JP2006295161A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の液浸リソグラフィ装置用の液体供給システムは、投影システムの最終要素と基板の間に浸漬液の層流を提供する。制御システムはオーバーフローの変化を最小限に抑え、抽出装置は振動を最小限に抑えるように構成された出口のアレイを含む。
【選択図】図6
Description
(1)ステップ・モードでは、放射線ビームに与えられたパターン全体を1回でターゲット部分Cに投影しながらマスク・テーブルMTおよび基板テーブルWTが本質的に静止した状態に保たれる(すなわち、ただ1回の静止露光)。次いで、異なるターゲット部分Cを露光することができるように、基板テーブルWTをXおよび/またはY方向に移動させる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の静止露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
(2)走査モードでは、放射線ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影しながらマスク・テーブルMTおよび基板テーブルWTが同期して走査される(すなわち、ただ1回の動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの拡大(縮小)率、および像の反転特性によって決定することができる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の動的露光におけるターゲット部分の(非走査方向の)幅が制限され、走査移動の長さによってターゲット部分の(走査方向の)高さが決定される。
(3)他のモードでは、マスク・テーブルMTを本質的に静止した状態に保ってプログラム可能なパターン付与デバイスを保持し、放射線ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影しながら基板テーブルWTが移動または走査される。このモードでは、一般にパルス式の放射線源が使用され、基板テーブルWTが移動するたびに、または走査中の連続する放射線パルスの合間に、プログラム可能なパターン付与デバイスが必要に応じて更新される。この動作モードは、先に言及したタイプのプログラマブル・ミラー・アレイなど、プログラム可能なパターン付与デバイスを利用したマスクレス・リソグラフィに簡単に適用することができる。
B 放射線ビーム
BD ビーム伝達システム
C、TP ターゲット部分
IF 位置センサ
IL 照明器
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
MA パターン付与デバイス、マスク
MT マスク・テーブル、支持体
P1、P2 基板アライメント・マーク
PS 投影システム
PM、PW 位置決めデバイス
RF 基準フレーム
SO 放射線源
W 基板
WT 基板テーブル
IN 入口
OUT 出口
d オリフィスの直径
t 壁の厚さ
11 空間
12 シール部材、バリア部材
80 底面
120、122 チャンバ
121 オリフィス、孔
123 プレート
124 液体入口、オリフィス
126 外側プレート、外壁
128 入口、供給部、入力部
180 液体除去デバイス、液体抽出ユニット、抽出装置
184、324、328 出口
220 障壁
222 オーバーフロー領域、オーバーフロー、溝
223 頂部プレート
224 孔のアレイ、メッシュ、抽出システム
228 抽出装置、出口、ポート
320 陥凹部
322、1248 入口
330 ボリューム
340 隙間
420 ガス・ナイフ
500 浸漬液
1128、1228、1148、1184、1328 弁
1500 リザーバ
2228、2148、2328 低圧源
Claims (52)
- リソグラフィ装置であって、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
パターンが形成された放射線ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板テーブルの間の空間を取り囲む面を有するバリア部材であって、該バリア部材は前記最終要素と前記基板の間の空間に液体を包含するように構成され、また該バリア部材は、液体を前記空間に供給するように構成された液体入口、および液体を前記空間から除去するように構成された液体出口を有し、前記液体入口および/または前記液体出口は前記面の内周の一部分の周りに延びているバリア部材と
を有するリソグラフィ装置。 - 前記一部分が約1/2未満である請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記一部分が約1/3未満である請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記一部分が約1/20より大きい請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記一部分が約1/15より大きい請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体入口および前記液体出口が前記面上に、前記空間の反対側で互いに向かい合うように配置されている請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体入口および前記液体出口が、前記内周の周りの面の異なる部分に沿って配置されている請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体出口が、前記内周をたどる方向の該液体出口の長さに沿って可変の液体抽出速度を提供するように配置されている請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 最大抽出速度が、実質的に前記液体入口の向かい側に提供される請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体出口が、実質的に前記内周の周りに延びている請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置であって、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
