JP2006331540A - 磁気記録媒体および磁気記録装置 - Google Patents
磁気記録媒体および磁気記録装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006331540A JP2006331540A JP2005153827A JP2005153827A JP2006331540A JP 2006331540 A JP2006331540 A JP 2006331540A JP 2005153827 A JP2005153827 A JP 2005153827A JP 2005153827 A JP2005153827 A JP 2005153827A JP 2006331540 A JP2006331540 A JP 2006331540A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording
- magnetic
- magnetic recording
- medium
- head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/855—Coating only part of a support with a magnetic layer
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
【課題】ヘッドの安定した走行を可能にする磁気記録媒体(パターンドメディア)を提供する。
【解決手段】トラック方向に沿って配列されかつトラック幅方向で複数列をなすように形成された磁性体ドットからなる記録セルおよび前記記録セル間の凹部に埋め込まれた非磁性層を含む記録トラック領域と、前記記録トラック領域間を分離する非磁性層で形成された分離領域とを有する磁気記録層と、前記磁気記録層の表面に塗布された潤滑剤を有し、前記分離領域の非磁性層表面には前記記録トラック領域の非磁性層表面に対して2nmないし10nmの範囲で低くなった溝が形成されており、前記潤滑剤は前記分離領域の非磁性層上の溝を充填した状態で塗布されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【選択図】 図4
【解決手段】トラック方向に沿って配列されかつトラック幅方向で複数列をなすように形成された磁性体ドットからなる記録セルおよび前記記録セル間の凹部に埋め込まれた非磁性層を含む記録トラック領域と、前記記録トラック領域間を分離する非磁性層で形成された分離領域とを有する磁気記録層と、前記磁気記録層の表面に塗布された潤滑剤を有し、前記分離領域の非磁性層表面には前記記録トラック領域の非磁性層表面に対して2nmないし10nmの範囲で低くなった溝が形成されており、前記潤滑剤は前記分離領域の非磁性層上の溝を充填した状態で塗布されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【選択図】 図4
Description
本発明は、いわゆるパターンドメディアに分類される磁気記録媒体、およびこの磁気記録媒体を搭載した磁気記録装置に関する。
磁気記録装置が発明されて以来、その記録密度は年々増加の傾向を続けており、また、記憶密度の増加によりコンピューターに搭載される補助記憶装置の記憶容量も増加している。
その中で、磁気記録においては、その記録する媒体によって異なるものの、熱擾乱による記録の限界があり、ある記録密度以上では書き込みができない現象が観測されている。これらの問題を回避するために、磁気記録の分野においてはあらかじめ記録材料を非記録材料により分断してドット状の記録セルとして記録再生を行うパターンドメディアが提案されている。
パターンドメディアは、非磁性体により磁性体を分断し記録セルを孤立化させることで高密度化が可能であり、同じ記録材料を用いた場合には、パターンドメディアは、非磁性体により磁性体を分断し記録セルを孤立化させることで熱に対し高い安定性を保つことができ、磁化反転する磁界よりも高い保磁力を持つなどの特徴を持つ(例えば、非特許文献1および2参照)。
また、パターンドメディアにおける記録材料および非記録材料の各種の構造、ならびにそのような構造を形成するための製造方法についても様々な提案がなされている(例えば特許文献1参照)。
S. Y. Chou et al., J. Appl. Phys., 76 (1994) pp. 6673-6675 R. H. M. New et al., J. Vac. Sci. Technol., B12 (1994) pp. 3196-3201 特開2001−110050号公報
S. Y. Chou et al., J. Appl. Phys., 76 (1994) pp. 6673-6675 R. H. M. New et al., J. Vac. Sci. Technol., B12 (1994) pp. 3196-3201
