JP2000325897A - ウェーハ洗浄用キャリアの洗浄方法、および同方法に使用する洗浄装置 - Google Patents
ウェーハ洗浄用キャリアの洗浄方法、および同方法に使用する洗浄装置Info
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- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67057—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウェーハ洗浄用キャリアの洗浄をより簡便な
操作で、より確実に行うことができる洗浄方法、および
同洗浄方法に使用可能な洗浄装置の提供。 【解決手段】 適当な装置、例えば、複数のウェーハ洗
浄槽（５）と、ウェーハ乾燥装置（６）、洗浄用ウェー
ハキャリアを移送するトラック（２）と、同トラックの
駆動手段（図示せず）、ウェーハの搭載手段（４）、ウ
ェーハを降ろす手段（４’）とからなるウェーハ洗浄装
置において、洗浄槽（１１）を洗浄装置内の特定箇所、
または、洗浄装置の近傍に配設した装置を用い、その一
部分を更新するために毎分当たり特定量オーバーフロー
させつつ、所定温度に加温された温純水中にウェーハ洗
浄用キャリアを所定時間浸漬し洗浄し、ついで、浸漬後
洗浄用ウェーハキャリアを温純水から引き上げたままの
状態で保持して風乾することにより達成。
操作で、より確実に行うことができる洗浄方法、および
同洗浄方法に使用可能な洗浄装置の提供。 【解決手段】 適当な装置、例えば、複数のウェーハ洗
浄槽（５）と、ウェーハ乾燥装置（６）、洗浄用ウェー
ハキャリアを移送するトラック（２）と、同トラックの
駆動手段（図示せず）、ウェーハの搭載手段（４）、ウ
ェーハを降ろす手段（４’）とからなるウェーハ洗浄装
置において、洗浄槽（１１）を洗浄装置内の特定箇所、
または、洗浄装置の近傍に配設した装置を用い、その一
部分を更新するために毎分当たり特定量オーバーフロー
させつつ、所定温度に加温された温純水中にウェーハ洗
浄用キャリアを所定時間浸漬し洗浄し、ついで、浸漬後
洗浄用ウェーハキャリアを温純水から引き上げたままの
状態で保持して風乾することにより達成。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明は、ウェーハ洗浄の
際に使用するウェーハ洗浄用キャリアの洗浄方法、およ
び同方法に使用可能な洗浄装置に関する。
際に使用するウェーハ洗浄用キャリアの洗浄方法、およ
び同方法に使用可能な洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】 シリコンウェーハなどの洗浄に際して
は、所望の洗浄効果を上げるために、洗浄用キャリアに
ウェーハを保持して、キャリアに保持したままの状態で
洗浄槽に浸漬し、超音波等による洗浄を行っている。し
かしながら、ウェーハ洗浄用キャリアがフッ素樹脂製の
ために、洗浄に使用される各種薬品、例えば、水酸化ア
ンモニウム、フッ酸、塩酸などの薬品を吸収し、この吸
収された薬品同士が反応してキャリア内でフッ化アンモ
ニウムや塩化アンモニウムという塩を生成し、この生成
された塩がウェーハを汚染する等の障害を引き起こすの
で、定期的に洗浄用キャリアを洗浄する必要がある。通
常は、ウェーハ洗浄用キャリアに吸収されている酸とア
ルカリとを強制的に反応させて、塩を生成させ、これを
キャリア表面に析出させて、洗い流して除去している。
即ち、ウェーハ洗浄用キャリアに吸収されている酸とア
ルカリとを反応させて塩を生成させるために、キャリア
を１００℃以上の温度で、１時間以上保持するいわゆる
ベーキング操作を行い、次いで生成した塩を純水で洗い
流し、最後にキャリアを乾燥するという方法が採られて
いる。
は、所望の洗浄効果を上げるために、洗浄用キャリアに
ウェーハを保持して、キャリアに保持したままの状態で
洗浄槽に浸漬し、超音波等による洗浄を行っている。し
かしながら、ウェーハ洗浄用キャリアがフッ素樹脂製の
ために、洗浄に使用される各種薬品、例えば、水酸化ア
ンモニウム、フッ酸、塩酸などの薬品を吸収し、この吸
収された薬品同士が反応してキャリア内でフッ化アンモ
ニウムや塩化アンモニウムという塩を生成し、この生成
された塩がウェーハを汚染する等の障害を引き起こすの
で、定期的に洗浄用キャリアを洗浄する必要がある。通
常は、ウェーハ洗浄用キャリアに吸収されている酸とア
ルカリとを強制的に反応させて、塩を生成させ、これを
キャリア表面に析出させて、洗い流して除去している。
即ち、ウェーハ洗浄用キャリアに吸収されている酸とア
ルカリとを反応させて塩を生成させるために、キャリア
を１００℃以上の温度で、１時間以上保持するいわゆる
ベーキング操作を行い、次いで生成した塩を純水で洗い
流し、最後にキャリアを乾燥するという方法が採られて
いる。
【０００３】 しかしながら、この操作中に作業員がキ
ャリアが触れることを完全に除去することは不可能であ
り、そのために、どうしても、人為的な原因で、キャリ
アが汚染されてしまうことを完全に防止することは困難
であるという問題がある。また、生成した塩を洗い流す
という作業も必ずしも完全を期しがたく、より簡便な操
作で、より確実に洗浄できる方法の出現が求められてい
るのが現状である。
