JP4232527B2 - 垂直配向型液晶表示素子用の突起および垂直配向型液晶表示素子用のスペーサーの形成方法 - Google Patents
垂直配向型液晶表示素子用の突起および垂直配向型液晶表示素子用のスペーサーの形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4232527B2 JP4232527B2 JP2003131124A JP2003131124A JP4232527B2 JP 4232527 B2 JP4232527 B2 JP 4232527B2 JP 2003131124 A JP2003131124 A JP 2003131124A JP 2003131124 A JP2003131124 A JP 2003131124A JP 4232527 B2 JP4232527 B2 JP 4232527B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- sulfonic acid
- naphthoquinonediazide
- crystal display
- acid ester
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K9/00—Medicinal preparations characterised by special physical form
- A61K9/10—Dispersions; Emulsions
- A61K9/12—Aerosols; Foams
- A61K9/122—Foams; Dry foams
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
- A61B18/02—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by cooling, e.g. cryogenic techniques
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K36/00—Medicinal preparations of undetermined constitution containing material from algae, lichens, fungi or plants, or derivatives thereof, e.g. traditional herbal medicines
- A61K36/18—Magnoliophyta (angiosperms)
- A61K36/185—Magnoliopsida (dicotyledons)
- A61K36/53—Lamiaceae or Labiatae (Mint family), e.g. thyme, rosemary or lavender
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K36/00—Medicinal preparations of undetermined constitution containing material from algae, lichens, fungi or plants, or derivatives thereof, e.g. traditional herbal medicines
- A61K36/18—Magnoliophyta (angiosperms)
- A61K36/185—Magnoliopsida (dicotyledons)
- A61K36/73—Rosaceae (Rose family), e.g. strawberry, chokeberry, blackberry, pear or firethorn
- A61K36/736—Prunus, e.g. plum, cherry, peach, apricot or almond
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K36/00—Medicinal preparations of undetermined constitution containing material from algae, lichens, fungi or plants, or derivatives thereof, e.g. traditional herbal medicines
- A61K36/18—Magnoliophyta (angiosperms)
- A61K36/185—Magnoliopsida (dicotyledons)
- A61K36/75—Rutaceae (Rue family)
- A61K36/752—Citrus, e.g. lime, orange or lemon
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Natural Medicines & Medicinal Plants (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Public Health (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Pharmacology & Pharmacy (AREA)
- Medical Informatics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Alternative & Traditional Medicine (AREA)
- Mycology (AREA)
- Microbiology (AREA)
- Botany (AREA)
- Biotechnology (AREA)
- Surgery (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Heart & Thoracic Surgery (AREA)
- Otolaryngology (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、垂直配向型液晶表示素子用の突起および垂直配向型液晶表示素子用のスペーサーの形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶表示素子はフラットパネルディスプレイの中で最も広く使用されており、近年におけるパソコン、ワープロ等のOA機器や液晶テレビ等の普及に伴い、TFT(薄膜トランジスター)方式の液晶ディスプレイ(TFT−LCD)の表示品質に対する要求性能がますます厳しくなっている。
TFT−LCDの中で現在最も利用されている方式はTN(Twisted Nematic)型LCDであり、この方式は、2枚の透明な電極を有する基板(以下、「透明電極基板」という。)の両外側に配向方向が90度異なる偏光膜をそれぞれ配置し、2枚の透明電極基板の内側に配向膜を配置するとともに、両配向膜間にネマチック型液晶を配置して、液晶の配向方向が一方の電極側から他方の電極側にかけて90度捩じれるようにしたものである。この状態で無偏光の光が入射すると、一方の偏光板を透過した直線偏光が液晶中を偏光方向がずれながら透過するため他方の偏光板を透過できて、明状態となる。次に、両電極に電圧を印加して液晶分子を直立させると、液晶に達した直線偏光がそのまま透過するため他方の偏光板を透過できず、暗状態となる。その後、再び電圧を印加しない状態にすると、明状態に戻ることになる。
【0003】
このようなTN型LCDは、近年における技術改良により、正面でのコントラストや色再現性などはブラウン管(CRT)と同等あるいはそれ以上となっている。しかしながら、TN型LCDには視野角が狭いという大きな問題がある。
このような問題を解決するものとして、MVA(Multi-domain Vertically Aligned)型LCD(垂直配向型液晶ディスプレイ)が開発されている。
このMVA型LCDは、非特許文献1および特許文献1に記載されているように、TN型LCDの旋光モードではなく、負の誘電率異方性を有するネガ型液晶と垂直方向の配向膜を組み合わせた複屈折モードを利用したものであり、電圧を印加していない状態でも、配向膜に近い位置にある液晶の配向方向がほぼ垂直に維持されるため、コントラスト、視野角などに優れ、また液晶を配向させるためのラビング処理を行なわなくてもよいなど製造工程の面でも優れている。
【0004】
MVA型LCDにおいては、1つの画素領域で液晶が複数の配向方向をとりうるようにするためのドメイン規制手段として、表示側の電極を1つの画素領域内にスリットを有するものとするとともに、光の入射側電極基板上の同一画素領域内に、電極のスリットとは異なる位置に斜面を有する突起(例えば、三角錐状、半凸レンズ形状等)を形成している。
また一般に、従来の液晶ディスプレイでは、2枚の透明電極基板の隙間(セルギャップ)を一定に維持するために、樹脂やセラミック等の球形または棒状のスペーサーが使用されている。このスペーサーは2枚の透明電極基板を貼り合わせるときに、いずれか一方の基板の上に散布され、セルギャップをスペーサーの直径により決定している。
また、スペーサーの直径のバラツキに起因するセルギャップの不均一等の不具合発生を回避するために、特許文献2に、フォトレジストを用いて突起およびスペーサーを形成する方法が提案されており、この方法は微細加工が可能で形状の制御も容易であるといった利点を有する。しかし、特許文献2にはフォトレジストの組成が具体的には記載されておらず、形成された突起およびスペーサーの性能も明らかでない。
【0005】
【非特許文献1】
「液晶」Vol.3, No.2, p.117 (1999)
【特許文献1】
特開平11−258605号公報
【特許文献2】
特開2001−201750号公報
【0006】
垂直配向型液晶表示素子用の突起およびスペーサーの形成に用いられるフォトレジストに要求される性能としては、次のような項目を挙げることができる。即ち、突起およびスペーサーには、その断面形状が適切であることに加え、後の配向膜形成工程で使用される溶剤に対する耐性、配向膜形成工程で加えられる熱に対する耐性、透明性、解像度、残膜率等に高い性能が要求される。また、得られる垂直配向型液晶表示素子には配向性、電圧保持率等に優れていることも要求される。
本出願人は既に、 [A] (a1)不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物、(a2)エポキシ基含有不飽和化合物、並びに(a3)これら以外の不飽和化合物の共重合体、 [B] 不飽和重合性化合物、並びに [C] 感放射線重合開始剤を含有する、突起およびスペーサーを同時に形成するための感放射線性樹脂組成物、それから形成した突起およびスペーサー、ならびに該突起およびスペーサーを具備する液晶表示素子を提案している(特許文献3参照。)。