パターンが形成された放射線ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板テーブルの間の空間を取り囲む面を有するバリア部材であって、該バリア部材は前記最終要素と前記基板の間の空間に液体を包含するように構成されており、また液体を前記空間に供給するように構成された液体入口を有しているバリア部材と
を有するリソグラフィ装置において、
前記入口は、プレート部材によって前記空間から隔てられた前記バリア部材内のチャンバを有し、
前記プレート部材は前記面の少なくとも一部を形成し、また前記チャンバと前記空間との間に液体が該プレート部材を通して流れるための複数のスルー・ホールを有している
ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記複数のスルー・ホールが、前記プレート部材内で2次元アレイを形成している請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記スルー・ホールが、前記プレート部材の厚さより大きくない直径を有している請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記スルー・ホールが、前記プレート部材の厚さの約0.75倍以下の直径を有している請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記スルー・ホールが、前記プレート部材の厚さの約0.5倍以下の直径を有している請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記スルー・ホールが、1平方ミリメートル当たり少なくとも1つのスルー・ホールの密度を有している請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記スルー・ホールの直径が、約0.005から約1mmまでの範囲内である請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記スルー・ホールの直径が、約0.05から約1mmまでの範囲内である請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記プレートの厚さが、約0.01から約5mmまでの範囲内である請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記プレートの厚さが、約0.1から約5mmまでの範囲内である請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記スルー・ホールの軸線の方向が、実質的に前記基板と平行である請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記スルー・ホールの軸線の方向が、実質的に前記面と垂直である請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記スルー・ホールの各軸線の方向が、実質的に平行である請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記スルー・ホールの軸線の方向を、前記基板から離れるように、前記投影システムの方に約5°〜約40°だけ傾斜させた請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体入口の流れ制限が、前記チャンバへの流入時に液体の第1の圧力降下を生じるように構成されている請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記スルー・ホールが前記周の一部分に沿って延びている請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 基板を保持するように構築された基板テーブルと、
パターンが形成された放射線ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間に液体を供給するように構成された液体供給システムと、
前記液体供給システムによる前記空間からの液体の抽出速度を動的に変化させるように、および/または前記液体供給システムによる液体の供給速度を動的に変化させるように構成され、それによって前記空間内の液体レベルを所定の最大値と所定の最小値の間に維持する制御システムと
を有するリソグラフィ装置。 - 前記制御システムが、前記空間内の液体レベルの測定値に応答して前記1つまたは複数の速度を動的に変化させる請求項27に記載のリソグラフィ装置。
- 前記空間の所定の位置における液体の圧力を測定し、それによって前記空間内の液体レベルを決定するように構成された圧力センサをさらに有する請求項28に記載のリソグラフィ装置。
- 光学的および/または音響学的な源と、液体上面における光学的および/または音響学的な信号の反射およびその後の検出によって前記空間内の液体レベルを決定するように構成された、対応する光学的および/または音響学的な検出装置とをさらに有し、それによって前記空間内の液体レベルを決定する請求項28に記載のリソグラフィ装置。
- 前記空間の液体内に音響学的/光学的/電気的な信号を発生させるように構成された音響学的/光学的/電気的な信号発生装置、および音響学的/光学的/電気的な信号を検出するように構成された検出装置をさらに含み、それによって前記空間内の液体レベルを決定する請求項28に記載のリソグラフィ装置。