パターンドメディアを磁気記録装置に搭載して磁気ヘッドを走行させる場合、パターンドメディアの表面にドット状の記録セルによって形成される凹凸があると、ヘッドクラッシュを起こしやすい。例えば直径20nm、高さ20nmの円柱状の磁性ドットからなる記録セルを配列させたパターンドメディア上で、浮上量FH=30nmのヘッドを走行させると、数分から数十分でヘッドがメディアと接触してヘッドクラッシュを起こすことがある。また、浮上量FH=15nmのヘッドを走行させると、さらにヘッドクラッシュを起こしやすい。ヘッドクラッシュを起こさなくても、パターンドメディア表面にヘッドが接触すると走行が不安定になり、ヘッドが大きく振動したり、ヘッドが媒体の一部を削り取ってしまうなどの現象を起こす。
一方、ドット状の記録セル間に非磁性層を埋め込んで、例えば表面粗さ(Ra)が0.5nm以下の非常に平坦な表面を形成しその上に潤滑剤を塗布すると、ヘッドが媒体に吸着しやすくなりヘッド走行が不安定になる。これは、ヘッドが媒体に接触した時に、ヘッドと媒体の間に潤滑剤による吸着力が働くためである。このようにヘッドが媒体に吸着すると、ヘッドクラッシュを起こし媒体が傷つきやすくなる。
本発明の目的は、ヘッドの安定した走行を可能にする磁気記録媒体(パターンドメディア)、およびこのようなパターンドメディアを搭載した磁気記録装置を提供することにある。
本発明の一形態に係る磁気記録媒体は、トラック方向に沿って配列され、かつトラック幅方向で複数列をなすように形成された磁性体ドットからなる記録セルおよび前記記録セル間の凹部に埋め込まれた非磁性層を含む記録トラック領域と、前記記録トラック領域間を分離する非磁性層で形成された分離領域とを有する磁気記録層と、前記磁気記録層の表面に塗布された潤滑剤を有し、前記分離領域の非磁性層表面には前記記録トラック領域の非磁性層表面に対して2nmないし10nmの範囲で低くなった溝が形成されており、前記潤滑剤は前記分離領域の非磁性層上の溝を充填した状態で塗布されていることを特徴とする。
本発明の他の態様に係る磁気記録装置は、上記の磁気記録媒体を搭載したことを特徴とする。
本発明によれば、ヘッドの安定した走行を可能にするパターンドメディア、およびこのようなパターンドメディアを搭載した磁気記録装置を提供することができる。
本発明の実施形態に係る磁気記録媒体は、トラック方向に沿って配列されかつトラック幅方向で複数列をなすように形成された磁性体ドットからなる記録セルおよび前記記録セル間の凹部に埋め込まれた非磁性層を含む記録トラック領域と、前記記録トラック領域間を分離する非磁性層で形成された分離領域とを有する磁気記録層と、前記磁気記録層の表面に塗布された潤滑剤を有するいわゆるパターンドメディアである。そして、分離領域の非磁性層表面には記録トラック領域の非磁性層表面に対して2nmないし10nmの範囲で低くなった溝が形成されており、潤滑剤が分離領域の非磁性層上の溝を充填して溜まった状態で塗布されている。
本発明の実施形態に係る磁気記録媒体においては、記録セル間の凹部に非磁性層を埋め込んだときに適度な表面粗さのある表面が形成されるようにする。このとき、非磁性層の材料としてスピンオングラス(SOG)を用い、SOG溶液の濃度および粘度、スピンコーターの回転数、ならびに記録セル上に残すSOGの厚さを調整して塗布することにより、分離領域表面の溝の深さを調節することができ、媒体表面に適度な表面粗さを持たせることができる。媒体表面に適度な表面粗さがあるパターンドメディアでは、ヘッドが媒体に衝突しにくくなるとともに、ヘッドの媒体に対する接触面積が減少してヘッドが媒体に吸着されにくくなる。この結果、ヘッドが媒体に接触してもヘッドへの潤滑剤の付着が少なくなる。
本発明の実施形態に係る磁気記録媒体では、記録トラック領域における非磁性層の表面は記録セルの表面に対して10nm高い位置から5nm低い位置までの範囲の高さを有していてもよい。すなわち、記録セル上に10nm高い位置まで非磁性層が成膜されていてもよいし、逆に非磁性層の表面から5nm高い位置まで記録セルが突出していてもよい。非磁性層の表面から記録セルを突出させるには、非磁性層を埋め込んだ後、ArガスやN2ガスを用いるイオンミリング、反応性イオンエッチング、またはRFスパッタエッチングによって非磁性層の表面をエッチングする。このように、非磁性層の表面から記録セルを適度に突出させると、ヘッドの低浮上走行を安定して実施できる。
本発明の実施形態に係る磁気記録媒体では、分離領域を5nmないし100nmの幅とし、記録トラック領域の幅と分離領域の幅との比率を10:1ないし1:1にすることが好ましい。分離領域の幅を適当に調整すると、溝に潤滑剤が集中しヘッドの媒体への吸着が起こりにくくなりヘッドの走行が安定する。
本発明の実施形態に係る磁気記録媒体を搭載した磁気記録装置は、ヘッドを低浮上で安定して走行させることができ、良好なリードライド(R/W)特性が得られる。
以下、図面を参照しながら本発明の実施例を説明する。
(実施例1)
図1に本発明の実施形態に係る記録再生装置の斜視図を示す。磁気ディスク(磁気記録媒体)10は、例えば2.5インチ径のいわゆるパターンドメディアであり、半径16mmから30mmの領域に磁気記録層が形成されている。磁気記録層には記録トラック領域と記録トラック領域間を分離する分離領域が交互に同心円状に形成されている。一例として、記録トラック領域の径方向の幅は100nm、分離領域の径方向の幅は50nmに設定されている。記録トラック領域には、トラック方向に沿って配列されかつトラック幅方向で複数列をなすように形成された磁性体ドットからなる記録セルおよび記録セル間の凹部に埋め込まれた非磁性層が含まれる。記録セルはたとえば直径約20nmの円柱状に形成されている。分離領域は非磁性層からなり、分離領域の非磁性層表面には記録トラック領域の非磁性層表面に対して2nmないし10nmの範囲で低くなった溝が形成されている。磁気記録層上にはダイヤモンドライクカーボンからなる保護膜が形成され、その表面に潤滑剤が塗布されている。
