JP2007084463A - S−アルキル置換されたトリアジンチオール誘導体、該誘導体からなる無電解めっき前処理剤およびこれを用いる無電解めっき方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 また本発明に係る無電解めっき前処理剤は、次の化学構造式で示されるS−アルキル置換されたトリアジンチオール誘導体からなる。
【化6】
ただし、R1は、H、Li、Na、Kなどの1価の元素、R2は、H、Li、Na、Kなどの1価の元素もしくはアルキル基、R3はアルキル基を示す。
【選択図】 図5
Description
樹脂基板上にめっきにより金属皮膜を形成するには、まず樹脂基板上に無電解めっき皮膜を形成し、次いでこの無電解めっき皮膜層を給電層として電解めっきを行い、所要厚さの金属皮膜を得るようにしている。
従来、無電解めっき層の樹脂基板への密着性を向上させるため、予めクロム酸と濃硫酸との混合液のような化学粗化液に樹脂基板を浸漬して表面を粗化した後、トリアジン化合物溶液等の前処理液に浸漬し、次いで無電解めっき処理を行うようにしたものがある(特開平1−246894号公報)。
その他金属表面の処理、例えば金属表面への樹脂層の密着性を向上させる等の目的のため、金属表面をトリアジンチオール等のトリアジン化合物により表面処理することが知られている(例えば、特開平11−54936号公報、特開2001−200374、特開2001−203462など)。
そのため、表面粗化に代わる、密着性向上手段が求められている。
すなわち、本発明は、新規な、S−アルキル置換されたトリアジンチオール誘導体、該誘導体からなる無電解めっき前処理剤およびこれを用いる無電解めっき方法を提供することを目的とする。
前記前処理液を樹脂基板表面に付着させる前に、樹脂基板の洗浄工程を行うと好適である。この樹脂基板の洗浄方法は、特に限定されるものではないが、例えば、樹脂基板にO2プラズマ処理を施すようにすることで好適に行える。
本発明に係るS−アルキル置換されたトリアジンチオール誘導体は全く新規な化合物であり次の化学構造式を有する。
この洗浄手段は特に問われないが、O2プラズマ処理が好適である。あるいは樹脂基板の表面を荒らさない程度の酸処理を行って、樹脂基板の表面を洗浄するようにしてもよい。
紫外線を照射することによって、トリアジンチオール誘導体のS−アルキル基がラジカル化し、樹脂基板表面との反応性が促進される。このラジカル化したS−アルキル基と樹脂基板表面との反応により、トリアジンチオール誘導体が樹脂基板表面に結合すると考えられる。このように、SH基の水素がアルキル基で置換されたS−アルキルは樹脂基板との結合に寄与するが、アルキル基で置換されたS−アルキルの部位は1箇所よりも2箇所の方が大きな結合力が得られ好適である。
以下では、S−アルキルで置換されたトリアジンチオール誘導体の製造方法の一実施例を示す。
(反応)
10mlナスフラスコへトリアジンチオール(Trithiocyanuric acid 95wt%)347mg(1.86mmol)を入れ、ジメチルホルムアミド(DMF)4mlを加えて室温で溶解させた後、水素化ナトリウム(60wt%)を268mg(6.7mmol)加え、室温で攪拌後、60℃で30分間攪拌した。水素の発生がほぼなくなったことを確認して、1−クロロブタン0.42ml(4.02mmol)を加え、室温でしばらく攪拌した後、60℃で5時間攪拌した。反応混合物を水150ml中に注ぎ、ジクロロメタン50〜100mlで3回抽出して、有機層を分離して、塩化ナトリウム飽和溶液で数回洗浄し、硫酸ナトリウム(無水)で脱水し、エバポレータで濃縮して淡黄色粘性液を得た。DMFが混入した反応混合物として粗収量1.39gを得た。
反応混合物1.39gを薄層クロマトグラフィー(TLC)で分析したところ、原料のトリアジンチオールを含む4成分の混合物であることがわかった(図1左)。固定相と移動相の条件から極性の低い物質の移動距離が長いため、図1左のようにTLCスポットの成分を予想し、カラムクロマトグラフィーを用いて原料を除く3成分(MBTT:モノブチルトリアジンチオール、DBTT:ジブチルトリアジンチオール、TBTT:トリブチルトリアジンチオール)を分離した。固定相はシリカゲル、移動相は、ジクロロメタン:ジエチルエーテル:n−ヘキサン=1:1:13の混合溶液で行い、紫外線254nm照射下で吸収スポット(黒色)のある成分を分離した。分離後2成分(MBTT、DBTT)のTLC結果を図1右に示した。
