JP2003303692A - インクジェット方式による有機ｅｌ表示素子の絶縁膜形成に用いる感放射線性樹脂組成物、それから形成された有機ｅｌ表示素子の絶縁膜、および有機ｅｌ表示素子 - Google Patents

インクジェット方式による有機ｅｌ表示素子の絶縁膜形成に用いる感放射線性樹脂組成物、それから形成された有機ｅｌ表示素子の絶縁膜、および有機ｅｌ表示素子

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JP2003303692A JP2002106725A JP2002106725A JP2003303692A JP 2003303692 A JP2003303692 A JP 2003303692A JP 2002106725 A JP2002106725 A JP 2002106725A JP 2002106725 A JP2002106725 A JP 2002106725A JP 2003303692 A JP2003303692 A JP 2003303692A
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Shinji Shiraki
真司 白木
Kazuaki Niwa
一明 丹羽
Hirobumi Sasaki
寛文 佐々木
Atsushi Baba
厚 馬場
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 放射線によるパターニングが可能
であると同時に低コストのインクジェット方式による有
機ＥＬ絶縁膜の製造に最適化された有機ＥＬ用表示素子
の絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物、それから形成さ
れた絶縁膜、および上記の絶縁膜を備えた有機ＥＬ表示
素子を提供すること。 【解決手段】 組成物は、（ａ）アルカリ可溶性
樹脂、（ｂ）１，２−キノンジアジド化合物、および
（ｃ）常圧における沸点が１８０℃以上の溶媒を含有す
る。絶縁膜はそれから形成され、有機ＥＬ表示素子は上
記絶縁膜を具備する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は有機ＥＬ絶縁膜をイ
ンクジェット方式により塗布するための材料として好適
な感放射線性樹脂組成物、ならびにその組成物を使用し
て形成された有機ＥＬ表示素子の絶縁膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】有機ＥＬ表示素子は、自己発光するため
視野角依存性がなく、固体素子であるため耐衝撃性に優
れ、低電圧駆動、低消費電力及び低温域の動作安定性が
高いなど、液晶表示素子と比較して種々の利点がある。
有機ＥＬ表示素子は、これらの利点を有するため、特に
携帯端末や車載等のモバイル用途への適用の期待は高
く、盛んに研究がなされている。このような有機ＥＬ表
示素子の製造は、一般的に次のような方法によってい
る。基板上に錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）などの
透明電極（ホール注入電極）およびホール輸送層のパタ
ーンを形成する。次いで、パッシブ型有機ＥＬ表示素子
にあっては絶縁膜のパターンおよび陰極隔壁のパターン
を形成した後、有機ＥＬ層、電子輸送層および陰極を蒸
着によりパターニングする。また、アクティブ型有機Ｅ
Ｌ表示素子にあっては、ＩＴＯパターン、有機ＥＬ層の
隔壁ともなる絶縁膜のパターンを形成した後、有機ＥＬ
層のパターンをマスキング法やインクジェット法等によ
り形成し、次いで電子輸送層および陰極（電子注入電
極）を形成する。ここで、有機ＥＬ層としてはＡｌ
ｑ3、ＢｅＢｑ3の如き基材母体にキナクリドンやクマリ
ンをドープした材料を用い、陰極材料としては、Ｍｇや
Ａｇの如き低仕事関数の金属を主体とした材料を用いる
のが一般的である。
【０００３】上記する有機ＥＬ絶縁膜の形成方法として
は、従来、基板表面上に、スプレー法、ロールコート
法、回転塗布法、バー塗布法などの方法で塗布した感放
射線性樹脂組成物を、プレベークにより溶媒を除去して
塗膜とした後、所定のパターンのマスクを介して、例え
ばｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等
の紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線、シン
クロトロン放射線等のＸ線、電子線等の荷粒子線、等の
ような放射線を照射する。その後、現像液を用いて現像
処理することにより所望のパターンを得、このパターン
を加熱処理することにより目的とする有機ＥＬ絶縁膜が
得られることが知られている。しかし、これらの塗布方
法では、絶縁膜形成に必要な感放射線性樹脂組成物量以
上に、安定的な塗布のために多量の樹脂組成物が必要で
ある。従って感放射線性樹脂組成物の無駄が多く、その
ためコストが高くなる等の問題があった。
【０００４】一方、特開昭５９−７５２０５号公報、特
開昭６１−２４５１０６号公報、特開昭６３−２３５９
０１号公報等には、インクジェットヘッドを用いてカラ
ーフィルタの着色層を形成する工程を備えた、インクジ
ェット方式のカラーフィルタの製造方法が開示されてお
り、この方法では、カラーフィルタ形成用樹脂組成物の
液滴を吐出する位置の制御が容易で、樹脂組成物の無駄
も少なくなるため、製造コストを低減できるという利点
がある。しかしながら、これらの公報では、有機ＥＬ表
示素子の絶縁膜用組成物について、インクジェット方式
に適した組成について十分な考察がなされていない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記事情を
勘案してなされたものであり、その課題は、放射線によ
るパターニングが可能であると同時に低コストのインク
ジェット方式による有機ＥＬ絶縁膜の製造に最適化され
た有機ＥＬ表示素子の絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成
物、およびその絶縁膜を提供することにある。また、本
