JP2006329971A - 検出装置 - Google Patents

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真人 山田
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Abstract

【課題】走行方向変化時あるいは高速走行時に、障害物の動きや状態を精度よく検出できる検出装置を提供する。
【解決手段】走行方向および走行速度に関する外部信号をもとに、目標領域内におけるレーザ光の照射パターンが制御される。たとえば、右折時には、目標領域中心から右方向に偏った部分の照射頻度が高められる照射パターンが設定される。また、高速走行時には、走行方向中心部分の照射頻度が高められるスキャン軌跡が設定される。これにより、走行方向変化時および高速走行時における障害物の検出が適正かつ円滑に行われる。
【選択図】図7

Description

本発明は、レーザ光を目標領域に照射して目標領域内の障害物を検出する検出装置に関し、たとえば、自動車や飛行機等の移動体に搭載して好適なものである。
近年、レーザ光を用いた車間検出器や距離検出器が様々な装置に用いられている。たとえば、車間検出器においては、車両前方からレーザ光を照射したときの反射光を検出することにより、障害物の有無と障害物までの距離が計測される。この場合、レーザ光は、予め前方空間に設定された目標領域を縦横方向に走査(スキャン)される。そして、各スキャン位置において、レーザ光の照射タイミングと反射光の受光タイミングの時間差が測定され、その測定結果から各スキャン位置前方にある障害物までの距離が算出される。
なお、以下の特許文献1には、加速度センサーを用いて走行方向とレーザ光の照射方向のズレを検出し、レーザ光の照射方向を走行方向に向けるように調整する技術が記載されている。
特開平11−325885号公報
この種の検出装置においては、たとえば走行方向が右旋回あるいは左旋回に変化するような場合、特に、これから旋回しようとする方向の障害物をいち早く検出して次の走行制御の適正化を図るのが重要となる。また、高速走行時においては、走行方向遠方の障害物をいち早く検出して走行制御に反映するのが重要となる。さらに、走行方向前方に障害物を検出した場合には、特に、その障害物がどのような動き、状態にあるのかを細かく監視する必要がある。
上記特許文献1には、レーザ光の照射方向を走行方向に向けるように調整する技術が記載されているものの、高速走行時や障害物検出時におけるスキャン制御については記載されておらず、また、走行方向変化時においても、単に、レーザ光の照射方向を走行方向に向けるように調整することが記載されるに留まっている。
そこで、本発明は、走行方向変化時あるいは高速走行時に、障害物の動きや状態を精度よく検出できる検出装置を提供することを課題とする。
上記課題に鑑み本発明は、以下の特徴を有する。
請求項1の発明は、レーザ光を目標領域に照射して前記目標領域内の障害物を検出する検出装置において、前記目標領域を設定するための目標領域設定手段と、前記目標領域内における前記レーザ光のスキャン軌跡を設定するためのスキャン軌跡設定手段と、前記目標領域内における前記レーザ光の照射位置のパターンを、当該検出装置または当該検出装置が搭載される移動体の移動状態に関する信号に基づいて設定する照射パターン設定手段を有することを特徴とする。
この発明によれば、当該検出装置または当該検出装置が搭載される移動体の移動状態に関する信号に基づいて、目標領域内におけるレーザ光の照射パターンが設定されるため、照射パターンが移動体の移動状態に応じて適正化され、もって、障害物の検出精度を高めることができる。
請求項2の発明は、請求項1に記載の検出装置において、前記照射パターン設定手段は、前記検出装置または前記移動体の進行方向および進行速度の少なくとも一方に関する信号に基づいて、前記パターンを設定することを特徴とする。
この発明によれば、移動体の進行方向または進行速度の変化に応じて、目標領域内におけるレーザ光の照射パターンが適正化される。よって、進行方向変化方向または進行方向遠方における障害物の検出精度を高めることができる。
請求項3の発明は、請求項1に記載の検出装置において、前記照射パターン設定手段は、前記目標領域内における前記レーザ光の照射位置のパターンを、前記検出装置または前記移動体の進行方向に関する信号に基づいて、前記目標領域の中心から前記進行方向の変化方向に偏った部分におけるレーザ光の照射頻度が高められるパターンに設定することを特徴とする。
この発明によれば、移動体の進行方向変化方向における障害物の検出試行頻度が高められる。よって、進行方向変化方向における障害物の検出精度を高めることができる。
請求項4の発明は、請求項3に記載の検出装置において、前記目標領域設定手段は、前記検出装置または前記移動体の進行方向に関する信号に基づいて、前記目標領域を、前記進行方向の中心軸から前記進行方向の変化方向にシフトさせることを特徴とする。
この発明によれば、目標領域そのものが移動体の進行方向変化方向にシフトされるため、進行方向変化時における障害物の検出精度をさらに高めることができる。
請求項5の発明は、請求項2に記載の検出装置において、前記照射パターン設定手段は、前記目標領域内における前記レーザ光の照射位置のパターンを、前記検出装置または前記移動体の進行速度に関する信号に基づいて、前記進行方向の中心部分におけるレーザ光の照射頻度が高められるパターンに設定することを特徴とする。
この発明によれば、移動体の進行方向中心部分における障害物の検出試行頻度が高められる。よって、進行方向遠方における障害物の検出精度を高めることができる。
請求項6の発明は、請求項5に記載の検出装置において、前記目標領域設定手段は、前記検出装置または前記移動体の進行速度に関する信号に基づいて、前記目標領域を、前記進行方向の中心部分に向けて縮小させることを特徴とする。より具体的には、請求項7に記載のとおり、前記目標領域設定手段は、前記移動体の進行速度に関する信号に基づいて、前記目標領域を、前記進行速度の増加につれて前記進行方向の中心部分に向けて縮小させる。
この発明によれば、目標領域そのものが移動体の進行速度に基づいて縮小されるため、進行方向遠方における障害物の検出精度を高めることができる。