ャリアが触れることを完全に除去することは不可能であ
り、そのために、どうしても、人為的な原因で、キャリ
アが汚染されてしまうことを完全に防止することは困難
であるという問題がある。また、生成した塩を洗い流す
という作業も必ずしも完全を期しがたく、より簡便な操
作で、より確実に洗浄できる方法の出現が求められてい
るのが現状である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】 ウェーハ洗浄用キャ
リアの洗浄をより簡便な操作で、より確実に行うことが
できる洗浄方法、および同洗浄方法に使用可能な洗浄装
置を提供せんとするものである。
リアの洗浄をより簡便な操作で、より確実に行うことが
できる洗浄方法、および同洗浄方法に使用可能な洗浄装
置を提供せんとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】 本発明者等は、上記の
様な現状に鑑みて種々検討した結果、本発明を完成させ
たものである。即ち、本発明の第１の側面によれば、一
定の速度で少なくともその一部が更新される温純水中に
ウェーハ洗浄用キャリアを所定時間浸漬する工程と、浸
漬終了後ウェーハ洗浄用キャリアを浸漬していた温純水
から引き上げたままの状態でその場に保持して風乾する
工程とからなることを特徴とするウェーハ洗浄用キャリ
アの洗浄方法が提供される。
様な現状に鑑みて種々検討した結果、本発明を完成させ
たものである。即ち、本発明の第１の側面によれば、一
定の速度で少なくともその一部が更新される温純水中に
ウェーハ洗浄用キャリアを所定時間浸漬する工程と、浸
漬終了後ウェーハ洗浄用キャリアを浸漬していた温純水
から引き上げたままの状態でその場に保持して風乾する
工程とからなることを特徴とするウェーハ洗浄用キャリ
アの洗浄方法が提供される。
【０００６】 また、本発明の第２の側面によれば、複
数のウェーハ洗浄槽と、ウェーハ洗浄用キャリアを運搬
する一連のトラックと、同トラックの駆動手段とからな
る洗浄装置において、洗浄装置内またはその近傍に配設
された洗浄槽と、同槽に組み込まれた洗浄に使用する温
純水をオーバーフローさせる手段と、ウェーハ洗浄用キ
ャリアを洗浄槽近傍の空間に保持する手段とを有するこ
とを特徴とするウェーハ洗浄用キャリアの洗浄装置が提
供される。
数のウェーハ洗浄槽と、ウェーハ洗浄用キャリアを運搬
する一連のトラックと、同トラックの駆動手段とからな
る洗浄装置において、洗浄装置内またはその近傍に配設
された洗浄槽と、同槽に組み込まれた洗浄に使用する温
純水をオーバーフローさせる手段と、ウェーハ洗浄用キ
ャリアを洗浄槽近傍の空間に保持する手段とを有するこ
とを特徴とするウェーハ洗浄用キャリアの洗浄装置が提
供される。
【０００７】
【発明の実施の形態】 本発明に係るウェーハ洗浄用キ
ャリアの洗浄方法は、洗浄のために、ウェーハ洗浄用キ
ャリアを所定時間浸漬する温純水の少なくともその一部
を一定の速度で更新することを要する。また、作業員が
手に触れる機会を実質的に零にするために、浸漬終了後
ウェーハ洗浄用キャリアを浸漬していた温純水から引き
上げたままの状態でその場に保持して風乾することが必
要である。従って、通常は、後述するウェーハ洗浄装置
内、または、その近傍に配設したウェーハ洗浄用キャリ
アの洗浄槽（１１）に保持され、かつ、少なくともその
一部が一定の速度で更新される温純水中に、前回の洗浄
から所定の時間経過したか、あるいは、その使用履歴に
応じて洗浄が必要になったウェーハ洗浄用キャリアを浸
漬し、一定温度に保持されて温純水を作用させ、ウェー
ハの洗浄中にウェーハ洗浄用キャリアに吸収された洗浄
用各種薬品を溶出させ、浸漬後に、洗浄槽（１１）近傍
に設けられたウェーハ洗浄用キャリア（１）を同近傍の
空間に保持する手段により、保持して乾燥することによ
り行う。しかし、ウェーハ洗浄用キャリアを所定時間浸
漬する温純水の少なくともその一部を一定の速度で更新
でき、浸漬終了後ウェーハ洗浄用キャリアを浸漬してい
た温純水から引き上げたままの状態でその場に保持して
風乾することができれば、必ずしも、同洗浄装置を利用
する必要はない。
ャリアの洗浄方法は、洗浄のために、ウェーハ洗浄用キ
ャリアを所定時間浸漬する温純水の少なくともその一部
を一定の速度で更新することを要する。また、作業員が
手に触れる機会を実質的に零にするために、浸漬終了後
ウェーハ洗浄用キャリアを浸漬していた温純水から引き
上げたままの状態でその場に保持して風乾することが必
要である。従って、通常は、後述するウェーハ洗浄装置
内、または、その近傍に配設したウェーハ洗浄用キャリ
アの洗浄槽（１１）に保持され、かつ、少なくともその
一部が一定の速度で更新される温純水中に、前回の洗浄
から所定の時間経過したか、あるいは、その使用履歴に
応じて洗浄が必要になったウェーハ洗浄用キャリアを浸
漬し、一定温度に保持されて温純水を作用させ、ウェー
ハの洗浄中にウェーハ洗浄用キャリアに吸収された洗浄
用各種薬品を溶出させ、浸漬後に、洗浄槽（１１）近傍
に設けられたウェーハ洗浄用キャリア（１）を同近傍の
空間に保持する手段により、保持して乾燥することによ
り行う。しかし、ウェーハ洗浄用キャリアを所定時間浸
漬する温純水の少なくともその一部を一定の速度で更新
でき、浸漬終了後ウェーハ洗浄用キャリアを浸漬してい