(実施例1)
図1に本発明の実施形態に係る記録再生装置の斜視図を示す。磁気ディスク(磁気記録媒体)10は、例えば2.5インチ径のいわゆるパターンドメディアであり、半径16mmから30mmの領域に磁気記録層が形成されている。磁気記録層には記録トラック領域と記録トラック領域間を分離する分離領域が交互に同心円状に形成されている。一例として、記録トラック領域の径方向の幅は100nm、分離領域の径方向の幅は50nmに設定されている。記録トラック領域には、トラック方向に沿って配列されかつトラック幅方向で複数列をなすように形成された磁性体ドットからなる記録セルおよび記録セル間の凹部に埋め込まれた非磁性層が含まれる。記録セルはたとえば直径約20nmの円柱状に形成されている。分離領域は非磁性層からなり、分離領域の非磁性層表面には記録トラック領域の非磁性層表面に対して2nmないし10nmの範囲で低くなった溝が形成されている。磁気記録層上にはダイヤモンドライクカーボンからなる保護膜が形成され、その表面に潤滑剤が塗布されている。
磁気ディスク10はスピンドル101に装着され、コントローラからの制御信号に応答するモーターにより回転する。磁気ディスク10の近傍にはピボット102が設けられている。ピボット102にはアクチュエータアーム103が保持され、アクチュエータアーム103の先端にはサスペンション104が取り付けられ、サスペンション104の下面にはヘッドスライダー105が支持されている。ヘッドスライダー105には磁気ディスク10に情報を書き込むための記録ヘッドおよび磁気ディスク10から情報を読み出すための再生ヘッドを含む磁気ヘッドが形成されている。アクチュエータアーム103の基端部にはボイスコイルモーター106が設けられている。ボイスコイルモーター106によってアクチュエータアーム103が回動するように動作し、磁気ディスク10上に磁気ヘッドがロード/アンロードされる。磁気ディスク10が回転すると、ヘッドスライダー105が磁気ディスク10表面から所定の浮上量で浮上した状態となり、磁気ヘッドによる情報の記録再生が行われる。
図2(a)〜(i)、図3(a)、(b)および図4(a)〜(c)を参照して、本発明の実施形態に係るパターンドメディアの製造方法を説明する。
図2(a)に示すように、2.5インチのガラス基板11上に厚さ約20nmのPd下地層と厚さ約30nmのFePtからなる垂直磁気異方性を有する強磁性層12を成膜する。図2(b)に示すように、強磁性層12上にレジスト13を塗布する。図2(c)に示すように、インプリント法により、レジスト13にスタンパー50を押し付け、スタンパー50の凹凸をレジスト13に転写する。
図3(a)に示すように、このスタンパー50は、内周側と外周側のパターンのない平面領域51と、これらの中間(半径16mmから30mmの範囲)の凹凸パターン領域52とを有する。凹凸パターン領域52には、パターンドメディアの記録トラック領域に対応する凸部と、パターンドメディアの分離領域に対応する凹部が形成されている。このスタンパー50は、原盤上にレジストを塗布して電子線リソグラフィーによりパターニングし、スパッタリングによりNiシード膜を形成し、電鋳を行ってNi電鋳膜を堆積した後、Ni電鋳膜を剥離することによって作製される。
図3(b)に示すように、インプリント法により、スタンパー50の凹凸パターンをレジスト13に転写する。すなわち、下プレス板71上に、ガラス基板11(強磁性層12およびレジスト13が形成されている)を載せ、その上にスタンパー50の凹凸パターン領域を対向させて載せ、その上にワッシャー60を載せ、上プレス板72で挟み、所定の圧力を加えてプレスする。
図2(d)に示すように、プレス後にスタンパー50を取り除くことにより、凹凸パターンが転写されたレジスト13を形成する。この結果、パターンドメディアの記録トラック領域に対応して凹部が形成される。図2(e)に示すように、PS/PMMA(ポリスチレン/ポリメチルメタクリレート)ジブロックコポリマー14をスピンコートし、記録トラック領域に対応する凹部に埋め込む。アニールしてジブロックコポリマー14を相分離させ、PMMA粒子15とPMMA粒子15を取り囲むポリスチレン部分16とを形成する。図2(f)に示すように、O2RIEによりPMMA粒子15を選択的にエッチング除去して凹部を形成する。スピンオングラス(SOG)17をスピンコートしてPMMA粒子を除去した凹部に埋め込む。図2(g)に示すように、SOG17をマスクとしてO2RIEによりレジスト13をパターニングする。図2(h)に示すように、イオンミリングにより強磁性層12をパターニングして、複数の孤立した円柱状の磁性ドットからなる記録セル18を形成する。図2(i)に示すように、アッシングを行うことにより、レジスト残渣およびその上のSOG残渣を除去する。記録セル18は、記録トラック領域においてトラック方向に沿って配列されかつトラック幅方向で複数列をなすように形成される。
