JP2009098270A - 基板洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板洗浄装置10は、洗浄液を貯留する洗浄槽12と、洗浄槽12内に貯留された洗浄液に超音波を照射する超音波照射器30と、を備えている。また、洗浄槽12内には、当該洗浄槽12内に貯留された洗浄液にガスを供給することによりこの洗浄液に気泡を発生させる気泡発生器61が設けられている。気泡発生器61は、表面が親水化処理された樹脂部材から構成されている。
【選択図】図2
Description
このうち、図1は、本発明の一の実施の形態における基板洗浄装置の構成の概略を示す図であり、図2(a)は、表面が親水化処理されたガス供給用ノズルパイプによって洗浄液に生成された気泡を示す図であり、図2(b)は、表面が疎水性であるガス供給用ノズルパイプによって洗浄液に生成された気泡を示す図である。また、図3は、ガス供給用ノズルパイプに対する気泡の接触角を説明するための図であり、図4は、超音波照射機構により超音波が洗浄液に照射された際における、洗浄液に対するガスの溶存濃度の経時変化を示すグラフである。
なお、以下の実施の形態においては、本発明による基板洗浄装置を半導体ウエハ(単にウエハともいう)の洗浄装置に適用した例を説明する。ただし、本発明による基板洗浄装置は、半導体ウエハの洗浄への適用に限られるものではなく、広く基板の洗浄に適用することができる。
12 洗浄槽
13 排出管
15 外槽
16 排出管
20 保持機構
22 棒状部材
24 基部
30 超音波発生機構
32 高周波駆動電源
34 超音波発振器
36 駆動切換部
38 振動子
40 洗浄液供給機構
41 洗浄液供給管
42 洗浄液供給用ノズルパイプ
44 戻り管
45 洗浄液搬送ポンプ
46 ヒータ
47 フィルタ
49 洗浄液供給源
60 ガス供給機構
61 ガス供給用ノズルパイプ
61a 比較用の従来のガス供給用ノズルパイプ
62 ガス供給管
62a 第1ガス供給管
62b 第2ガス供給管
64a、64b 開閉弁
65a、65b フィルタ
66a、66b マスフローメータ
67a、67b レギュレータ
69a 第1ガス供給源
69b 第2ガス供給源
Claims (9)
- 洗浄液を貯留する洗浄槽と、
前記洗浄槽内に貯留された洗浄液に超音波を照射する超音波照射器と、
前記洗浄槽内に設置され、表面が親水化処理された樹脂部材を有し、前記洗浄槽内に貯留された洗浄液に前記樹脂部材からガスを供給することによりこの洗浄液に気泡を発生させる気泡発生器と、
を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記樹脂部材は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、およびポリプロピレンからなる群から選択された少なくとも1つのものであることを特徴とする請求項1記載の基板洗浄装置。
- 前記気泡発生器の樹脂部材には中空部分が設けられているとともに当該樹脂部材の表面には前記中空部分に連通する複数の貫通孔が設けられており、この中空部分から樹脂部材の外方に貫通孔を介してガスが送られるようになっていることを特徴とする請求項1または2記載の基板洗浄装置。
- 前記気泡発生器の樹脂部材は、前記洗浄槽内において当該洗浄槽の底面近傍に設置されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記気泡発生器の樹脂部材は、その表面に薬品処理を行うことにより親水化処理されたものであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記気泡発生器の樹脂部材は、その表面にコーティング処理を行うことにより親水化処理されたものであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記洗浄槽内において、当該洗浄槽内に洗浄液を供給するための洗浄液供給部が前記気泡発生器よりも上方に設置されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記洗浄液供給部は、前記洗浄槽内に洗浄液を供給する際に洗浄液を斜め下方に向けて噴射するようになっていることを特徴とする請求項7記載の基板洗浄装置。
- 前記気泡発生器の樹脂部材は、前記洗浄槽内において前記超音波照射器から照射される超音波が当たらないような位置に設置されていることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
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