JP4784283B2 - ポジ型感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 - Google Patents

ポジ型感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 Download PDF

Info

Publication number
JP4784283B2
JP4784283B2 JP2005338298A JP2005338298A JP4784283B2 JP 4784283 B2 JP4784283 B2 JP 4784283B2 JP 2005338298 A JP2005338298 A JP 2005338298A JP 2005338298 A JP2005338298 A JP 2005338298A JP 4784283 B2 JP4784283 B2 JP 4784283B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
positive photosensitive
cured film
mol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2005338298A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2006178436A (ja
JP2006178436A5 (enExample
Inventor
将秀 妹尾
弘和 飯森
健典 藤原
充史 諏訪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP2005338298A priority Critical patent/JP4784283B2/ja
Publication of JP2006178436A publication Critical patent/JP2006178436A/ja
Publication of JP2006178436A5 publication Critical patent/JP2006178436A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4784283B2 publication Critical patent/JP4784283B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Materials For Photolithography (AREA)
JP2005338298A 2004-11-26 2005-11-24 ポジ型感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 Expired - Lifetime JP4784283B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005338298A JP4784283B2 (ja) 2004-11-26 2005-11-24 ポジ型感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004341850 2004-11-26
JP2004341850 2004-11-26
JP2005338298A JP4784283B2 (ja) 2004-11-26 2005-11-24 ポジ型感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2006178436A JP2006178436A (ja) 2006-07-06
JP2006178436A5 JP2006178436A5 (enExample) 2009-01-15
JP4784283B2 true JP4784283B2 (ja) 2011-10-05

