JP2006178436A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4725160B2 (ja) * 2005-03-30 2011-07-13 東レ株式会社 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
EP1942150B1 (en) * 2005-10-28 2018-08-22 Toray Industries, Inc. Siloxane resin composition and method for producing same
JP5077237B2 (ja) * 2006-09-25 2012-11-21 日立化成工業株式会社 感放射線性組成物、シリカ系被膜の形成方法、シリカ系被膜、シリカ系被膜を備える装置及び部材、並びに絶縁膜用感光剤
JP4853228B2 (ja) * 2006-10-25 2012-01-11 東レ株式会社 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子、並びにパターン形成方法
JP4910646B2 (ja) * 2006-11-07 2012-04-04 東レ株式会社 感光性シロキサン組成物およびその製造方法、感光性シロキサン組成物から形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
KR101428718B1 (ko) 2007-02-02 2014-09-24 삼성디스플레이 주식회사 감광성 유기물, 이의 도포 방법, 이를 이용한 유기막 패턴형성 방법, 이로써 제조되는 표시 장치
WO2009063887A1 (ja) 2007-11-13 2009-05-22 Adeka Corporation ポジ型感光性組成物、ポジ型永久レジスト及びポジ型永久レジストの製造方法
JP2010008603A (ja) * 2008-06-25 2010-01-14 Jsr Corp 配線隔壁形成用感放射線性樹脂組成物ならびに配線隔壁およびその形成方法
US20120021190A1 (en) * 2008-10-21 2012-01-26 Aoki Yousuke Photosensitive resin composition, method for forming silica coating film, and apparatus and member each comprising silica coating film
JP4960330B2 (ja) * 2008-10-21 2012-06-27 株式会社Ａｄｅｋａ ポジ型感光性組成物及び永久レジスト
KR20100066808A (ko) * 2008-12-10 2010-06-18 주식회사 동진쎄미켐 포지티브형 감광성 유-무기 하이브리드 절연막 조성물
JP5533232B2 (ja) 2009-06-29 2014-06-25 Ｊｓｒ株式会社 ポジ型感放射線性組成物、硬化膜、層間絶縁膜、層間絶縁膜の形成方法、表示素子、及び層間絶縁膜形成用のシロキサンポリマー
JP5338532B2 (ja) 2009-07-13 2013-11-13 Ｊｎｃ株式会社 ポジ型感光性組成物
JP5666266B2 (ja) * 2010-11-25 2015-02-12 株式会社Adeka ポジ型感光性樹脂組成物及び永久レジスト
JP5734629B2 (ja) * 2010-11-25 2015-06-17 株式会社Adeka ポジ型感光性樹脂組成物及び永久レジスト
JP5749068B2 (ja) * 2011-05-10 2015-07-15 株式会社Adeka 光路変換機能を有する光導波路の製造方法
JP5726632B2 (ja) 2011-05-19 2015-06-03 メルクパフォーマンスマテリアルズＩｐ合同会社 感光性シロキサン樹脂組成物
JP2013020530A (ja) * 2011-07-13 2013-01-31 Dainippon Printing Co Ltd タッチセンサパネル部材、タッチセンサパネル部材を備えた表示装置、及びタッチセンサパネル部材の製造方法
JP2015052075A (ja) * 2013-09-09 2015-03-19 東レ・ファインケミカル株式会社 ポリオルガノシロキサンとその製造方法
JP6323225B2 (ja) 2013-11-01 2018-05-16 セントラル硝子株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物、それを用いた膜の製造方法および電子部品
JP6582417B2 (ja) * 2015-01-19 2019-10-02 東レ株式会社 カラーフィルターオンアレイ基板及び表示装置
JP2017173741A (ja) 2016-03-25 2017-09-28 アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ 感光性シロキサン組成物
CN118749088A (zh) 2022-03-23 2024-10-08 东丽株式会社 正型感光性树脂组合物、固化物、有机el显示装置、固化物的制造方法
US20250199402A1 (en) 2022-03-25 2025-06-19 Toray Industries, Inc. Positive photosensitive resin composition, cured product of the same, and display device including the same
WO2024190311A1 (ja) 2023-03-13 2024-09-19 東レ株式会社 感光性組成物、硬化物、表示装置、及び硬化物の製造方法
KR20250162777A (ko) 2023-03-13 2025-11-19 도레이 카부시키가이샤 감광성 조성물, 경화물, 표시 장치 및 경화물의 제조 방법
JP7681249B2 (ja) 2023-03-13 2025-05-22 東レ株式会社 感光性組成物、硬化物、表示装置、及び硬化物の製造方法
KR20250156742A (ko) 2023-03-14 2025-11-03 가부시키가이샤 가네카 폴리아미드산 조성물, 폴리이미드, 폴리이미드막, 적층체, 전자 디바이스, 폴리이미드의 제조 방법, 적층체의 제조 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4373082B2 (ja) * 2001-12-28 2009-11-25 富士通株式会社 アルカリ可溶性シロキサン重合体、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン及びその製造方法、並びに、電子回路装置及びその製造方法

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