請求項8の発明は、請求項1ないし7の何れか一項に記載の検出装置において、前記目標領域に照射されるレーザ光の一部を分離する分離手段と、前記分離手段によって分離されたレーザ光を受光するとともに受光面上における前記分離光の受光位置を検出する検出手段と、前記検出手段によって検出された受光位置に基づいて前記目標領域に照射されるレーザ光のスキャン位置を補正する補正手段とをさらに有することを特徴とする。
この発明によれば、目標領域におけるレーザ光の照射位置と受光面上における分離光の受光位置が一対一に対応するため、分離光の受光位置をもってレーザ光の照射位置をモニタすることができる。よって、検出手段における検出結果に基づいてレーザ光の走査位置を補正することにより、目標領域内におけるレーザ光のスキャン軌道を所期のスキャン軌道に追従させることができる。よって、より円滑な障害物の検出動作を実現することができる。
なお、請求項1ないし8の発明において、検出装置は一般に移動体に搭載されるものであるから、検出装置の移動状態に関する信号と移動体の移動状態に関する信号は同義に等しい。本願発明は、検出装置単体および検出装置が搭載された移動体の両方に及ぶものである。
なお、上記各請求項に記載の“目標領域設定手段”は、以下の実施の形態では、スキャン制御部10a、DAC20、アクチュエータ駆動回路40およびレンズアクチュエータ300が対応する。また、上記各請求項に記載の“スキャン軌跡設定手段”は、以下の実施の形態では、スキャン制御部10a(スキャンテーブルを含む)、DAC20、アクチュエータ駆動回路40およびレンズアクチュエータ300が対応する。また、上記核請求項に記載の“照射パターン設定手段”は、以下の実施の形態では、スキャン制御部10a(照射パターンを規定するテーブルを含む)、DAC20、レーザ駆動回路30および半導体レーザ100が対応する。
ただし、以下に示す実施の形態は、本発明を実施する際の一つの例示であって、本発明の範囲は、以下の実施の形態によって何ら制限を受けるものではない。
上記のように本発明によれば、検出装置または検出装置が搭載される移動体の移動状態に応じて、目標領域内におけるレーザ光の照射パターンの適正化を図ることができる。これにより、障害物の検出精度を効果的に高めることができる。
本発明の効果ないし意義は、以下に示す実施の形態の説明により更に明らかとなろう。ただし、以下の実施の形態は、あくまでも、本発明の一つの実施形態であって、本発明ないし各構成要件の用語の意義は、以下の実施の形態に記載されたものに制限されるものではない。
以下、本発明の実施の形態につき図面を参照して説明する。
(実施の形態1)
まず、図1に、実施の形態1に係るビーム照射装置の構成を示す。
ビーム照射装置は、DSP(Digital Signal Processor)制御回路10と、DAC(Digital Analog Converter)20と、レーザ駆動回路30と、アクチュエータ駆動回路40と、ビーム照射ヘッド50と、受光部60、PD(Photo Detector)信号処理回路70、ADC(Analog Digital Converter)80を備えている。
DSP制御回路10は、レーザ駆動回路30およびアクチュエータ駆動回路40を駆動制御するためのデジタル信号をDAC20に出力する。また、ADC80から入力されるデジタル信号をもとに、目標領域内に含まれる障害物の位置と障害物までの距離を検出する。DSP制御回路10には、スキャン制御部10aと距離測定部10bが配備されている。
このうち、スキャン制御部10aには、自動車の操舵方向と速度に関する信号が外部信号として入力され、また、距離測定部10bによって検出された障害物の位置と障害物までの距離に関する信号が入力される。スキャン制御部10aは、これらの信号をもとに、照射パターンないし目標領域を変更する。スキャン制御部10aにおけるスキャン制御については、追って詳述する。
距離測定部10bには、高周波の内部クロック(図示しない)が入力される。距離測定部10bは、各スキャン位置において出力されるパルス光の出力タイミングからその反射光の受光タイミングまでのクロック数Nをカウントする。そして、カウントしたクロック数Nをもとに、当該スキャン位置における障害物の有無と障害物までの距離Lを検出する。たとえば、内部クロックの周期をTとして、L=C(光速)×T×N/2を演算することにより障害物までの距離を検出する。なお、予め決められた時間内に反射光を受光できない場合は、当該スキャン位置には障害物が存在しないとされる。
DAC20は、DSP制御回路10から入力されたデジタル信号をアナログ信号(制御信号)に変換してレーザ駆動回路30およびアクチュエータ駆動回路40に出力する。レーザ駆動回路30は、DAC20から入力された制御信号に応じて、ビーム照射ヘッド50内の半導体レーザ100を駆動する。アクチュエータ駆動回路40は、DAC20から入力された制御信号に応じて、ビーム照射ヘッド50内のレンズアクチュエータ300を駆動する。
ビーム照射ヘッド50は、前方空間に設定された目標領域にレーザ光をスキャンさせながら照射する。図示の如く、ビーム照射ヘッド50は、半導体レーザ100と、アパーチャ200と、レンズアクチュエータ300を備えている。
半導体レーザ100から出射されたレーザ光は、アパーチャ200によって所望の形状に整形された後、レンズアクチュエータ300に支持された照射レンズに入射される。ここで、照射レンズは、図1のY−Z平面方向、すなわち、目標領域に対して平行に変位可能となるよう、レンズアクチュエータ300によって支持されている。したがって、照射レンズを通過したレーザ光は、レンズアクチュエータ300の駆動に応じて、Y−Z平面方向に出射角度が変化する。これにより、目標領域におけるレーザ光のスキャンが行われる。
なお、DSP制御回路10には、目標領域内におけるレーザ光のスキャン軌道を設定するためのテーブル(スキャンテーブル)と、当該目標領域内におけるレーザ光の照射位置(発光位置)を設定するためのテーブル(照射パターン)が配備されている。
DSP制御回路10のスキャン制御部10aは、スキャンテーブルを参照しながら、アクチュエータ駆動回路40を制御するための信号をDAC20に出力する。この信号は、DACを介して、アクチュエータ駆動回路40に入力される。これを受けて、アクチュエータ駆動回路40は、レーザ光がスキャンテーブルに規定されたスキャン軌道に沿ってスキャンされるよう、レンズアクチュエータ300を駆動する。かかるサーボ動作によって、レーザ光は、スキャンテーブルによって規定されたスキャン軌道に沿うよう目標領域内をスキャンする。