しかし、垂直配向型液晶表示素子の突起およびスペーサーの形成に有用な感放射線性樹脂組成物の開発は緒についたばかりであり、TFT−LCDの急速な普及およびますます厳しくなる要求性能に対応して、優れた性能を有する突起およびスペーサーを形成しうる新たな感放射線性樹脂組成物の開発は重要な技術課題となっている。
【0007】
【特許文献3】
特開2003−29405号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、以上の事情に鑑みなされたもので、その課題は、垂直配向型液晶表示素子用の突起および垂直配向型液晶表示素子用のスペーサーの形成方法、より具体的には、フォトレジストとして解像度および残膜率に優れ、かつパターン形状、耐熱性、耐溶剤性、透明性等に優れた突起およびスペーサーを形成でき、しかも配向性、電圧保持率等に優れた垂直配向型液晶表示素子をもたらしうる感放射線性樹脂組成物を用いる垂直配向型液晶表示素子用の突起および垂直配向型液晶表示素子用のスペーサーの形成方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、前記課題は、
(1)(a)ノボラック樹脂からなるアルカリ可溶性樹脂、(b)1,2−キノンジアジド化合物、並びに(c)下記一般式(1)で表される化合物および/またはエポキシ基を分子内に2個以上有する化合物を含有する感放射線性樹脂組成物を用いて、基板に被膜を形成する工程、(2)該被膜に突起部分とスペーサー部分の両パターンを有する1種類のフォトマスクを用いて放射線を1回露光する工程、(3)露光後の該被膜をアルカリ現像液により現像する工程、並びに(4)形成されたパターンに再度放射線を露光する工程を備えてなることを特徴とする垂直配向型液晶表示素子用の突起および垂直配向型液晶表示素子用のスペーサーの形成方法、により達成される。
【化2】
(式中、R1 〜R6 は相互に独立に水素原子または基−CH2 ORを示し、Rは水素原子または炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を示す。)
【0014】
以下、本発明の感放射線性樹脂組成物の各成分について詳細に説明する。
(a)アルカリ可溶性樹脂
本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂についていう「アルカリ可溶性」とは、後述する突起およびスペーサーの形成方法により、基板に本発明における感放射線性樹脂組成物の被膜を形成し、露光したのち、露光後の該被膜をアルカリ現像液により現像したとき、露光後の該被膜の露光部を実質上全て溶解除去しうる性質を意味する。
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂は、フェノール類とアルデヒド類とを酸性触媒の存在下で重縮合して得られるノボラック樹脂である。
【0015】
前記ノボラック樹脂の製造に用いられるフェノール類としては、例えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,3−ジメチルフェノール、2,4−ジメチルフェノール、2,5−ジメチルフェノール、2,6−ジメチルフェノール、3,4−ジメチルフェノール、3,5−ジメチルフェノール、2,3,5−トリメチルフェノール、3,4,5−トリメチルフェノール、レゾルシノール、2−メチルレゾルシノール、4−エチルレゾルシノール、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、カテコール、4−メチルカテコール、ピロガロール、フロログルシノール、チモール、イソチモール等を挙げることができる。
これらのフェノール類のうち、フェノール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,3−ジメチルフェノール、2,4−ジメチルフェノール、2,5−ジメチルフェノール、3,4−ジメチルフェノール、3,5−ジメチルフェノール、2,3,5−トリメチルフェノール等が好ましい。
前記フェノール類は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0016】
また、本発明において、フェノール類を2種以上を用いる場合の好ましい組み合わせとしては、例えば、m−クレゾール/p−クレゾール、m−クレゾール/2,3−ジメチルフェノール、m−クレゾール/2,4−ジメチルフェノール、m−クレゾール/2,5−ジメチルフェノール、m−クレゾール/2,3,5−トリメチルフェノール、フェノール/2,3−ジメチルフェノール/3,4−ジメチルフェノール、m−クレゾール/2,3−ジメチルフェノール/2,4−ジメチルフェノール、m−クレゾール/2,3−ジメチルフェノール/3,4−ジメチルフェノール、m−クレゾール/2,4−ジメチルフェノール/2,5−ジメチルフェノール、m−クレゾール/2,5−ジメチルフェノール/3,4−ジメチルフェノール、m−クレゾール/2,3−ジメチルフェノール/2,3,5−トリメチルフェノール、m−クレゾール/p−クレゾール/2,3−ジメチルフェノール、m−クレゾール/p−クレゾール/2,4−ジメチルフェノール、m−クレゾール/p−クレゾール/2,5−ジメチルフェノール、m−クレゾール/p−クレゾール/2,3,5−トリメチルフェノール等を挙げることができる。
【0017】
また、フェノール類と重縮合させるアルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、トリオキサン、パラホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、α−フェニルプロピルアルデヒド、β−フェニルプロピルアルデヒド、o−ヒドロキシベンズアルデヒド、m−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、o−メチルベンズアルデヒド、m−メチルベンズアルデヒド、p−メチルベンズアルデヒド、フルフラール、グリオキサール、グルタルアルデヒド、テレフタルアルデヒド、イソフタルアルデヒド等を挙げることができる。
これらのアルデヒド類のうち、ホルムアルデヒド、o−ヒドロキシベンズアルデヒド等が好ましい。
前記アルデヒド類は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
アルデヒド類の使用量は、フェノール類1モルに対して、好ましくは0.4〜2.0モル、さらに好ましくは0.6〜1.5モルである。
【0018】
フェノール類とアルデヒド類との重縮合に使用される酸性触媒としては、例えば、塩酸、硝酸、硫酸、ギ酸、シュウ酸、酢酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等を挙げることができる。
これらの酸性触媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
酸性触媒の使用量は、フェノール類1モルに対して、通常、1×10-5〜5×10-1モルである。
【0019】
重縮合反応は、無溶媒下または溶媒中で行われる。
前記溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノール、n−ブタノール等のアルコール類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類;エチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン等のケトン類等を挙げることができる。
これらの溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
溶媒の使用量は、反応原料100重量部に対して、通常、20〜1,000重量部、好ましくは50〜800重量部である。
【0020】
重縮合反応の温度は、反応原料の反応性に応じて適宜調整することができるが、通常、10〜200℃である。
重縮合反応を実施する操作としては、(イ)フェノール類、アルデヒド類、酸性触媒等を反応容器に一括して仕込む方法、(ロ)反応容器に予め酸性触媒を仕込み、その存在下にフェノール類、アルデヒド類等を反応の進行とともに加えていく方法等を適宜採用することができる。
また、重縮合縮合反応の終了後のノボラック樹脂の回収方法としては、例えば、(ハ)反応系内の温度を130〜230℃に昇温させ、減圧下で揮発分を除去して、ノボラック樹脂を回収する方法、(ニ)生成したノボラック樹脂をエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、3−メトキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、ジオキサン、メタノール、酢酸エチル等の良溶媒に溶解したのち、水、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の貧溶媒を混合して析出させ、次いで析出した樹脂を分離して、ノボラック樹脂の高分子量フラクションを回収する方法等を挙げることができる。
【0021】
このようにして得られるノボラック樹脂のゲルパーミエイションクロマトグラフィ(GPC)で測定したポリスチレン換算重量平均分子量(以下、「Mw」という。)は、感放射線性樹脂組成物を基材へ塗布する際の作業性、レジストとしての現像性、感度や耐熱性の点から、好ましくは2,000〜20,000、さらに好ましくは3,000〜15,000である。
なお、本発明においては、アルカリ可溶性樹脂が炭素−炭素不飽和結合を有する場合、該不飽和結合の一部を水素添加して使用することもできる。
本発明において、アルカリ可溶性樹脂は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0022】
(b)1,2−キノンジアジド化合物
本発明に用いられる1,2−キノンジアジド化合物としては、放射線の露光によりカルボン酸を生成する化合物、例えば、1,2−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、1,2−ベンゾキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、1,2−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸アミド、1,2−ベンゾキノンジアジド−5−スルホン酸アミド、1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸アミド、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸アミド等が好ましく、さらに好ましくは1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルである。
【0023】
