JP2007280601A - Hddサスペンション及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ステンレス基体上にポリイミド系樹脂層及び導体層が逐次に形成されてなる積層体において、ポリイミド系樹脂層の線膨張係数を1×10-5〜3×10-5/℃の範囲とし、かつ、ステンレス−ポリイミド系樹脂層間及びポリイミド系樹脂層−導体間の接着力を0.5kg/cm以上としたHDDサスペンション用積層体から得られるHDDサスペンションである。また、ステンレス基体上に1層以上のポリイミド系前駆体溶液又はポリイミド系樹脂溶液を塗工し、更に乾燥及び250℃以上の温度で熱処理を行い、厚さ3〜20μmで線膨張係数1×10-5〜3×10-5/℃のポリイミド系樹脂層を形成した後、導体層を加熱圧着して積層体を得て、これを加工するHDDサスペンションの製造方法である。
【選択図】なし
Description
しかし、近年、その小型化、高密度化、高容量化等が活発に検討されており、それにつれて磁気ヘッドが直接搭載されるスライダの低浮上化が必須の課題になっている。この観点からすると、従来の金線は、その空気抵抗や剛性等の影響により低浮上化の障害となっていた。また、このような金線によるワイアボンディング方式では、磁気ヘッドへの金線接続工程の自動化が困難であるという問題も有している。
(a)ポリイミド系樹脂層の線膨張係数が1×10-5〜3×10-5/℃の範囲にあること、
(b)ポリイミド系樹脂層の厚さが18〜30μmの厚さの範囲であること、
(c)ステンレス基体の厚さが18〜30μmの厚さの範囲であること、
(d)ステンレス基体は、ポリイミド層が積層される面の中心線平均粗さ(Ra)が20〜300nmであること、
(e)導体層は、厚さ3〜20μmの銅箔又は銅合金箔であること、
(f)ステンレス−ポリイミド系樹脂層間及びポリイミド系樹脂層−導体間の接着力がいずれも0.5kg/cm以上であること、
を満たすことを特徴とするHDDサスペンションである。
また、本発明は、厚さ18〜30μmのステンレス基体上に1層以上のポリイミド系前駆体溶液又はポリイミド系樹脂溶液を塗工し、更に乾燥及び250℃以上の温度で熱処理を行い、厚さ3〜20μmで線膨張係数1×10-5〜3×10-5/℃のポリイミド系樹脂層を形成した後、厚さ3〜20μmの導体層を加熱圧着して、HDDサスペンション用積層体を得て、次にこのHDDサスペンション用積層体をエッチング加工を含む加工処理することを特徴とする上記のHDDサスペンションの製造方法である。
更に、本発明は、厚さ18〜30μmのステンレス基体上に高熱膨張性ポリイミド系樹脂溶液1又は高熱膨張性ポリイミド系前駆体樹脂溶液1、低熱膨張性ポリイミド系前駆体樹脂溶液、高熱膨張性ポリイミド系樹脂溶液2又は高熱膨張性ポリイミド前駆体樹脂溶液2を順次塗工乾燥し、更に250℃以上の温度で熱処理を行い、厚さ3〜20μmで線膨張係数が1×10-5〜3×10-5/℃のポリイミド系樹脂層を形成した後、厚さ5〜18μmの導体層を加熱圧着してHDDサスペンション用積層体を得て、次にこれをエッチング加工を含む加工処理することを特徴とする上記のHDDサスペンションの製造方法である。
方法1:ステンレス基体上に1層以上のポリイミド系樹脂溶液又はポリイミド系前駆体樹脂溶液を塗工、乾燥後、更に高温での熱処理を行ってポリイミド系樹脂層を形成し、次にプレス機又はラミネータ等の装置により、銅箔や銅合金箔等の導体とポリイミド系樹脂層が接するように加熱圧着して製造する方法。
方法2:銅箔や銅合金箔等の導体上に1層以上のポリイミド系樹脂溶液又はポリイミド系前駆体樹脂溶液を塗工、乾燥後、更に高温での熱処理を行ってポリイミド系樹脂層を形成し、次にプレス機又はラミネータ等の装置により、ステンレス基体とポリイミド系樹脂層が接するように加熱圧着して製造する方法。
