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Claims (12)

  1. ウェーハの表面をエッチングするエッチング・システムにおいて、
    予め設定された複数の位置において前記ウェーハの表面上の微細寸法テストフィーチャを測定する測定装置と、
    前記ウェーハを保持するチャックと、前記チャック内に配置される複数の発熱体と、を有し、前記測定装置から前記ウェーハを受け取るエッチングチャンバであって、それぞれの前記発熱体は前記ウェーハ上の予め設定された位置のそれぞれに隣接して配置される、エッチングチャンバと、
    前記測定装置および前記複数の発熱体に接続された制御装置であって、前記微細寸法テストフィーチャに基づいて、前記ウェーハの表面のエッチング処理中に前記複数の発熱体それぞれの温度を調整して、予め設定された複数の位置の間のエッチング特性のばらつきを低減する制御装置と、を備えることを特徴とするエッチング・システム。
  2. 前記予め設定された複数の位置は、前記ウェーハのほぼ全表面にわたって隣接する複数の領域部にグループ化され、
    前記領域部のそれぞれは、前記複数の発熱体のうち１つの発熱体に対応することを特徴とする請求項１に記載のエッチング・システム。
  3. 前記ウェーハの表面は、中央領域部および該中央領域部に隣接する複数の領域部を含むことを特徴とする請求項２に記載のエッチング・システム。
  4. 前記測定装置は、微細寸法（ＣＤ）分光測定システムを含むことを特徴とする請求項１に記載のエッチング・システム。
  5. 前記制御装置に接続された複数のセンサをさらに備え、
    前記センサは、前記予め設定された位置のそれぞれに対するウェーハ表面の位置における溝の平均深さを周期的に測定し、
    前記制御装置は、前記測定した溝の深さに基づいて、前記予め設定された位置のそれぞれに対する局所的なエッチング速度を計算し、前記ウェーハの表面のエッチング処理中に前記複数の発熱体それぞれの温度を調整して、前記予め設定された複数の位置の間のエッチング速度のばらつきを低減することを特徴とする請求項１に記載のエッチング・システム。
  6. 前記複数のセンサは、干渉計を備えることを特徴とする請求項５に記載のエッチング・システム。
  7. 請求項１に記載の前記エッチング・システムを用いた前記ウェーハの前記表面のエッチング方法において、
    前記予め設定された複数の位置において前記測定装置を用いて前記微細寸法テストフィーチャを測定する手順と、
    前記複数の発熱体を用いて、前記複数の位置で前記ウェーハの下側を加熱する手順と、
    前記微細寸法テストフィーチャに基づいて、前記ウェーハの表面のエッチング処理中に、前記制御装置を用いて前記複数の発熱体それぞれの温度を調整して、前記予め設定された複数の位置の間のエッチング特性のばらつきを低減する手順と、
    を含むことを特徴とするエッチング方法。
  8. 前記予め設定された複数の位置は、前記ウェーハのほぼ全表面にわたって隣接する複数の領域部にグループ化され、
    前記領域部のそれぞれは、１つの発熱体に対応することを特徴とする請求項７に記載のエッチング方法。
  9. 前記ウェーハの表面は、中央領域部および該中央領域部に隣接する複数の領域部を含むことを特徴とする請求項８に記載のエッチング方法。
  10. 前記微細寸法テストフィーチャを測定する手順は、微細寸法（ＣＤ）分光測定手順を含むことを特徴とする請求項７に記載の方法。
  11. 前記予め設定された位置のそれぞれに対するウェーハ表面の溝の深さを周期的に測定する手順と、
    前記測定した溝の深さに基づいて、前記予め設定された位置のそれぞれに対する局所的な前記エッチング速度を計算する手順と、
    前記ウェーハのエッチング処理中に、前記加熱を調整して、前記予め設定された複数の位置の間の局部的なエッチング速度のばらつきを低減し、それによって、前記ウェーハ全体の溝の深さのばらつきを低減する手順と、を有することを特徴とする請求項７に記載の方法。
  12. ウェーハの表面をエッチングするエッチング・システムにおいて、
    予め設定された複数の位置において前記ウェーハの表面の微細寸法テストフィーチャを測定する測定装置と、
    前記ウェーハを保持する温度制御チャックを有し、前記測定装置から前記ウェーハを受け取るエッチングチャンバであって、前記温度制御チャックは流体で満たされた異なる複数の領域部を内包し、前記ウェーハ上の予め設定された位置のそれぞれに隣接して配置され、それぞれの前記領域部の流体が再循環流体温度制御システムによってそれぞれ設定温度まで加熱される、エッチングチャンバと、
    前記測定装置および前記温度制御チャックに接続され、前記ウェーハの表面のエッチング処理中に、前記領域部それぞれの流体の温度を調整して、予め設定された複数の位置の間のエッチング特性のばらつきを低減する制御装置と、を備えることを特徴とするエッチング・システム。
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