1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステルおよび1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルの具体例としては、
2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,4,6−トリヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,4,6−トリヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル等のトリヒドロキシベンゾフェノンの1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類;
【0024】
2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4,3’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4,3’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4,2’−テトラヒドロキシ−4’−メチルベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4,2’−テトラヒドロキシ−4’−メチルベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4,4’−テトラヒドロキシ−3’−メトキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4,4’−テトラヒドロキシ−3’−メトキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル等のテトラヒドロキシベンゾフェノンの1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類;
【0025】
2,3,4,2’,6’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4,2’,6’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル等のペンタヒドロキシベンゾフェノンの1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類;
2,4,6,3’,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,4,6,3’,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、3,4,5,3’,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、3,4,5,3’,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル等のヘキサヒドロキシベンゾフェノンの1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類;
【0026】
ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、ビス(p−ヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、ビス(p−ヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、トリ(p−ヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、トリ(p−ヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,2,2−トリ(p−ヒドロキシフェニル)エタン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2,2−トリ(p−ヒドロキシフェニル)エタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、
【0027】
ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,2−ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)プロパン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2−ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)プロパン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、1,1,3−トリス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルプロパン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、1,1,3−トリス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルプロパン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、4,4’−〔1−{4−(1− [4−ヒドロキシフェニル] −1−メチルエチル)フェニル}エチリデン〕ビスフェノール−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、4,4’−〔1−{4−(1− [4−ヒドロキシフェニル] −1−メチルエチル)フェニル}エチリデン〕ビスフェノール−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、
【0028】
ビス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)(2−ヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、ビス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)(2−ヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、3,3,3’,3’−テトラメチル−1,1’−スピロビインデン−5,6,7,5’,6’,7’−ヘキサノール−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、3,3,3’,3’−テトラメチル−1,1’−スピロビインデン−5,6,7,5’,6’,7’−ヘキサノール−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,2,4−トリメチル−7,2’,4’−トリヒドロキシフラバン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2,4−トリメチル−7,2’,4’−トリヒドロキシフラバン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2−メチル−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−7−ヒドロキシクロマン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2−メチル−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−7−ヒドロキシクロマン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、
【0029】
2−〔ビス(5−i−プロピル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)メチル〕フェノール−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2−〔ビス(5−i−プロピル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)メチル〕フェノール−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、1−〔1−{3−(1− [4−ヒドロキシフェニル] −1−メチルエチル)−4,6−ジヒドロキシフェニル}−1−メチルエチル〕−3−〔1−{3−(1− [4−ヒドロキシフェニル] −1−メチルエチル)−4,6−ジヒドロキシフェニル}−1−メチルエチル〕ベンゼン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、1−〔1−{3−(1− [4−ヒドロキシフェニル] −1−メチルエチル)−4,6−ジヒドロキシフェニル}−1−メチルエチル〕−3−〔1−{3−(1− [4−ヒドロキシフェニル] −1−メチルエチル)−4,6−ジヒドロキシフェニル}−1−メチルエチル〕ベンゼン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、4,6−ビス〔1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル〕−1,3−ジヒドロキシベンゼン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、4,6−ビス〔1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル〕−1,3−ジヒドロキシベンゼン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル等のポリ(ヒドロキシフェニル)アルカンの1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類
等を挙げることができる。
【0030】
さらに、これらの化合物の他に、非特許文献2や非特許文献3に記載されている1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステルや1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルを用いることができる。
【0031】
【非特許文献2】
J. Kosar著「Light-Sensitive Systems 」(John Wiley&Sons社、19 65年発行)p.339
【非特許文献3】
W.S. De Fores 著「Photoresist 」(McGraw-Hill 社、1975年発行) p.50
【0032】