た温純水から引き上げたままの状態でその場に保持して
風乾することができれば、必ずしも、同洗浄装置を利用
する必要はない。
【０００８】 ウェーハ洗浄用キャリアを所定時間浸漬
する温純水の少なくともその一部を一定の速度で更新す
るには、通常は、浸漬中に、温純水を所定量をオーバー
フローさせて、溶出してきた薬品の濃度が高濃度になら
ないようにすればよい。オーバーフローさせる温純水の
量としては、現に浸漬に使用されている温純水の量の１
／１００〜１／１０を毎分当たりオーバーフローさせる
ようにオーバーフローする量を調整することが肝要であ
る。オーバーフローさせる量が、１／１００未満では、
溶出してきた薬品を効率よく系外に除去することができ
ないことがあるので好ましくない。また、１／１０を超
えた量をオーバーフローさせても、薬品の除去効率の向
上は認められず、また、純水の使用量が著しく増加し、
その結果として、コスト高となるので好ましくない。温
純水の温度は、通常は８０℃またはそれ以上、好ましく
は、８５℃またはそれ以上であればよい。これ以下の温
度では、薬品の溶出効果が充分に出ないことがあるので
好ましくない。
する温純水の少なくともその一部を一定の速度で更新す
るには、通常は、浸漬中に、温純水を所定量をオーバー
フローさせて、溶出してきた薬品の濃度が高濃度になら
ないようにすればよい。オーバーフローさせる温純水の
量としては、現に浸漬に使用されている温純水の量の１
／１００〜１／１０を毎分当たりオーバーフローさせる
ようにオーバーフローする量を調整することが肝要であ
る。オーバーフローさせる量が、１／１００未満では、
溶出してきた薬品を効率よく系外に除去することができ
ないことがあるので好ましくない。また、１／１０を超
えた量をオーバーフローさせても、薬品の除去効率の向
上は認められず、また、純水の使用量が著しく増加し、
その結果として、コスト高となるので好ましくない。温
純水の温度は、通常は８０℃またはそれ以上、好ましく
は、８５℃またはそれ以上であればよい。これ以下の温
度では、薬品の溶出効果が充分に出ないことがあるので
好ましくない。
【０００９】 洗浄用ウェーハキャリアを洗浄するに当
たっては、温純水中に浸漬する工程と、浸漬後洗浄用ウ
ェーハキャリアを風乾する工程からなる洗浄工程を、前
回の洗浄から所定の時間経過後に、あるいは、その使用
履歴に応じて洗浄が必要になった時点で、自動的に実施
することができるように、各洗浄用ウェーハに適当な同
定手段を付する。この同定手段に基づき洗浄記録を取る
と共に、同記録に基づき一定回数、ウェーハの洗浄に使
用されて、ウェーハがキャリアから降ろされた後、次の
ウェーハを搭載する順番待ちの際に、自動的に洗浄装置
内、または、その近傍に設けられたウェーハ洗浄用キャ
リアの洗浄槽に移送できるような手段を洗浄装置内に組
み込んでおくことが好ましい。そのような手段として
は、予め所定回数の洗浄に使用されると、自動的に、洗
浄に回すようにプログラムされた移送手段が挙げられ
る。あるいは、キャリア表面の比抵抗を測定することに
より、キャリアの洗浄が必要か否か検査し、選別する手
段と組み合わせて使用してもよい。
たっては、温純水中に浸漬する工程と、浸漬後洗浄用ウ
ェーハキャリアを風乾する工程からなる洗浄工程を、前
回の洗浄から所定の時間経過後に、あるいは、その使用
履歴に応じて洗浄が必要になった時点で、自動的に実施
することができるように、各洗浄用ウェーハに適当な同
定手段を付する。この同定手段に基づき洗浄記録を取る
と共に、同記録に基づき一定回数、ウェーハの洗浄に使
用されて、ウェーハがキャリアから降ろされた後、次の
ウェーハを搭載する順番待ちの際に、自動的に洗浄装置
内、または、その近傍に設けられたウェーハ洗浄用キャ
リアの洗浄槽に移送できるような手段を洗浄装置内に組
み込んでおくことが好ましい。そのような手段として
は、予め所定回数の洗浄に使用されると、自動的に、洗
浄に回すようにプログラムされた移送手段が挙げられ
る。あるいは、キャリア表面の比抵抗を測定することに
より、キャリアの洗浄が必要か否か検査し、選別する手
段と組み合わせて使用してもよい。
【００１０】 また、同定手段としては、テキサスイン
スツルメント社製タイリス（登録商標）、バーコード、
光電管等により読みとり可能な表示等が挙げられる。タ
イリスにより同定する場合には、書き込み可能型の同定
用タッグ、即ち、トランスポンダをウェーハ洗浄用キャ
リアに取り付け、タッグに記録されている同定用記録お
よび洗浄記録をアンテナを介して、リーダで読みとるこ
とにより行う。勿論、洗浄したときには、洗浄したこと
を書き込み、記録する。通常は、３〜６回ウェーハの洗
浄に使用した後、洗浄用キャリアの洗浄部に自動的に移
送させるように設計されていることが好ましい。勿論、
要求されるウェーハの洗浄水準に応じて、この回数は設
定すればよく、場合によっては、毎回、洗浄部に移送す
るように設定してもよい。また、このような同定手段と
同同定手段と連動した移送手段（図示せず）を設けるこ
とにより、各洗浄用キャリアの洗浄記録が自動的に記録
されることとなるので、特定のウェーハで汚染事故など
が発生しても、この記録に基づき、原因究明が可能とな
るので好ましい。かかる移送手段としては、独立に設け
てもよいが、ウェーハを搭載した洗浄用キャリアの洗浄