方法3:予め用意したポリイミド系フィルムの両面に高熱膨張性ポリイミド系樹脂層を形成した後、プレス機又はラミネータ等の装置により、その両面にステンレス基体及び銅箔や銅合金箔等の導体をそれぞれ加熱圧着して製造する方法。
工程1:導体層にフォトエッチングプロセス等により1回目のエッチングを施し、所定のパターニングを行う。
工程2:パターニングされた導体層をレジストとして、ポリイミド系樹脂層のエッチングを行う。その際、ヒドラジン等を用いた化学的エッチング方法や、レーザー又はプラズマ等によるエッチング方法を用いるのがよい。
工程3:導体層にフォトエッチングプロセス等により2回目のエッチングを施し、最終的に必要な配線を形成する。
工程4:ステンレスを所定の形状にエッチング加工する。
更に、これらの加工に加え、配線上への保護層の形成、ステンレスの曲げ加工、ステンレスのアニーリング処理等が一般的に行われる。
(1)線膨張係数の測定には、サーモメカニカルアナライザー(セイコー電子株式会社製)を用いた。ポリイミドの線膨張係数の測定は、250℃まで昇温し、更にその温度で20分保持した後、10℃/分の速度で冷却して240℃から100℃までの平均線膨張率を求めた。また、ステンレスの線膨張係数の測定は、試料を340℃まで昇温し、更にその温度で20分保持した後、10℃/分の速度で冷却して330℃から100℃までの平均線膨張率を求めた。
加熱収縮率(%)=(L1−L2)/L1×100
MABA:4,4'- ジアミノ-2'-メトキシベンズアニリド
DAPE:4,4'- ジアミノジフェニルエーテル
PDA :p-フェニレンジアミン
APB :1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン
BAPS:ビス(4-アミノフェノキシフェニル)スルフォン
BAPB:4,4'- ビス(3-アミノフェノキシ)ビフェニル
PMDA:ピロメリット酸二無水物
DSDA:3,4,3',4'-ジフェニルスルフォンテトラカルボン酸二無水物
DMAc:N,N-ジメチルアセトアミド
MABA154.4g(0.60モル)及びDAPE80.1g(0.40モル)を5リットルのセパラブルフラスコ中で、撹拌しながら2,560gのDMAcに溶解させた。次にその溶液を氷浴で冷却し窒素気流中218.1g(1モル)のPMDAを加えた。その後溶液を室温にもどし、3時間撹拌を続けて重合反応を行い、粘稠なポリイミド前駆体Aの溶液を得た。
このポリイミド前駆体溶液Aをアプリケータを用いてステンレス箔(新日本製鐵株式会社製、SUS304、テンションアニール処理品)に塗布し、130℃で30分乾燥した後、更に160℃4分、200℃2分、270℃2分、320℃2分、360℃2分の熱処理を行って、ステンレス箔上に厚さ25μmのポリイミド層を形成した。次にステンレス箔を残したままポリイミドを50℃の100%水加ヒドラジンに浸漬したところ、2.5μm/分の速度でエッチングされた。最後に、塩化第二鉄水溶液を用いてステンレス箔をエッチング除去して、ポリイミドフィルムを得た。得られたポリイミドの線膨張係数は1.4×10-5/℃であった。
PDA 75.7g(0.7モル)及びDAPE60.1g(0.3モル)を5リットルのセパラブルフラスコ中で、撹拌しながら2,010gのDMAcに溶解させた。次にその溶液を氷浴で冷却し、窒素気流中218.1g(1モル)のPMDAを加えた。その後溶液を室温にもどし、3時間撹拌を続けて重合反応を行い、粘稠なポリイミド前駆体Bの溶液を得た。このポリイミド前駆体Bを用い、合成例1と同様にして得られたポリイミドのエッチング速度は3.2μm/分であり、線膨張係数は1.7×10-5/℃であった。