- 前記空間の所定の位置で液体内に沈められるように構成されたワイヤ、および該ワイヤの温度を測定するように構成された検出装置をさらに有し、それによって前記空間内の液体レベルを決定する請求項28に記載のリソグラフィ装置。
- 前記空間内の液体上面に浮かぶように構成された浮き、および該浮きの位置を測定するように構成されたセンサをさらに有し、それによって前記空間内の液体レベルを測定する請求項28に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御装置が、前記液体供給システムによって前記空間から抽出された液量の測定に基づいて前記1つまたは複数の速度を能動的に変化させる請求項27に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御装置が、前記装置の動作状況に基づくフィード・フォワード式の方法によって前記1つまたは複数の速度を動的に変化させる請求項27に記載のリソグラフィ装置。
- 抽出および/または供給の速度を制御するように構成された弁をさらに有する請求項27に記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体供給システムの液体抽出装置に適用される圧力を制御するように構成された弁をさらに有する請求項27に記載のリソグラフィ装置。
- 基板を保持するように構築された基板テーブルと、
パターンが形成された放射線ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間に液体を供給するように構成された液体供給システムであって、該前記液体供給システムは液体を前記空間から除去するように構成された抽出装置を有し、該抽出装置は2次元アレイのオリフィスを有し、該オリフィスを介して液体を前記空間から抽出することができる液体供給システムと
を有するリソグラフィ装置。 - 前記アレイが前記リソグラフィ装置の光軸の方向に延びている請求項38に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アレイが前記空間の外周の周りの少なくとも一部に延びている請求項38に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アレイが前記外周の一部分に沿って延びている請求項40に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アレイが、前記空間に液体を供給するように構成された前記液体供給システムの入口の向かい側に配置されている請求項40に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アレイは、前記空間内の液体レベルが高いほど、抽出される液体が通過するオリフィスが多くなるように配置および方向付けられている請求項38に記載のリソグラフィ装置。
- 液体が前記アレイの通過後に通る少なくとも1つの経路が、前記アレイから液体を引き出す毛管力が作用するような大きさに作製されており、それによって単相の抽出を促す請求項38に記載のリソグラフィ装置。
- 前記液体供給システムが前記空間を取り囲む面を提供し、また液体を包含するように構成されたバリア部材を有しており、前記抽出装置が前記面内に形成されている請求項38に記載のリソグラフィ装置。
- 前記バリア部材が垂直に延びる突起部を有し、前記空間内の液体レベルが該突起部の頂部の高さより高くなると、液体が該突起部を越えて流れる請求項38に記載のリソグラフィ装置。
- 前記突起部より低い高さにあるオーバーフロー領域が前記突起部と前記アレイの間に位置するように、前記アレイが前記突起部の半径方向外側に、前記突起部から間隔をあけて配置されている請求項46に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アレイが、実質的に前記オーバーフロー領域の最も低い高さまで延びている請求項47に記載のリソグラフィ装置。
- 投影システムを用いて、パターンが形成された放射線ビームを基板に投影するステップであって、バリア部材が、前記パターンが形成されたビームを投影する投影システムの最終要素と基板との間の空間を取り囲む面を有し、且つ前記最終要素と前記基板の間の空間に液体を包含するように構成されているステップと、
液体入口を介して液体を前記空間に供給するステップと、
液体出口を介して液体を前記空間から除去するステップと
を含むデバイス製造方法であって、
前記液体入口および/または前記液体出口が前記面の内周の一部分の周りに延びている方法。 - 投影システムを用いて、パターンが形成された放射線ビームを基板に投影するステップを含むデバイス製造方法であって、
前記投影システムの最終要素と前記基板の間に液体が供給され、前記液体が、面を有するバリア部材によって包含され、且つプレート部材によって前記空間から隔てられた前記バリア部材内のチャンバを有する入口を介して前記空間に供給され、前記プレート部材が前記チャンバと前記空間との間に延びる複数のスルー・ホールを有し、該スルー・ホールを通して前記液体が流れる方法。 - 投影システムを用いて、パターンが形成された放射線ビームを基板に投影するステップを含むデバイス製造方法であって、
投影システムの最終要素と前記基板の間の空間に液体が供給され、前記空間からの液体の抽出速度を動的に変化させ、および/または前記空間への液体の供給速度を動的に変化させ、それによって前記空間内の液体レベルを所定の最大値と所定の最小値の間に維持する方法。 - 投影システムを用いて、パターンが形成された放射線ビームを基板に投影するステップを含むデバイス製造方法であって、
投影システムの最終要素と前記基板の間の空間に液体が供給され、液体が、2次元アレイのオリフィスを有する抽出装置を介して空間から抽出される方法。
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