槽への移送手段であるキャリア搬送用ロボット（１２）
をその目的に使用してもよい。つまり、キャリア搬送用
ロボット（１２）を両者の目的に兼用させてもよい。
スツルメント社製タイリス（登録商標）、バーコード、
光電管等により読みとり可能な表示等が挙げられる。タ
イリスにより同定する場合には、書き込み可能型の同定
用タッグ、即ち、トランスポンダをウェーハ洗浄用キャ
リアに取り付け、タッグに記録されている同定用記録お
よび洗浄記録をアンテナを介して、リーダで読みとるこ
とにより行う。勿論、洗浄したときには、洗浄したこと
を書き込み、記録する。通常は、３〜６回ウェーハの洗
浄に使用した後、洗浄用キャリアの洗浄部に自動的に移
送させるように設計されていることが好ましい。勿論、
要求されるウェーハの洗浄水準に応じて、この回数は設
定すればよく、場合によっては、毎回、洗浄部に移送す
るように設定してもよい。また、このような同定手段と
同同定手段と連動した移送手段（図示せず）を設けるこ
とにより、各洗浄用キャリアの洗浄記録が自動的に記録
されることとなるので、特定のウェーハで汚染事故など
が発生しても、この記録に基づき、原因究明が可能とな
るので好ましい。かかる移送手段としては、独立に設け
てもよいが、ウェーハを搭載した洗浄用キャリアの洗浄
槽への移送手段であるキャリア搬送用ロボット（１２）
をその目的に使用してもよい。つまり、キャリア搬送用
ロボット（１２）を両者の目的に兼用させてもよい。
【００１１】 一部が、オーバーフロー等により一定の
割合で更新される様に構成されている温純水への洗浄用
キャリアの浸漬時間は、通常は、３０分〜１時間で充分
である。なお、浸漬時間は、各洗浄と洗浄との間隔、換
言すれば、前回の洗浄からの経過時間を考慮に入れて、
上記の範囲内で適宜選定すればよい。通常は、前回の洗
浄からの経過時間が長い場合には、成る可く長時間浸漬
し、洗浄することが好ましい。勿論、浸漬時間によら
ず、洗浄度を示す指標、例えば、リンス用に使用した純
水の比抵抗が、所定の値になった時点で取り出せるよう
に構成してもよい。この場合の比抵抗のモニタリングに
は、例えば、洗浄槽内の比抵抗を測定するための比抵抗
計を洗浄槽に配設してもよい。
割合で更新される様に構成されている温純水への洗浄用
キャリアの浸漬時間は、通常は、３０分〜１時間で充分
である。なお、浸漬時間は、各洗浄と洗浄との間隔、換
言すれば、前回の洗浄からの経過時間を考慮に入れて、
上記の範囲内で適宜選定すればよい。通常は、前回の洗
浄からの経過時間が長い場合には、成る可く長時間浸漬
し、洗浄することが好ましい。勿論、浸漬時間によら
ず、洗浄度を示す指標、例えば、リンス用に使用した純
水の比抵抗が、所定の値になった時点で取り出せるよう
に構成してもよい。この場合の比抵抗のモニタリングに
は、例えば、洗浄槽内の比抵抗を測定するための比抵抗
計を洗浄槽に配設してもよい。
【００１２】 浸漬後の洗浄用キャリアの乾燥工程にお
いては、人為的な要因による汚染を極力回避するため
に、浸漬工程終了後に、浸漬液から引き上げたままの状
態で、例えば、洗浄装置に配設されたウェーハ洗浄用キ
ャリアを保持できる手段（図示せず）を作動させて、ウ
ェーハ洗浄用キャリアを保持すればよい。その際に、ウ
ェーハ洗浄用キャリアに、窒素ガスまたは乾燥空気を乾
燥ガス吹き付け手段（１３）を用いて吹きかけることに
より、乾燥を促進させることが好ましい。通常は、乾燥
時間としては、１分〜５分程度で充分である。これは、
ウェーハ洗浄用キャリアの表面が疎水性であることと水
が有する表面張力により、可成りの量の純水が洗浄槽か
ら引き上げる際に、自然にキャリア表面から離脱すると
共に、洗浄操作に使用される温純水はかなり高温である
ために、可成りの量が引き上げ操作中に自然乾燥するか
らである。なお、洗浄用ウェーハキャリア（１）を洗浄
装置近傍の空間に保持する手段は、独立して設けてもよ
いが、通常は、ウェーハを搭載した洗浄用キャリアの洗
浄槽への移送手段であるキャリア搬送用ロボット（１
２）をこの目的のために使用してもよい。
いては、人為的な要因による汚染を極力回避するため
に、浸漬工程終了後に、浸漬液から引き上げたままの状
態で、例えば、洗浄装置に配設されたウェーハ洗浄用キ
ャリアを保持できる手段（図示せず）を作動させて、ウ
ェーハ洗浄用キャリアを保持すればよい。その際に、ウ
ェーハ洗浄用キャリアに、窒素ガスまたは乾燥空気を乾
燥ガス吹き付け手段（１３）を用いて吹きかけることに
より、乾燥を促進させることが好ましい。通常は、乾燥
時間としては、１分〜５分程度で充分である。これは、
ウェーハ洗浄用キャリアの表面が疎水性であることと水
が有する表面張力により、可成りの量の純水が洗浄槽か
ら引き上げる際に、自然にキャリア表面から離脱すると
共に、洗浄操作に使用される温純水はかなり高温である
ために、可成りの量が引き上げ操作中に自然乾燥するか
らである。なお、洗浄用ウェーハキャリア（１）を洗浄
装置近傍の空間に保持する手段は、独立して設けてもよ
いが、通常は、ウェーハを搭載した洗浄用キャリアの洗
浄槽への移送手段であるキャリア搬送用ロボット（１
２）をこの目的のために使用してもよい。
【００１３】 上記の方法に好適に使用可能な洗浄装置
としては、図１として、その主要部を模式的に示した平
面図に示した様に、複数のウェーハ洗浄槽（５）と、ウ