APB292.3g(1モル)を5リットルのセパラブルフラスコ中で撹拌しながら3,690gのDMAcを溶解させた。次にその溶液を氷浴で冷却し、窒素気流中358.3g(1モル)のDSDAを加えた。その後溶液を室温にもどし、3時間撹拌を続けて重合反応を行い、粘稠なポリイミド前駆体Cの溶液を得た。このポリイミド前駆体Cを用い、合成例1と同様にして得られたポリイミドのエッチング速度は2.3μm/分であり、線膨張係数は4.8×10-5/℃であった。
APB 292.3g(1モル)を5リットルのセパラブルフラスコ中で撹拌しながら3,530gのDMAcを溶解させた。次にその溶液を氷浴で冷却し、窒素気流中286.6g(0.8モル)のDSDA及び43.6g(0.2モル)のPMDAを加えた。その後溶液を室温にもどし、3時間撹拌を続けて重合反応を行い、粘稠なポリイミド前駆体Dの溶液を得た。このポリイミド前駆体Dを用い、合成例1と同様にして得られたポリイミドのエッチング速度は2.4μm/分であり、線膨張係数は4.7×10-5/℃であった。
BAPS432.5g(1モル)を5リットルのセパラブルフラスコ中で撹拌しながら3,160gのDMAcを溶解させた。次にその溶液を氷浴で冷却し、窒素気流中358.3g(1モル)のDSDAを加えた。その後溶液を室温にもどし、3時間撹拌を続けて重合反応を行い、粘稠なポリイミド前駆体Eの溶液を得た。このポリイミド前駆体Eを用い、合成例1と同様にして得られたポリイミドのエッチング速度は2.2μm/分であり、線膨張係数は5.4×10-5/℃であった。
BAPB368.4g(1モル)を5リットルのセパラブルフラスコ中で撹拌しながら3,320gのDMAcを溶解させた。次にその溶液を氷浴で冷却し、窒素気流中218.1g(1モル)のPMDAを加えた。その後溶液を室温にもどし、3時間撹拌を続けて重合反応を行い、粘稠なポリイミド前駆体Fの溶液を得た。このポリイミド前駆体Fを用い、合成例1と同様にして得られたポリイミドのエッチング速度は2.7μm/分であり、線膨張係数は4.3×10-5/℃であった。
バーコータを用いて合成例3で得られたポリイミド前駆体Cの溶液を表1に示すステンレス箔(新日本製鐵株式会社製、SUS304、テンションアニール処理品)に硬化後1μmの厚さになるように塗布し、130℃4分乾燥した後、その上に合成例1で得られたポリイミド前駆体Aの溶液を硬化後7μmの厚さになるように塗布し、130℃で8分乾燥し、更にその上に合成例4で得られたポリイミド前駆体Dの溶液を硬化後2μmの厚さになるように塗布し、130℃4分乾燥した後、更に160℃4分、200℃2分、270℃2分、320℃2分、360℃2分の条件で窒素気流中逐次熱処理を行って硬化を完了させ、合計厚さ10μmのポリイミド層がステンレス上に形成された積層体を得た。
次に、得られた積層体のポリイミド側と接するように電解銅箔(福田金属箔粉工業株式会社製、電解銅箔CF−T9、厚さ9μm)を重ね合せ、真空プレス機を用いて面圧150kg/cm2、温度330℃、プレス時間20分の条件で加熱圧着して目的の積層体を製造した。
得られた積層体には反りはほとんど認められず、ステンレス−ポリイミド間及び銅箔−ポリイミド間の接着力はそれぞれ1.1kg/cm、0.9kg/cmであった。また、ステンレス及び銅箔をエッチング除去して得られたポリイミドフィルムの線膨張係数は2.2×10-5/℃であり、ステンレス又は銅箔のいずれか片方をエッチング際の反りもほとんど発生しなかった。更に、積層体を300℃のオーブン中で1時間の耐熱試験を行ったところ、膨れ、剥がれ等の異常は認められなかった。
ポリイミド前駆体Dの溶液の代わりに、合成例5で得られたポリイミド前駆体Eの溶液を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。この積層体には反りはほとんど認められず、ステンレス−ポリイミド間及び銅箔−ポリイミド間の接着力はそれぞれ1.2kg/cm、0.8kg/cmであった。また、ステンレス及び銅箔をエッチング除去して得られたポリイミドフィルムの線膨張係数は2.4×10-5/℃であり、ステンレス又は銅箔のいずれか片方をエッチング際の反りもほとんど発生しなかった。また、積層体の耐熱試験においても異常は認められなかった。