さらに、DSP制御回路10のスキャン制御部10aは、照射パターンを参照しながら、レーザ駆動回路30を制御するための信号をDAC20に出力する。この信号は、DAC20を介して、レーザ駆動回路30に入力される。これを受けて、レーザ駆動回路40は、半導体レーザ100が、スキャンテーブルによって規定されたスキャン軌道上の、照射パターン(テーブル)によって規定された位置にて、レーザ光をパルス(矩形)状に発光するよう、半導体レーザ100を駆動する。ここで、パルス状とは、半導体レーザ100からの出力をゼロレベルから一定期間だけハイレベルにすることをいう。しかして、照射レーザ光は、スキャンテーブルによって規定されたスキャン軌道上の、照射パターン(テーブル)にて規定された位置にて発光する。
受光部60は、照射されたレーザ光が障害物等に当たり反射された光を受光する。図示の如く、受光部60は、集光レンズ400と、PD(Photo Detector)500を備える。
障害物等からの反射光は、集光レンズ400を通してPD500上に収束される。PD500は、図1のX−Y平面に垂直な反射光受光面を有しており、この反射光受光面上における受光量に応じた大きさの電気信号を出力する。なお、このPD500としては、従来のPDを使用することができる。
PD500からの電気信号はPD信号処理回路70に入力される。PD信号処理回路70は、入力された電気信号を増幅およびノイズ除去してADC80に出力する。
ADC80は、入力された信号をデジタル信号に変換してDSP制御回路10の距離測定部10bに出力する。DSP制御回路10の距離測定部10bは、ADC80から入力されたデジタル信号をもとに反射レーザ光の受光タイミングを検出し、この受光タイミングと、スキャン制御部から入力されるレーザ光の出力タイミングとから、当該スキャン位置における障害物までの距離を検出する。そして、その検出結果をスキャン制御部10aに出力する。
図2に、レンズアクチュエータ300の構成(分解斜視図)を示す。
図2を参照して、照射レンズ301は、レンズホルダー302中央の開口に装着される。レンズホルダー302には、4つの側面にそれぞれコイルが装着されており、各コイル内にヨーク303中央の突出部が図2中の矢印のように挿入される。各ヨーク303は、両側の舌片が一対のヨーク固定部材305の凹部に嵌入される。さらに、それぞれのヨーク固定部材305に、ヨーク303の舌片を挟むようにして磁石304が固着される。この状態にて、ヨーク固定部材305が磁石304とともにベース(図示せず)に装着される。
さらに、ベースには一対のワイヤー固定部材306が装着されており、このワイヤー固定部材306にワイヤー307を介してレンズホルダー302が弾性支持される。レンズホルダー302には四隅にワイヤー307を嵌入するための孔が設けられている。この孔にそれぞれワイヤー307を嵌入した後、ワイヤー307の両端をワイヤー固定部材306に固着する。これにより、レンズホルダー302がワイヤー307を介してワイヤー固定部材306に弾性支持される。
駆動時には、レンズホルダー302に装着されている各コイルに、上記アクチュエータ駆動回路40から駆動信号が供給される。これにより、電磁駆動力が発生し、照射レンズ301がレンズホルダーとともに2次元駆動される。
ここで、上記アクチュエータ駆動回路40から出力される水平方向(図1のy方向)の駆動信号(VCM駆動電流)は、図3に示すような矩形波、正弦波、のこぎり波、山形波などのいずれの波形であってもよい。
例えば、制御信号を矩形波とする場合、照射レンズ301は、駆動信号が−Iから+Iに、あるいは、+Iから−Iに切り替わることに応じて水平方向の駆動方向が反転する。この場合、アクチュエータ300の駆動パターンが単純となり、また、パルス間隔を調整することによって水平方向におけるレーザ光の移動ストロークを調整することができる。
また、制御信号を正弦波とする場合、照射レンズ301は、駆動信号が−Iから+Iに向かう期間において第1の水平方向に変位し、駆動信号が+Iから−Iに向かう期間において第1の水平方向とは反対の第2の水平方向に変位する。この場合、アクチュエータ300の追従性を良好にすることができる。また、正弦波の周期を調整することによって、水平方向におけるレーザ光の移動ストロークを調整することができる。
同様に、制御信号を山形波やのこぎり波とする場合にも、山形波のこぎり波の周期を調整することによって、水平方向におけるレーザ光の移動ストロークを調整することができる。
図4を参照して、本実施の形態におけるスキャン動作について説明する。
図4(a)に示すように、ビーム照射装置の前方空間に設定された目標領域を複数のブロック(横200×縦3)に分割したとき、照射レーザ光は、全てのブロックを順番に照射するようにしてスキャンされる。ここで、ブロックのスキャン順序は任意に設定できる。たとえば、図4(b)に示す如く、左上隅のブロック位置から順次、1ラインずつスキャンするように設定することもできる。
なお、スキャン軌道(ブロックのスキャン順序)は、上述の如く、DSP制御回路10内のスキャンテーブルによって規定される。また、レーザ光は、このスキャン軌道上、照射パターン(テーブル)によって規定された位置にて、目標領域に照射される。レーザ光の照射パターンの詳細については、図6ないし図17を参照しながら追って詳述する。
図5に、スキャン動作時のフローチャートを示す。
S100にてスキャン動作が開始されると、S102にて照射レーザ光の照射位置がホームポジションへ移動される。なお、ホームポジションは、たとえば、図4(b)に示すブロックのうち、左端で且つ上端のブロック位置に設定される。さらに、S104にて照射レーザ光に対する軌道サーボがONとされた後、S106にてスキャン動作が開始される。次に、S108にて、照射レーザ光が目標領域に照射される。このとき、目標領域からの反射光を受光することにより、当該ビーム照射装置を搭載した検出器において、障害物測定や距離測定等の処理が行われる。
しかる後、S110にてスキャン動作が終了したかが判別され、終了していなければ、S106に戻り、上述のスキャン動作が繰り返される。他方、スキャン動作が終了すれば、S112にて軌道サーボがOFFとされた後、S114にて半導体レーザがOFFとされる。
次に、レーザ光の照射パターンと目標領域の設定について説明する。
