JP2002265876A - 光拡散反射膜形成用組成物、光拡散反射膜および液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光拡散反射膜に用いるためのパタ
ーンを有し、基膜との密着性、耐熱性、耐溶剤性、凸凹
形状のコントロール性に優れ、反射型または半透過型の
液晶表示素子の光拡散反射膜に用いるための膜を容易に
形成することのできる組成物、その組成物から形成され
た膜を有する光散乱機能に優れる光拡散反射膜、および
液晶表示素子を提供すること。 【解決手段】 組成物は、アルカリ可溶性樹脂、
１，２−キノンジアジド化合物、および特定の化合物を
含有する。光拡散反射膜および液晶表示素子は、前記組
成物から形成されたパターンを有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
等に用いる光拡散反射膜に用いるための膜形成用組成
物、それから形成された膜を有する光拡散反射膜、およ
びその光拡散反射膜を有する液晶表示素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイは、均一で正面輝度が
高い面照明が必要なために、従来、バックライトユニッ
トを具備したものが主流であった。しかし近年、携帯用
端末の普及などの影響で、省電力の観点から半透過型お
よび反射型の液晶ディスプレイの採用が増加してきた。
半透過型および反射型液晶ディスプレイは、液晶パネル
下側にアルミニウム板等の反射板を設置し、パネル上部
からの光を反射させることにより輝度を得ている。しか
しこの方法によると、反射板が平面であるため、パネル
上部からの入射光の入射方向が斜めであった場合、反射
光の方向はパネル正面方向からずれ、十分な正面輝度が
得られない。

【０００３】反射型液晶ディスプレイにおける上記のよ
うな欠点を改良するため、いわゆる光拡散板を用いる技
術が提案されている。この方法は、反射板表面に細かい
凹凸形状を付することにより、反射光の方向を拡散し、
正面輝度を得るものである。例えば、特開２０００−１
１１８８６号公報では、ガラス基板を化学的にエッチン
グすることにより粗面化したうえで金属膜を形成し、反
射板表面に凹凸形状を付する技術が開示されている。こ
の方法によると、ガラス基板の裏面をエッチング液から
保護する必要があるため工程が煩雑になるばかりでな
く、腐食性のエッチング液を用いるため装置上、プロセ
ス上のコスト面で問題がある。また、特開２０００−１
９３８０７号公報には、フッ素化合物とアルコキシシラ
ンの加水分解物を含有する溶液状の組成物を基板上に塗
布し、塗膜とする際の相分離を利用して凹凸形状を持つ
膜を作り、その上に金属膜を形成する技術が開示されて
いる。この方法では、凹凸形状の制御が困難で効率的な
拡散光を得ることが難しく、また、基板との密着性にも
劣る。最近では、感光性樹脂を用いてフォトリソグラフ
ィーによるパターニングにより凹凸形状を有する膜を形
成し、その表面に金属層を形成することにより拡散反射
膜とする方法が主流となりつつあるが、従来知られてい
る感光性樹脂だと凹凸形状の形状コントロールが困難で
あったり、耐熱性が不足し反射材料をスパッタする際の
熱により形状が変化したり、さらには反射金属膜をパタ
ーニングする際の耐溶剤性が不足している等の欠点がみ
られた。

【０００４】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、その目的は、光拡散反射膜に用いるための粗面を有
し、基板との密着性、耐熱性、耐溶剤性、凹凸形状のコ
ントロール性に優れ、反射型または半透過型の液晶表示
素子の光拡散反射膜に用いるための膜を容易に形成する
ことのできる組成物を提供することにある。本発明の別
の目的は、上記の組成物から形成された膜を有する、光
散乱機能に優れる光拡散反射膜を提供することにある。
本発明のさらに別の目的は、上記の光拡散反射膜を有す
る液晶表示素子を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記課
題は第１に（ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）１，２−
キノンジアジド化合物、および（ｃ）エポキシ基を分子
内に２個以上有する化合物を含有することを特徴とする
光拡散反射膜形成用組成物によって達成される。

【０００６】上記課題は第２に（ａ）アルカリ可溶性樹
脂、（ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、（ｄ）下記
一般式（１）

【０００７】

【化６】

【０００８】（式中、Ｒ¹〜Ｒ⁶は同一でも異なっていて
もよく、それぞれ水素原子または基−ＣＨ₂ＯＲを示
し、Ｒは水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を示
す。）で表わされる化合物、および（ｅ）下記一般式
（２）

【０００９】

【化７】

【００１０】（式中、Ｘはハロゲンを表わし、ＡはＣＸ
₃または下記一般式

【００１１】

【化８】

【００１２】で表わされる基を示し、そしてＢ、Ｄおよ
びＥは、それぞれ独立に水素、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基またはチオアルキル
基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基またはチオアリ
ール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１
〜１０のアルキル基のついた二級アミノ基、カルボキシ
ル基、水酸基、炭素数１〜１０のケトアルキル基または
ケトアリール基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニ
ル基またはアルキルカルボニルオキシ基を示し、そして
ｍは１〜５の整数を示す。）で表わされる化合物を含有
することを特徴とする光拡散反射膜形成用組成物によっ
て達成される。

【００１３】上記課題は第３に（ａ）アルカリ可溶性樹
脂、（ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、（ｄ）上記
一般式（１）で表わされる化合物、および下記一般式
（３）

【００１４】

【化９】

【００１５】（式中、Ａの定義は上記式（２）に同じで
あり、Ｚは硫黄原子またはよう素原子を示し、ＹはＢＦ
₄、ＰＦ₆、ＳｂＦ₆、ＡｓＦ₆、ｐ-トルエンスルホナー
ト、トリフルオロメタンスルホナートまたはトリフルオ
ロアセテートを示し、そしてｎは２または３を示す。）
で表わされる化合物を含有することを特徴とする光拡散
反射膜形成用組成物によって達成される。

【００１６】さらに本発明によれば、上記課題は、前記
のいずれかの光拡散反射膜形成用組成物から形成された
パターンを有する光拡散反射膜、およびそれを有する液
晶表示素子によって達成される。

【００１７】以下、本発明の光散乱凹凸膜形成用組成物
について詳述する。なお、本発明で「放射線」という語
は、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線、分子線、γ線、
シンクロトロン放射線、プロトンビーム線等を含む概念
で用いられる。

【００１８】（ａ）アルカリ可溶性樹脂 本発明に用いられる（ａ）アルカリ可溶性樹脂として
は、アルカリ水溶液に可溶である限りとくに制限される
ものではないが、フェノール性水酸基またはカルボキシ
ル基を含有することによってアルカリ可溶性が付与され
た樹脂が好適に使用できる。このようなアルカリ可溶性
樹脂としては、例えばフェノール性水酸基またはカルボ
キシル基を有するラジカル重合性モノマーの単独重合体
または該ラジカル重合性モノマーとそれ以外の他のラジ
カル重合性モノマーとの共重合体を挙げることができ
る。

【００１９】フェノール性水酸基またはカルボキシル基
含有のラジカル重合性モノマーとしては、例えばｏ−ヒ
ドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒド
ロキシスチレンまたはこれらのアルキル、アルコキシ
ル、ハロゲン、ハロアルキル、ニトロ、シアノ、アミ
ド、エステルもしくはカルボキシルで置換された置換
体；ビニルヒドロキノン、５−ビニルピロガロール、６
−ビニルピロガロール、１−ビニルフロログリシノール
の如きポリヒドロキシビニルフェノール類；ｏ−ビニル
安息香酸、ｍ−ビニル安息香酸、ｐ−ビニル安息香酸ま
たはこれらのアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニト
ロ、シアノ、アミドもしくはエステルで置換された置換
体；メタクリル酸、アクリル酸もしくはこれらのα−位
がハロアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニトロもし
くはシアノで置換されたα−位置換体；マレイン酸、無
水マレイン酸、フマル酸、無水フマル酸、シトラコン
酸、メサコン酸、イタコン酸、１,４−シクロヘキセン
ジカルボン酸の如き不飽和ジカルボン酸またはこれらの
一方のカルボキシル基がメチル、エチル、プロピル、ｉ
−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒ−ブ
チル、フェニル、ｏ−トルイル、ｍ−トルイルもしくは
ｐ−トルイルエステル基となったハーフエステルまたは
一方のカルボキシル基がアミド基となったハーフアミド
を挙げることができる。