DBTTの確認は、フーリエ変換赤外分析(FT−IR)および液体クロマトグラフ質量分析(LCMS)で行った。FT−IRスペクトルを図2(トリアジンチオール(TT)とDBTTのIRスペクトル)に示す。C−H吸収が現れていることから、ブチル基の存在が確認できた。また、S−H吸収が存在すること、トリアジン環C−N吸収が存在し、かつシフトしていることから、トリアジン環にブチル基が付いていること、およびS−H基の存在が確認できた。したがって、S−Hとブチルが存在するトリアジン化合物であることが確認できた。また、液体クロマトグラフ質量分析(LCMS)の結果、質量数(m/e)288の陰イオンが検出された(図3)。これは、DBTTが合成できていることを示唆している。以上より目的のDBTTが合成できていることを確認した。MBTTについては、TLC結果から目的物と判断した。
なお、S−アルキル置換されていないメルカプト基(SH基)の水素をLi、Na、K等の1価の元素で置換するには、上記得られたトリアジンチオール化合物を、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の溶液と反応させればよい。
<材料>
樹脂基板としてポリイミドフィルムKapton100H(厚さ:25mm,東レ・デュポン製)を用いた。表面修飾用のトリアジンチオール誘導体は、上記のようにしてトリアジンチオールとクロロブタンから合成、分離した。得られたトリアジンチオール誘導体は1つのSH基の水素とブチル基が置換したモノブチルトリアジンチオール(MBTT)、2つ置換したジブチルトリアジンチオール(DBTT)、3つ置換したトリブチルトリアジンチオール(TBTT)である(図4)。これらはカラムクロマトにより分離し、エタノール:ジクロロメタン=2:1(体積比)の溶媒に溶解し、表面修飾用試薬とした。それぞれの溶液濃度はMBTT:26mg/ml,DBTT:60mg/ml,TBTT:30mg/mlとした。
トリアジンチオール処理の前処理として、ポリイミドの表面活性を高めるためにO2プラズマ処理を行なった。プラズマ処理は神港精機製プラズマエッチング 装置「DREAM−RIE」を用い、O2/40 Pa/400 W/80secの条件とした。
プラズマ処理したポリイミドフィルム上にトリアジンチオール誘導体溶液を1、2滴滴下し、2枚の石英ガラス間に固定した。固定後、薬品塗布面にUVを10min照射した。UV照射装置はウシオ電機製Deep UVランプ UXM-500SX(照度:50mW/cm2,波長:254nm,365nm)を用いた。UV照射後、エタノール洗浄および水洗を行ない、残留分子を除去した。
表面修飾試料はSn-Pdコロイドタイプの触媒プロセスにより触媒付与を行なった。触媒付与工程後、市販液で無電解銅めっきを行なった。無電解銅めっき工程と使用した薬品を表1に示す。
作製した試料は硫酸銅めっき(カパーグリーム125,メルテックス製)をRT,2A/dm2, 40min(狙い:18mm)施し、密着強度試験用試料とした。密着強度試験は島津製作所製 引張り試験機EZGraphを用いて、速度12mm/minで180°ピール強度を測定した。
なお、比較例として、本発明の上記前処理もUV処理も行わない無処理の試料と、UV照射のみを行い、本発明の上記前処理を行わないUVのみの試料とを作製した。
図5はその測定結果を示す。また表2は、各ピール強度(gf/cm)の最大値、平均値、最小値を示す。
密着性試験後のめっき引き剥がし面の構成元素,結合状態をX線光電子分光法により分析した。分析結果を図6および表3に示す。
UVのみの試料がポリイミド内で破壊したのは、UV照射によりポリイミドの強度が低下したからと考えられる。一方、DBTT処理の場合、UV照射をおこなっても、このUVは、S−アルキルと樹脂との結合反応の促進に向かい、ポリイミドの破壊には至らなかったものと考えられる。
Claims (7)
- 下記の化学構造式で示されるS−アルキル置換されたトリアジンチオール誘導体。
- 下記の化学構造式で示されるS−アルキル置換されたトリアジンチオール誘導体か らなる無電解めっき前処理剤。
- 樹脂基板上に無電解めっきを施す無電解めっき方法において、
請求項2記載の無電解めっき前処理剤を有機溶媒に溶解した前処理液を樹脂基板表面に付着させて後、無電解めっきを行うことを特徴とする無電解めっき方法。 - 前記前処理液を樹脂基板表面に付着させる前に、樹脂基板の洗浄工程を行うことを特徴とする請求項3記載の無電解めっき方法。
- 前記洗浄工程で、樹脂基板にO2プラズマ処理を施すことを特徴とする請求項4記載の無電解めっき方法。
- 前記前処理液を樹脂基板表面に付着させた後、樹脂基板とS−アルキル置換されたトリアジンチオール誘導体との反応を促進させる反応促進工程を行うことを特徴とする請求項3〜5いずれか1項記載の無電解めっき方法。
- 前記反応促進工程で、樹脂基板に紫外線を照射することを特徴とする請求項6記載の無電解めっき方法。
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