ェーハ乾燥装置（６）、洗浄用ウェーハキャリアを移送
するトラック（２）と、同トラックの駆動手段（図示せ
ず）、ウェーハの搭載手段（４）、ウェーハを降ろす手
段（４’）とからなるウェーハ洗浄装置において、図３
に模式的に示した断面構造を有する洗浄槽（１１）を洗
浄装置内の特定箇所、または、洗浄装置の近傍に配設し
たものが挙げられる。同洗浄槽（１１）は、洗浄に使用
する温純水をオーバーフローさせることができる手段
（１４）、洗浄用ウェーハキャリア（１）を洗浄装置近
傍の空間に保持する手段（図示せず）、あるいは、同手
段として兼用するウェーハを搭載した洗浄用キャリアの
洗浄槽への移送手段であるキャリア搬送用ロボット（１
２）、乾燥用ガス吹き付け手段（１３）、洗浄用の温純
水を一定の温度に保持するための加温用ヒーター（１
５）からなる。
としては、図１として、その主要部を模式的に示した平
面図に示した様に、複数のウェーハ洗浄槽（５）と、ウ
ェーハ乾燥装置（６）、洗浄用ウェーハキャリアを移送
するトラック（２）と、同トラックの駆動手段（図示せ
ず）、ウェーハの搭載手段（４）、ウェーハを降ろす手
段（４’）とからなるウェーハ洗浄装置において、図３
に模式的に示した断面構造を有する洗浄槽（１１）を洗
浄装置内の特定箇所、または、洗浄装置の近傍に配設し
たものが挙げられる。同洗浄槽（１１）は、洗浄に使用
する温純水をオーバーフローさせることができる手段
（１４）、洗浄用ウェーハキャリア（１）を洗浄装置近
傍の空間に保持する手段（図示せず）、あるいは、同手
段として兼用するウェーハを搭載した洗浄用キャリアの
洗浄槽への移送手段であるキャリア搬送用ロボット（１
２）、乾燥用ガス吹き付け手段（１３）、洗浄用の温純
水を一定の温度に保持するための加温用ヒーター（１
５）からなる。
【００１４】 この加温用ヒーター（１５）は、洗浄用
の純温水を所定温度に保持できればよく、従って、同ヒ
ーターは洗浄槽（１１）の内部に収納されていても、或
いは、同槽の外部に配設されていてもよい。なお、洗浄
装置には、通常、未洗浄のウェーハを前工程からウェー
ハ洗浄工程に搬入する手段、および、洗浄したウェーハ
を次工程に搬送する手段としてのプロセス間搬送用ウェ
ーハキャリア（３）、洗浄したウェーハと搬入した未洗
浄のウェーハを積み下ろしする手段としてウェーハ移載
装置（４）、ウェーハ洗浄用キャリア搬送用ロボットの
搬送用トラック（７）、等が配設されている。これらの
装置、手段等は、本発明に直接関係しないので、これ以
上の詳細な記載は省略する。
の純温水を所定温度に保持できればよく、従って、同ヒ
ーターは洗浄槽（１１）の内部に収納されていても、或
いは、同槽の外部に配設されていてもよい。なお、洗浄
装置には、通常、未洗浄のウェーハを前工程からウェー
ハ洗浄工程に搬入する手段、および、洗浄したウェーハ
を次工程に搬送する手段としてのプロセス間搬送用ウェ
ーハキャリア（３）、洗浄したウェーハと搬入した未洗
浄のウェーハを積み下ろしする手段としてウェーハ移載
装置（４）、ウェーハ洗浄用キャリア搬送用ロボットの
搬送用トラック（７）、等が配設されている。これらの
装置、手段等は、本発明に直接関係しないので、これ以
上の詳細な記載は省略する。
【００１５】 勿論、洗浄装置は、洗浄槽を組み込むこ
とができる自動洗浄装置であれば、ウェーハ乾燥装置
（６）、洗浄用ウェーハキャリアを移送するトラック
（２）と、同トラックの駆動手段（図示せず）、ウェー
ハの搭載手段（４）、ウェーハを降ろす手段（４’）と
を配設することにより本発明に係る装置として使用可能
である。
とができる自動洗浄装置であれば、ウェーハ乾燥装置
（６）、洗浄用ウェーハキャリアを移送するトラック
（２）と、同トラックの駆動手段（図示せず）、ウェー
ハの搭載手段（４）、ウェーハを降ろす手段（４’）と
を配設することにより本発明に係る装置として使用可能
である。
【００１６】 ウェーハ洗浄用キャリアの洗浄に使用す
る温純水を、特定の速度でオーバーフローさせることが
できる手段としては、例えば、洗浄槽（１１）の仕切板
の一部に、切り欠き部を設けるか、あるいは、図３に模
式的に示したように、洗浄槽本体の枠の外側にオーバー
フローしてくる温純水を受け止めることができるオーバ
ーフロー槽を設ければよい。オーバーフローした温純水
は、オーバーフロー槽（１４）に一時的に蓄えられ、次
いで同槽近傍に設けられた配管（図示せず）を通して、
冷却後系外に排水される。
る温純水を、特定の速度でオーバーフローさせることが
できる手段としては、例えば、洗浄槽（１１）の仕切板
の一部に、切り欠き部を設けるか、あるいは、図３に模
式的に示したように、洗浄槽本体の枠の外側にオーバー
フローしてくる温純水を受け止めることができるオーバ
ーフロー槽を設ければよい。オーバーフローした温純水
は、オーバーフロー槽（１４）に一時的に蓄えられ、次
いで同槽近傍に設けられた配管（図示せず）を通して、
冷却後系外に排水される。
【００１７】 通常は、ウェーハ洗浄用キャリアの洗浄
には、超音波洗浄を利用してもよい。ウェーハ洗浄用キ
ャリア洗浄槽（１１）としては、通常、この用途に使用
される洗浄槽であれば、使用可能である。ウェーハ洗浄
装置にイン・ラインで洗浄槽（１１）を組み込む場合に
は、必要に応じて、装置の各部分に適切な変更を加えれ
ばよい。イン・ラインでなく、ウェーハ洗浄装置の近傍