これらの1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステルおよび1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルのうち、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルが好ましく、特に、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、1,1,3−トリス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルプロパン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、4,4’−4,4’−〔1−{4−(1− [4−ヒドロキシフェニル] −1−メチルエチル)フェニル}エチリデン〕ビスフェノール−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,2,4−トリメチル−7,2’,4’−トリヒドロキシフラバン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,2,2−トリ(p−ヒドロキシフェニル)エタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2−メチル−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−7−ヒドロキシクロマン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル等が、(a)アルカリ可溶性樹脂のアルカリ現像液への溶解抑制効果の観点から好ましい。
前記1,2−キノンジアジド化合物は単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0033】
1,2−キノンジアジド化合物の使用量は、(a)アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、好ましくは5〜50重量部、さらに好ましくは10〜40重量部である。この場合、1,2−キノンジアジド化合物の使用量が5重量部未満では、露光により生成されるカルボン酸量が少なくなり、パターン形成が困難となりやすく、一方50重量部を超えると、短時間の露光では添加した1,2−キノンジアジド化合物の全てを分解させることが困難となり、アルカリ現像液による現像が困難となるおそれがある。
【0034】
(c)成分
本発明に用いられる(c)成分は、前記一般式(1)で表される化合物(以下、「化合物(c1)」という。)および/またはエポキシ基を分子内に2個以上有する化合物(以下、「化合物(c2)」という。)からなる。
以下、これらの化合物について説明する。
【0035】
−化合物(c1)−
化合物(c1)としては、例えば、ヘキサメチロールメラミン、ヘキサブチロールメラミン、部分メチロール化メラミンや、これらの化合物中の少なくとも一部のヒドロキシル基の水素原子を炭素数1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基で置換した化合物等を挙げることができる。
【0036】
また、化合物(c1)の市販品としては、例えば、サイメル202、同238、同266、同267、同272、同300、同301、同303、同325、同327、同370、同701、同1141、同1156、同1158(以上、三井サイアナミッド(株)製)、ニカラックMx−31、同40、同45、同032、同706、同708、同750、ニカラックMs−11、同001、ニカラックMw−22、同30(以上、三和ケミカル(株)製)等を挙げることができる。
前記化合物(c1)は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0037】
化合物(c1)を使用する際に添加量は、(a)アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、好ましくは1〜50重量部、さらに好ましくは5〜40重量部である。化合物(c1)をこの範囲の量で使用することにより、良好な形状の突起およびスペーサーを形成することができ、またアルカリ現像液に対して適切な溶解性を示す感放射線性樹脂組成物を得ることができる。
【0038】
−化合物(c2)−
化合物(c2)としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、環式脂肪族ポリグリシジルエーテル類、脂肪族ポリグリシジルエーテル類、ビスフェノールAのグリシジルエーテル、ビスフェノールFのグリシジルエーテル等を挙げることができる。
これらの化合物(c2)のうち、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族ポリグリシジルエーテル類が、感放射線性樹脂組成物のアルカリ現像性と得られる突起およびスペーサーの形状制御の観点から好ましい。
【0039】
また、化合物(c2)の市販品としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂としてエピコート828、同1001、同1002、同1003、同1004、同1007、同1009、同1010(以上、油化シェルエポキシ(株)製)等;ビスフェノールF型エポキシ樹脂としてエピコート807(油化シェルエポキシ(株)製)等;フェノールノボラック型エポキシ樹脂としてエピコート152、同154(以上、油化シェルエポキシ(株)製)、EPPN201、同202(以上、日本化薬(株)製)等;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としてEOCN−102、同103S、同104S、同1020、同1025、同1027(以上、日本化薬(株)製)、エピコート180S75(油化シェルエポキシ(株)製)等;環式脂肪族ポリグリシジルエーテル類としてCY−175、同177、同179(以上、チバ・ガイギー社製)、ERL−4206、同4221、同4234、同4299(以上、U.C.C.社製)、ショーダイン509(昭和電工(株)製)、アルダライトCY−182、同184、同192(以上、チバ・ガイギー社製)、エピクロン200、同400(以上、大日本インキ(株)製)、エピコート871、同872(以上、油化シェルエポキシ(株)製)、ED−5661、同5662(以上、セラニーズコーティング(株)製)等;脂肪族ポリグリシジルエーテル類としてエポライト100MF(共栄社化学(株)製)、エピオールTMP(日本油脂(株)製)等を挙げることができる。前記化合物(c2)は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0040】
化合物(c2)を使用する際の添加量は、(a)アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、好ましくは1〜50重量部、さらに好ましくは5〜30重量部である。化合物(c2)をこの範囲の量で使用することにより、耐熱性および耐ラビング性に優れた突起およびスペーサーを形成することができる。また、化合物(c2)の使用量が1重量部未満であると、(b)1,2−キノンジアジド化合物への露光によって生成したカルボン酸との反応が充分に進行し難く、形成された突起およびスペーサーの耐熱性や耐溶剤性が不十分となるおそれがあり、一方50重量部を超えると、形成される突起およびスペーサーの軟化点が低下して、これらの形成工程における加熱処理中に形状が保持でき難くなるおそれがある。
【0041】
他の添加剤
本発明における感放射線性樹脂組成物には、必要に応じて、下記する他の添加剤を添加することができる。
−増感剤−
増感剤は、感放射線性樹脂組成物の感度をさらに向上させる作用を有する成分である。 このような増感剤としては、例えば、2H−ピリド−(3,2−b)−1,4−オキサジン−3(4H)−オン類、10H−ピリド−(3,2−b)−(1,4)−ベンゾチアジン類、ウラゾ−ル類、ヒダントイン類、バルビツ−ル酸類、グリシン無水物類、1−ヒドロキシベンゾトリアゾ−ル類、アロキサン類、マレイミド類、フラボン類、ジベンザルアセトン類、ジベンザルシクロヘキサン類、カルコン類、キサンテン類、チオキサンテン類、ポルフィリン類、フタロシアニン類、アクリジン類、アントラセン類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、3−位および/または7−位に置換基を有するクマリン類等を挙げることができる。
これらの増感剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 増感剤の添加量は、(a)アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、通常、30重量部以下、好ましくは0〜20重量部である。
【0042】
−トリハロメチル基含有−s−トリアジン−
トリハロメチル基含有−s−トリアジンは、下記一般式(2)で表される化合物からなる。
【0043】
【化3】
〔式中、Xはハロゲン原子を示し、Aは−CX3 または下記式(i)〜(vi)
【0044】
【化4】
【0045】
【化5】
【0046】
で表わされる基を示し、B、DおよびEは相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基、炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のアルキルチオ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、炭素数6〜12のアリールチオ基、炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を有する二級アミノ基、炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のケトアルキル基、炭素数6〜12のケトアリール基、炭素数2〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニル基または炭素数2〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキルカルボニルオキシ基を示し、mは1〜5の整数である。〕
【0047】
トリハロメチル基含有−s−トリアジンとしては、例えば、
2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メチルチオフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3−メチルチオフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2−メチルチオフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