次に、図4(a)に示すように、非磁性層19としてスピンオングラス(SOG)を用い、以下のようにして、記録トラック領域20において記録セル18間の凹部を非磁性層19で埋め込むとともに分離領域21を非磁性層19で埋め込むことにより磁気記録層22を形成する。スピンオングラスは一般式RnSi(OH)4-nで表されるケイ素化合物であり、メタノールや乳酸エチルで3倍から5倍程度に希釈することにより、適当な粘度に調整できる。この溶液を、スピンコーターの回転数を2500〜4000rpmに調整して40秒程度スピンコートした後、200〜300℃でアニールする。このとき、スピンオングラス溶液の粘度、スピンコーターの回転数、記録セル18上に残す非磁性層(SOG)19の厚さを調整することにより、分離領域21の非磁性層19表面を記録トラック領域20の非磁性層19表面よりも低くすることができる。こうして、分離領域21表面に形成される溝21aの深さを2nmないし10nmの範囲で調節して、適度な表面粗さのある表面を形成することができる。その後、図4(b)に示すように、非磁性層19の表面にダイヤモンドライクカーボンを成膜して保護膜24を形成し、図4(c)に示すように、全面に潤滑剤25を塗布する。この結果、潤滑剤25は分離領域21上の溝21aを充填した状態で全面ではほぼ平坦な表面を形成している。
一方、図5(a)〜(c)に、本発明の比較例に相当するパターンドメディアの製造方法を示す。図5(a)〜(c)は図4(a)〜(c)に対応する図面である。図5(a)に示すように、図2(i)の状態から、非磁性層19としてのスピンオングラス(SOG)を厚く形成すると、非磁性層19の表面は平坦になる。その後、図5(b)に示すように、非磁性層19の表面にダイヤモンドライクカーボンを成膜して保護膜24を形成し、図5(c)に示すように、全面に潤滑剤25を塗布する。
本実施例では、図4(a)または図5(a)に示すSOGによる埋め込み工程の条件を制御することによって、下記表1に示すように、記録セル18上での非磁性層(SOG)19の厚さと分離領域21の非磁性層19表面の溝の深さを調整した1−1〜1−5の媒体を作製した。表1には、各々の媒体の表面粗さ(Ra)を併記する。
作製した各々の媒体を組み込んだ磁気記録装置を作製し、ヘッドの走行安定性試験とリードライド(R/W)試験を行った。
走行安定性試験では、ヘッドスライダーにAEセンサーを取り付け、半径位置20mmで媒体上にヘッドスライダーを浮上させ、ヘッドが媒体に接触したときに生じる振動を電気信号に変換してオシロスコープにより観察するようにした。浮上開始から1時間まで観察を行った。
R/W試験では、ヘッドスライダーが媒体上に安定に浮上したものについて、浮上後5分後に再生信号対雑音比SNR(dB)を測定した。
1−1の媒体は、記録セル上のSOGの厚さが約100nmでほぼ平坦(Ra=0.4nm)な表面を有する。この媒体を組み込んだ磁気記録装置では、10分後にヘッドが媒体に接触してヘッドが走行不可能となった。また、走行試験後に磁気記録装置からヘッドスライダーをはずして光学顕微鏡で観察したところ、潤滑剤や削れたカーボン保護膜が付着していた。
1−5の媒体は、記録セル上のSOGの厚さが5nm、溝の深さが12nmで、表面が比較的粗い(Ra=12m)。この媒体を組み込んだ磁気記録装置では、10分後と15分後にヘッドが媒体に接触し、25分後にヘッドがクラッシュした。
これに対して、1−2〜1−4の媒体は、記録セル上のSOGの厚さが5nm、溝の深さが2〜10nmで適度な表面粗さ(Ra=2〜10nm)。この媒体を組み込んだ磁気記録装置では、ヘッドが媒体に接触することなく、1時間にわたって安定な走行が得られた。また、これらの媒体は、溝が深いものほど良好なSNRを示した。このように、分離領域の非磁性層に溝のある構造の方が、ヘッドが媒体に吸着せず安定して浮上し、良好なR/W特性を示した。
(実施例2)
実施例1と同様な方法により、2.5インチ径のガラス基板上の半径16mmから30mmの領域に、幅100nmの記録トラック領域と幅50nmの分離領域を交互に形成し、記録トラック領域内に直径20nmの磁性体ドットからなる記録セルを形成し、非磁性層としてスピンオングラス(SOG)を用いて埋め込みを行った。記録セル上に残す非磁性層(SOG)の厚さを5nmとし、分離領域上の溝の深さを2nm、5nmまたは10nmとした(媒体2−1、2−2、2−3)。その後、N2ガスによるイオンミリングまたはArガスによる反応性イオンエッチングを行い、全面にわたって非磁性層(SOG)を表面から10nmだけ削った。このとき、非磁性層(SOG)は記録トラック領域でも分離領域でも均等に削れる。この結果、記録トラック領域においては、記録セル表面に対する非磁性層(SOG)表面の高さが−5nmとなる(記録セルが非磁性層から5nm突出している)。また、分離領域上の溝の深さは維持される。その後、全面にダイヤモンドライクカーボンを成膜して保護膜を形成し、全面に潤滑剤を塗布した。