【００２０】これらのフェノール性水酸基またはカルボ
キシル基含有のラジカル重合性モノマーのうち、好まし
く使用されるものとして、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ
−ヒドロキシスチレン、アクリル酸、メタクリル酸、マ
レイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸を挙げることが
できる。これらは１種または２種以上を併用することが
できる。

【００２１】また、その他のラジカル重合性モノマーと
しては、例えばスチレン、またはスチレンのα−アルキ
ル、ｏ−アルキル、ｍ−アルキル、ｐ−アルキル、アル
コキシル、ハロゲン、ハロアルキル、ニトロ、シアノ、
アミドもしくはエステルで置換された置換体；ブタジエ
ン、イソプレン、クロロプレンの如きオレフィン類；メ
チル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレー
ト、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル
（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレー
ト、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒ−ブ
チル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレ
ート、ネオペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル
ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メ
タ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレー
ト、アリル（メタ）アクリレート、プロパギル（メタ）
アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ナフチ
ル（メタ）アクリレート、アントラセニル（メタ）アク
リレート、アントラキノニル（メタ）アクリレート、ピ
ペロニル（メタ）アクリレート、サリチル（メタ）アク
リレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベン
ジル（メタ）アクリレート、フェネチル（メタ）アクリ
レート、クレシル（メタ）アクリレート、グリシジル
（メタ）アクリレート、１,１,１−トリフルオロエチル
（メタ）アクリレート、パーフルオロエチル（メタ）ア
クリレート、パーフルオロ−ｎ−プロピル（メタ）アク
リレート、パーフルオロ−ｉ−プロピル（メタ）アクリ
レート、トリフェニルメチル（メタ）アクリレート、ト
リシクロ［５.２.１.０^2,6］デカン−８−イル（メタ）
アクリレート（当該技術分野で慣用的に「ジシクロペン
タニル（メタ）アクリレート」といわれている）、クミ
ル（メタ）アクリレート、３−（Ｎ,Ｎ−ジメチルアミ
ノ）プロピル（メタ）アクリレート、３−（Ｎ,Ｎ−ジ
メチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、フリル
（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレー
トの如き（メタ）アクリル酸エステル；

【００２２】（メタ）アクリル酸アニリド、（メタ）ア
クリル酸アミド、または（メタ）アクリル酸Ｎ,Ｎ−ジ
メチルアミド、（メタ）アクリル酸Ｎ,Ｎ−ジエチルア
ミド、（メタ）アクリル酸Ｎ,Ｎ−ジプロピルアミド、
（メタ）アクリル酸Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド、
（メタ）アクリル酸アントラニルアミド、（メタ）アク
リロニトリル、アクロレイン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、弗化ビニル、弗化ビニリデン、Ｎ−ビニルピロリ
ドン、ビニルピリジン、酢酸ビニル、Ｎ−フェニルマレ
イミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）マレイミド、
Ｎ−メタクリロイルフタルイミド、Ｎ−アクリロイルフ
タルイミド等を用いることができる。

【００２３】これらのうち、好ましいその他のラジカル
重合性モノマーとして、スチレン、ブタジエン、フェニ
ル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレ
ート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートを挙げ
ることができる。これらは１種または２種以上を併用す
ることができる。

【００２４】これらのその他のラジカル重合性モノマー
の共重合割合は、アルカリ可溶性を付与せしめる基の種
類によって異なる。水酸基を有するラジカル重合性モノ
マーがフェノール性水酸基を有するラジカル重合性モノ
マーである場合、その他のラジカル重合性モノマーの共
重合割合は、フェノール性水酸基を有するラジカル重合
性モノマーとその他のラジカル重合性モノマーとの合計
量に対して、好ましくは０〜３０重量％、より好ましく
は５〜２０重量％である。また、カルボキシル基を有す
るラジカル重合性モノマーである場合、その他のラジカ
ル重合性モノマーの共重合割合は、カルボキシル基を有
するラジカル重合性モノマーとその他のラジカル重合性
モノマーとの合計量に対して、好ましくは０〜９０重量
％、より好ましくは１０〜８０重量％である。これらそ
の他のラジカル重合性モノマーの共重合割合が水酸基ま
たはカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマーに
対して前述した割合を越えるとアルカリ現像性が不十分
となる場合がある。

【００２５】アルカリ可溶性樹脂（ａ）の合成に用いら
れる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、ジ
アセトンアルコールなどのアルコール類；テトラヒドロ
フラン、テトラヒドロピラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエー
テル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテ
ルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメ
チルエーテルなどのジエチレングリコール類；プロピレ
ングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエ
チルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテ
ル、プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロピ
レングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレング
リコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
プロピルエーテルアセテートプロピレングリコールブチ
ルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアル
キルエーテルアセテート類；プロピレングリコールメチ
ルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチ
ルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロ
ピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブ
チルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコー
ルアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレン
などの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタ
ノンなどのケトン類；および酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン
酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メ
チル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチ
ル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒ
ドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プ
ロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチ
ル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキ
シプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸
ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、
メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢
酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチ
ル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エト
キシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢
酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブ
チル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブト
キシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシ
プロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチ
ル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシ
プロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチ
ル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプ
ロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチ
ル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプ
ロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピ
ル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプ
ロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、
３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロ
ピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３
−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオ
ン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−
プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピ
オン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、
３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロ
ピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３
−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピ
オン酸ブチルなどのエステル類が挙げられる。これらの
溶媒の使用量は、反応原料１００重量部当たり、好まし
くは２０〜１,０００重量部である。

【００２６】アルカリ可溶性樹脂（ａ）の製造に用いら
れる重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤
として知られているものが使用でき、例えば２,２’−
アゾビスイソブチロニトリル、２,２’−アゾビス−
（２,４−ジメチルバレロニトリル）、２,２’−アゾビ
ス−（４−メトキシ−２,４−ジメチルバレロニトリ
ル）などのアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウ
ロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレー
ト、１,１’−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロ
ヘキサンなどの有機過酸化物；および過酸化水素が挙げ
られる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場
合には、過酸化物を還元剤とともに用いてレドックス型
開始剤としてもよい。

【００２７】本発明で用いられる（ａ）アルカリ可溶性
樹脂の別の合成法としては、前述のフェノール性水酸基
またはカルボキシル基含有ラジカル重合性モノマーの、
フェノール性水酸基またはカルボキシル基をアルキル
基、アセチル基、フェナシル基等の保護基で保護したモ
ノマーに相当するモノマーの単独重合体または該相当す
るモノマーとその他のモノマーとの共重合体を得た後、
加水分解等の反応で脱保護することによりアルカリ可溶
性を付与する方法によっても合成できる。