【0048】
2−(4−メトキシ−β−スチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3−メトキシ−β−スチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2−メトキシ−β−スチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4,5−トリメトキシ−β−スチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メチルチオ−β−スチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3−メチルチオ−β−スチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2−メチルチオ−β−スチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等を挙げることができる。
【0049】
これらの化合物のうち、2−(3−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メチルチオフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシ−β−スチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等が好ましい。
前記トリハロメチル基含有−s−トリアジンは、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0050】
トリハロメチル基含有−s−トリアジンの添加量は、(a)アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、好ましくは10重量部以下、さらに好ましくは5重量部以下である。
【0051】
−他のフェノール性水酸基含有低分子化合物−
他のフェノール性水酸基含有低分子化合物としては、例えば、1,1−ビス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)アセトン、1,1−ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)アセトン、1,1−ビス(2,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)アセトン、4,6−ビス〔1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル〕−1,3−ジヒドロキシベンゼン、4,6−ビス〔1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル〕−1,3−ジヒドロキシ−2−メチルベンゼン等を挙げることができる。
これらの他のフェノール性水酸基含有低分子化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0052】
他のフェノール性水酸基含有低分子化合物の添加量は、(a)アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、好ましくは50重量部以下、さらに好ましくは45重量部以下である。
【0053】
−オニウム塩化合物−
オニウム塩化合物は、下記一般式(3)で表される化合物からなる。
【0054】
【化6】
〔式中、Aは前記一般式(2)におけるAと同義であり、nは2または3であるり、Z+ はS+ またはI+ を示し、Y- はBF4 - PF6 - 、SbF6 - 、AsF6 - 、p−トルエンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオンまたはトリフルオロ酢酸アニオンを示す。〕
【0055】
オニウム塩化合物としては、例えば、
ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウムp−トルエンスルホネート、4−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、4−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、4−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、4−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、4−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、4−メトキシフェニルフェニルヨードニウムp−トルエンスルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムテトラフルオロボレート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフルオロアセテート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムp−トルエンスルホネート等のジアリールヨードニウム塩;
【0056】
トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスルホニウムp−トルエンスルホネート、4−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、4−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、4−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、4−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、4−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、4−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムp−トルエンスルホネート、4−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムテトラフルオロボレート、4−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネート、4−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、4−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、4−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、4−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムp−トルエンスルホネート等のトリアリールスルホニウム塩
等を挙げることができる。
【0057】
これらのオニウム塩化合物のうち、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、4−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、4−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、4−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、4−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、4−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、4−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート等が好ましい。
前記オニウム塩化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0058】
オニウム塩化合物の添加量は、(a)アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、好ましくは10重量部以下、さらに好ましくは5重量部以下である。
【0059】
−界面活性剤−
界面活性剤は、塗布性(例えばストリエーション)や被膜形成後の露光部のアルカリ現像性を改良する作用を有する成分である。
このような界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類;ポリオキシエチレン−n−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン−n−ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアリールエーテル類;ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジアルキルエステル類等のノニオン系界面活性剤や、以下商品名で、エフトップEF301、同303、同352(以上、新秋田化成(株)製)、メガファックF171、同172、同173(以上、大日本インキ(株)製)、フロラードFC430、同431(以上、住友スリーエム(株)製)、アサヒガードAG710、サーフロンS−382、サーフロンSC−101、同102、同103、同104、同105、同106(以上、旭硝子(株)製)等のフッ素系界面活性剤;KP341(信越化学工業(株)製);ポリフローNo.57、同95(以上、共栄社化学(株)製)等を挙げることができる。
前記界面活性剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。界面活性剤の添加量は、感放射線性樹脂組成物の全固形分に対して、通常、0.5重量部以下、好ましくは0.2重量部以下である。
【0061】
組成物溶液
本発明における感放射線性樹脂組成物は、適当な溶剤に溶解した溶液(以下、「組成物溶液」という。)として使用することが好ましい。
組成物溶液に用いられる溶剤としては、感放射線性樹脂組成物の各成分を溶解し、該各成分と反応せず、適当な蒸気圧を有するものが好ましい。