に配置する場合には、ウェーハの洗浄ラインの妨げにな
らず、かつ、著しい環境の変動がない箇所に配設すれば
よい。ウェーハ洗浄用キャリア洗浄槽（１１）では、温
純水を使用するので蒸気が発生してくる。発生してくる
蒸気を効率よく、ウェーハ洗浄用キャリア洗浄槽（１
１）近傍から、取り除くために、局所排気手段、例え
ば、ベンチレーターを同槽近傍に配設してもよい。
には、超音波洗浄を利用してもよい。ウェーハ洗浄用キ
ャリア洗浄槽（１１）としては、通常、この用途に使用
される洗浄槽であれば、使用可能である。ウェーハ洗浄
装置にイン・ラインで洗浄槽（１１）を組み込む場合に
は、必要に応じて、装置の各部分に適切な変更を加えれ
ばよい。イン・ラインでなく、ウェーハ洗浄装置の近傍
に配置する場合には、ウェーハの洗浄ラインの妨げにな
らず、かつ、著しい環境の変動がない箇所に配設すれば
よい。ウェーハ洗浄用キャリア洗浄槽（１１）では、温
純水を使用するので蒸気が発生してくる。発生してくる
蒸気を効率よく、ウェーハ洗浄用キャリア洗浄槽（１
１）近傍から、取り除くために、局所排気手段、例え
ば、ベンチレーターを同槽近傍に配設してもよい。
【００１８】 洗浄用ウェーハキャリアを洗浄する手段
近傍に、洗浄した洗浄用ウェーハキャリアを同定、記録
する手段（図示せず）を設けることが好ましい。より具
体的には、例えば、同定にタイリスを使用する場合に
は、アンテナを介して、リーダで読み取った記録をホス
トコンピュターに記録することにより行えばよい。この
ように構成することにより、定期的に、洗浄用キャリア
を洗浄することができ、人為的なミスによる洗浄漏れな
どを排除することができるという効果が生ずることとな
る。なお、洗浄終了の判定は、浸漬に使用した温純水の
比抵抗をモニターしながら行えばよく、オーバーフロー
槽（１４）内にオーバーフローしてきた温純水の比抵抗
が１８ＭΩ・ｃｍまたはそれ以上、即ち、温純水中に電
解質を全く含まない状態の比抵抗値に達した時点を以
て、浸漬を終了させればよい。オーバーフローしてくる
温純水の比抵抗変動をモニターするためには、例えば、
図３に模式的に示したように、オーバーフロー槽（１
４）内に比抵抗計（１７）を配置するか、定期的に、温
純水の比抵抗値を測定する手段（図示せず）を設ければ
よい。
近傍に、洗浄した洗浄用ウェーハキャリアを同定、記録
する手段（図示せず）を設けることが好ましい。より具
体的には、例えば、同定にタイリスを使用する場合に
は、アンテナを介して、リーダで読み取った記録をホス
トコンピュターに記録することにより行えばよい。この
ように構成することにより、定期的に、洗浄用キャリア
を洗浄することができ、人為的なミスによる洗浄漏れな
どを排除することができるという効果が生ずることとな
る。なお、洗浄終了の判定は、浸漬に使用した温純水の
比抵抗をモニターしながら行えばよく、オーバーフロー
槽（１４）内にオーバーフローしてきた温純水の比抵抗
が１８ＭΩ・ｃｍまたはそれ以上、即ち、温純水中に電
解質を全く含まない状態の比抵抗値に達した時点を以
て、浸漬を終了させればよい。オーバーフローしてくる
温純水の比抵抗変動をモニターするためには、例えば、
図３に模式的に示したように、オーバーフロー槽（１
４）内に比抵抗計（１７）を配置するか、定期的に、温
純水の比抵抗値を測定する手段（図示せず）を設ければ
よい。
【００１９】
【実施例】 以下、本発明に係るウェーハ洗浄用キャリ
アの洗浄方法について実施例をあげて説明するが、勿
論、本発明は、これらの例により何等制限されるもので
はないことはいうまでもない。
アの洗浄方法について実施例をあげて説明するが、勿
論、本発明は、これらの例により何等制限されるもので
はないことはいうまでもない。
【００２０】（実施例）図１に模式的に示したウェーハ
の洗浄装置を利用し、ウェーハの洗浄に使用される装置
そのものは独立して運転させながら、ウェーハの搭載手
段（４）とウェーハを降ろす手段（４’）との間に配置
された洗浄用ウェーハキャリアを移送するトラック
（２）を、同トラックの駆動手段（図示せず）を駆動さ
せて、洗浄用キャリアを洗浄槽（１１）側に送り込み、
送り込まれたウェーハ洗浄用キャリアを、洗浄時期にな
ったウェーハ洗浄用キャリアを同定手段を用いて識別
し、洗浄時期を迎えたキャリアのみをキャリア搬送用ロ
ボット（１２）を用いて洗浄槽（１１）内に４０分間浸
漬し、洗浄した。この時点で、浸漬に使用した温純水の
比抵抗を比抵抗変動をモニターするためにオーバーフロ
ー槽（１４）内に設けた比抵抗計の値を確認したとこ
と、温純水の比抵抗は１８ＭΩ・ｃｍ以上であり、充分
な洗浄が行われたことが判明した。次いで、この浸漬操
作終了後、キャリア搬送用ロボット（１２）を用いて洗
浄槽（１１）から取りだし、空中に保持したまま、窒素
ガスをガス吹き付け手段（１３）を用いて約2分間吹き
付け乾燥させ、洗浄用の洗浄操作を完了した。
の洗浄装置を利用し、ウェーハの洗浄に使用される装置
そのものは独立して運転させながら、ウェーハの搭載手
段（４）とウェーハを降ろす手段（４’）との間に配置
された洗浄用ウェーハキャリアを移送するトラック
（２）を、同トラックの駆動手段（図示せず）を駆動さ
せて、洗浄用キャリアを洗浄槽（１１）側に送り込み、
送り込まれたウェーハ洗浄用キャリアを、洗浄時期にな
ったウェーハ洗浄用キャリアを同定手段を用いて識別
