JP2006318607A - 磁気記録媒体およびその製造方法ならびに磁気記録装置 - Google Patents
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/855—Coating only part of a support with a magnetic layer
Abstract
【解決手段】2次元的に配列された磁性体からなる記録セルと前記記録セルを取り囲む非磁性層を含む磁気記録層と、前記記録セル上に形成された潤滑剤の高付着性部と、前記潤滑剤の高付着性部に直接付着した潤滑剤とを有することを特徴とする磁気記録媒体。
【選択図】 図2
Description
最初に、図1(a)〜(c)を参照して、従来の磁気記録媒体における問題点を説明する。図1(a)は、従来の磁気記録媒体10の表面に潤滑剤20が塗布され、その上方にヘッド30が配置されている状態を示している。図1(b)に示すように、ヘッド30が媒体10と接触した際に、潤滑剤20がヘッド30と媒体10との間でキャピラリを形成し、これが吸着および摩擦の増大を引き起こすと考えられる。このキャピラリの大きさは、ヘッド30が媒体10に接触した領域からある程度広い範囲にわたって潤滑剤20を巻き込みながら形成される。このため、場合によっては、図1(c)に示すように、多量の潤滑剤20がヘッド30側へ移動することが起こりうる。
(第1の実施例)
本実施例では第1の方法を用いて製造したパターンドメディアについて説明する。直径2.5インチのガラス基板上に、スパッタ法により強磁性層としてCoCrPt膜を20nm成膜した。その上に、プラズマCVD法によりダイヤモンドライクカーボン膜を5nm成膜した。このダイヤモンドライクカーボン膜表面をCF4ガスプラズマにさらして高付着性材料膜とした。一方、直径20nm、深さ40nmの円筒形の穴が間隔40nmで四角格子を組んで円周に沿って配列したパターンを持つNiのスタンパを用意した。高付着性材料膜上にノボラック系ポリマー膜を膜厚50nmで塗布した後、ナノインプリント法によりノボラック系ポリマー膜にNiスタンパを押し付けて、エッチングマスクパターンを形成した。アルゴンイオンミリングにより、高付着性材料膜および強磁性層をエッチングして記録セルを形成した。非磁性層の材料としてダイヤモンドライクカーボンをプラズマCVD法により40nm成膜して記録セル間の凹部を埋め込んだ。非磁性層上に、表面を平坦化するためにポリスチレン膜を50nm成膜し、150℃でアニール処理を行った。アルゴンイオンミリングより約50nmエッチバックを行い、高付着性材料膜の表面を露出させた。表面に潤滑剤としてZ−dolを約0.5nmの膜厚となるようディップコート法により塗布し、高付着性材料膜上に直接付着させた。
本実施例では、第2の方法を用いて製造したパターンドメディアについて説明する。直径2.5インチのガラス基板上に、スパッタ法により強磁性層としてCoCrPt膜を20nm成膜した。その上に、プラズマCVD法によりダイヤモンドライクカーボン膜を5nm成膜した。ダイヤモンドライクカーボン膜上にノボラック系ポリマー膜を膜厚50nmで塗布した後、ナノインプリント法によりノボラック系ポリマー膜にNiスタンパ(直径20nm、深さ40nmの円筒形の穴が間隔40nmで四角格子を組んで円周に沿って配列したパターンを持つもの)を押し付けて、エッチングマスクパターンを形成した。アルゴンイオンミリングにより、ダイヤモンドライクカーボン膜および強磁性層をエッチングして記録セルを形成した。非磁性層の材料としてSiO2をスパッタ法により40nm成膜して記録セル間の凹部を埋め込んだ。非磁性層上に、表面を平坦化するためにポリスチレン膜を50nm成膜し、150℃でアニール処理を行った。エッチングガスとしてCF4ガスを用いてリアクティブイオンエッチングにより約50nmエッチバックを行い、ダイヤモンドライクカーボン膜の表面を露出させることにより、その表面を潤滑剤の高付着性部に変換した。表面に潤滑剤としてZ−dolを約0.5nmの膜厚となるようディップコート法により塗布し、高付着性材料膜上に直接付着させた。
本実施例では、高付着性材料膜を形成するために酸素ガスプラズマへの暴露を用いた。直径2.5インチのガラス基板上に、スパッタ法により強磁性層としてCoCrPt膜を20nm成膜した。その上に、プラズマCVD法によりダイヤモンドライクカーボン膜を15nm成膜した。このダイヤモンドライクカーボン膜表面を酸素ガスプラズマ中にさらして高付着性材料膜とした。この際、酸素ガスプラズマに暴露中にダイヤモンドライクカーボン膜がエッチングされ、暴露終了時に膜厚が5nmとなるように条件を調整した。高付着性材料膜上にノボラック系ポリマー膜を膜厚50nmで塗布した後、ナノインプリント法によりノボラック系ポリマー膜にNiスタンパ(直径20nm、深さ40nmの円筒形の穴が間隔40nmで四角格子を組んで円周に沿って配列したパターンを持つもの)を押し付けて、エッチングマスクパターンを形成した。アルゴンイオンミリングにより、高付着性材料膜および強磁性層をエッチングして記録セルを形成した。非磁性層の材料としてダイヤモンドライクカーボンをプラズマCVD法により40nm成膜して記録セル間の凹部を埋め込んだ。非磁性層上に、表面を平坦化するためにポリスチレン膜を50nm成膜し、150℃でアニール処理を行った。アルゴンイオンミリングより約50nmエッチバックを行い、高付着性材料膜の表面を露出させた。表面に潤滑剤としてZ−dolを約0.5nmの膜厚となるようディップコート法により塗布し、高付着性材料膜上に直接付着させた。
