JP2006293337A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101271783B1 (ko) * 2005-10-28 2013-06-07 도레이 카부시키가이샤 실록산 수지 조성물 및 그의 제조 방법
JP4910646B2 (ja) * 2006-11-07 2012-04-04 東レ株式会社 感光性シロキサン組成物およびその製造方法、感光性シロキサン組成物から形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP4849251B2 (ja) * 2007-01-18 2012-01-11 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP4766268B2 (ja) * 2007-03-01 2011-09-07 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP5353011B2 (ja) * 2007-01-26 2013-11-27 東レ株式会社 シロキサン系樹脂組成物、これを用いた光学デバイスおよびシロキサン系樹脂組成物の製造方法
JP5241280B2 (ja) * 2007-04-06 2013-07-17 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物
JP5003375B2 (ja) * 2007-09-20 2012-08-15 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP5509675B2 (ja) * 2008-05-30 2014-06-04 東レ株式会社 シロキサン系樹脂組成物およびこれを用いた光学デバイス
KR101580854B1 (ko) * 2008-09-05 2015-12-30 제이에스알 가부시끼가이샤 경화성 수지 조성물, 수지 경화막을 형성하기 위한 세트, 보호막 및 보호막의 형성 방법
JP5397607B2 (ja) * 2008-09-05 2014-01-22 Ｊｓｒ株式会社 硬化性樹脂組成物、保護膜および保護膜の形成方法
JP5752832B2 (ja) * 2008-09-30 2015-07-22 東京応化工業株式会社 化合物及びそれからなる酸発生剤
JP5540509B2 (ja) * 2008-12-09 2014-07-02 Ｊｓｒ株式会社 多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法
JP5533232B2 (ja) 2009-06-29 2014-06-25 Ｊｓｒ株式会社 ポジ型感放射線性組成物、硬化膜、層間絶縁膜、層間絶縁膜の形成方法、表示素子、及び層間絶縁膜形成用のシロキサンポリマー
JP5423802B2 (ja) 2009-09-29 2014-02-19 東レ株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物、それを用いた硬化膜および光学デバイス
JP5659561B2 (ja) * 2010-06-02 2015-01-28 東レ株式会社 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP5736718B2 (ja) * 2010-10-18 2015-06-17 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物、硬化膜及びその形成方法
JP2012199098A (ja) * 2011-03-22 2012-10-18 Dainippon Printing Co Ltd 封止ガラス、封止ガラスを備えた有機ｅｌ表示装置および有機ｅｌ表示装置の製造方法
JP6318634B2 (ja) * 2013-02-14 2018-05-09 東レ株式会社 感光性シロキサン組成物、硬化膜及び素子
WO2015002183A1 (ja) 2013-07-02 2015-01-08 東レ株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物、それを硬化させてなる硬化膜およびそれを具備する光学デバイス
JP6372212B2 (ja) * 2013-11-19 2018-08-15 Jsr株式会社 有機ｅｌ素子および水分捕獲フィルム
EP3098653B1 (en) 2014-01-24 2020-07-29 Toray Industries, Inc. Negative photosensitive resin composition, cured film obtained by curing same, method for producing cured film, optical device provided with cured film, and backside-illuminated cmos image sensor
EP3203320B9 (en) * 2014-09-30 2020-05-06 Toray Industries, Inc. Photosensitive resin composition, cured film, element provided with cured film, and method for manufacturing semiconductor device
KR102482590B1 (ko) 2017-04-17 2022-12-28 제이에스알 가부시끼가이샤 박막 트랜지스터 기판, 액정 표시 소자, 유기 el 소자, 감방사선성 수지 조성물 및 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02108053A (ja) * 1988-10-18 1990-04-19 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> パターン形成材料及びパターン形成方法
JP4373082B2 (ja) * 2001-12-28 2009-11-25 富士通株式会社 アルカリ可溶性シロキサン重合体、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン及びその製造方法、並びに、電子回路装置及びその製造方法
JP4283582B2 (ja) * 2002-04-15 2009-06-24 シャープ株式会社 感放射線性樹脂組成物、パターン状絶縁性被膜の形成方法、アクティブマトリクス基板およびそれを備えた平面表示装置、並びに平面表示装置の製造方法
JP2004177683A (ja) * 2002-11-27 2004-06-24 Clariant (Japan) Kk 超高耐熱ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法
JP4232527B2 (ja) * 2003-05-09 2009-03-04 Ｊｓｒ株式会社 垂直配向型液晶表示素子用の突起および垂直配向型液晶表示素子用のスペーサーの形成方法

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