実施例1と同様な方法により、2.5インチ径のガラス基板上の半径16mmから30mmの領域に、幅100nmの記録トラック領域と幅50nmの分離領域を交互に形成し、記録トラック領域内に直径20nmの磁性体ドットからなる記録セルを形成し、非磁性層としてスピンオングラス(SOG)を用いて埋め込みを行った。記録セル上に残す非磁性層(SOG)の厚さを5nmとし、分離領域上の溝の深さを2nm、5nmまたは10nmとした(媒体2−1、2−2、2−3)。その後、N2ガスによるイオンミリングまたはArガスによる反応性イオンエッチングを行い、全面にわたって非磁性層(SOG)を表面から10nmだけ削った。このとき、非磁性層(SOG)は記録トラック領域でも分離領域でも均等に削れる。この結果、記録トラック領域においては、記録セル表面に対する非磁性層(SOG)表面の高さが−5nmとなる(記録セルが非磁性層から5nm突出している)。また、分離領域上の溝の深さは維持される。その後、全面にダイヤモンドライクカーボンを成膜して保護膜を形成し、全面に潤滑剤を塗布した。
実施例1と同様に、作製した各々の媒体を組み込んだ磁気記録装置を作製し、ヘッドの走行安定性試験、リードライド(R/W)試験、潤滑剤(フッ素)が溝に集中している割合の測定を行った。その結果を下記表2に示す。
2−1〜2−3の媒体を組み込んだ磁気記録装置では、ヘッドが媒体に接触することなく、1時間にわたって安定な走行が得られた。また、表2と表1と比較してわかるように、非磁性層の表面を適度に削ることにより、SNRが約2dB向上している。
(実施例3)
本実施例でも実施例1と同様な方法でパターンドメディアを作製したが、下記表3に示すように、記録トラック領域の幅、分離領域の幅、両者の幅の比率を変化させた(媒体3−1〜3−6)。また、いずれの媒体でも、記録セル上のSOGの厚さを5nm、溝の深さを5nmとした。
本実施例でも実施例1と同様な方法でパターンドメディアを作製したが、下記表3に示すように、記録トラック領域の幅、分離領域の幅、両者の幅の比率を変化させた(媒体3−1〜3−6)。また、いずれの媒体でも、記録セル上のSOGの厚さを5nm、溝の深さを5nmとした。
実施例1と同様に、作製した各々の媒体を組み込んだ磁気記録装置を作製し、ヘッドの走行安定性試験、リードライド(R/W)試験、潤滑剤(フッ素)が溝に集中している割合の測定を行った。なお、潤滑剤(フッ素)が溝に集中している割合(%)は、オージェ分光法により媒体の半径方向に沿って長さ200nm〜2μmの数個所の領域で線分析を行い測定した。その結果を下記表3に示す。
記録トラック領域と分離領域の幅の幅との比率がそれぞれ10:1、5:1、2:1、1:1である、3−1〜3−4の媒体を組み込んだ磁気記録装置では、ヘッドが媒体に接触することなく、1時間にわたって安定に走行した。
記録トラック領域と分離領域の幅の幅との比率が20:1、15:1である3−5〜3−6の媒体を組み込んだ磁気記録装置では、ヘッドの走行安定性が不良であり、リードライド(R/W)特性も悪かった。
このように、記録トラック領域と分離領域の幅との比率が10:1から1:1までの範囲であれば、ヘッドは安定に走行して良好なR/W特性を示した。
10…磁気ディスク、11…ガラス基板、12…強磁性層、13…レジスト、14…ジブロックコポリマー、15…PMMA、16…ポリスチレン、17…スピンオングラス(SOG)、18…記録セル、19…非磁性層、20…記録トラック領域、21…分離領域、21a…溝、22…磁気記録層、24…保護膜、25…潤滑剤、50…スタンパー、51…平面領域、52…凹凸パターン領域、60…ワッシャー、71…下プレス板、72…上プレス板、101…スピンドル、102…ピボット、103…アクチュエータアーム、104…サスペンション、105…ヘッドスライダー、106…ボイスコイルモーター。
Claims (4)
- トラック方向に沿って配列されかつトラック幅方向で複数列をなすように形成された磁性体ドットからなる記録セルおよび前記記録セル間の凹部に埋め込まれた非磁性層を含む記録トラック領域と、前記記録トラック領域間を分離する非磁性層で形成された分離領域とを有する磁気記録層と、前記磁気記録層の表面に塗布された潤滑剤を有し、前記分離領域の非磁性層表面には前記記録トラック領域の非磁性層表面に対して2nmないし10nmの範囲で低くなった溝が形成されており、前記潤滑剤は前記分離領域の非磁性層上の溝を充填した状態で塗布されていることを特徴とする磁気記録媒体。
- 前記記録トラック領域における前記非磁性層の表面は前記記録セルの表面に対して10nm高い位置から5nm低い位置までの範囲の高さを有することを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。
- 前記分離領域は5nmないし100nmの幅を有し、前記記録トラック領域の幅と分離領域の幅の比率は10:1ないし1:1であることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。
- 請求項1ないし3のいずれか1項に記載の磁気記録媒体を搭載したことを特徴とする磁気記録装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005153827A JP2006331540A (ja) | 2005-05-26 | 2005-05-26 | 磁気記録媒体および磁気記録装置 |