【００２８】本発明で用いられる（ａ）アルカリ可溶性
樹脂としては、水素添加等の処理により透明性や軟化点
が修正されたものを使用してもよい。本発明において使
用される（ａ）アルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算
重量平均分子量は、好ましくは２,０００〜１００,００
０、より好ましくは３,０００〜５０,０００、特に好ま
しくは５,０００〜３０,０００である。この範囲でパタ
ーン形状、解像度、現像性および耐熱性と、現像性およ
び感度のバランスに優れた感放射線性樹脂組成物を与え
ることができる。

【００２９】これらアルカリ可溶性樹脂の市販品として
は、マルカリンカーＭ、同ＰＨＭ−Ｃ（以上、丸善石油
化学（株）製）、ＶＰ−１５００（日本曹達（株）製）
等のヒドロキシスチレン（共）重合体またはその部分水
素添加物等を挙げることができる。

【００３０】本発明の（ａ）アルカリ可溶性樹脂として
は、その他に、ノボラック樹脂等の縮合系樹脂を単独
で、または前記のアルカリ可溶性樹脂と混合して使用す
ることができる。ノボラック樹脂は、フェノール類とア
ルデヒド類とを酸触媒存在下で重縮合して得られる。こ
の際使用されるフェノール類としては、例えば、フェノ
ール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾー
ル、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、、
ｐ−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブ
チルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、２,３−キシ
レノール、２,４−キシレノール、２,５−キシレノー
ル、３,４−キシレノール、３,５−キシレノール、２,
３,５−トリメチルフェノール、３,４,５−トリメチル
フェノール、ｐ−フェニルフェノール、ヒドロキノン、
カテコール、レゾルシノール、２−メチルレゾルシノー
ル、ピロガロール、α−ナフトール、β−ナフトール、
ビスフェノールＡ、ジヒドロキシ安息香酸エステル、没
食子酸エステル、ｏ−ニトロフェノール、ｍ−ニトロフ
ェノール、ｐ−ニトロフェノール、ｏ−クロロフェノー
ル、ｍ−クロロフェノール、ｐ−クロロフェノール等を
挙げることができる。これらの化合物のうちｏ−クレゾ
ール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２,３−キシ
レノール、２,４−キシレノール、２,５−キシレノー
ル、２,３,５−トリメチルフェノール、レゾルシノー
ル、２−メチルレゾルシノール等が好ましい。これらの
フェノール類は、単独でまたは２種以上組み合わせて使
用することができる。

【００３１】また、上記フェノール類と重縮合するアル
デヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホ
ルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピルアルデヒド、フェニルアルデヒド、α−フ
ェニルプロピルアルデヒド、β−フェニルプロピルアル
デヒド、ｏ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｍ−ヒドロ
キシベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド、ｏ−クロロベンズアルデヒド、ｍ−クロロベンズア
ルデヒド、ｐ−クロロベンズアルデヒド、ｏ−ニトロベ
ンズアルデヒド、ｍ−ニトロベンズアルデヒド、ｐ−ニ
トロベンズアルデヒド、ｏ−メチルベンズアルデヒド、
ｍ−メチルベンズアルデヒド、ｐ−メチルベンズアルデ
ヒド、ｏ−エチルベンズアルデヒド、ｍ−エチルベンズ
アルデヒド、ｐ−エチルベンズアルデヒド、ｐ−ｎ−ブ
チルアルデヒド、フルフラール、１−ナフトアルデヒ
ド、２−ナフトアルデヒド、２−ヒドロキシ−１−ナフ
トアルデヒド等を挙げることができる。また、反応中に
アルデヒドを生成する化合物として、トリオキサン等も
前記アルデヒド類と同様に使用できる。これらのうち、
特にホルムアルデヒドを好適に用いることができる。こ
れらのアルデヒド類およびアルデヒドを生成する化合物
は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用することが
できる。アルデヒド類はフェノール類に対して、通常、
０.７〜３モル、好ましくは０.７〜２モルの割合で使用
される。酸触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸、蟻酸、酢
酸、シュウ酸等を使用することができる。その使用量
は、フェノール類１モル当たり１×１０^-4〜５×１０^-1
モルが好ましい。

【００３２】重縮合の反応には、通常、反応媒質として
水が用いられるが、重縮合の反応において使用するフェ
ノール類がアルデヒド類の水溶液に溶解せず、反応初期
から不均一系になる場合には、反応媒質として親水性有
機溶媒を使用することもできる。この際使用される溶媒
としては、例えばメタノール、エタノール、ブタノール
等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等
の環状エーテル類を挙げることができる。これらの反応
媒質の使用量は、反応原料１００重量部当たり、２０〜
１００重量部が好ましい。縮合の反応温度は、反応原料
の反応性に応じて適宜調節することができるが、通常、
１０〜２００℃である。重縮合の反応終了後、系内に存
在する未反応原料、酸触媒および反応媒質を除去するた
め、一般的には温度を１３０〜２３０℃に上昇させ、減
圧下に揮発分を留去し、ノボラック樹脂を回収する。

【００３３】また、ノボラック樹脂のポリスチレン換算
重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、好まし
くは、２,０００〜２０,０００の範囲であり、３,００
０〜１５,０００の範囲であることがより好ましい。Ｍ
ｗが２０,０００を超えると、組成物をウェハーに均一
に塗布することが困難となる場合があり、さらに現像性
および感度が低下する場合がある。

【００３４】（ｂ）１,２−キノンジアジド化合物 本発明で用いられる（ｂ）１,２−キノンジアジド化合
物としては、放射線の照射によりカルボン酸を生成する
機能を有する１,２−キノンジアジド化合物が好まし
く、このようなものとして、１,２−ベンゾキノンジア
ジドスルホン酸エステル、１,２−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸エステル、１,２−ベンゾキノンジアジド
スルホン酸アミド、１,２−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸アミド等を挙げることができる。これらの具体例
としては、２,３,４−トリヒドロキシベンゾフェノン−
１,２−ナフトキノンアジド−４−スルホン酸エステ
ル、２,３,４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１,２
−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、
２,４,６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２,４,
６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキ
ノンジアジド−５−スルホン酸エステル等のトリヒドロ
キシベンゾフェノンの１,２−ナフトキノンジアジドス
ルホン酸エステル類；

【００３５】２,２’,４,４’−テトラヒドロキシベン
ゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−４−スル
ホン酸エステル、２,２’,４,４’−テトラヒドロキシ
ベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸エステル、２,３,４,３’−テトラヒドロキ
シベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−４
−スルホン酸エステル、２,３,４,３’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸エステル、２,３,４,４’−テトラヒド
ロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド
−４−スルホン酸エステル、２,３,４,４’−テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸エステル、２,３,４,２’−テトラ
ヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２,３,
４,２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェ
ノン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸
エステル、２,３,４,４’−テトラヒドロキシ−３’−
メトキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジ
ド−４−スルホン酸エステル、２,３,４,４’−テトラ
ヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１,２−
ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル等のテ
トラヒドロキシベンゾフェノンの１,２−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸エステル；２,３,４,２’,６’−ペ
ンタヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸エステル、２,３,４,２’,
６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフ
トキノンジアジド−５−スルホン酸エステル等のペンタ
ヒドロキシベンゾフェノンの１,２−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸エステル；

【００３６】２,４,６,３’,４’,５’−ヘキサヒドロ
キシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−
４−スルホン酸エステル、２,４,６,３’,４’,５’−
ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノ
ンジアジド−５−スルホン酸エステル、３,４,５,３’,
４’,５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１,２−
ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、３,
４,５,３’,４’,５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノ
ン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エ
ステル等のヘキサヒドロキシベンゾフェノンの１,２−
ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；