図6に、上記スキャン制御部10aによって設定され得る照射パターンのバリエーションを示す。なお、同図には、目標領域内におけるレーザ光の照射位置が丸印によって模式的に示されている。また、図中、破線は、水平方向のスキャン軌道を示している。同図の例では、水平方向のスキャン軌道が5ラインとされている。レーザ光は、たとえば、最上段のラインに沿って左から右にスキャンされる。次いで、上から2段目のラインに沿って左から右にスキャンされる。以下同様に、次段のラインへと順次移りながら、各ラインに沿って左から右へとスキャンされる。
これらの照射パターンは、上記の如く、スキャンテーブルに従ってレーザ光を目標領域内においてスキャンさせたときの、当該スキャン軌道上におけるレーザ光の照射位置(発光位置)を設定するためのテーブルとして、DSP制御回路10に保持されている。
図6(a)は、目標領域中心部におけるレーザ光の照射頻度を高める場合の照射パターンである。この照射パターンは、高速走行時に用いて好ましいものである。すなわち、高速走行時には、自動車の走行路上、遠方に存在する障害物をいち早く検出する必要がある。同図のように、目標領域中心部におけるレーザ光の照射頻度を高めることにより、直進遠方位置の検出試行頻度が高められ、これにより、遠方位置にある障害物を円滑に検出することができる。
図6(b)は、左右幅方向中央部におけるレーザ光の照射頻度を高める場合の照射パターンである。この照射パターンも、図6(a)の場合と同様、高速走行時に用いて好ましいものである。すなわち、この照射パターンにおいても、直進遠方位置の検出試行頻度が高められるため、直進遠方位置にある障害物を円滑に検出することができる。
図6(c)は、上下幅方向中央部におけるレーザ光の照射頻度を高める場合の照射パターンである。この照射パターンも、上記のパターンと同様、高速走行時に用いて好ましいものである。すなわち、この照射パターンにおいても、直進遠方位置の検出試行頻度が高められ、直進遠方位置にある障害物を円滑に検出することができる。また、このパターンの場合は、図6(b)の場合に比べ、検出試行頻度が高い領域が左右方向に拡張されるため、障害物の検出精度を高め得る領域を直進左右方向に拡張することができる。よって、直進進行路に対する障害物の急な飛び出しの可能性等を検出することができる。
図6(d)は、左右幅方向右側部分におけるレーザ光の照射頻度を高める場合の照射パターンである。この照射パターンは、右折走行時に用いて好ましいものである。すなわち、右折走行時には、自動車が曲がろうとする右側部分に障害物が存在しないかをいち早く検出する必要がある。同図のように、右側領域のレーザ光の照射頻度を高めることにより、右側領域の検出試行頻度が高められ、これにより、進行方向右側位置にある障害物を円滑に検出することができる。なお、左右幅方向左側部分のレーザ光の照射頻度を高める場合の照射パターンは、同図の照射パターンを左右対称に折り返したものとなる。この場合は、左側領域の検出試行頻度が高められ、進行方向左側位置にある障害物を円滑に検出することができる。
図6(e)は、目標領域内のある一点(目標位置)のレーザ光の照射頻度を高める場合の照射パターンである。この照射パターンは、障害物検出時に用いて好ましいものである。すなわち、障害物検出位置を目標位置に設定することにより、障害物位置近傍の検出試行頻度が高められ、障害物の位置変化等を円滑に検出できる。なお、図6(e)の照射パターンは、図6(a)の照射パターンの高密度照射域(図6(a)では目標領域中心部)を目標位置に変更する演算処理を実行することにより取得することができる。この場合、DSP制御回路10には、図6(a)の照射パターンが保持される。スキャン制御部10aは、保持された照射パターンに対して、高密度照射域を変更するための演算処理を実行する。
図7は、右折走行時における目標領域と照射パターンの変更例を示すものである。
直進走行時には、図7(a)の照射パターンが設定されている。この状態から、ドライバーがハンドルを右側に旋回し右折操舵に関する信号がスキャン制御部10aに入力されると、図7(b),(c),(d)に示す如く、目標領域のシフトあるいは照射パターンの変更が行われる。
図7(b)は、進行方向前方の中心軸に対して目標領域が右側にそのままシフトされるときの例を示している。この場合、進行方向前方の中心軸に対して非対称な範囲(右側にシフトした範囲)がスキャンされる。これにより、自動車が曲がろうとする右側部分に障害物が存在しないかをいち早く検出することができる。この場合、DSP制御回路10には、図7(a)の照射パターンが保持される。また、スキャン制御部10aは、保持された照射パターンに対して、目標領域を操舵方向およびその角度に応じて変更するための処理を実行する。なお、この場合、目標領域の中心軸と進行方向の中心軸との角度は、たとえば、操舵角度に対して単純増加となるように設定される。
図7(c)は、目標領域はシフトせずに、照射パターンを右側領域におけるレーザ光の照射頻度が高められるパターンに変更するときの例を示している。この場合も、右折方向に障害物が存在しないかをいち早く検出することができる。また、進行方向前方の中心軸に対して対称な領域がスキャンされるため、図7(a)の場合と異なり、進行方向前方方向の障害物も検出できる。なお、この場合、DSP制御回路10には、図7(a)の照射パターンの他に、図7(c)の照射パターンが保持される。また、スキャン制御部10aは、保持された照射パターンのうち操舵方向に対応する照射パターンを選択設定する処理を実行する。
図7(d)は、目標領域を右側にシフトさせ、さらに、照射パターンを右側領域におけるレーザ光の照射頻度が高められるパターンに変更するときの例を示している。この場合は、図7(b)および図7(c)の場合よりもさらに右折方向に障害物が存在しないかをいち早く検出することができる。なお、この場合、DSP制御回路10には、図7(a)の照射パターンの他に、図7(c)の照射パターンが保持される。また、スキャン制御部10aは、保持された照射パターンのうち、操舵方向に対応する照射パターンを選択設定する処理と、操舵方向およびその角度に応じて目標領域を変更するための処理を実行する。
なお、左折操舵時の場合には、図7(b)、(c)、(d)の例とは反対に、目標領域が左側にシフトされ、あるいは、照射パターンが左側領域におけるレーザ光の照射頻度が高められるパターンに変更される。
図8は、走行速度が増加したときの目標領域と照射パターンの変更例を示すものである。