US11/441,340 US20060269795A1 (en) | 2005-05-26 | 2006-05-26 | Magnetic recording media |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005153827A JP2006331540A (ja) | 2005-05-26 | 2005-05-26 | 磁気記録媒体および磁気記録装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006331540A true JP2006331540A (ja) | 2006-12-07 |
Family
ID=37463783
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005153827A Pending JP2006331540A (ja) | 2005-05-26 | 2005-05-26 | 磁気記録媒体および磁気記録装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060269795A1 (ja) |
JP (1) | JP2006331540A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012064783A (ja) * | 2010-09-16 | 2012-03-29 | Toshiba Corp | 微細パターンの形成方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4008933B2 (ja) * | 2005-05-16 | 2007-11-14 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体およびその製造方法ならびに磁気記録装置 |
JP2008299964A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク及びその製造方法 |
US7986492B2 (en) * | 2007-09-06 | 2011-07-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Process for filling a patterned media of a hard disk with UV-cured lubricant |
US8021713B2 (en) * | 2008-07-18 | 2011-09-20 | Seagate Technology Llc | Bit-patterned magnetic media formed in filler layer recesses |
US20100034966A1 (en) * | 2008-08-06 | 2010-02-11 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | System, method and apparatus for planarizing media topography via soaking in dilute non-functionalized polymer solution |
US20110102940A1 (en) * | 2009-11-02 | 2011-05-05 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | System, method and apparatus for planarizing surfaces with functionalized polymers |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5626941A (en) * | 1992-05-27 | 1997-05-06 | Quantum Corporation | Thin film media for very low flying height/contact recording application |
JP3669457B2 (ja) * | 1996-03-19 | 2005-07-06 | 富士通株式会社 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP3861197B2 (ja) * | 2001-03-22 | 2006-12-20 | 株式会社東芝 | 記録媒体の製造方法 |
JP2004259306A (ja) * | 2003-02-24 | 2004-09-16 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 |
JP2007087463A (ja) * | 2005-09-20 | 2007-04-05 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体、その製造方法、及び磁気記録再生装置 |
-
2005