本実施例では、高付着性材料膜を形成するために水素ガスプラズマへの暴露を用いた。直径2.5インチのガラス基板上に、スパッタ法により強磁性層としてCoCrPt膜を20nm成膜した。その上に、プラズマCVD法によりダイヤモンドライクカーボン膜を5nm成膜した。このダイヤモンドライクカーボン膜表面を水素ガスプラズマ中にさらして高付着性材料膜とした。高付着性材料膜上にノボラック系ポリマー膜を膜厚50nmで塗布した後、ナノインプリント法によりノボラック系ポリマー膜にNiスタンパ(直径20nm、深さ40nmの円筒形の穴が間隔40nmで四角格子を組んで円周に沿って配列したパターンを持つもの)を押し付けて、エッチングマスクパターンを形成した。アルゴンイオンミリングにより、高付着性材料膜および強磁性層をエッチングして記録セルを形成した。非磁性層の材料としてダイヤモンドライクカーボンをプラズマCVD法により40nm成膜して記録セル間の凹部を埋め込んだ。非磁性層上に、表面を平坦化するためにポリスチレン膜を50nm成膜し、150℃でアニール処理を行った。アルゴンイオンミリングより約50nmエッチバックを行い、高付着性材料膜の表面を露出させた。表面に潤滑剤としてZ−dolを約0.5nmの膜厚となるようディップコート法により塗布し、高付着性材料膜上に直接付着させた。
本実施例では、高付着性材料膜を形成するために窒素ガスプラズマへの暴露を用いた。直径2.5インチのガラス基板上に、スパッタ法により強磁性層としてCoCrPt膜を20nm成膜した。その上に、プラズマCVD法によりダイヤモンドライクカーボン膜を5nm成膜した。このダイヤモンドライクカーボン膜表面を窒素ガスプラズマ中にさらして高付着性材料膜とした。高付着性材料膜上にノボラック系ポリマー膜を膜厚50nmで塗布した後、ナノインプリント法によりノボラック系ポリマー膜にNiスタンパ(直径20nm、深さ40nmの円筒形の穴が間隔40nmで四角格子を組んで円周に沿って配列したパターンを持つもの)を押し付けて、エッチングマスクパターンを形成した。アルゴンイオンミリングにより、高付着性材料膜および強磁性層をエッチングして記録セルを形成した。非磁性層の材料としてダイヤモンドライクカーボンをプラズマCVD法により40nm成膜して記録セル間の凹部を埋め込んだ。非磁性層上に、表面を平坦化するためにポリスチレン膜を50nm成膜し、150℃でアニール処理を行った。アルゴンイオンミリングより約50nmエッチバックを行い、高付着性材料膜の表面を露出させた。表面に潤滑剤としてZ−dolを約0.5nmの膜厚となるようディップコート法により塗布し、高付着性材料膜上に直接付着させた。
Claims (6)
- 2次元的に配列された磁性体からなる記録セルと前記記録セルを取り囲む非磁性層を含む磁気記録層と、
前記記録セル上に形成された潤滑剤の高付着性部と、
前記潤滑剤の高付着性部に直接付着した潤滑剤と
を有することを特徴とする磁気記録媒体。 - 前記潤滑剤の高付着性部が、H、F、NおよびOからなる群より選択される少なくとも1種の元素を含む炭素膜で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。
- 前記記録セル上の前記潤滑剤の高付着性部に付着している潤滑剤の量が、前記非磁性層上に付着している潤滑剤の量より多いことを特徴とする請求項1または2に記載の磁気記録媒体。
- 磁性体薄膜上に潤滑剤の高付着性材料膜を形成し、
リソグラフィーによって前記潤滑剤の高付着性材料膜およびその下の磁性体薄膜をエッチングし、記録セルとその上の潤滑剤の高付着性部を形成する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 磁性体薄膜上に炭素膜を形成し、
リソグラフィーによって前記炭素膜およびその下の磁性体薄膜をエッチングし、記録セルとその上の炭素膜を形成し、
非磁性体を成膜して前記記録セル間の凹部に埋め込むとともに前記炭素膜を被覆し、
前記非磁性体を、H、F、NおよびOからなる群より選択される少なくとも1種の元素を含むエッチングガスにより、前記炭素膜表面を露出させるようにエッチバックして前記炭素膜表面を潤滑剤の高付着性部にする
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項1に記載の磁気記録媒体を具備したことを特徴とする磁気記録装置。
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