Family

ID=36732562

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005338298A Expired - Lifetime JP4784283B2 (ja) 2004-11-26 2005-11-24 ポジ型感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4784283B2 (enExample)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4725160B2 (ja) * 2005-03-30 2011-07-13 東レ株式会社 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP5764863B2 (ja) * 2005-10-28 2015-08-19 東レ株式会社 固体撮像素子
KR101390605B1 (ko) * 2006-09-25 2014-04-29 히타치가세이가부시끼가이샤 감방사선성 조성물, 실리카계 피막의 형성방법, 실리카계 피막, 실리카계 피막을 구비하는 장치 및 부재, 및 절연막용 감광제
JP4853228B2 (ja) * 2006-10-25 2012-01-11 東レ株式会社 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子、並びにパターン形成方法
JP4910646B2 (ja) * 2006-11-07 2012-04-04 東レ株式会社 感光性シロキサン組成物およびその製造方法、感光性シロキサン組成物から形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
KR101428718B1 (ko) 2007-02-02 2014-09-24 삼성디스플레이 주식회사 감광성 유기물, 이의 도포 방법, 이를 이용한 유기막 패턴형성 방법, 이로써 제조되는 표시 장치
KR101558442B1 (ko) 2007-11-13 2015-10-07 가부시키가이샤 아데카 포지티브형 감광성 조성물, 포지티브형 영구 레지스트 및 포지티브형 영구 레지스트의 제조 방법
JP2010008603A (ja) * 2008-06-25 2010-01-14 Jsr Corp 配線隔壁形成用感放射線性樹脂組成物ならびに配線隔壁およびその形成方法
KR20110065519A (ko) * 2008-10-21 2011-06-15 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 감광성 수지 조성물, 실리카계 피막의 형성 방법, 및 실리카계 피막을 구비하는 장치 및 부재
JP4960330B2 (ja) * 2008-10-21 2012-06-27 株式会社Ａｄｅｋａ ポジ型感光性組成物及び永久レジスト
KR20100066808A (ko) * 2008-12-10 2010-06-18 주식회사 동진쎄미켐 포지티브형 감광성 유-무기 하이브리드 절연막 조성물
JP5533232B2 (ja) 2009-06-29 2014-06-25 Ｊｓｒ株式会社 ポジ型感放射線性組成物、硬化膜、層間絶縁膜、層間絶縁膜の形成方法、表示素子、及び層間絶縁膜形成用のシロキサンポリマー
JP5338532B2 (ja) * 2009-07-13 2013-11-13 Ｊｎｃ株式会社 ポジ型感光性組成物
JP5666266B2 (ja) * 2010-11-25 2015-02-12 株式会社Adeka ポジ型感光性樹脂組成物及び永久レジスト
JP5734629B2 (ja) * 2010-11-25 2015-06-17 株式会社Adeka ポジ型感光性樹脂組成物及び永久レジスト
JP5749068B2 (ja) * 2011-05-10 2015-07-15 株式会社Adeka 光路変換機能を有する光導波路の製造方法
JP5726632B2 (ja) 2011-05-19 2015-06-03 メルクパフォーマンスマテリアルズＩｐ合同会社 感光性シロキサン樹脂組成物
JP2013020530A (ja) * 2011-07-13 2013-01-31 Dainippon Printing Co Ltd タッチセンサパネル部材、タッチセンサパネル部材を備えた表示装置、及びタッチセンサパネル部材の製造方法
JP2015052075A (ja) * 2013-09-09 2015-03-19 東レ・ファインケミカル株式会社 ポリオルガノシロキサンとその製造方法
JP6323225B2 (ja) 2013-11-01 2018-05-16 セントラル硝子株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物、それを用いた膜の製造方法および電子部品
JP6582417B2 (ja) * 2015-01-19 2019-10-02 東レ株式会社 カラーフィルターオンアレイ基板及び表示装置
JP2017173741A (ja) 2016-03-25 2017-09-28 アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ 感光性シロキサン組成物
KR20240166996A (ko) 2022-03-23 2024-11-26 도레이 카부시키가이샤 포지티브형 감광성 수지 조성물, 경화물, 유기 el 표시 장치, 경화물의 제조 방법
KR20240167639A (ko) 2022-03-25 2024-11-27 도레이 카부시키가이샤 포지티브형 감광성 수지 조성물, 그 경화물 및 그것을 구비하는 표시 장치
CN120787242A (zh) 2023-03-14 2025-10-14 株式会社钟化 聚酰胺酸组合物、聚酰亚胺、聚酰亚胺膜、层叠体、电子器件、聚酰亚胺的制造方法、层叠体的制造方法及电子器件的制造方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4373082B2 (ja) * 2001-12-28 2009-11-25 富士通株式会社 アルカリ可溶性シロキサン重合体、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン及びその製造方法、並びに、電子回路装置及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006178436A (ja) 2006-07-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4784283B2 (ja) ポジ型感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
KR101242288B1 (ko) 포지티브형 감광성 실록산 조성물, 그로부터 형성된 경화막, 및 경화막을 갖는 소자
JP4670693B2 (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP5696665B2 (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜および硬化膜を有する素子
JP4853228B2 (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子、並びにパターン形成方法
US20120237873A1 (en) Positive photosensitive resin composition, cured film formed from the same, and device having cured film
JP4655914B2 (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP5444704B2 (ja) 感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP5659561B2 (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP2007193318A (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜および硬化膜を有する素子
JP2013114238A (ja) ポジ型感光性組成物、そのポジ型感光性組成物から形成された硬化膜、およびその硬化膜を有する素子。
JP4725160B2 (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP2007226214A (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP2012053381A (ja) ポジ型感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP4687315B2 (ja) 感光性樹脂組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP2009169343A (ja) 感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP4586655B2 (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP5343649B2 (ja) 感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP5169027B2 (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP2010032977A (ja) ポジ型感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP5233526B2 (ja) 感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP5540632B2 (ja) 感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP4910646B2 (ja) 感光性シロキサン組成物およびその製造方法、感光性シロキサン組成物から形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP6186766B2 (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、およびその硬化膜を有する素子
JP4670665B2 (ja) 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081121

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081121

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101130

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101207

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110202

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110301

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110513

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20110518

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110614

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110627

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4784283

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140722

Year of fee payment: 3