図中、速度1は第1の閾値速度を越えるまでの走行速度、速度2は第1の閾値速度を越えてから第2の閾値速度を越えるまでの走行速度、速度3は第2の閾値速度を越える速度である。この場合、スキャン制御部10aは、外部信号として走行速度に関する信号をモニタし、そのときの速度に応じて、目標領域と照射パターンを適宜変更する。
図8(a),(b)の例では、速度の増加に応じて目標領域が次第に縮小される。これにより、直進遠方位置の検出試行頻度が高められ、直進遠方位置にある障害物を円滑に検出できるようになる。なお、この場合、DSP制御回路10には、速度1のときに適用される照射パターンが保持される。また、スキャン制御部は、目標領域を走行速度に応じて変更するための処理を実行する。
図8(c)の例では、速度の増加に応じて、照射パターンが中央部におけるレーザ光の照射頻度が高められるパターンに変更されるとともに目標領域が縮小される。この例においても、直進遠方位置の検出試行頻度が高められ、直進遠方位置にある障害物を円滑に検出できる。なお、この場合、DSP制御回路10には、速度1のときに適用される照射パターンと速度2のときに適用される照射パターンが保持される。また、スキャン制御部10aは、そのときの速度に応じて照射パターンを選択設定する処理と、目標領域を走行速度に応じて変更するための処理を実行する。
図9は、操舵方向と速度が変化したことに応じて照射パターンを変更する場合の処理フローチャートである。
スキャン動作が開始されると、まず、照射パターンの原点位置が目標領域の中心位置に設定される(S11)。さらに、通常走行時に適用されるべき照射パターンがスキャン動作時のパターンとして設定される(S12)。次に、逐次入力される外部信号をもとに、進行方向に変化があるか(右旋回操舵or左旋回操舵)が判別され(S13)、進行方向に変化があれば(S13:Yes)、初期設定された照射パターンが、変化方向におけるレーザ光の照射頻度を高める照射パターン(たとえば、図7(b)〜(d))に変更される(S14)。進行方向に変化がなければ(S13:No)、初期設定された照射パターンのままとされる。
このようにして照射パターンの設定がなされると、次に、そのとき入力される走行速度に関する外部信号をもとに走行速度が所定の閾値を越えているかが判別される(S15)。ここで、走行速度が閾値を越えていれば(S15:Yes)、走行速度に応じて目標領域が通常の目標領域よりも縮小され、走行方向中央部分におけるレーザ光の照射頻度が高められる(S16)。走行速度が閾値を越えていなければ(S15:No)、通常の目標領域が当該スキャン動作時の目標領域として設定される。
しかして、照射パターンと目標領域が設定されると、その目標領域に照射パターンを当てはめて当該スキャン動作時の照射パターンが設定される。そして、スキャン軌跡上の、当該設定された照射パターンによって規定される位置にて、レーザ光が照射され、そのときの反射光の状態から、各スキャン位置における障害物の検出と障害物までの距離測定処理が行われる(S17)。
このようにして、1回のスキャン動作が終了すると、S11に戻り、同様の処理が繰り返し行われる。そして、スキャン毎に障害物の検出と障害物までの距離測定処理が行われ、自動車の走行状態を制御する制御回路等に出力される。
なお、S16では、目標領域を縮小するに代えて、別の照射パターンを設定するようにしても良い。たとえば、S13にて進行方向に変化がないとされた場合は、S12にて初期化された照射パターンを、S16にて高速走行時に適した照射パターンに変更するようにしても良い。あるいは、S13にて設定された右左折時に適した照射パターン、たとえば、図7(c)の照射パターンを、高速走行時と右左折時の両方に適した照射パターン、たとえば、目標領域のうち進行方向中央部と操舵方向側部のスキャン頻度を高めた照射パターンに変更するようにしてもよい。
また、S14では、照射パターンの変更に代えて、あるいは、照射パターンの変更とともに、たとえば図7(b),(d)に示すように、目標領域を操舵方向にシフトさせるようにしても良い。
なお、図9は、操舵方向と速度が変化したことに応じて照射パターンを変更する場合の処理フローチャートであるが、操舵方向の変化のみに応じて照射パターンを変更する場合には、図9のS15、16が省略される。また、速度の変化のみに応じて照射パターンを変更する場合には、図9のS13、14が省略される。
図9のフローチャートによれば、右左折時に操舵方向に存在する障害物をいち早く検出できるとともに、高速走行時に走行方向遠方に存在する障害物をいち早く検出することができる。
以上のように、本実施の形態によれば、走行方向変化時あるいは高速走行時に、レーザ光を適切な位置に適切な頻度にて照射することにより、正確な障害物検知を実現することができる。
(実施の形態2)
本実施の形態に係るビーム照射装置は、半導体レーザ100から出射されたレーザ光をモニタして目標位置との差分を検出し、この検出結果に基づいてレーザ光のスキャン軌道を補正するものである。
かかるビーム照射装置の構成を図10に示す。同図に示すように、本実施の形態に係るビーム照射装置は、実施の形態1の構成に加えて、PSD(Position Sensitive Detector)信号処理回路90を備えている。また、本実施の形態に係るビーム照射ヘッド50には、実施の形態1でのビーム照射ヘッド50の構成に加えて、ビームスプリッタ600、集光レンズ700、PSD800が配備されている。
なお、以下の説明では、実施の形態1と同様の構成については説明を省略し、相違する点を説明する。
照射レンズを通過したレーザ光は、ビームスプリッタ600によってその一部が反射され、照射レーザ光(目標領域に照射されるレーザ光)から分離される。分離されたレーザ光(分離光)は、集光レンズ700を通してPSD800上に収束される。PSD800は、図10のX−Y平面に平行な受光面を有しており、この受光面上における分離光の収束位置に応じた電流を出力する。ここで、受光面上における分離光の収束位置と目標領域上における前記照射レーザ光の照射位置は一対一に対応している。よって、PSD800から出力される電流は、目標領域上における前記照射レーザ光の照射位置に対応するものとなっている。なお、PSD800の構成および電流の出力動作については、図11、図12を参照しながら追って詳述する。