【００３７】ビス（２,４−ジヒドロキシフェニル）メ
タン−１,２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸
エステル、ビス（２,４−ジヒドロキシフェニル）メタ
ン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エ
ステル、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１,
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１,２−ナフ
トキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、トリ（ｐ
−ヒドロキシフェニル）メタン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸エステル、トリ（ｐ−ヒドロ
キシフェニル）メタン−１,２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸エステル、１,１,１−トリ（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）エタン−１,２−ナフトキノンジアジ
ド−４−スルホン酸エステル、１,１,１−トリ（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）エタン−１,２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２,３,４−トリ
ヒドロキシフェニル）メタン−１,２−ナフトキノンジ
アジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２,３,４−ト
リヒドロキシフェニル）メタン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホン酸エステル、２,２−ビス（２,
３,４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２,２
−ビス（２,３,４−トリヒドロキシフェニル）プロパン
−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エス
テル、１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１,１,
３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−３−フェニルプロパン−１,２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸エステル、４,４’−〔１−
〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチル
エチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール−１,
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
４,４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニ
ル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビス
フェノール−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル、ビス（２,５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１,
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
ビス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−
２−ヒドロキシフェニルメタン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホン酸エステル、３,３,３’,３’
−テトラメチル−１,１’−スピロビインデン−５,６,
７,５’,６’,７’−ヘキサノール−１,２−ナフトキノ
ンジアジド−４−スルホン酸エステル、３,３,３’,
３’−テトラメチル−１,１’−スピロビインデン−５,
６,７,５’,６’,７’−ヘキサノール−１,２−ナフト
キノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２,２,４−
トリメチル−７,２’,４’−トリヒドロキシフラバン−
１,２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステ
ル、２,２,４−トリメチル−７,２’,４’−トリヒドロ
キシフラバン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸エステル等の（ポリヒドロキシフェニル）アル
カンの１,２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ルが挙げられる。

【００３８】これらの化合物のほかに、Ｊ. Ｋｏｓａ
ｒ 著“Ｌｉｇｈｔ−Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ Ｓｙｓｔｅ
ｍｓ”３３９〜３５２（１９６５）、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌ
ｅｙ＆ Ｓｏｎｓ 社（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）やＷ. Ｓ.
Ｄｅ Ｆｏｒｅｓ 著“Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ”５
０（１９７５） ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ, Ｉｎｃ.
（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）に記載されている１,２−キノン
ジアジド化合物を用いることができる。これらは、その
一部または全量を上記（ａ）アルカリ可溶性樹脂と反応
させて縮合体を形成した形態で用いてもよい。

【００３９】これらの１,２−キノンジアジド化合物の
うち、１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１,１,
３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−３−フェニルプロパン−１,２− ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸エステル、４,４’−［１−
［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチル
エチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール−１,
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
４,４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニ
ル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビス
フェノール−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル、２,２,４−トリメチル−７,２’,４’
−トリヒドロキシフラバン−１,２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸エステル、２,２,４−トリメチル
−７,２’,４’−トリヒドロキシフラバン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１,１,
１−トリ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−１,２
−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
１,１,１−トリ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−
１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステ
ルが、特にアルカリ可溶性樹脂の溶解禁止効果の観点か
ら本発明において好適に用いられる。１,２−キノンジ
アジド化合物は単独でまたは２種以上を混合して用いる
ことができる。

【００４０】１,２−キノンジアジド化合物の添加量は
（ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ま
しくは５〜１００重量部、より好ましくは１０〜５０重
量部である。この添加量が５重量部未満のときは、１,
２−キノンジアジド化合物が放射線を吸収して生成する
カルボン酸量が少なく、パターンニングが困難となり易
い。一方、１００重量部を越える場合は、短時間の放射
線照射では添加した１,２−キノンジアジド化合物のす
べてを分解することができ難く、アルカリ性水溶液から
なる現像液による現像が困難となる場合がある。本発明
の組成物においては、主として感度を向上させる目的で
１,２−キノンジアジド化合物に対する増感剤を配合す
ることができる。増感剤としては、例えば２Ｈ−ピリド
−（３,２−ｂ）−１,４−オキサジン−３（４Ｈ）−オ
ン類、１０Ｈ−ピリド−（３,２−ｂ）−（１,４）−ベ
ンゾチアジン類、ウラゾ−ル類、ヒダントイン類、バル
ビツ−ル酸類、グリシン無水物類、１−ヒドロキシベン
ゾトリアゾ−ル類、アロキサン類、マレイミド類等が挙
げられる。これらの増感剤の配合量は、１,２−キノン
ジアジド化合物１００重量部に対して、好ましくは１０
０重量部以下、より好ましくは４〜６０重量部である。

【００４１】（ｃ）エポキシ基を分子内に２個以上含有
する化合物 本発明で使用できるエポキシ基を分子内に２個以上含有
する化合物としては、例えばエピコート１００１、１０
０２、１００３、１００４、１００７、１００９、１０
１０、８２８（油化シェルエポキシ（株）製）等のビス
フェノールＡ型エポキシ樹脂市販品、エピコート８０７
（油化シェルエポキシ（株）製）等のビスフェノールＦ
型エポキシ樹脂市販品、エピコート１５２、１５４（油
化シェルエポキシ（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、２０２
（日本化薬（株）製）等のフェノールノボラック型エポ
キシ樹脂市販品、ＥＯＣＮ−１０２、１０３Ｓ、１０４
Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７（日本化薬（株）
製）、エピコート１８０Ｓ７５（油化シェルエポキシ
（株）製）等のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂市
販品、ＣＹ−１７５、１７７、１７９（ＣＩＢＡ−ＧＥ
ＩＧＹ Ａ.Ｇ.製）ＥＲＬ−４２３４、４２９９、４２
２１、４２０６（Ｕ.Ｃ.Ｃ.社製）、ショーダイン５０
９（昭和電工（株）製）、アルダライトＣＹ−１８２、
１９２、１８４（ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ Ａ.Ｇ.製）、
エピクロン２００、４００（大日本インキ（株）製）、
エピコート８７１、８７２（油化シェルエポキシ（株）
製）、ＥＤ−５６６１、５６６２（セラニーズコーティ
ング（株）製）等の環式脂肪族エポキシ樹脂市販品、エ
ポライト１００ＭＦ（共栄社化学（株）製）、エピオー
ルＴＭＰ（日本油脂（株）製）等の脂肪族ポリグリシジ
ルエーテル市販品を挙げることができる。

【００４２】これらの化合物のうち、ビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フ
ェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂、脂肪族ポリグリシジルエーテル類
が現像性および反射凹凸の形状コントロールの観点から
本発明においては好適に用いられる。また、上記したエ
ポキシ化合物の他、例えばビスフェノールＡ、ビスフェ
ノールＦのグリシジルエーテルの如き化合物も使用でき
る。

【００４３】これらエポキシ基を分子内に２個以上含有
する化合物の添加量は、（ａ）アルカリ可溶性樹脂１０
０重量部に対して、好ましくは１〜１００重量部、より
好ましくは５〜５０重量部である。エポキシ基を分子内
に２個以上含有する化合物をこのような範囲で含有する
組成物から形成された硬化物は、耐熱性や密着性に優れ
るものとなる。ここで、エポキシ基を分子内に２個以上
含有する化合物の添加量が１重量部より少ないと、
（ｂ）１,２−キノンジアジド化合物に放射線を照射す
ることによって生成したカルボン酸との反応が充分に進
行し難く、そのような組成物から形成された硬化膜は、
耐熱性、耐溶剤性に劣るものとなる場合がある。また１
００重量部を越えると組成全体の軟化点が低下し、光拡
散反射膜に用いるパターンを形成する際の加熱処理中に
形状が保持でき難いという問題が起こる。なお、前述の
（ａ）アルカリ可溶性樹脂において、共重合モノマーと
してエポキシ基含有不飽和モノマーを使用した場合は、
「エポキシ基を分子内に２個以上含有する化合物」とい
いうるが、アルカリ可溶性を有する点で（ｃ）成分とは
異なる。

