, 상기 제2 풉 이송부(190)는 상기 제2 풉 저장부(170)에 저장된 상기 풉(114)을 반출부(160)로 이송하여 상기 반출부(160)가 상기 풉(114)을 반출할 수 있도록 한다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 세정 장치(100)는 반입부(110) 및 제1 기판 정렬부(130)가 일렬적으로 배치되고, 반출부(160) 및 제2 기판 정렬부(180)가 일렬적으로 배치되기 때문에, 제1 및 제2 풉 이송부(140, 190)의 전후 이동 공간의 폭(W3, W4)을 줄일 수 있다. 이를 통해, 상기 습식 세정 장치(100)를 보다 더 소형화할 수 있다. 아울러, 제1 및 제2 풉 저장부(120, 170) 각각의 선반(122, 172) 배치를 통해 공간 활용성 및 설계 자유도를 더욱 향상시킬 수 있으며, 습식 세정 장치(100)를 더욱 소형화할 수 있다.
한편, 상술한 바와 같이, 제1 및 제2 풉 저장부(120, 170)는 각각 장치 외측으로 돌출될 수 있기 때문에, 제1 및 제2 풉 저장부(120, 170) 사이에 빈 공간이 발생하게 된다. 이와 같은 빈 공간을 효율적으로 이용하기 위해 세정 처리부(150)를 1열로 배치하는 것이 아니라 2열로 배치할 수 있다. 이에 대해, 도 3을 참조하여 보다 구체적으로 설명한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 세정 장치의 구성을 개략적으로 설 명하기 위한 도면이다. 도 3에 도시된 습식 세정 장치는 세정 처리부가 2열로 배치된다는 점을 제외하고는, 도 2에 도시된 습식 세정 장치와 동일하므로, 중복되는 설명은 생략하고, 그 특징에 대해서만 설명한다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 세정 장치(200)는 반입부(210), 제1 풉 저장부(220), 제1 기판 정렬부(230), 제1 풉 이송부(240) 및 세정 처리부(250)를 포함한다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 세정 장치(200)는 반출부(260), 제2 풉 저장부(270), 제2 기판 정렬부(280), 제2 풉 이송부(290)를 더 포함할 수 있다. 여기서, 반출부(260), 제2 풉 저장부(270), 제2 기판 정렬부(280), 제2 풉 이송부(290) 각각은 반입부(210), 제1 풉 저장부(220), 제1 기판 정렬부(230), 제1 풉 이송부(240) 각각과 대칭적으로 설계될 수 있으나, 이는 요구되는 조건 및 설계환경에 따라 다양하게 변경될 수 있으므로, 이에 국한되지 않는다.
세정 처리부(250)는 제1 기판 정렬부(230)에 의해 정렬된 상기 기판(212)을 세정 및 건조 처리할 수 있도록 제공될 수 있다. 여기서, 상기 세정 처리부(250)의 기판 처리는 전술한 바와 동일하다.
상기 세정 처리부(250)는 복수개의 세정조(252) 및 건조 챔버(254)를 포함하여 구성될 수 있다. 또한, 상기 세정 처리부(250)는 2열로 배치될 수 있다. 즉, 상기 세정 처리부(250) 중 하나는 전술한 바와 동일하게 배치되지만, 다른 하나는 제1 및 제2 풉 저장부(220, 270)의 사이에 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 습식 세정 장치(200)의 기판 처리 능력 및 공간 활용성을 더욱 극대화할 수 있다. 또한, 상기 세정 처리부(250)의 각열에 대응하여 2종 이상의 기판(212)을 서로 다른 처리 프로그램으로 처리할 수 있다. 즉, 기판(212) 처리의 다양성을 꾀할 수 있다.
또한, 상기 습식 세정 장치(200)는 반입부(210) 및 제1 기판 정렬부(230)가 일렬적으로 배치되고, 반출부(260) 및 제2 기판 정렬부(280)가 일렬적으로 배치되기 때문에, 제1 및 제2 풉 이송부(240, 290)의 전후 이동 공간의 폭(W3, W4)을 줄일 수 있다. 이를 통해, 상기 습식 세정 장치(200)를 보다 더 소형화할 수 있다. 아울러, 제1 및 제2 풉 저장부(220, 270)의 선반(222, 272) 배치를 통해 공간 활용성을 향상시킬 수 있으며, 습식 세정 장치(200)를 더욱 소형화할 수 있다.
이상 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
따라서, 이상에서 기술한 실시예들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이므로, 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 하며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
도 1은 배경기술에 따른 습식 세정 장치의 구성을 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 세정 장치의 구성을 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 습식 세정 장치의 구성을 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
{도면의 주요부분에 대한 부호의 설명}
100, 200: 습식 세정 장치 110, 210: 반입부
120, 220: 제1 풉 저장부 130, 230: 제1 기판 정렬부
140, 240: 제1 풉 이송부 150, 250: 세정 처리부
160, 260: 반출부 170, 270: 제2 풉 저장부
180, 280: 제2 기판 정렬부 190, 290: 제2 풉 이송부

Claims (4)

  1. 기판이 수용된 풉(FOUP)이 로딩되는 반입부;
    상기 반입부를 통해 로딩된 풉을 저장하는 풉 저장부;
    상기 풉 저장부의 측부에 배치되며, 상기 풉 저장부에 저장된 상기 풉에 수용된 상기 기판을 정렬하는 기판 정렬부;
    상기 반입부 및 상기 풉 저장부와 상기 기판 정렬부 사이에 장착되어 상기 풉을 이송하는 풉 이송부; 및
    상기 기판 정렬부에 의해 정렬된 상기 기판을 세정 처리하는 세정 처리부
    를 포함하고,
    상기 풉 저장부 및 상기 기판 정렬부는 상기 풉 이송부의 길이 방향을 따라 일렬로 배치되는 습식 세정 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 풉 저장부는 상기 풉을 저장하는 복수개의 선반을 구비하며, 상기 선반은 “U”자형 또는 2열로 배치되는 것을 특징으로 하는 습식 세정 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 세정 처리부는 1열 또는 2열로 배치되는 것을 특징으로 하는 습식 세정 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 세정 처리부는 적어도 하나의 세정조 및 건조 챔버를 포함하는 것을 특징으로 하는 습식 세정 장치.
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