PSD800からの出力電流はPSD信号処理回路60に入力される。PSD信号処理回路60は、入力された電流から分離光の収束位置を表す電圧信号をADC80に出力する。ADC80は、入力された電圧信号をデジタル信号に変換してDSP制御回路10に出力する。DSP制御回路10は、入力された電圧信号をもとに、受光面上における分離光の収束位置を検出する。
なお、DSP制御回路10には、レーザ光の照射位置を目標領域内においてスキャンさせるためのテーブル(スキャンテーブル)と、このテーブルに従ってレーザ光をスキャンさせたときの、受光面上における分離光の収束位置の軌道を示すテーブル(軌道テーブル)と、当該目標領域内におけるレーザ光の照射位置(発光位置)を設定するためのテーブル(照射パターン)が配備されている。
DSP制御回路10のスキャン制御部10aは、レーザ光のスキャン動作時、スキャンテーブルを参照しながらアクチュエータ駆動回路40を制御するための信号をDAC20に出力する。
また、同時に、スキャン制御部10aは、ADC80から入力された信号をもとに受光面上における分離光の収束位置を検出し、検出した位置と軌道テーブルにて規定された所期の収束位置とを比較して、検出位置が所期の収束位置に引き込まれるよう、アクチュエータ駆動回路40を制御するための信号をDAC20に出力する。かかるサーボ動作によって、照射レーザ光は、スキャンテーブルにて規定された軌道に沿うよう目標領域内をスキャンする。なお、サーボ動作の詳細は、図15を参照しながら追って詳述する。
さらに、DSP制御回路10のスキャン制御部10aは、照射パターンを参照しながら、レーザ駆動回路30を制御するための信号をDAC20に出力する。この信号は、DAC20を介して、レーザ駆動回路30に入力される。これを受けて、レーザ駆動回路40は、半導体レーザ100が、スキャンテーブルによって規定されたスキャン軌道上の、照射パターン(テーブル)によって規定された位置にて、レーザ光をパルス(矩形)状に発光するよう、半導体レーザ100を駆動する。ここで、パルス状とは、半導体レーザ100からの出力をローレベル(≠0)から一定期間だけハイレベルにすることをいう。しかして、照射レーザ光は、スキャンテーブルによって規定されたスキャン軌道上の、照射パターン(テーブル)にて規定された位置にて、ハイレベルにて発光する。
なお、本実施の形態では、レーザ光がパルス状にハイレベルとされる以外の期間においても、レーザ光がローレベルにて発光される。これは、ローレベルの期間にも、レーザ光のスキャン軌道が所期の軌道に沿うよう、レーザ光のスキャン動作にサーボを掛けるためである。
図13は、レンズアクチュエータ300を駆動して照射レンズ301を一方向に変位させたときの、照射レーザ光の出射角度とPSD受光面上における分離光(同図ではモニター光)の収束位置の関係(シミュレーション)を示すものである。同図に示す如く、分離光の変位量は照射レーザ光の出射角度に比例して増加する。なお、同図の特性にうねりが生じているのは、照射レンズを2次元駆動することによって、PSD受光面上の分離光に収差が生じるためである。
図11に、PSD800の構造を示す。なお、同図は、図10において、PSD800をY軸方向から見たときの構造を示すものである。
図示の如く、PSD800は、N型高抵抗シリコン基板の表面に、受光面と抵抗層を兼ねたP型抵抗層を形成した構造となっている。抵抗層表面には、図10のX方向における光電流を出力するための電極X1、X2と、図10のY方向における光電流を出力するための電極Y1、Y2(同図では図示省略)が形成されている。また、裏面側には共通電極が形成されている。
受光面に分離光が収束されると、収束位置に光量に比例した電荷が発生する。この電荷は光電流として抵抗層に到達し、各電極までの距離に逆比例して分割されて、電極X1、X2、Y1、Y2から出力される。ここで、電極X1、X2、Y1、Y2から出力される電流は、分離光の収束位置から各電極までの距離に逆比例して分割された大きさを有している。よって、電極X1、X2、Y1、Y2から出力される電流値をもとに、受光面上における収束位置を検出することができる。
図12(a)は、PSD800の有効受光面を示す図である。また、図12(b)は、電極X1、X2、Y1、Y2から出力される電流をもとにPSD信号処理回路60にて生成される位置検出電圧と、有効受光面上における分離光の収束位置の関係を示す図である。なお、図12(a)では有効受光面を正方形としている。また、図12(b)では、有効受光面のセンター位置を基準位置(0位置)として、基準位置に対する収束位置のX方向およびY方向の変位量と出力電圧の関係を示している。
上記PSD信号処理回路60は、電極X1、X2、Y1、Y2から出力される電流をもとに、収束位置のX方向変位量に対応する電圧Xoutと、Y方向変位量に対応する電圧Youtを生成し、ADC80を介してDSP制御回路10に出力する。DSP制御回路10は、入力された電圧XoutとYoutから収束位置のX方向変位量とY方向変位量を検出する。
図14を参照して、本実施の形態におけるスキャン動作について説明する。
図14(a)に示すように、ビーム照射装置の前方空間に設定された目標領域を複数のブロックに分割したとき、照射レーザ光は、全てのブロックを順番に照射するようにしてスキャンされる。ここで、ブロックのスキャン順序は任意に設定できる。たとえば、図14(b)に示す如く、左上隅のブロック位置から順次、1ラインずつスキャンするように設定することもできる。なお、スキャン軌道(スキャン順序)は、上述の如く、DSP制御回路10内のスキャンテーブルによって規定される。
図14(b)のようにしてスキャンされる場合、PSD800の受光面上における分離光の収束位置は、図14(c)に示す軌道に沿って移動する。ここで、図14(c)の軌道は、図14(b)のスキャン軌道に対し、一対一に対応している。したがって、図14(c)の軌道上における収束位置から照射レーザ光のスキャン位置を識別することができる。なお、この場合、図14(c)の軌道は、上述の如く、DSP制御回路10内の軌道テーブルに従うこととなる。
ビーム照射装置においては、図14(b)に示すスキャン軌道に沿って照射レーザ光がスキャンされるのが最も理想的である。しかし、通常は、ビーム照射装置に対して不所望な振動や外乱等が加えられることにより、照射レーザ光のスキャン位置が所期のスキャン軌道から外れてしまう。この場合、かかるスキャン位置の外れに応じて、有効受光面上における分離光の収束位置も同図(c)に示す軌道から外れることとなる。