【００４４】（ｄ）成分 本発明で用いられる（ｄ）成分は、下記一般式（１）

【００４５】

【化１０】

【００４６】（式中、Ｒ¹〜Ｒ⁶は同一でも異なっていて
もよく、それぞれ水素原子または基−ＣＨ₂ＯＲを示
し、Ｒは水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を示
す。）で表わされる化合物である。このような化合物と
しては、例えばヘキサメチロールメラミン、ヘキサブチ
ロールメラミン、部分メチロール化メラミン及びそのア
ルキル化体、テトラメチロールベンゾグアナミン、部分
メチロール化ベンゾグアナミン及びそのアルキル化体等
を挙げることができる。このような化合物の市販品とし
ては、例えば、サイメル３００、３０１、３０３、３７
０、３２５、３２７、７０１、２６６、２６７、２３
８、１１４１、２７２、２０２、１１５６、１１５８、
１１２３、１１７０、１１７４、ＵＦＲ６５、３００
（以上、三井サイアナミッド（株）製）、ニカラックＭ
ｘ−７５０、−０３２、−７０６、−７０８、−４０、
−３１、ニカラックＭｓ−１１、ニカラックＭｗ−３０
（以上、三和ケミカル社製）などを好ましく使用するこ
とができる。

【００４７】本発明で用いられる（ｄ）成分の添加量
は、（ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、
好ましくは１〜１００重量部、より好ましくは５〜５０
重量部である。この範囲の添加量において、良好な形状
の粗面を形成でき、アルカリに対する適当な溶解性を示
す組成物が得られることとなる。

【００４８】（ｅ）成分 本発明で用いられる（ｅ）成分は、下記一般式（２）

【００４９】

【化１１】

【００５０】（式中、Ｘはハロゲンを表わし、ＡはＣＸ
₃または下記一般式

【００５１】

【化１２】

【００５２】で表わされる基を示し、そしてＢ、Ｄおよ
びＥは、それぞれ独立に水素、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基またはチオアルキル
基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基またはチオアリ
ール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１
〜１０のアルキル基のついた二級アミノ基、カルボキシ
ル基、水酸基、炭素数１〜１０のケトアルキル基または
ケトアリール基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニ
ル基またはアルキルカルボニルオキシ基を示し、そして
ｍは１〜５の整数を示す。）で表わされる化合物であ
る。

【００５３】このような化合物としては、例えば２,４,
６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２
−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビ
ス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−
クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（２−クロロフェニル）−４，
６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（２−メトキシフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メ
チルチオフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（２−メチルチオフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メ
トキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシナフチル）−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−（２−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−
β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−（３−メトキシ−β−スチリル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（２−メトキシ−β−スチリル）−４，６−ビ
ス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３,
４,５−トリメトキシ−β−スチリル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メ
チルチオ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（３−メチルチオ−β
−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（２−メチルチオ−β−スチリル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン
等が挙げられる。

【００５４】これらのうち、２−（３−クロロフェニ
ル）−−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メ
チルチオフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−β−スチ
リル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジン、２−（４−メトキシナフチル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンが好ましく使用
できる。

【００５５】（ｅ）成分の添加量は、（ａ）アルカリ可
溶性樹脂１００重量部に対して、通常０.００１〜１０
重量部、好ましくは０.０１〜５重量部である。この範
囲の添加量で、良好な凸凹形状を有し、かつ耐熱性、耐
溶剤性とに優れた硬化膜を得ることができる。

【００５６】（ｆ）成分 本発明で用いられる（ｆ）成分は、下記一般式（３）

【００５７】

【化１３】

【００５８】（式中、Ａの定義は上記式（２）に同じで
あり、Ｚは硫黄原子またはよう素原子を示し、ＹはＢＦ
₄、ＰＦ₆、ＳｂＦ₆、ＡｓＦ₆、ｐ-トルエンスルホナー
ト、トリフルオロメタンスルホナートまたはトリフルオ
ロアセテートを示し、そしてｎは２または３を示す。）
で表わされる化合物である。

【００５９】このような化合物としては、例えば、ジフ
ェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、ジフェニ
ルヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ジフェニ
ルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ジフェニ
ルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ジフ
ェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニ
ルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−メト
キシフェニルフェニルヨードニウムテトラフルオロボレ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムヘキ
サフルオロホスホネート、４−メトキシフェニルフェニ
ルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、４−メト
キシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタン
スルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニ
ウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルフ
ェニルヨードニウム−ｐ− トルエンスルホナート、ビ
ス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラ
フルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニ
ル）ヨードニウムヘキサフルオロホスホネート、ビス
（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフ
ルオロアルセネート、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニ
ル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビ
ス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフ
ルオロアセテート、ビス（４−ｔｅｒ−ブチルフェニ
ル）ヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート等のジア
リールヨードニウム塩、

【００６０】トリフェニルスルホニウムテトラフルオロ
ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホ
スホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロ
アルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロ
メタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフ
ルオロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−ト
ルエンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニル
スルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフ
ェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネ
ート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘ
キサフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフ
ェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、
４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフル
オロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスル
ホニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチ
オフェニルジフェニルテトラフルオロボレート、４−フ
ェニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオロホスホネ
ート、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフル
オロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニ
ルトリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオ
フェニルジフェニルトリフルオロアセテート、４−フェ
ニルチオフェニルジフェニル−ｐ−トルエンスルホナー
ト等のトリアリールスルホニウム塩等が挙げられる。

【００６１】これらの化合物のうち、ジフェニルヨード
ニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウ
ムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェ
ニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリ
フルオロアセテート、トリフェニルスルホニウムトリフ
ルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウム
トリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルジフェ
ニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４
−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオ
ロアセテート、４−フェニルチオフェニルジフェニルト
リフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフェ
ニルジフェニルトリフルオロアセテート等が好適に用い
られる。

【００６２】（ｆ）成分の添加量は、（ａ）アルカリ可
溶性樹脂１００重量部に対して、通常０.００１〜１０
重量部、好ましくは０.０１〜５重量部である。この範
囲の添加量で、良好な凸凹形状を有し、かつ耐熱性、耐
溶剤性とに優れた硬化膜を得ることができる。

【００６３】本発明の光拡散反射膜形成用組成物は、下
記するいずれかの組合せに係る各成分を必須成分として
含有するものである。 （１）（ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）１，２−キノ
ンジアジド化合物、および（ｃ）エポキシ基を分子内に
２個以上有する化合物。 （２）（ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）１，２−キノ
ンジアジド化合物、（ｄ）上記一般式（１）で表わされ
る化合物、および（ｅ）上記一般式（２）で表わされる
化合物。 （３）（ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）１，２−キノ
ンジアジド化合物、（ｄ）上記一般式（１）で表わされ
る化合物、および（ｆ）上記一般式（３）で表わされる
化合物。 （４）（ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）１，２−キノ
ンジアジド化合物、（ｃ）エポキシ基を分子内に２個以
上有する化合物、（ｄ）上記一般式（１）で表わされる
化合物、および（ｅ）上記一般式（２）で表わされる化
合物。

【００６４】その他の添加剤 本発明の光拡散反射膜形成用組成物は、上記の組合せに
係る各成分を必須成分として含有するのみで十分な性能
を発揮することができるが、必要に応じてその他の添加
剤を含有しても良い。このような添加剤としては、例え
ば、増感剤、界面活性剤、接着助剤、保存安定剤、およ
び消泡剤等が挙げられる。