ポリイミド前駆体Cの溶液の代わりに、合成例4で得られたポリイミド前駆体Dの溶液を用い硬化後の厚さを2μmとし、更にポリイミド前駆体Aの硬化後の厚さを8μmとして合計のポリイミド樹脂層の厚さを12μmとした以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。この積層体には反りはほとんど認められず、ステンレス−ポリイミド間及び銅箔−ポリイミド間の接着力はそれぞれ0.8kg/cm、0.7kg/cmであった。また、ステンレス及び銅箔をエッチング除去して得られたポリイミドフィルムの線膨張係数は2×10-5/℃であり、ステンレス又は銅箔のいずれか片方をエッチング際の反りもほとんど発生しなかった。また、積層体の耐熱試験においても異常は認められなかった。
厚さ9μmの電解銅箔の代わりに、厚さ18μmの銅合金箔(オーリンソマーズ社製 C7025 TM-03)を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。この積層体には反りはほとんど認められず、ステンレス−ポリイミド間及び銅箔−ポリイミド間の接着力はそれぞれ1.2kg/cm、2.1kg/cmであった。また、ステンレス及び銅箔をエッチング除去して得られたポリイミドフィルムの線膨張係数は2.2×10-5/℃であり、ステンレス又は銅箔のいずれか片方をエッチング際の反りもほとんど発生しなかった。また、積層体の耐熱試験においても異常は認められなかった。
表1に示すステンレス箔を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。この積層体には反りはほとんど認められず、ステンレス−ポリイミド間及び銅箔−ポリイミド間の接着力はそれぞれ1.6kg/cm、0.9kg/cmであった。また、ステンレス及び銅箔をエッチング除去して得られたポリイミドフィルムの線膨張係数は2.2×10-5/℃であり、ステンレス又は銅箔のいずれか片方をエッチング際の反りもほとんど発生しなかった。また、積層体の耐熱試験においても異常は認められなかった。
ポリイミド前駆体Cの溶液及びポリイミド前駆体Dの溶液の代わりに、合成例6で得られたポリイミド前駆体Fの溶液を用い、ポリイミド前駆体Aの代わりに、合成例2で得られたポリイミド前駆体Bの溶液を用いて、更に9μmの電解銅箔の代わりに、厚さ18μmの銅合金箔(オーリンソマーズ社製 C7025 TM-03)を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。この積層体には反りはほとんど認められず、ステンレス−ポリイミド間及び銅箔−ポリイミド間の接着力はそれぞれ0.8kg/cm、1.8kg/cmであった。また、ステンレス及び銅箔をエッチング除去して得られたポリイミドフィルムの線膨張係数は2.5×10-5/℃であり、ステンレス又は銅箔のいずれか片方をエッチング際の反りもほとんど発生しなかった。また、積層体の耐熱試験においても異常は認められなかった。
表1に示すステンレス箔を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。この積層体には反りはほとんど認められず、ステンレス−ポリイミド間及び銅箔−ポリイミド間の接着力はそれぞれ1.3kg/cm、0.8kg/cmであった。また、ポリイミドフィルムの線膨張係数は2.2×10-5/℃であり、ステンレス又は銅箔のいずれか片方をエッチングした際の反りもほとんど発生しなかった。但し、本実施例においては、用いたステンレス箔の幅方向の線膨張係数が2.05×10-5/℃と大きかったため、得られた積層体においてステンレスを内側にしたゆるやかなカールの発生が認められた。