このような溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコールエーテル類;エチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類;プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール−n−プロピルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、2−ヘプタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸n−ブチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、ヒドロキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、乳酸メチル、乳酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸n−ブチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メチル−3−メトキシブチルブチレート等の他のエステル類等を挙げることができる。
これらの溶剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
【0062】
さらに必要に応じて、前記溶剤と共に、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタノール、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート等の高沸点溶剤を添加することもできる。
これらの高沸点溶剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
本発明における組成物溶液は、固形分濃度が例えば20〜40重量%に調整され、必要に応じて、例えば孔径0.2μm程度のフィルターでろ過して使用してもよい。
【0063】
突起およびスペーサーの形成方法
次に、本発明における感放射線性樹脂組成物を用いて、基板に、垂直配向型液晶表示素子用の突起および垂直配向型液晶表示素子用のスペーサーを形成する方法について説明する。
先ず、組成物溶液を基板に塗布したのち、プレベークすることにより溶剤を除去して、被膜を形成する。
前記基板としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、透明樹脂等からなるものを使用することができる。
組成物溶液の塗布方法としては、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法等の各種の方法を用いることができる。
また、プレベークの条件は、各成分の種類や配合割合などによっても異なるが、70〜90℃で1〜15分間程度の条件が適切である。
次いで、被膜に紫外線等の放射線を露光したのち、アルカリ現像液により現像することにより、不要な部分を除去して所定のパターンを形成する。
【0064】
露光する際に用いるパターンマスクおよび露光操作は、(1)突起部分とスペーサー部分の両パターンを有する1種類のフォトマスクを用いて、1回露光する方法からなる。
また、(1)の方法に使用するパターンマスクとして、突起部分とスペーサー部分とで異なる透過率を有するものを使用することも可能である。
但し、本発明においては、場合により、基板に突起とスペーサーの何れか一方のみを形成してもよく、この場合は、(3)突起部分のみを有するフォトマスクとスペーサー部分のみを有するフォトマスクの何れかを用いて、1回露光する方法が採用される。またこの場合、垂直配向型液晶表示素子に必要な残りの突起あるいはスペーサーは、従来公知の方法により形成されることになる。
露光に使用される放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を使用することができるが、紫外線が好ましい。
【0065】
前記アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリ類;エチルアミン、n−プロピルアミン等の一級アミン類;ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミン等の二級アミン類;トリメチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、トリエチルアミン等の三級アミン類;ジメチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類;ピロール、ピペリジン、N−メチルピペリジン、N−メチルピロリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン等の環状三級アミン類;ピリジン、コリジン、ルチジン、キノリン等の芳香族三級アミン類;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の四級アンモニウム塩等の水溶液を使用することができる。
また、前記アルカリ現像液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒および/または界面活性剤を適当量添加することもできる。
現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、シャワー法等の何れでもよく、現像時間は、通常、30〜180秒間である。
アルカリ現像後、例えば流水洗浄を30〜90秒間行って、例えば圧縮空気や圧縮窒素で乾燥することにより、パターンを形成する。
【0066】
次いで、アルカリ現像後のパターンに再度放射線を露光したのち、好ましくは、例えば、ホットプレート、オーブン等の加熱装置にて、所定温度、例えば150〜250℃で、所定時間、例えばホットプレート上では5〜30分間、オーブン中では30〜90分間、ポストベークを行うことによって、所定の突起およびスペーサーを形成することができる。但し、この工程における露光には、フォトマスクを使用しても使用しなくてもよい。
【0067】
このようにして形成された突起の高さは、通常、0.1〜3.0μm、好ましくは0.5〜2.0μm、特に好ましくは1.0〜1.5μmであり、またスペーサーの高さは、通常、1〜10μm、好ましくは2〜8μm、特に好ましくは3〜5μmである。
【0068】
このような突起および/またはスペーサーの形成方法によると、微細加工が可能で、また形状およびサイズ(高さや底部寸法)の制御も容易であり、パターン形状、耐熱性、耐溶剤性、透明性等に優れた微細な突起およびスペーサーを安定して生産性よく形成することができ、かつ配向性、電圧保持率等に優れた垂直配向型液晶表示素子をもたらすことができる。
【0069】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら制約されるものではない。
合成例1
冷却管、攪拌機および温度計を装着したフラスコに、m−クレゾール64.8g(0.6モル)、p−クレゾール43.2g(0.4モル)、37重量%ホルムアルデヒド水溶液75.4g(ホルムアルデヒド0.93モル)、シュウ酸二水和物0.63g(0.005モル)を仕込んだのち、フラスコを油浴中に浸し、反応溶液を還流させながら、攪拌下4時間重縮合を行った。その後、油浴の温度を3時間かけて200℃に昇温したのち、フラスコ内の圧力を30〜50mmHgまで減圧して揮発分を除去し、溶融している樹脂を室温まで冷却して回収した。その後、この樹脂を酢酸エチルに樹脂濃度が30重量%になるように溶解し、この溶液重量の1.3倍量のメタノールと0.9倍量の水を加えて、攪拌したのち放置した。その後、2層に分離した下層を取り出し、溶媒を除去して、Mw=8,000のノボラック樹脂を得た。このノボラック樹脂を、樹脂(a-1) とする。
【0070】
合成例2
冷却管、攪拌機および温度計を装着したフラスコに、m−クレゾール64.8g(0.6モル)、p−クレゾール43.2g(0.4モル)、37重量%ホルムアルデヒド水溶液75.4g(ホルムアルデヒド0.93モル)、シュウ酸二水和物0.63g(0.005モル)、メチルイソブチルケトン270gを仕込んだのち、内温を90〜100℃に保持して攪拌しながら8時間重縮合を行った。その後、反応溶液をイオン交換水500gで2回水洗して、樹脂溶液を得た。その後、この樹脂溶液に酢酸エチルを加えて、樹脂濃度が30重量%となるように希釈したのち、この溶液重量の1.3倍量のメタノールと0.9倍量の水を加えて、攪拌したのち放置した。その後、2層に分離した下層を取り出し、溶媒を除去して、Mw=8、500のノボラック樹脂を得た。このノボラック樹脂を、樹脂(a-2) とする。
【0071】
合成例3
冷却管、攪拌機および温度計を装着したフラスコに、m−クレゾール108.1g(1.0モル)、37重量%ホルムアルデヒド水溶液75.4g(ホルムアルデヒド0.93モル)、シュウ酸二水和物0.63g(0.005モル)、メチルイソブチルケトン270gを仕込んだのち、内温を90〜100℃に保持して攪拌しながら8時間重縮合を行った。その後、反応溶液をイオン交換水500gで2回水洗して、樹脂溶液を得た。その後、この樹脂溶液に酢酸エチルを加えて、樹脂濃度が30重量%となるように希釈したのち、この溶液重量の1.3倍量のメタノールと0.9倍量の水を加えて、攪拌したのち放置した。その後、2層に分離した下層を取り出し、溶媒を除去して、Mw=9,000のノボラック樹脂を得た。このノボラック樹脂を、樹脂(a-3) とする。
【0072】
合成例4
冷却管、攪拌機および温度計を装着したフラスコに、m−クレゾール108.1g(1.0モル)、37重量%ホルムアルデヒド水溶液75.4g(ホルムアルデヒド0.93モル)、シュウ酸二水和物0.63g(0.005モル)、メチルイソブチルケトン270gを仕込んだのち、内温を90〜100℃に保持して攪拌しながら8時間重縮合を行った。その後、この反応溶液をイオン交換水500gで2回水洗して、樹脂溶液を得た。その後、この樹脂溶液に酢酸エチルを加えて、樹脂濃度が30重量%となるように希釈したのち、この溶液重量の1.3倍量のメタノールと0.9倍量の水を加えて、攪拌したのち放置した。その後、2層に分離した下層を取り出し、溶媒を除去して、Mw=9,500のノボラック樹脂を得た。このノボラック樹脂を、樹脂(a-4) とする。
【0073】
【実施例】
実施例1
(a)成分として樹脂(a-1) 100重量部、(b)成分として4,4’−〔1−{4−(1− [4−ヒドロキシフェニル] −1−メチルエチル)フェニル}エチリデン〕ビスフェノール1.0モルと1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2.0モルとの縮合物からなる4,4’−〔1−{4−(1− [4−ヒドロキシフェニル] −1−メチルエチル)フェニル}エチリデン〕ビスフェノール−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル30重量部、(c)成分としてサイメル300を20重量部、および界面活性剤としてメガファックF172を0.01重量部混合して、全体の固形分濃度が25重量%になるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテルで希釈・溶解させたのち、孔径0.2μmのメンブランフィルターでろ過して、組成物溶液(S−1)を調製した。