し、洗浄時期を迎えたキャリアのみをキャリア搬送用ロ
ボット（１２）を用いて洗浄槽（１１）内に４０分間浸
漬し、洗浄した。この時点で、浸漬に使用した温純水の
比抵抗を比抵抗変動をモニターするためにオーバーフロ
ー槽（１４）内に設けた比抵抗計の値を確認したとこ
と、温純水の比抵抗は１８ＭΩ・ｃｍ以上であり、充分
な洗浄が行われたことが判明した。次いで、この浸漬操
作終了後、キャリア搬送用ロボット（１２）を用いて洗
浄槽（１１）から取りだし、空中に保持したまま、窒素
ガスをガス吹き付け手段（１３）を用いて約2分間吹き
付け乾燥させ、洗浄用の洗浄操作を完了した。
【００２１】
【発明の効果】 本発明に係るウェーハ洗浄用キャリア
の洗浄方法は、洗浄装置内、あるいは、同装置近傍で自
動的にウェーハ洗浄用キャリアの洗浄を行うものであ
る。従って、人為的なミスによる汚染を排除できるだけ
でなく、ベーキングにより塩を生成させ、次いで生成し
た塩を洗い流し、さらに、キャリアを乾燥するという操
作を繰り返すことが必要でないので、極めて効率的であ
る。また、本発明に係るウェーハ洗浄用キャリアの洗浄
装置は、上記のような、効率のよい洗浄方法に使用する
ことができるものである。
の洗浄方法は、洗浄装置内、あるいは、同装置近傍で自
動的にウェーハ洗浄用キャリアの洗浄を行うものであ
る。従って、人為的なミスによる汚染を排除できるだけ
でなく、ベーキングにより塩を生成させ、次いで生成し
た塩を洗い流し、さらに、キャリアを乾燥するという操
作を繰り返すことが必要でないので、極めて効率的であ
る。また、本発明に係るウェーハ洗浄用キャリアの洗浄
装置は、上記のような、効率のよい洗浄方法に使用する
ことができるものである。
【図１】 ウェーハ洗浄用キャリアの洗浄槽を組み込ん
だ本発明に係る洗浄装置の一態様の主要部を模式的に示
した平面図である。
だ本発明に係る洗浄装置の一態様の主要部を模式的に示
した平面図である。
【図２】 図１に示した本発明に係る洗浄装置の一態様
の主要部を模式的に示した正面図である。
の主要部を模式的に示した正面図である。
【図３】 図１に示した本発明に係る洗浄装置の一態様
において使用する洗浄槽の主要部を模式的に示した断面
図である。
において使用する洗浄槽の主要部を模式的に示した断面
図である。
１…ウェーハ洗浄用キャリア、２…ウェーハ洗浄用キャ
リア移送手段、３…プロセス間搬送用ウェーハキャリ
ア、４…ウェーハ移載装置、４’…ウェーハ移載装置、
５…ウェーハ洗浄槽、６…ウェーハ乾燥槽、７…ウェー
ハ洗浄用キャリア搬送用ロボットの搬送用トラック、１
１…ウェーハ洗浄用キャリア洗浄槽、１２…ウェーハ洗
浄用キャリア搬送用ロボット、１３…乾燥ガス吹き付け
手段、１４…オーバーフロー槽、１５…加温用ヒータ
ー、１６…キャリア洗浄シンク、１７…比抵抗計。
リア移送手段、３…プロセス間搬送用ウェーハキャリ
ア、４…ウェーハ移載装置、４’…ウェーハ移載装置、
５…ウェーハ洗浄槽、６…ウェーハ乾燥槽、７…ウェー
ハ洗浄用キャリア搬送用ロボットの搬送用トラック、１
１…ウェーハ洗浄用キャリア洗浄槽、１２…ウェーハ洗
浄用キャリア搬送用ロボット、１３…乾燥ガス吹き付け
手段、１４…オーバーフロー槽、１５…加温用ヒータ
ー、１６…キャリア洗浄シンク、１７…比抵抗計。
Claims (8)
- 【請求項１】 一定の速度で少なくともその一部が更新
される温純水中にウェーハ洗浄用キャリアを所定時間浸
漬する工程と、浸漬終了後ウェーハ洗浄用キャリアを浸
漬していた温純水から引き上げたままの状態でその場に
保持して風乾する工程とからなることを特徴とするウェ
ーハ洗浄用キャリアの洗浄方法。 - 【請求項２】 毎分当たりの温純水の更新量が、ウェー
ハ洗浄用キャリアが浸漬されている温純水の量の１／１
００〜１／１０であることを特徴とする請求項１に記載
の洗浄方法。 - 【請求項３】 一定の速度で少なくともその一部が更新
される温純水中にウェーハ洗浄用キャリアを所定時間浸
漬する工程と、浸漬終了後ウェーハ洗浄用キャリアを浸
漬していた温純水から引き上げたままの状態でその場に
保持して風乾する工程とからなる洗浄を、所定の間隔で
自動的に実施することを特徴とする請求項１または２に
記載のウェーハ洗浄用キャリアの洗浄方法。 - 【請求項４】 浸漬終了後ウェーハ洗浄用キャリアを浸
漬していた温純水から引き上げたままの状態でその場に
保持して風乾する工程において、ウェーハ洗浄用キャリ
アに乾燥ガスを吹きかけることを特徴とする請求項１〜
３のいずれか１項に記載のウェーハ洗浄用キャリアの洗
浄方法。 - 【請求項５】 複数のウェーハ洗浄槽と、ウェーハ洗浄
用キャリアを運搬する一連のトラックと、同トラックの
駆動手段とからなる洗浄装置において、洗浄装置内また
はその近傍に配設されたウェーハ洗浄用キャリアを洗浄
するための洗浄槽と、同洗浄槽に組み込まれた洗浄に使
用する温純水をオーバーフローさせることができる手段
と、ウェーハ洗浄用キャリアを洗浄槽近傍の空間に保持
する手段とを有することを特徴とするウェーハ洗浄用キ
ャリアの洗浄装置。 - 【請求項６】 ウェーハ洗浄用キャリアの洗浄槽近傍
に、洗浄したウェーハ洗浄用キャリアを同定、記録する
手段を有することを特徴とする請求項５に記載の洗浄装
置。 - 【請求項７】 ウェーハ洗浄用キャリアの洗浄を所定間
隔で自動的に開始することができる手段を有することを
特徴とする請求項５または６に記載の洗浄装置。 - 【請求項８】 浸漬し、洗浄したウェーハ洗浄用キャリ
アに乾燥ガスを吹き付ける手段を有することを特徴とす
る請求項５〜７のいずれか１項に記載の洗浄装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11136994A JP2000325897A (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | ウェーハ洗浄用キャリアの洗浄方法、および同方法に使用する洗浄装置 |
| PCT/US2000/010366 WO2000069575A1 (en) | 1999-05-18 | 2000-04-14 | Method and apparatus for washing a wafer carrier |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11136994A JP2000325897A (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | ウェーハ洗浄用キャリアの洗浄方法、および同方法に使用する洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000325897A true JP2000325897A (ja) | 2000-11-28 |
Family
ID=15188313
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11136994A Withdrawn JP2000325897A (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | ウェーハ洗浄用キャリアの洗浄方法、および同方法に使用する洗浄装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000325897A (ja) |
| WO (1) | WO2000069575A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100921638B1 (ko) | 2007-12-26 | 2009-10-14 | 주식회사 케이씨텍 | 습식 세정 장치 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100958793B1 (ko) | 2007-09-28 | 2010-05-18 | 주식회사 실트론 | 웨이퍼 쉽핑박스의 세정을 위한 박스 크리너 |
| CN102319692A (zh) * | 2011-07-04 | 2012-01-18 | 常州天合光能有限公司 | 一种用于纯水干燥硅片的清洗机 |
| CN102313440A (zh) * | 2011-07-04 | 2012-01-11 | 常州天合光能有限公司 | 一种硅片清洗干燥方法 |
| CN103272796B (zh) * | 2013-05-23 | 2015-08-05 | 浙江中晶科技股份有限公司 | 一种高洁净度单晶硅研磨片的清洗方法 |
| CN103934234B (zh) * | 2014-04-11 | 2016-01-06 | 元亮科技有限公司 | 一种抛光片载片盒的清洗工艺 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5129955A (en) * | 1989-01-11 | 1992-07-14 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Wafer cleaning method |
| US5520205A (en) * | 1994-07-01 | 1996-05-28 | Texas Instruments Incorporated | Apparatus for wafer cleaning with rotation |
| JPH1126413A (ja) * | 1997-07-04 | 1999-01-29 | Seiko Epson Corp | 半導体装置の製造方法 |
-
1999
- 1999-05-18 JP JP11136994A patent/JP2000325897A/ja not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-04-14 WO PCT/US2000/010366 patent/WO2000069575A1/en active Application Filing
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100921638B1 (ko) | 2007-12-26 | 2009-10-14 | 주식회사 케이씨텍 | 습식 세정 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2000069575A1 (en) | 2000-11-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060801 |