表1に示すステンレス箔を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。この積層体には反りはほとんど認められず、ステンレス−ポリイミド間及び銅箔−ポリイミド間の接着力はそれぞれ1.1kg/cm、0.8kg/cmであった。また、ポリイミドフィルムの線膨張係数は2.2×10-5/℃であり、ステンレス又は銅箔のいずれか片方をエッチングした際の反りもほとんど発生せず、積層体の耐熱試験においても異常は認められなかった。但し、本実施例においては、用いたステンレス箔の幅方向と長さ方向の線膨張係数の差が0.21×10-5/℃と大きかったため、得られた積層体においてステンレスを内側にしたゆるやかな波打ち状の反りが認められた。
表1に示すステンレス箔を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。この積層体には反りはほとんど認められず、ステンレス−ポリイミド間及び銅箔−ポリイミド間の接着力はそれぞれ1.2kg/cm、0.9kg/cmであった。また、ポリイミドフィルムの線膨張係数は2.2×10-5/℃であり、ステンレス又は銅箔のいずれか片方をエッチングした際の反りもほとんど発生せず、積層体の耐熱試験においても異常は認められなかった。但し、本参考例においては、用いたステンレス箔の長さ方向の加熱収縮率が0.028%と大きかったため、得られた積層体においてステンレスを内側にしたゆるやかなカールの発生が認められた。
アプリケータを用いて合成例3で得られたポリイミド前駆体Cの溶液をステンレス箔(新日本製鐵株式会社製、SUS304、テンションアニール処理品)に硬化後10μmの厚さになるように塗布し、130℃4分乾燥した後、更に160℃4分、200℃2分、270℃2分、320℃2分、360℃2分の条件で窒素気流中逐次熱処理を行って硬化を完了させ、ポリイミド層がステンレス上に形成された積層体を得た。次に、得られた積層体のポリイミド側と接するように銅箔(福田金属箔粉工業株式会社製、電解銅箔CF−T9、厚さ9μm)を重ね合せ、真空プレス機を用いて面圧150kg/cm2、温度330℃、プレス時間20分の条件で加熱圧着して積層体を製造した。この積層体のステンレス−ポリイミド間及び銅箔−ポリイミド間の接着力はそれぞれ1.0kg/cm、0.8kg/cmであり、300℃1時間の耐熱試験でも異常は認められなかったが、ステンレス及び銅箔をエッチング除去して得られたポリイミドフィルムの線膨張係数は4.8×10-5/℃と高く、ステンレスをエッチングして銅箔とポリイミドのみにした際に曲率半径1cm程度の極めて大きなカールが認められた。
アプリケータを用いて合成例1で得られたポリイミド前駆体Aの溶液をステンレス箔(新日本製鐵株式会社製、SUS304、テンションアニール処理品)に硬化後8μmの厚さになるように塗布し、130℃8分乾燥した後、その上に合成例4で得られたポリイミド前駆体溶液Dを硬化後2μmの厚さになるように塗布し、130℃で4分乾燥した後、更に160℃4分、200℃2分、270℃2分、320℃2分、360℃2分の条件で窒素気流中逐次熱処理を行って硬化を完了させ、合計厚さ10μmのポリイミド層がステンレス上に形成された積層体を得た。次に、得られた積層体のポリイミド側と接するように銅箔(福田金属箔粉工業株式会社製、電解銅箔CF−T9、厚さ9μm)を重ね合せ、真空プレス機を用いて面圧150kg/cm2、温度330℃、プレス時間20分の条件で加熱圧着して積層体を製造した。この積層体には反りはほとんど認められなかったが、ステンレス−ポリイミド間の接着力は0.2kg/cmと低いものであった。また、積層体を300℃のオーブン中で1時間の耐熱試験を行ったところ、ステンレス−ポリイミド間での剥がれが確認された。