次いで、下記する手順で突起およびスペーサーを形成して、各種評価を行った。評価結果を表2および表3に示す。
【0074】
(1−1)突起およびスペーサーの形成
ガラス基板上にスピンナーを用いて組成物溶液(S−1)を塗布したのち、90℃のホットプレート上で2分間プレベークして、膜厚4.0μmの被膜を形成した。その後、突起部分に相当する5μm幅の残しパターンとスペーサー部分に相当する30μmドットの残しパターンを有するフォトマスクを介して、波長365nmにおける強度が100W/m2 の紫外線を10秒間露光した。その後、2.38重量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により25℃で60秒間現像したのち、純水で1分間洗浄した。その後、波長365nmにおける強度が100W/m2 の紫外線を30秒間露光したのち、オーブン中、220℃で60分間ポストベークを行って、突起およびスペーサーを形成した。
【0076】
(2)解像度の評価
前記(1−1)の手順によりパターンを形成したとき、パターンが解像できている場合を「良好」、解像できていない場合を「不良」とした。
(3)残膜率の評価
感放射線性樹脂組成物を用いて、突起およびスペーサーを形成する際には、前記特許文献2に開示されているように、露光エネルギー量(露光時間)を変えたとき、アルカリ現像時の膜減り量の変化が穏やかで高い残膜率を有するのが好ましいといえる。そこで、波長365nmにおける強度が100W/m2 の紫外線を4秒間、5秒間または6秒間露光した場合の残膜率をそれぞれ測定し、4秒間露光および6秒間露光の場合の残膜率がともに、5秒間露光の場合の残膜率に対して90〜110%の範囲内にある場合を「良好」とした。
【0077】
(4−1)突起の断面形状の評価
突起の断面形状A、BまたはCを下記のように定義したとき、形成された突起の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察して、AまたはBの場合を「良好」、Cの場合を「不良」とした。突起の断面形状A、BおよびCは、模式的には図1に例示するとおりである。
A:底部の寸法が5μmを超え7μm以下である場合、
B:底部の寸法が7μmを超える場合、
C:底部の寸法にかかわらず台形形状である場合。
【0078】
(4−2)スペーサーの断面形状の評価
スペーサーの断面形状A、BおよびCを下記のように定義したとき、形成されたスペーサーの断面形状を走査型電子顕微鏡により観察して、AまたはCの場合を「良好」、Bの場合を「不良」とした。スペーサーの断面形状A、BおよびCは、模式的には図1に例示するとおりである。
A:底部の寸法が30μmを超え36μm以下である場合、
B:底部の寸法が36μmを超える場合、
C:底部の寸法にかかわらず台形形状である場合。
【0079】
(5)耐熱性の評価
シリコン基板上にスピンナーを用いて組成物溶液(S−1) を塗布したのち、90℃のホットプレート上で2分間プレベークして、膜厚4.0μmの被膜を形成したのち、得られた被膜にキャノン(株)製PLA−501F露光機(超高圧水銀ランプ)を用いて、波長365nmにおける強度が100W/m2 の紫外線を10秒間露光した。その後、この基板をクリーンオーブン内にて220℃で1時間ポストベークを行って硬化膜を形成し、その膜厚(T1)を測定した。また、この硬化膜を形成した基板をクリーンオーブン内にて240℃でさらに1時間ポストベークを行ったのち、硬化膜の膜厚(T2)を測定し、追加ベークによる膜厚変化率(|T2−T1|/T1)×100(%)を算出して評価した。その値が5%以下のときは、耐熱性が良好といえる。
【0080】
(6)耐溶剤性の評価
前記(5)の手順と同様にして、硬化膜の膜厚(T2)を測定した。その後、硬化膜を形成したシリコン基板を70℃に保持したジメチルスルホキシド中に20分間浸漬したのち、硬化膜の膜厚(t2)を測定し、浸漬による膜厚変化率(|t2−T2|/T2)×100(%)を算出して評価した。その値が5%以下のとき、耐溶剤性が良好といえる。
(7)透明性の評価
シリコン基板の代わりにガラス基板「コーニング7059」(コーニング社製)を用いた以外は、前記(5)の手順と同様にして、ガラス基板上に硬化膜を形成した。その後、この基板について、400〜800nmの波長範囲の光線透過率を分光光度計「150−20型ダブルビーム」((株)日立製作所製)を用いて測定して評価した。その値が93%以上のとき、透明性が良好といえる。
【0081】
(8)配向性および電圧保持率の評価
組成物溶液(S−1)を用いて、電極であるITO(錫をドープした酸化インジュウム)膜を有するガラス基板の電極面に、前記(1−1)の手順と同様にして、突起およびスペーサーを形成した。その後、液晶配向剤としてAL1H659(商品名、ジェイエスアール(株)製)を、液晶配向膜塗布用印刷機により、突起およびスペーサーを形成したガラス基板に塗布したのち、180℃で1時間乾燥して、膜厚0.05μmの被膜を形成した。
また、液晶配向剤としてAL1H659を、液晶配向膜塗布用印刷機により、ITO膜を有する別のガラス基板の電極面に塗布し、180℃で1時間乾燥して、膜厚0.05μmの被膜を形成した。
【0082】
次いで、得られた両基板のそれぞれの液晶配向膜の外面に、直径5μmのガラスファイバー入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷により塗布し、両基板を液晶配向膜面が相対するように重ね合わせて圧着したのち、接着剤を硬化させた。その後、液晶注入口より両基板間に、メルク社製液晶MLC−6608(商品名)を充填して、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止したのち、両基板の外面に偏光板を、その偏向方向が直交するように張り合わせて、垂直配向型液晶表示素子を作製した。得られた垂直配向型液晶表示素子の縦断面図を模式的に図2に示す。
次いで、得られた垂直配向型液晶表示素子の配向性および電圧保持率を、下記のようにして評価した。
【0083】
配向性の評価に際しては、電圧をオン・オフさせたとき、液晶セル中に異常ドメインが生じるかどうかを、偏光顕微鏡で観察して、異常ドメインが認められない場合を「良好」とした。
また、電圧保持率の評価に際しては、液晶表示素子に5Vの電圧を印加したのち、回路を開にし、その16.7ミリ秒後の保持電圧を測定して、その印加電圧(5V)に対する割合を算出し、その値が98%以上の場合を「良好」、98%未満の場合を「不良」とした。
【0084】
実施例2〜12および比較例1〜2
表1に示す各成分を用いた以外は実施例1と同様にして、組成物溶液を調製し、突起およびスペーサーを形成して、各種評価を行った。評価結果を表2および表3に示す。
【0085】
【表1】
【0086】
表1における(b)成分、(c1)成分および(c2)成分は、次のとおりである。
b-1:4,4’−〔1−{4−(1− [4−ヒドロキシフェニル] −1−メチルエチル)フェニル}エチリデン〕ビスフェノール1.0モルと1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2.0モルとの縮合物
b-2:2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン1.0モルと1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2.6モルとの縮合物
b-3:2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン1.0モルと1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2.5モルとの縮合物b-4:1,1,3−トリス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルプロパン1.0モルと1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド1.9モルとの縮合物
b-5:2−メチル−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4−(4−ヒドロキシフェニル)−7−ヒドロキシクロマン1.0モルと1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド3.0モルとの縮合物
【0087】
c1-1:サイメル300
c1-2:サイメル272
c1-3:ニカラックMs−11
c2-1:エピコート828
c2-2:エポライト100MF
【0088】
【表2】
【0089】
【表3】
【0091】
【発明の効果】
本発明の垂直配向型液晶表示素子用の突起および垂直配向型液晶表示素子用のスペーサーの形成方法は、微細加工が可能で、また形状およびサイズ(高さや底部寸法等)の制御も容易であり、パターン形状、耐熱性、耐溶剤性、透明性等に優れた微細な突起およびスペーサーを安定して生産性よく形成することができ、かつ配向性、電圧保持率等に優れた垂直配向型液晶表示素子をもたらすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】突起およびスペーサーの断面形状を例示する模式図である。
【図2】突起およびスペーサーを有する垂直配向型液晶表示素子の断面形状を例示する模式図である。1 スペーサー
2 突起
3 液晶
4 液晶配向膜
5 カラーフィルタ
6 ガラス基板
Claims (1)
- (1)(a)ノボラック樹脂からなるアルカリ可溶性樹脂、(b)1,2−キノンジアジド化合物、並びに(c)下記一般式(1)で表される化合物および/またはエポキシ基を分子内に2個以上有する化合物を含有する感放射線性樹脂組成物を用いて、基板に被膜を形成する工程、(2)該被膜に突起部分とスペーサー部分の両パターンを有する1種類のフォトマスクを用いて放射線を1回露光する工程、(3)露光後の該被膜をアルカリ現像液により現像する工程、並びに(4)形成されたパターンに再度放射線を露光する工程を備えてなることを特徴とする垂直配向型液晶表示素子用の突起および垂直配向型液晶表示素子用のスペーサーの形成方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003131124A JP4232527B2 (ja) | 2003-05-09 | 2003-05-09 | 垂直配向型液晶表示素子用の突起および垂直配向型液晶表示素子用のスペーサーの形成方法 |