【００６５】増感剤 組成物が前記（ｅ）成分、または前記（ｆ）成分を含有
するものであるとき、適宜増感剤を併用することができ
る。このような増感剤としては、例えば、３−位及び／
または７−位に置換基を持つクマリン類、フラボン類、
ジベンザルアセトン類、ジベンザルシクロヘキサン類、
カルコン類、キサンテン類、チオキサンテン類ポルヒリ
ン類、アクリジン類等が挙げられる。 （使用量記載）

【００６６】界面活性剤 本発明の組成物には、塗布性、例えばストリエーション
や乾燥塗膜形成後の放射線照射部の現像性を改良するた
めに界面活性剤を配合することもできる。界面活性剤と
しては例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、
ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエ
チレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエ
ーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等
のポリオキシエチレンアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジ
ステアレート等の、ポリエチレングリコールジアルキル
エステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトップＥＦ
３０１、３０３、３５２（新秋田化成（株）製）、メガ
ファックＦ１７１、１７２、１７３（大日本インキ
（株）製）、フロラードＦＣ４３０、４３１（住友スリ
ーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロ
ンＳ−３８２、ＳＣ−１０１、１０２、１０３、１０
４、１０５、１０６（旭硝子（株）製）等の弗素系界面
活性剤、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越
化学工業（株）製）、アクリル酸系またはメタクリル酸
系（共）重合体ポリフローＮｏ.５７、９５（共栄社化
学（株）製）等が挙げられる。これらの界面活性剤の配
合量は、組成物の固形分あたり、通常２重量部以下、好
ましくは１重量部以下である。

【００６７】光拡散反射膜形成用組成物の調製 本発明の光拡散反射膜形成用組成物は、好ましくは適当
な溶剤に溶解され、溶液状態で使用される。この際に用
いられる溶剤としては、組成物の各成分を溶解し、各成
分と反応せず、適当な蒸気圧を有するものが好ましく使
用できる。このような溶剤としては、例えば、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；メチルセ
ロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等の
エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノエチルエーテル等のジエチレングリコール
アルキルエーテル類；プロピレングリコールメチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテル
アセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルア
セテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルア
セテート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプ
タノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、２−ヒ
ドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオ
ン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸
エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチ
ル、エトキシ酢酸エチル、オキシ酢酸エチル、２−ヒド
ロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メチル−３−
メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシ
ブチルプロピオネート、３−メチル−３−メトキシブチ
ルブチレート、酢酸エチル、酢酸ブチル、３−メトキシ
プロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチ
ル、３−メトキシプロピオン酸ブチル等のエステル類を
用いることができる。これらの溶剤は、単独でまたは混
合して用いることができる。

【００６８】さらに必要に応じて、ベンジルエチルエー
テル、ジヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、アセ
トニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル
酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアル
コール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエ
チル、マレイン酸ジエチル、γ− ブチロラクトン、炭
酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセ
テート、カルビトールアセテート等の高沸点溶剤を添加
することもできる。

【００６９】本発明の光拡散反射膜形成用組成物は、上
記のような溶剤を用いて、組成物の各成分を、固形分濃
度が例えば２０〜４０ｗｔ％となるように溶剤に溶解さ
せて調製することができる。必要に応じて、孔径 ０.２
μｍ程度のフィルターで濾過した後に用いても良い。

【００７０】光拡散反射膜の形成 次に、本発明の光拡散反射膜形成用組成物を用いて本発
明の光拡散反射膜を形成する方法について述べる。本発
明の光拡散反射膜形成用組成物は、下地基板表面に塗布
し、プレベークにより溶媒を除去することによって塗膜
とすることができる。塗布方法として、例えばスプレー
法、ロールコート法、回転塗布法などの各種の方法を採
用することができる。また、プレベークの条件は、各成
分の種類、配合割合などによっても異なるが、通常７０
〜９０℃で１〜１５分間程度の条件が最適である。次に
プレベークされた塗膜に所定パターンマスクを介して紫
外線などの放射線を照射し、さらに現像液により現像
し、不要な部分を除去して所定パターンを形成する。現
像方法は液盛り法、ディッピング法、シャワー法などの
いずれでも良く、現像時間は通常３０〜１８０秒間であ
る。

【００７１】上記現像液としては、アルカリ水溶液、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモ
ニアなどの無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピ
ルアミンなどの１級アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ
−プロピルアミンなどの２級アミン類；トリメチルアミ
ン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、ト
リエチルアミンなどの３級アミン類；ジメチルエタノー
ルアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノール
アミンなどの３級アミン類；ピロール、ピペリジン、Ｎ
−メチルピペリジン、Ｎ−メチルピロリジン、１，８−
ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，
５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネンなどの
環状３級アミン類；ピリジン、コリジン、ルチジン、キ
ノリンなどの芳香族３級アミン類；テトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロ
キシドなどの４級アンモニウム塩の水溶液を使用するこ
とができる。また上記アルカリ水溶液に、メタノール、
エタノールなどの水溶性有機溶媒および／または界面活
性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用するこ
ともできる。

【００７２】現像後、流水洗浄を３０〜９０秒間行い、
不要な部分を除去し、さらに圧縮空気や圧縮窒素で風乾
させることによって、パターンが形成される。形成され
たパターンに紫外線などの放射線を照射し、その後この
パターンを、ホットプレート、オーブンなどの加熱装置
により、所定温度、例えば１５０〜２５０℃で、所定時
間、例えばホットプレート上なら５〜３０分間、オーブ
ン中では３０〜９０分間加熱処理をすることにより、光
拡散反射膜用として適当な粗面を有するパターン状塗膜
を得ることができる。次いで、金属蒸着を施すことによ
り、本発明の光拡散反射膜とすることができる。このと
き蒸着に用いる金属としては特に限定されないが、可視
光領域において高い反射率を持つ金属が好ましく用いら
れる。この観点からアルミニウム、銀、およびこれらの
うちの少なくとも１種を含有する合金が好ましい。

【００７３】上記のように形成された光拡散反射膜は、
金属を蒸着する前のパターンを有する粗面を反映したも
のとなる。このとき、各単位パターンの形状は、好まし
くは底面が平面の凸レンズ状となる。単位パターンを上
面から観察した場合、好ましくは円形または略円形であ
り、その直径は１〜３０μｍとすることが好ましく、さ
らに好ましくは、５〜２０μｍである。また、各単位パ
ターンの断面形状は、図１（Ａ）の如き形状となること
が好ましく、そのときの高さは０．１〜５μｍであるこ
とが好ましく、さらに好ましくは０．２〜３μｍであ
る。

【００７４】液晶表示素子 次に本発明の液晶表示素子について説明する。本発明の
液晶表示素子は、上記の如くして形成された光拡散反射
膜を有する。液晶素子の構造としては適宜の構造が可能
であるが、例えば、図２に示した如く、基板１上に本発
明の光拡散反射膜２３とカラーフィルター層４を形成
し、配向膜７、液晶層８を介して対向する配向膜９、対
向する透明電極１０と対向基板１１を有する構造が挙げ
られる。この場合、図２のように下部基板側に透明電極
６を設けても良いし、光拡散反射膜２３を構成する金属
層３に電極の機能を持たせても良い。また、必要に応じ
て、偏光板１２や、カラーフィルター層４上に保護膜５
を形成しても良い。別の構造の例としては、図３に示し
た如く、基板１上に本発明の光拡散反射膜２３を形成
し、配向膜７、液晶層８を介して対向する配向膜９、対
向する透明電極１０、カラーフィルター層４、および対
向基板１１を有する構造が挙げられる。この場合、図３
の如くカラーフィルター層４の下方に対向透明電極１０
を有する構造であっても良いし、カラーフィルター層４
の上方に対向透明電極を有する構造であっても良い。ま
た、必要に応じて偏光板１２や、カラーフィルター層４
の下方に保護膜５を形成しても良い。図３の構造では、
光拡散反射膜２３を構成する金属層３が電極の機能を司
るが、下部基板側に別途電極を設けても良い。