表1に示すステンレス箔を用いた以外は、実施例1と同様にして積層体を製造した。得られた積層体には反りはほとんど認められなかったが、ステンレスの中心線平均粗さ(Ra)が18nmないしは15nmと小さかったため、ステンレス−ポリイミド間の接着力が0.3kg/cmと低く、また、300℃1時間の耐熱試験でステンレス−ポリイミド間に膨れが確認された。
Claims (6)
- ステンレス基体上にポリイミド系樹脂層及び導体層が逐次に形成されてなる積層体を、エッチング加工を含む加工処理して得られるHDDサスペンションにおいて、該積層体が下記条件(a)〜(f)、
(a)ポリイミド系樹脂層の線膨張係数が1×10-5〜3×10-5/℃の範囲にあること、
(b)ポリイミド系樹脂層の厚さが18〜30μmの厚さの範囲であること、
(c)ステンレス基体の厚さが18〜30μmの厚さの範囲であること、
(d)ステンレス基体は、ポリイミド層が積層される面の中心線平均粗さ(Ra)が20〜300nmであること、
(e)導体層は、厚さ3〜20μmの銅箔又は銅合金箔であること、
(f)ステンレス−ポリイミド系樹脂層間及びポリイミド系樹脂層−導体間の接着力がいずれも0.5kg/cm以上であること、
を満たすことを特徴とするHDDサスペンション。 - ポリイミド系樹脂層は、線膨張係数2.5×10-5/℃以下の低熱膨張性ポリイミド系樹脂層と線膨張係数3×10-5/℃以上の高熱膨張性ポリイミド系樹脂層の少なくとも2層を含む多層構造であり、かつ高熱膨張性ポリイミド系樹脂層が導体層と接する請求項1記載のHDDサスペンション。
- ポリイミド系樹脂層は、高熱膨張性ポリイミド系樹脂層1-低熱膨張性ポリイミド系樹脂層-高熱膨張性ポリイミド系樹脂層2の3層構造であり、上記高熱膨張性ポリイミド系樹脂層1及び2の線膨張係数は3×10-5/℃以上であって互いに同一であっても異なっていてもよく、また、上記低熱膨張性ポリイミド系樹脂層の線膨張係数は2.5×10-5/℃以下である請求項2記載のHDDサスペンション。
- ステンレス基体は、その幅方向及び長さ方向の線膨張係数がいずれも1.75×10-5〜2.0×10-5/℃の範囲内にあり、かつ、これら幅方向及び長さ方向の線膨張係数の差が0.15×10-5/℃以下である請求項1〜3のいずれかに記載のHDDサスペンション。
- 請求項1〜4のいずれかに記載のHDDサスペンションを製造するに当たり、厚さ18〜30μmのステンレス基体上に1層以上のポリイミド系前駆体溶液又はポリイミド系樹脂溶液を塗工し、更に乾燥及び250℃以上の温度で熱処理を行い、厚さ3〜20μmで線膨張係数1×10-5〜3×10-5/℃のポリイミド系樹脂層を形成した後、厚さ3〜20μmの導体層を加熱圧着して、HDDサスペンション用積層体を得て、次にこのHDDサスペンション用積層体をエッチング加工を含む加工処理することを特徴とするHDDサスペンションの製造方法。
- 請求項1〜4のいずれかに記載のHDDサスペンションを製造するに当たり、厚さ18〜30μmのステンレス基体上に高熱膨張性ポリイミド系樹脂溶液1又は高熱膨張性ポリイミド系前駆体樹脂溶液1、低熱膨張性ポリイミド系前駆体樹脂溶液、高熱膨張性ポリイミド系樹脂溶液2又は高熱膨張性ポリイミド前駆体樹脂溶液2を順次塗工乾燥し、更に250℃以上の温度で熱処理を行い、厚さ3〜20μmで線膨張係数が1×10-5〜3×10-5/℃のポリイミド系樹脂層を形成した後、厚さ3〜20μmの導体層を加熱圧着して、HDDサスペンション用積層体を得て、次にこのHDDサスペンション用積層体をエッチング加工を含む加工処理することを特徴とするHDDサスペンションの製造方法。
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