- 2005-05-26 JP JP2005153827A patent/JP2006331540A/ja active Pending
-
2006
- 2006-05-26 US US11/441,340 patent/US20060269795A1/en not_active Abandoned
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012064783A (ja) * | 2010-09-16 | 2012-03-29 | Toshiba Corp | 微細パターンの形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060269795A1 (en) | 2006-11-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7147790B2 (en) | Perpendicular magnetic discrete track recording disk | |
JP4625322B2 (ja) | Dtrパターン化cssゾーンを有する磁気記録ディスク | |
US7549209B2 (en) | Method of fabricating a magnetic discrete track recording disk | |
JP4675722B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP4519668B2 (ja) | パターンド磁気記録媒体、パターンド磁気記録媒体作製用スタンパー、パターンド磁気記録媒体の製造方法、および磁気記録再生装置 | |
JP4593128B2 (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 | |
JP4111276B2 (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 | |
JP4008933B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法ならびに磁気記録装置 | |
JP4005976B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2008052860A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録再生装置 | |
JP2006331540A (ja) | 磁気記録媒体および磁気記録装置 | |
JP2007226862A (ja) | 磁気記録媒体、その製造方法、及び磁気記録再生装置 | |
JP4745307B2 (ja) | 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2009259374A (ja) | インプリント用モールド構造体及びそれを用いたインプリント方法、並びに磁気記録媒体及びその製造方法 | |
JP5417728B2 (ja) | 磁気記録媒体、磁気記録再生装置及び磁気記録媒体の製造方法 | |
US20100078858A1 (en) | Mold structure, and imprint method and magnetic transfer method using the same | |
JP2008305473A (ja) | ナノ構造体の製造方法、磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2003109210A (ja) | 記録媒体および記録装置 | |
JP2006079805A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法と磁気記録再生装置 | |
JP2004265474A (ja) | 磁気記録装置 | |
JP4927778B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JP4799667B2 (ja) | 磁気記録媒体用基板および磁気記録媒体、磁気記録装置 | |
JP2011129227A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録再生装置 | |
JP4852179B2 (ja) | 磁気記録媒体および磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2005332537A (ja) | 情報記録媒体用基板、モールドおよび情報記録媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070501 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070515 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070717 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070828 |