図15は、有効受光面上における分離光のスポット軌道の一例を示すものである。かかる場合、DSP制御回路10は、上述の如く、分離光の収束位置を目標軌道に引き込むよう、アクチュエータ駆動回路40にサーボ信号を供給する。
今、分離光の収束位置がP(x,y)にあり、このとき、目標軌道上にあるべき収束位置がP’(x',y')であるとする。ここで、目標軌道上の収束位置P’(x',y')は、DSP制御回路10内に設定された軌道テーブルから取得される。具体的には、照射レーザ光のスキャン位置に対応する収束位置が軌道テーブルから取得される。
このとき、DSP制御回路10は、P(x,y)とP’(x',y')をもとに、Ex=x−x’とEy=y−y’を演算し、演算結果をもとに、Ex=0、Ey=0になるよう、アクチュエータ駆動回路40にサーボ信号を供給する。これにより、照射レーザ光のスキャン位置は、当該タイミングにおいてスキャン軌道上にあるべきスキャン位置方向に引き戻される。これに応じて、分離光の収束位置も、当該タイミングにおいて目標軌道上にあるべき収束位置P’(x',y')の方向に引き込まれる。かかるサーボ動作によって、照射レーザ光は所期のスキャン軌道に追従するようスキャンされる。
なお、本実施の形態における目標領域スキャン時の動作は、実施の形態1と同様にして行われる。すなわち、本実施の形態においても、レーザ光のスキャン動作時に、図6、図7、図8の照射パターンと図9のフローチャートが適用され得る。ただし、図6、図7、図8の照射パターンは、5段の水平スキャンラインが採用される場合の照射パターンとなっており、図14に示す10段の水平スキャンラインからなるスキャンパターンに対応するものとなっていない。したがって、これらのスキャンパターンを、本実施の形態に係る図14に示すスキャンパターンに適用する場合は、たとえば、これら照射パターンの1ライン分をそれぞれ2ラインずつ連続的に繰り返す等、段数の違いに応じて照射パターンを適宜調整する必要がある。
以上のように、本実施の形態によれば、上記実施の形態1と同様、走行方向変化時あるいは高速走行時に、レーザ光を適切な位置に適切な頻度にて照射することにより、正確な障害物検知を実現することができる。さらに、本実施の形態によれば、照射レーザ光のスキャン位置が所期のスキャン軌道から外れた場合にも、これを所期のスキャン軌道に円滑に引き戻すことができ、よって、不所望な振動や外乱がビーム照射装置に加えられた場合にも、安定したスキャン動作を実現することができる。
以上、本発明に係る実施の形態について説明したが、本発明は、斯かる実施の形態に限定されるものではなく、他に種々の変更が可能であることは言うまでもない。
たとえば、上記実施の形態2では、図15を参照して説明したように、分離光の収束位置P(x,y)を、当該タイミングにおいて目標軌道上にあるべき収束位置P’(x',y')に引き込むようにしてサーボを掛けるようにしたが、この他のサーボ処理にて、分離光の収束位置を目標軌道上に引き込むようにすることもできる。
たとえば、図16に示すように、当該タイミングよりΔTだけ経過したタイミングにおいて目標軌道上にあるべき収束位置P’(xa',ya')に引き込むようにすることもできる。この場合、DSP制御回路10は、P(x,y)とP’(xa',ya')をもとに、Ex=x−xa’とEy=y−ya’を演算し、演算結果をもとに、Ex=0、Ey=0になるよう、アクチュエータ駆動回路40にサーボ信号を供給する。こうすると、照射レーザ光のスキャン位置を次に予定されているスキャン位置に円滑に引き込むことができ、効率的なスキャン動作を実現することができる。
なお、上記において、想定し得ない大きさの振動や外乱がビーム照射装置に加わった場合には、サーボ外れが生じて照射レーザ光のスキャン位置が所期のスキャン位置から大きく外れる場合が起こり得る。このような場合には、たとえば、図4(b)および図14(b)のスキャン形態では、スキャン位置をサーボ外れが生じたときにスキャン途中であったラインの先頭位置に戻し、この位置から以降のスキャン処理を継続するようにすれば良い。
また、振動や外乱を予測する、いわゆる外乱オブザーバを併せて適用すれば、照射レーザ光の軌道追従をより円滑に行うことができる。この場合、想定し得ない大きさの振動や外乱がビーム照射装置に加わったような場合にも、サーボ外れの発生を効果的に抑制することができる。
なお、本発明に関連して、「障害物検出時にレーザ光を適切な位置に適切な頻度にて照射し、これにより、より正確な障害物検知を実現する」との発明概念が導き出され得る。この発明概念は、出願時の特許請求の範囲には取り込まれていないが、出願人の意思に応じて適宜、権利化が図られ得るものである。この発明概念に関する上位の請求項は、たとえば、以下のように記載される。
<請求項A>
レーザ光を目標領域に照射して前記目標領域内の障害物を検出する検出装置において、前記目標領域を設定するための目標領域設定手段と、前記目標領域内における前記レーザ光のスキャン軌跡を設定するためのスキャン軌跡設定手段と、前記目標領域内における前記レーザ光の照射位置のパターンを、前記障害物の検出結果に基づいて設定する照射パターン設定手段とを有することを特徴とする検出装置。
<請求項B>
請求項Aにおいて、前記照射パターン設定手段は、前記障害物の検出結果に基づいて、障害物の非検出時よりも当該障害物位置近傍の照射頻度を高める照射パターンを設定することを特徴とする検出装置。
以下、本発明概念に関する実施の形態について説明する。
図17は、本実施の形態における照射パターンの変化を示すものである。この照射パターンは、上記の如く、スキャンテーブルに従ってレーザ光を目標領域内においてスキャンさせたときの、当該スキャン軌道上におけるレーザ光の照射位置(発光位置)を設定するためのテーブルとして、DSP制御回路10に保持されている。
図17(a)に示す通常走行時において、図17(b)または(c)に示す如く、目標領域内に障害物が検出されると、照射パターンの原点位置が障害物検出位置に変更され、それに応じて目標領域のレーザ光の照射パターンが同図に示すように変更される。この照射パターンの変更により、障害物位置近傍におけるレーザ光の照射頻度が高められ、障害物の位置変化等を円滑に検出できる。この場合、DSP制御回路10には、図17(a)の照射パターンが保持される。また、スキャン制御部は、保持された照射パターンに対して、高密度照射域を障害物検出位置に変更して照射パターンを再設定するための演算処理を実行する。