TW093112715A TWI329788B (en) | 2003-05-09 | 2004-05-06 | Formation method of projection for vertically aligned type crystal display device and spacer for vertically aligned type crystal display device |
KR1020040032096A KR101021717B1 (ko) | 2003-05-09 | 2004-05-07 | 수직 배향형 액정 표시 소자용 돌기, 수직 배향형 액정 표시 소자용 스페이서 및 이들의 형성 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003131124A JP4232527B2 (ja) | 2003-05-09 | 2003-05-09 | 垂直配向型液晶表示素子用の突起および垂直配向型液晶表示素子用のスペーサーの形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004333964A JP2004333964A (ja) | 2004-11-25 |
JP4232527B2 true JP4232527B2 (ja) | 2009-03-04 |
Family
ID=33506392
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003131124A Expired - Fee Related JP4232527B2 (ja) | 2003-05-09 | 2003-05-09 | 垂直配向型液晶表示素子用の突起および垂直配向型液晶表示素子用のスペーサーの形成方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4232527B2 (ja) |
KR (1) | KR101021717B1 (ja) |
TW (1) | TWI329788B (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4611690B2 (ja) * | 2004-09-03 | 2011-01-12 | 東京応化工業株式会社 | レジストパターンの形成方法ならびにこれを用いた微細パターンの形成方法および液晶表示素子の製造方法 |
JP4670693B2 (ja) * | 2005-03-18 | 2011-04-13 | 東レ株式会社 | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
KR101351311B1 (ko) * | 2006-03-08 | 2014-01-14 | 주식회사 동진쎄미켐 | 감광성 수지 조성물 |
JP2008216290A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JP5116529B2 (ja) * | 2008-03-28 | 2013-01-09 | 三洋化成工業株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JP5630374B2 (ja) * | 2010-06-11 | 2014-11-26 | 信越化学工業株式会社 | マイクロ構造体の製造方法及び光パターン形成性犠牲膜形成用組成物 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4221788B2 (ja) | 1997-11-17 | 2009-02-12 | 住友化学株式会社 | 耐熱性に優れたレジストパターンの形成方法及びそれに用いられるポジ型レジスト組成物 |
JP3952484B2 (ja) * | 1998-08-20 | 2007-08-01 | Jsr株式会社 | 表示パネルスペーサー用感放射線性樹脂組成物 |
TWI297104B (ja) * | 2000-07-27 | 2008-05-21 | Jsr Corp |
-
2003
- 2003-05-09 JP JP2003131124A patent/JP4232527B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-05-06 TW TW093112715A patent/TWI329788B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-05-07 KR KR1020040032096A patent/KR101021717B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20040095701A (ko) | 2004-11-15 |
TWI329788B (en) | 2010-09-01 |
KR101021717B1 (ko) | 2011-03-15 |
TW200500803A (en) | 2005-01-01 |
JP2004333964A (ja) | 2004-11-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20060112225A (ko) | 감방사선성 수지 조성물, 이것으로부터 형성된 돌기 및스페이서, 및 이들을 구비하는 액정 표시 소자 | |
KR101365768B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 | |
KR20060043055A (ko) | 플루오렌 화합물 | |
KR100869040B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 | |
JP2003089716A (ja) | アルカリ可溶性不飽和樹脂及びこれを用いる感放射線性樹脂組成物 | |
JP4345348B2 (ja) | 垂直配向型液晶表示素子用の突起および垂直配向型液晶表示素子用のスペーサーの形成方法 | |
KR101332902B1 (ko) | 감방사선성 수지 조성물, 이것으로부터 형성된 돌기 및 스페이서, 및 이들을 구비하는 액정 표시 소자 | |
JP4232527B2 (ja) | 垂直配向型液晶表示素子用の突起および垂直配向型液晶表示素子用のスペーサーの形成方法 | |
KR100573355B1 (ko) | 스페이서용 감방사선성 수지 조성물, 스페이서의 제조 방법,스페이서 및 액정 표시 소자 | |
JPH1069075A (ja) | ポジ型レジスト組成物 | |
JP2002169277A (ja) | 有機el表示素子の絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物、それから形成された絶縁膜、および有機el表示素子 | |
TW567361B (en) | Forming method of projection of perpendicularly oriented liquid crystal display device, projection of perpendicularly oriented liquid crystal display device and liquid crystal display device having the same | |
JPH04352101A (ja) | マイクロレンズ用感放射線性樹脂組成物 | |
JP3245207B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物 | |
TWI644173B (zh) | 正型感光性樹脂組成物及其應用 | |
JPWO2006107056A1 (ja) | パターン形成方法 | |
JP2005284114A (ja) | スピンレススリットコート用感放射線性樹脂組成物及びその利用 | |
KR100831847B1 (ko) | 광 확산 반사막 형성용 조성물, 그의 제조 방법, 광 확산반사막 및 액정 표시소자 | |
KR101062673B1 (ko) | 액정표시소자의 유기절연막 형성용 포지티브형포토레지스트 조성물 | |
JP2006301240A (ja) | 感放射線性樹脂組成物、それから形成された突起およびスペーサー、ならびにそれらを具備する液晶表示素子 | |
JP2004258319A (ja) | 感放射線性樹脂組成物、およびそれを用いた液晶表示素子 | |
JP2007101673A (ja) | 感光性レジスト組成物及び基板の製造方法 | |
JP2007103432A (ja) | パターン化金属膜を有する基板の製造方法 | |
TWI427418B (zh) | A positive-type photosensitive resin composition, and a liquid crystal alignment control protrusion formed therefrom | |
JP2002265876A (ja) | 光拡散反射膜形成用組成物、光拡散反射膜および液晶表示素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051104 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080403 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080520 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080722 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081118 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081201 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111219 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4232527 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111219 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111219 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121219 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121219 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131219 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |