JP2005298314A - ガラス板表面のエッチング方法、ガラス板エッチング装置、フラットパネルディスプレイ用ガラス板及びフラットパネルディスプレイ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 エッチング方法としては、ガラス表面にエッチング液を吹き付け、その後エッチング液を除去することによってガラス板のエッチングを行う。このとき、水平にしたガラス板の底面にエッチング液を吹き付けることが好適である。エッチング装置は、ガラス板を支持する支持具と、ガラス表面にエッチング液を噴射するノズル8と、該エッチング液を貯留するエッチング液貯留槽とを備えたガラスエッチング装置である。この装置において、支持具はガラス板を水平にして支持するものであることが好適であり、ノズル8は、水平に支持したガラス板の底面に向けてエッチング液を吹き付け可能に配置することが好適である。
【選択図】 図1
Description
また、ガラス板収納ユニット6が水平にして搬送することに伴い、ユニット6内のガラス板19も水平にして搬送される。搬送速度は、ガラス表面のエッチング量がガラス表面とエッチング液との接触時間に関係するため、目的とするガラス表面のエッチング量によって適宜変更されることになる。ガラス収納ユニット6は、エッチング室1内を搬送された後に、続いてエッチング液除去室2に搬送されることによって、エッチング液が除去されることになる。
スクリーン印刷法を使用してマスキング剤をガラスの一表面に被覆した。このとき、マスキング剤が被覆されていない矩形の部分を形成した。
開口部を有する容体と押さえ板からなるガラス板収納ユニットにマスキング剤を被覆したガラス板を収納した後、マスキング剤が被覆されていない矩形部分に霧状のエッチング液を吹き付けることによってエッチングを行った。
2 エッチング液除去室
3 エッチング液貯留槽
4 エッチング液回収装置
5 水貯留槽
6、23 ガラス板収納ユニット
7、18 搬送ローラー
8、16 ノズル
9、11、13 ポンプ
12、14a、14b フィルター
15a、15b 開閉弁
19、24 ガラス板
20 マスキング剤
Claims (18)
- ガラス板の表面にエッチング液を吹き付けて前記ガラス板表面をエッチングするエッチング工程と、
前記吹き付けたエッチング液を前記ガラス板から除去するエッチング液除去工程
を備えることを特徴とするガラス板表面のエッチング方法。 - 前記エッチング方法は、開口部を有し、かつ、ガラス板の端部を挟持固定して収納するガラス板収納ユニットに収納された前記ガラス板の表面をエッチングするものである請求項1に記載のエッチング方法。
- 前記エッチング工程前に、ガラス板表面に所定のパターンでマスキング剤を被覆するマスキング剤被覆工程を備える請求項1又は2に記載のエッチング方法。
- 前記エッチング工程は、前記ガラス板を略水平にし、前記ガラス板の底面にエッチング液を吹き付けて前記ガラス板表面をエッチングする請求項1〜3のいずれかに記載のエッチング方法。
- 前記エッチング工程は、前記ガラス板の底面の反対面にエッチング液を吹き付けて前記ガラス板表面をエッチングする請求項4に記載のエッチング方法。
- 前記エッチング工程は、前記ガラス板を略鉛直にし、前記ガラス板の表面にエッチング液を吹き付けて前記ガラス板表面をエッチングする請求項1〜3のいずれかに記載のエッチング方法。
- ガラス板を支持可能なガラス板支持部と、
前記支持部に支持されているガラス板に向けてエッチング液を噴射するエッチング液噴射ノズルと、
前記エッチング液を該エッチング液の温度を制御して貯留するエッチング液貯留槽と、
前記噴射されたエッチング液を回収するエッチング液回収装置
を備えることを特徴とするガラス板エッチング装置。 - 前記ガラス板支持部は、ガラス板を略水平に支持可能な支持部であり、前記エッチング液噴射ノズルは、前記ガラスの下方からエッチング液を前記ガラス板の底面に向けて噴射するノズルである請求項7に記載のエッチング装置。
- 前記ガラス板支持部は、ガラス板を略鉛直に支持可能な支持部である請求項7に記載のエッチング装置。
- 前記支持部は、ガラス板の端部を支持するものである請求項8に記載のエッチング装置。
- 前記支持部は、ガラス板を搬送可能な搬送装置である請求項10に記載のエッチング装置。
- 前記搬送装置は、搬送する方向の左右からガラス板の両端を支持する搬送ローラーである請求項11に記載のエッチング装置。
- 前記搬送ローラーは、平面を有する基部とこの基部の平面径間よりも小径の略円柱形ローラーとを前記基部の平面と前記ローラーの平面で連結した形状の搬送ローラーであり、前記小径ローラーがガラス板を支持する請求項12に記載のエッチング装置。
- 前記エッチング液噴射ノズルは、前記ガラスの上方からエッチング液を前記ガラス板の底面の反対面に向けて噴射する請求項13に記載のエッチング装置。
- 前記回収装置は、回収したエッチング液を前記エッチング液貯留槽に送液するものである請求項7〜14のいずれかに記載のエッチング装置。
- 前記回収装置は、回収するエッチング液中に存在するスラッジ除去装置を備える請求項7〜15のいずれかに記載のエッチング装置。
- 請求項1〜6のいずれかに記載のエッチング方法によってエッチングしたフラットパネルディスプレイ用ガラス板。
- 請求項17に記載のガラス板を使用したフラットパネルディスプレイ。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004167969A JP4071220B2 (ja) | 2004-03-17 | 2004-06-07 | ガラス基板の製造方法 |
| SG200404296A SG115713A1 (en) | 2004-03-17 | 2004-07-30 | Glass plate surface etching method, glass plate etching apparatus, glass plate for flat panel display, and flat panel display |
| TW093123095A TWI250136B (en) | 2004-03-17 | 2004-08-02 | Glass plate surface etching method, glass plate etching apparatus, glass plate for flat panel display, and flat panel display |
| CNB2004100641632A CN100513340C (zh) | 2004-03-17 | 2004-08-20 | 玻璃板表面蚀刻方法和装置、及玻璃板和平面显示器 |
| KR1020040068837A KR100725468B1 (ko) | 2004-03-17 | 2004-08-31 | 유리판 표면의 에칭 방법, 유리판 에칭 장치, 평판디스플레이용 유리판 및 평판 디스플레이 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004075585 | 2004-03-17 | ||
| JP2004167969A JP4071220B2 (ja) | 2004-03-17 | 2004-06-07 | ガラス基板の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007152268A Division JP2007284345A (ja) | 2004-03-17 | 2007-06-08 | フラットパネルディスプレイ用ガラス板の製造方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005298314A true JP2005298314A (ja) | 2005-10-27 |
| JP4071220B2 JP4071220B2 (ja) | 2008-04-02 |
Family
ID=35041438
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004167969A Expired - Fee Related JP4071220B2 (ja) | 2004-03-17 | 2004-06-07 | ガラス基板の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4071220B2 (ja) |
| KR (1) | KR100725468B1 (ja) |
| CN (1) | CN100513340C (ja) |
| SG (1) | SG115713A1 (ja) |
| TW (1) | TWI250136B (ja) |
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- 2004-07-30 SG SG200404296A patent/SG115713A1/en unknown
- 2004-08-02 TW TW093123095A patent/TWI250136B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-08-20 CN CNB2004100641632A patent/CN100513340C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-08-31 KR KR1020040068837A patent/KR100725468B1/ko not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| KR20050093669A (ko) | 2005-09-23 |
| KR100725468B1 (ko) | 2007-06-08 |
| SG115713A1 (en) | 2005-10-28 |
| CN100513340C (zh) | 2009-07-15 |
| TWI250136B (en) | 2006-03-01 |
| TW200531945A (en) | 2005-10-01 |
| CN1669967A (zh) | 2005-09-21 |
| JP4071220B2 (ja) | 2008-04-02 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A521 | Written amendment |
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| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4071220 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110125 Year of fee payment: 3 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| S533 | Written request for registration of change of name |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R350 | Written notification of registration of transfer |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130125 Year of fee payment: 5 |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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