図18は、障害物を検出したことに応じて照射パターンを変更する場合の処理フローチャートである。
スキャン動作が開始されると、まず、照射パターンの原点位置が目標領域の中心位置に設定され(S21)、さらに、通常走行時に適用されるべき照射パターンがスキャン動作時のパターンとして設定される(S22)。次に、設定された目標領域に照射パターンを当てはめてスキャン動作時の照射パターンが設定される。そして、スキャン軌跡上の、当該設定された照射パターンによって規定される位置にて、レーザ光が照射され、そのときの反射光の状態から、各スキャン位置における障害物の検出と障害物までの距離測定が行われる(S23)。
かかる処理において目標領域内に障害物が検出されると、各スキャン位置における障害物までの距離をもとに最も近いスキャン位置(目標領域内の座標位置)が決定される(S24)。そして、この最も近いスキャン位置における障害物までの距離が閾値距離よりも小さいかが判別され(S25)、小さければ(S25:Yes)、この位置をスキャン座標の原点位置に設定して、設定後の原点位置に応じた照射パターンが演算により求められる(S26)。次のスキャンタイミングでは、求めた照射パターンに沿ってレーザ光がスキャンされる。そして、各スキャン位置における障害物の検出と障害物までの距離の測定処理が行われる(S23)。
かかる照射パターンの再設定とそれによるスキャン動作は、目標領域内において障害物が検出されなくなるか、あるいは、最も近いスキャン位置における障害物までの距離が閾値距離よりも大きくなるまで繰り返される(S25:Yes→S26)。S25における判別がNoとなると、S21に戻り、高密度照射域位置と照射パターンが初期設定され(S21、S22)、これをもとにした障害物検出と距離測定が行われる(S23)。
図18のフローチャートによれば、障害物の検出に応じて障害物位置近傍におけるレーザ光の照射頻度が高められるため、障害物の位置変化等をより正確かつ円滑に検出することができる。
この他、本発明の実施の形態は、特許請求の範囲に示された技術的思想の範囲内において、適宜、種々の変更が可能である。
実施の形態1に係るビーム照射装置の構成を示す図。 実施の形態1に係るビーム照射ヘッドの構成を示す図。 実施の形態1に係るVCM駆動電流の例を示す図。 実施の形態1に係るスキャン動作を説明する図。 実施の形態1に係るスキャン動作を示すフローチャート。 実施の形態1に係る照射パターン例を示す図。 実施の形態1に係る進行方向変化時の照射パターン例を示す図。 実施の形態1に係る進行速度変化時の照射パターン例を示す図。 実施の形態1に係る進行方向変化および進行速度変化時における照射パターン変更処理の流れを示すフローチャート。 実施の形態2に係るビーム照射装置の構成を示す図。 実施の形態2に係るPSD構造を示す図。 実施の形態2に係るPSDの構造と位置検出電圧の変動を説明する図。 実施の形態2に係る照射レーザ光の出射角度と分離光の収束位置の関係を示す図。 実施の形態2に係るスキャン動作を説明する図。 実施の形態2に係る軌道サーボの掛け方を説明する図。 実施の形態2に係る軌道サーボの掛け方を説明する図。 障害物検出時における照射パターン例を示す図。 障害物検出時における照射パターン変更処理の流れを示すフローチャート。
符号の説明
10 DSP制御回路
30 レーザ駆動回路
40 アクチュエータ駆動回路
50 ビーム照射ヘッド
60 受光部
70 PD信号処理回路
100 半導体レーザ
300 レンズアクチュエータ
400 受光レンズ
500 PD

Claims (8)

  1. レーザ光を目標領域に照射して前記目標領域内の障害物を検出する検出装置において、
    前記目標領域を設定するための目標領域設定手段と、
    前記目標領域内における前記レーザ光のスキャン軌跡を設定するためのスキャン軌跡設定手段と、
    前記目標領域内における前記レーザ光の照射位置のパターンを、当該検出装置または当該検出装置が搭載される移動体の移動状態に関する信号に基づいて設定する照射パターン設定手段と、
    を有することを特徴とする検出装置。
  2. 請求項1において、
    前記照射パターン設定手段は、前記検出装置または前記移動体の進行方向および進行速度の少なくとも一方に関する信号に基づいて、前記パターンを設定する、
    ことを特徴とする検出装置。
  3. 請求項2において、
    前記照射パターン設定手段は、前記目標領域内における前記レーザ光の照射位置のパターンを、前記検出装置または前記移動体の進行方向に関する信号に基づいて、前記目標領域の中心から前記進行方向の変化方向に偏った部分におけるレーザ光の照射頻度が高められるパターンに設定する、
    ことを特徴とする検出装置。
  4. 請求項3において、
    前記目標領域設定手段は、前記検出装置または前記移動体の進行方向に関する信号に基づいて、前記目標領域を、前記進行方向の中心軸から前記進行方向の変化方向にシフトさせる、
    ことを特徴とする検出装置。
  5. 請求項2において、
    前記照射パターン設定手段は、前記目標領域内における前記レーザ光の照射位置のパターンを、前記検出装置または前記移動体の進行速度に関する信号に基づいて、前記進行方向の中心部分におけるレーザ光の照射頻度が高められるパターンに設定する、
    ことを特徴とする検出装置。
  6. 請求項5において、
    前記目標領域設定手段は、前記検出装置または前記移動体の進行速度に関する信号に基づいて、前記目標領域を、前記進行方向の中心部分に向けて縮小させる、
    ことを特徴とする検出装置。
  7. 請求項6において、
    前記目標領域設定手段は、前記移動体の進行速度に関する信号に基づいて、前記目標領域を、前記進行速度の増加につれて前記進行方向の中心部分に向けて縮小させる、
    ことを特徴とする検出装置。
  8. 請求項1ないし7の何れか一項において、
    前記目標領域に照射されるレーザ光の一部を分離する分離手段と、
    前記分離手段によって分離されたレーザ光を受光するとともに受光面上における前記分離光の受光位置を検出する検出手段と、
    前記検出手段によって検出された受光位置に基づいて前記目標領域に照射されるレーザ光のスキャン位置を補正する補正手段とをさらに備える、
    ことを特徴とする検出装置。
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