【００７５】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に何ら制約されるもので
はない。なお、以下において、「％」は「重量％」を意
味する。

【００７６】合成例１（樹脂ａ−１の合成） 冷却管、攪拌機および温度計を装着したフラスコに、ｔ
−ブトキシスチレン１７６ｇ（０.１ｍｏｌ）およびア
ゾビスブチロニトリル５.８ｇ（０.０４ｍｏｌ）を入
れ、プロピレングリコールモノメチルエーテル２５０ｍ
ｌを加えて溶解させて、７５℃で４時間重合させた。得
られたポリｔ−ブトキシスチレン溶液に５重量％硫酸水
溶液５０ｇを混合して、１００℃で３時間加水分解反応
を行った。次いで、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート５００ｍｌを加えた後、脱イオン水１
０００ｍｌで３回洗浄した。その後、有機層を減圧にて
脱溶し、真空乾燥してＭｗ２４，０００のアルカリ可溶
性樹脂（ポリヒドロキシスチレン）を得た。このアルカ
リ可溶性樹脂を、樹脂ａ−１とする。

【００７７】合成例２（樹脂ａ−２の合成） 冷却管、攪拌機および温度計を装着したフラスコに、メ
タクレゾール５７ｇ（０.６ｍｏｌ）、パラクレゾール
３８ｇ（０.４ｍｏｌ）、３７重量％ホルムアルデヒド
水溶液７５.５ｇ（ホルムアルデヒド０.９３ｍｏｌ）、
シュウ酸二水和物０.６３ｇ（０.００５ｍｏｌ）、メチ
ルイソブチルケトン２６４ｇを仕込んだ後、フラスコを
油浴中に浸し、反応液を還流させながら、攪拌下４時間
重縮合を行った。次いで油浴の温度を３時間かけて昇温
し、その後に、フラスコ内の圧力を３０〜５０ｍｍＨｇ
まで減圧し、揮発分を除去し、溶融している樹脂を室温
まで冷却して回収した。この樹脂を酢酸エチルに樹脂成
分が３０％になるように溶解した後、この溶液重量の
１.３倍量のメタノールと、０.９倍量の水を加えて、攪
拌放置した。次いで２層に分離した下層を取り出し、濃
縮し、乾燥して、Ｍｗ８，０００のアルカリ可溶性樹脂
（ノボラック樹脂）を得た。このアルカリ可溶性樹脂
を、樹脂ａ−２とする。

【００７８】実施例１ （ａ）成分として樹脂Ａ−１ １００重量部、（ｂ）成
分として１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン（１モル）
と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロ
リド（１.９モル）との縮合物（１,１,３−トリス（２,
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニ
ルプロパン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル）を３０．０重量部、（ｃ）成分として
油化シェルエポキシ（株）製エピコート８２８を２０．
０重量部、界面活性剤としてメガファックＦ１７２（大
日本インキ（株）製）を０．０５重量部混合し、全体の
固形分濃度が３０％になるように３−メトキシプロピオ
ン酸メチルで希釈・溶解させた後、孔径０．２μｍのメ
ンブランフィルターで濾過し、光拡散反射膜形成用組成
物の溶液を調製した。

【００７９】（Ｉ）パターンを有する粗面の形成 ガラス基板上にスピンナーを用いて、上記組成物溶液を
塗布した後、９０℃で３分間ホットプレート上でプレベ
ークして膜厚２．０μmの塗膜を形成した。上記で得ら
れた塗膜に5μm角の残しパターンのマスクを介して、３
６５ｎｍでの強度が１０ｍＷ／ｃｍ²である紫外線を７
秒間照射した。次いでテトラメチルアンモニウムヒドロ
キシド２．３８重量％水溶液で２５℃、３０秒間現像し
た後、純水で１分間リンスした。さらに、３６５ｎｍで
の強度が１０ｍＷ／ｃｍ²である紫外線を３０秒間照射
した後、オーブン中、２２０℃で６０分間加熱しパター
ンを有する粗面を形成した。

【００８０】（II）解像度の評価 上記（Ｉ）で得られたパターンにおいて残しパターンが
解像できている場合を良好、解像できていない時を不良
とした。結果を表１に示す。

【００８１】（III）パターン断面形状の評価 パターンの断面形状を走査型電子顕微鏡にて観察した結
果、図１に示したＡ〜Ｃのどの形状に当たるかを図１に
示した。Ａに示した如く、底面が平面の凸レンズ状にパ
ターンが形成された場合にパターン形状は良好、Ｂある
いはＣのようにパターンエッジが垂直、あるいは順テー
パー状に形成された場合には、パターン形状は不良とい
える。また、このときのパターンの直径および高さを表
１に併記する。なお、パターンの直径および高さは走査
型電子顕微鏡により観察することにより評価した。

【００８２】（IV）耐熱性の評価 上記（Ｉ）で形成したパターンをオーブン中、２５０℃
で３０分加熱した。このときの膜厚の変化率を表１に示
した。この値の絶対値が加熱前後で５％以内のときに、
耐熱性良好といえる。

【００８３】（IV）耐溶剤性の評価 上記（Ｉ）で形成したパターンを７０℃に温度制御され
たジメチルスルホキシド中に２０分間浸漬させた後、浸
漬による膜厚変化を測定した。結果を表１に示す。この
値の絶対値が５％未満の場合、耐溶剤性は良好といえ
る。

【００８４】（Ｖ）光拡散反射性膜の形成 上記（Ｉ）と同様にして形成した粗面上に、真空蒸着装
置により、厚さ１，５００Åのアルミ膜を成膜した。
（このようにして形成した、ガラス基板上に光散乱性膜
を有し、さらにその上にアルミ膜を有する基板を、以
後、アルミ蒸着基板という。） ＪＩＳ Ｋ−５４００（１９００）８．５の付着性試験
のうち、８．５・２の碁盤目テープ法にしたがって、上
記で形成したアルミ蒸着基板に１００個の碁盤目をカッ
ターナイフで形成して密着性試験を行った。その際、残
った碁盤目の数を表１に示す。

【００８５】実施例２ （ａ）成分として樹脂Ａ−１ １００重量部、（ｂ）成
分として１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン（１モル）
と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロ
リド（１.９モル）との縮合物を（１,１,３−トリス
（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−
フェニルプロパン−１,２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸エステル）３０.０重量部、（ｄ）成分と
してとして三井サイアナミッド（株）製サイメル３００
を２０.０重量部、（ｅ）成分として２−（４−メトキ
シ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−Ｓ−トリアジンを０．２部、界面活性剤としてメ
ガファックＦ１７２（大日本インキ（株）製）を０．０
５重量部混合し、全体の固形分濃度が３０％になるよう
に３−メトキシプロピオン酸メチルで希釈・溶解させた
後、孔径０.２μｍのメンブランフィルターで濾過し、
本発明の組成物溶液を調製し、実施例１と同様に評価し
た。結果を表１に示した。

【００８６】実施例３ 実施例１において樹脂Ａ−１にかえて樹脂Ａ−２を使用
した他は実施例１と同様に組成物溶液を調製し評価し
た。結果を表１に示した。

【００８７】実施例４ 実施例２において樹脂Ａ−１にかえて樹脂Ａ−２を使用
した他は実施例２と同様に組成物溶液を調製し評価し
た。結果を表１に示した。

【００８８】実施例５ （ａ）成分として樹脂Ａ−１ １００重量部、（ｂ）成
分として１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン（１モル）
と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロ
リド（１.９モル）との縮合物（１,１,３−トリス（２,
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニ
ルプロパン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル）を３０.０重量部、（ｃ）成分として
油化シェルエポキシ（株）製エピコート８２８を１０重
量部、（ｄ）成分として三井サイアナミッド（株）製サ
イメル３００を２０.０重量部、（ｅ）成分として２−
（４−メトキシ−β−スチリル）−４，６−ビス（トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジンを０．２部、、さら
に、界面活性剤としてメガファックＦ１７２（大日本イ
ンキ（株）製）を０．０５重量部混合し、全体の固形分
濃度が３０％になるように３−メトキシプロピオン酸メ
チルで希釈・溶解させた後、孔径０.２μｍのメンブラ
ンフィルターで濾過し、光拡散反射膜形成用組成物溶液
を調製した。実施例１と同様に評価した。結果を表１に
示した。

【００８９】

【表１】

【００９０】実施例６ 光拡散特性の評価 実施例１で調製した光散乱膜形成用組成物を使用し、実
施例１に記した（Ｉ）パターンを有する粗面の形成工
程、および（Ｖ）光拡散反射性膜の形成工程にしたがっ
て、パターンの下部直径１０μｍ、高さ０．３μｍの底
面が平面の凸レンズ状パターンを最密充填配置となるよ
うにガラス基板上に形成した。この上に実施例１に記載
の（Ｖ）光拡散反射性膜の形成工程に従い、１，５００
Åのアルミニウム膜を成膜し、光拡散反射膜を得た。こ
こで得られた光拡散反射膜について、三次元変角光度計
（（株）村上色彩技術研究所製）を用い、３０゜入射時
の散乱特性を−１０゜から７０゜まで変角して測定し
た。結果を図２に示す。

【００９１】実施例７ 実施例２で調製した光散乱膜形成用組成物を使用し、実
施例１に記した（Ｉ）パターンを有する粗面の形成工
程、および（Ｖ）光拡散反射性膜の形成工程にしたがっ
て、パターン下部直径１０μｍ、高さ０．７μｍの底面
が平面の凸レンズ状パターンを最密充填配置となるよう
にガラス基板上に形成した。この上に実施例１に記載の
（Ｖ）光拡散反射性膜の形成工程に従い、１，５００Å
のアルミニウム膜を成膜し、光拡散反射膜を得た。得ら
れた光拡散反射膜について、三次元変角光度計（（株）
村上色彩技術研究所製）を用い、３０゜入射時の散乱特
性を−１０゜から７０゜まで変角して測定した。結果を
図３に示す。

【００９２】

【発明の効果】本発明によれば、光拡散反射膜に用いる
ための粗面を有し、基板との密着性、耐熱性、耐溶剤
性、凹凸形状のコントロール性に優れ、反射型または半
透過型の液晶表示素子の光拡散反射膜に用いるための膜
を容易に形成することのできる組成物が提供される。ま
た、上記の組成物から形成された膜を有する、光散乱機
能に優れる光拡散反射膜、およびその光拡散反射膜を有
する液晶表示素子が提供される。

【００９３】

【図面の簡単な説明】

【図１】パターン状塗膜の断面形状を示す模式図であ
る。

【図２】液晶表示素子の構造を示す模式図である。

【図３】液晶表示素子の構造を示す模式図である。

【図４】実施例６で得られた光拡散反射膜の光散乱特性
を示すグラフである。

【図５】実施例７で得られた光拡散反射膜の光散乱特性
を示すグラフである。

【符号の説明】

１ 基板 ２ パターン状塗膜 ３ 金属層 ２３ 光拡散反射膜 ４ カラーフィルター層 ５ 保護膜 ６ 透明電極 ７ 配向膜 ８ 液晶層 ９ 配向膜 １０ 透明電極 １１ 対向基板 １２ 偏光板 １３ ＴＦＴ素子

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 101/14 Ｃ０８Ｌ 101/14 Ｃ０９Ｄ 163/00 Ｃ０９Ｄ 163/00 Ｇ０２Ｂ 5/02 Ｇ０２Ｂ 5/02 Ｃ 5/08 5/08 Ａ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２０ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２０ Ｆターム(参考） 2H042 BA03 BA15 BA20 DA02 DA11 DA21 DC02 DC08 DE04 2H091 FA16Y FB02 LA12 LA18 4J002 BC12W CC03W CD01X CD05X CD06X EQ036 EU187 EU188 EW129 EY019 GP00 GQ00 4J038 CC091 CF011 CG031 CG061 CG071 CG081 CR071 DA031 DA032 DB002 DB022 DB062 DB072 DB262 GA03 GA06 JA13 JA14 JA15 JB36 JC01 NA01 NA04 NA12 NA14 NA19 PB08

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）１，
   ２−キノンジアジド化合物、および（ｃ）エポキシ基を
   分子内に２個以上有する化合物を含有することを特徴と
   する光拡散反射膜形成用組成物。
2. 【請求項２】 （ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）１，
   ２−キノンジアジド化合物、（ｄ）下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ¹〜Ｒ⁶は同一でも異なっていてもよく、それ
   ぞれ水素原子または基−ＣＨ₂ＯＲを示し、Ｒは水素原
   子または炭素数１〜６のアルキル基を示す。）で表わさ
   れる化合物、および（ｅ）下記一般式（２） 【化２】 （式中、Ｘはハロゲンを表わし、ＡはＣＸ₃または下記
   一般式 【化３】 で表わされる基を示し、そしてＢ、ＤおよびＥは、それ
   ぞれ独立に水素、炭素数１〜１０のアルキル基、アリー
   ル基、アルコキシ基またはチオアルキル基、炭素数６〜
   １２のアリールオキシ基またはチオアリール基、ハロゲ
   ン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１０のアルキ
   ル基のついた二級アミノ基、カルボキシル基、水酸基、
   炭素数１〜１０のケトアルキル基またはケトアリール
   基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニル基またはア
   ルキルカルボニルオキシ基を示し、そしてｍは１〜５の
   整数を示す。）で表わされる化合物を含有することを特
   徴とする光拡散反射膜形成用組成物。
3. 【請求項３】 （ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）１，
   ２−キノンジアジド化合物、（ｄ）下記一般式（１） 【化４】 （式中、Ｒ¹〜Ｒ⁶は同一でも異なっていてもよく、それ
   ぞれ水素原子または基−ＣＨ₂ＯＲを示し、Ｒは水素原
   子または炭素数１〜６のアルキル基を示す。）で表わさ
   れる化合物、および（ｆ）下記一般式（３） 【化５】 （式中、Ａの定義は上記式（２）に同じであり、Ｚは硫
   黄原子またはよう素原子を示し、ＹはＢＦ₄、ＰＦ₆、Ｓ
   ｂＦ₆、ＡｓＦ₆、ｐ-トルエンスルホナート、トリフル
   オロメタンスルホナートまたはトリフルオロアセテート
   を示し、そしてｎは２または３を示す。）で表わされる
   化合物を含有することを特徴とする光拡散反射膜形成用
   組成物。
4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれか一項に記載の光
   拡散反射膜形成用組成物から形成されたパターンを有す
   る光拡散反射膜。
5. 【請求項５】 光拡散反射膜形成用組成物から形成され
   た単位パターンの直径が１〜３０μｍである、請求項４
   に記載の光拡散反射膜。
6. 【請求項６】 請求項４または５に記載の光拡散反射膜
   を有する液晶表示素子。