発明の別の目的は、上記の絶縁膜を備えた有機ＥＬ表示
素子を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、インクジ
ェット方式による有機ＥＬ表示素子の絶縁膜の形成工程
を詳細に検討した結果、有機ＥＬ表示素子の各画素パタ
ーンを区切る絶縁膜は面積が微小であるため、使用され
るインクジェットヘッドの目詰まりを無くして、有機Ｅ
Ｌ表示素子用の絶縁膜形成用組成物の液滴を直進性良く
吐出する必要があり、そのためには、該組成物吐出時の
液滴の乾固速度を小さくするとともに、早すぎる溶媒の
蒸発による液滴の過度の粘度上昇も抑え、かつ固形分の
析出を防止する必要があるとの知見を得て、本発明に到
達した。本発明によれば、本発明の上記目的は、（ａ）
アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）１，２−キノンジアジド化
合物、および（ｃ）常圧における沸点が１８０℃以上の
溶媒を含有することを特徴とする、インクジェット方式
による有機ＥＬ表示素子の絶縁膜形成に用いる感放射線
性樹脂組成物によって達成される。本発明の別の目的
は、上記の感放射線性樹脂組成物から形成された有機Ｅ
Ｌ表示素子の絶縁膜によって達成される。本発明のさら
に別の目的は、上記の有機ＥＬ表示素子の絶縁膜を有す
る有機ＥＬ表示素子によって達成される。以下、本発明
におけるインクジェット方式による有機ＥＬ表示素子の
絶縁膜形成に用いる感放射線性樹脂組成物の各成分につ
いて説明する。
【０００７】（ａ）アルカリ可溶性樹脂 本発明に用いられる（ａ）アルカリ可溶性樹脂として
は、アルカリ水溶液に可溶である限り特に制限されるも
のではないが、フェノール性水酸基またはカルボキシル
基を含有することによってアルカリ可溶性が付与された
樹脂が好適に使用できる。このようなアルカリ可溶性樹
脂としては、例えばフェノール性水酸基またはカルボキ
シル基を有するラジカル重合性モノマーの単独重合体ま
たは該ラジカル重合性モノマーとそれ以外の他のラジカ
ル重合性モノマーとの共重合体を挙げることができる。
【０００８】フェノール性水酸基またはカルボキシル基
含有のラジカル重合性モノマーとしては、例えばｏ−ヒ
ドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒド
ロキシスチレンまたはこれらの芳香族環に直接結合する
水素原子の一部もしくは全部がアルキル、アルコキシ
ル、ハロゲン、ハロアルキル、ニトロ、シアノ、アミ
ド、エステルもしくはカルボキシル基で置換された置換
体；ビニルヒドロキノン、５−ビニルピロガロール、６
−ビニルピロガロール、１−ビニルフロログリシノール
の如きポリヒドロキシビニルフェノール類；ｏ−ビニル
安息香酸、ｍ−ビニル安息香酸、ｐ−ビニル安息香酸ま
たはこれらの芳香族環に直接結合する水素原子の一部も
しくは全部がアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニト
ロ、シアノ、アミドもしくはエステル基で置換された置
換体；メタクリル酸、アクリル酸またはこれらのα−位
がハロアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニトロもし
くはシアノ基で置換されたα−位置換体；マレイン酸、
無水マレイン酸、フマル酸、無水フマル酸、シトラコン
酸、メサコン酸、イタコン酸、１,４−シクロヘキセン
ジカルボン酸の如き不飽和ジカルボン酸またはこれらの
一方のカルボキシル基がメチル、エチル、プロピル、ｉ
−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒ−ブ
チル、フェニル、ｏ−トルイル、ｍ−トルイルもしくは
ｐ−トルイルエステル基となったハーフエステルまたは
一方のカルボキシル基がアミド基となったハーフアミド
を挙げることができる。
【０００９】これらのフェノール性水酸基またはカルボ
キシル基含有のラジカル重合性モノマーのうち、好まし
く使用されるものとして、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ
−ヒドロキシスチレン、アクリル酸、メタクリル酸、マ
レイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸を挙げることが
できる。これらは１種または２種以上を併用することが
できる。
【００１０】また、その他のラジカル重合性モノマーと
しては、例えばスチレン、またはスチレンのα−アルキ
ル、ｏ−アルキル、ｍ−アルキル、ｐ−アルキル置換
体、またはこれらの芳香族感に直接結合する水素原子の
一部もしくは全部がアルコキシル、ハロゲン、ハロアル
キル、ニトロ、シアノ、アミドもしくはエステルで置換
された置換体；ブタジエン、イソプレン、クロロプレン
の如きオレフィン類；メチル（メタ）アクリレート、エ
チル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アク
リレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブ
チル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）ア
クリレート、ｔｅｒ−ブチル（メタ）アクリレート、ペ
ンチル（メタ）アクリレート、ネオペンチル（メタ）ア
クリレート、イソアミルヘキシル（メタ）アクリレー
ト、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、アダマンチ
ル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレー
ト、プロパギル（メタ）アクリレート、フェニル（メ
タ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、ア
ントラセニル（メタ）アクリレート、アントラキノニル
（メタ）アクリレート、ピペロニル（メタ）アクリレー
ト、サリチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル
（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレー
ト、フェネチル（メタ）アクリレート、クレシル（メ
タ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、
１,１,１−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、
パーフルオロエチル（メタ）アクリレート、パーフルオ
ロ−ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロ
−ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、トリフェニルメ
チル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５.２.１.０
2,6］デカン−８−イル（メタ）アクリレート（当該技
術分野で慣用的に「ジシクロペンタニル（メタ）アクリ
レート」といわれている）、クミル（メタ）アクリレー
ト、３−（Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル（メタ）
アクリレート、３−（Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ）エチル
（メタ）アクリレート、フリル（メタ）アクリレート、
フルフリル（メタ）アクリレートの如き（メタ）アクリ
ル酸エステル；
【００１１】（メタ）アクリル酸アニリド、（メタ）ア
クリル酸アミド、または（メタ）アクリル酸Ｎ,Ｎ−ジ
メチルアミド、（メタ）アクリル酸Ｎ,Ｎ−ジエチルア
ミド、（メタ）アクリル酸Ｎ,Ｎ−ジプロピルアミド、
（メタ）アクリル酸Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルアミド、
（メタ）アクリル酸アントラニルアミド、（メタ）アク
リロニトリル、アクロレイン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、弗化ビニル、弗化ビニリデン、Ｎ−ビニルピロリ
ドン、ビニルピリジン、酢酸ビニル、Ｎ−フェニルマレ
イミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）マレイミド、
Ｎ−メタクリロイルフタルイミド、Ｎ−アクリロイルフ
タルイミド等を用いることができる。
【００１２】これらのうち、好ましいその他のラジカル
重合性モノマーとして、スチレン、ブタジエン、フェニ
ル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレ
ート、トリシクロ［５，２，１，０２，６］デカン−８
−イル（メタ）アクリレートを挙げることができる。こ
れらは１種または２種以上を併用することができる。
【００１３】これらのその他のラジカル重合性モノマー
の共重合割合は、アルカリ可溶性を付与せしめる基の種
類によって異なる。水酸基を有するラジカル重合性モノ
マーがフェノール性水酸基を有するラジカル重合性モノ
マーである場合、その他のラジカル重合性モノマーの共
重合割合は、フェノール性水酸基を有するラジカル重合
性モノマーとその他のラジカル重合性モノマーとの合計
量に対して、好ましくは０〜３０重量％、より好ましく
は５〜２０重量％である。また、カルボキシル基を有す
るラジカル重合性モノマーである場合、その他のラジカ
ル重合性モノマーの共重合割合は、カルボキシル基を有
するラジカル重合性モノマーとその他のラジカル重合性
モノマーとの合計量に対して、好ましくは０〜９０重量
％、より好ましくは１０〜８０重量％である。これらそ
の他のラジカル重合性モノマーの共重合割合が水酸基ま
たはカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマーに
対して前述した割合を越えるとアルカリ現像性が不十分
となる場合がある。
【００１４】以上のようなアルカリ可溶性樹脂のうち、
特に好ましく使用されるものとして、ポリｐ−ヒドロキ
シスチレン、ｏ−メチルｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−
ヒドロキシスチレン共重合体、スチレン／ｐ−ヒドロキ
シスチレン共重合体、スチレン／メタクリル酸／メタク
リル酸グリシジル共重合体、スチレン／メタクリル酸／
メタクリル酸グリシジル／トリシクロ［５，２，１，０
２，６］デカン−８−イル メタクリレート共重合体、
メタクリル酸／メタクリル酸グリシジル／トリシクロ
［５，２，１，０２，６］デカン−８−イル メタクリ
レート／１，３−ブタジエン共重合体、スチレン／メタ
クリル酸／メタクリル酸グリシジル／トリシクロ［５，
２，１，０２，６］デカン−８−イル メタクリレート
／シクロヘキシルマレイミド／１，３−ブタジエン共重
合体等を挙げることができる。
【００１５】アルカリ可溶性樹脂（ａ）の合成に用いら
れる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、ジ
アセトンアルコールなどのアルコール類；テトラヒドロ
フラン、テトラヒドロピラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエー
テル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテ
ルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメ
チルエーテルなどのジエチレングリコール類；プロピレ
ングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエ
チルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテ
ル、プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロピ
レングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレング
リコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
プロピルエーテルアセテートプロピレングリコールブチ
ルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアル
キルエーテルアセテート類；プロピレングリコールメチ
ルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチ
ルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロ
ピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブ
チルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコー
ルアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレン
などの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタ
ノンなどのケトン類；および酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン
酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メ
チル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチ
ル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒ
ドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プ
ロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチ
ル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキ
シプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸
ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、
メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢
酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチ
ル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エト
キシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢
酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブ
チル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブト
キシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシ
プロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチ
ル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシ
プロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチ
ル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプ
ロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチ
ル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプ
ロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピ
ル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプ
ロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、
３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロ
ピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３
−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオ
ン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−
プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピ
オン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、
３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロ
ピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３
−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピ
オン酸ブチルなどのエステル類が挙げられる。これらの
溶媒の使用量は、反応原料１００重量部当たり、好まし
くは２０〜１,０００重量部である。
【００１６】アルカリ可溶性樹脂（ａ）の製造に用いら
れる重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤
として知られているものが使用でき、例えば２,２’−
アゾビスイソブチロニトリル、２,２’−アゾビス−
（２,４−ジメチルバレロニトリル）、２,２’−アゾビ
ス−（４−メトキシ−２,４−ジメチルバレロニトリ
ル）などのアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウ
ロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレー
ト、１,１’−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロ
ヘキサンなどの有機過酸化物；および過酸化水素が挙げ
られる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場
合には、過酸化物を還元剤とともに用いてレドックス型
開始剤としてもよい。
【００１７】本発明で用いられる（ａ）アルカリ可溶性
樹脂の別の合成法としては、前述のフェノール性水酸基
またはカルボキシル基含有ラジカル重合性モノマーの、
フェノール性水酸基またはカルボキシル基をアルキル
基、アセチル基、フェナシル基等の適当な保護基で保護
したモノマーに相当するモノマーの単独重合体または該
相当するモノマーとその他のモノマーとの共重合体を得
た後、加水分解等の反応で脱保護することによりアルカ
リ可溶性を付与する方法によっても合成できる。
【００１８】このようなアルカリ可溶性樹脂のうち、特
に好ましく使用されるものとして、ポリｐ−ヒドロキシ
スチレン、ｏ−メチルｐ−ヒドロキシスチレン／ｐ−ヒ
ドロキシスチレン共重合体、スチレン／ｐ−ヒドロキシ
スチレン共重合体等を挙げることができる。
【００１９】本発明で用いられる（ａ）アルカリ可溶性
樹脂としては、水素添加等の処理により透明性や軟化点
が修正されたものを使用してもよい。本発明において使
用される（ａ）アルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算
重量平均分子量は、好ましくは２,０００〜１００,００
０、より好ましくは３,０００〜５０,０００、特に好ま
しくは５,０００〜３０,０００である。この範囲でパタ
ーン形状、解像度、現像性および耐熱性と、現像性およ
び感度のバランスに優れた感放射線性樹脂組成物を与え
ることができる。
【００２０】これらアルカリ可溶性樹脂の市販品として
は、マルカリンカーＭ、同ＰＨＭ−Ｃ（以上、丸善石油
化学（株）製）、ＶＰ−１５０００（日本曹達（株）
製）等のヒドロキシスチレン（共）重合体またはその部
分水素添加物等を挙げることができる。
【００２１】本発明の（ａ）アルカリ可溶性樹脂として
は、その他に、ノボラック樹脂等の縮合系樹脂を単独
で、または前記のアルカリ可溶性樹脂と混合して使用す
ることができる。ノボラック樹脂は、フェノール類とア
ルデヒド類とを酸触媒存在下で重縮合して得られる。こ
の際使用されるフェノール類としては、例えば、フェノ
ール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾー
ル、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ
−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチ
ルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、２,３−キシレ
ノール、２,４−キシレノール、２,５−キシレノール、
３,４−キシレノール、３,５−キシレノール、２,３,５
−トリメチルフェノール、３,４,５−トリメチルフェノ
ール、ｐ−フェニルフェノール、ヒドロキノン、カテコ
ール、レゾルシノール、２−メチルレゾルシノール、ピ
ロガロール、α−ナフトール、β−ナフトール、ビスフ
ェノールＡ、ジヒドロキシ安息香酸エステル、没食子酸
エステル、ｏ−ニトロフェノール、ｍ−ニトロフェノー
ル、ｐ−ニトロフェノール、ｏ−クロロフェノール、ｍ
−クロロフェノール、ｐ−クロロフェノール等を挙げる
ことができる。これらの化合物のうちｏ−クレゾール、
ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２,３−キシレノー
ル、２,４−キシレノール、２,５−キシレノール、２,
３,５−トリメチルフェノール、レゾルシノール、２−
メチルレゾルシノール等が好ましい。これらのフェノー
ル類は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用するこ
とができる。
【００２２】また、上記フェノール類と重縮合するアル
デヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホ
ルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピルアルデヒド、フェニルアルデヒド、α−フ
ェニルプロピルアルデヒド、β−フェニルプロピルアル
デヒド、ｏ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ｍ−ヒドロ
キシベンズアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド、ｏ−クロロベンズアルデヒド、ｍ−クロロベンズア
ルデヒド、ｐ−クロロベンズアルデヒド、ｏ−ニトロベ
ンズアルデヒド、ｍ−ニトロベンズアルデヒド、ｐ−ニ
トロベンズアルデヒド、ｏ−メチルベンズアルデヒド、
ｍ−メチルベンズアルデヒド、ｐ−メチルベンズアルデ
ヒド、ｏ−エチルベンズアルデヒド、ｍ−エチルベンズ
アルデヒド、ｐ−エチルベンズアルデヒド、ｐ−ｎ−ブ
チルアルデヒド、フルフラール、１−ナフトアルデヒ
ド、２−ナフトアルデヒド、２−ヒドロキシ−１−ナフ
トアルデヒド等を挙げることができる。また、反応中に
アルデヒドを生成する化合物として、トリオキサン等も
前記アルデヒド類と同様に使用できる。これらのうち、
特にホルムアルデヒドを好適に用いることができる。こ
れらのアルデヒド類およびアルデヒドを生成する化合物
は、単独でまたは２種以上組み合わせて使用することが
できる。アルデヒド類はフェノール類に対して、通常、
０.７〜３モル、好ましくは０.７〜２モルの割合で使用
される。酸触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸、蟻酸、酢
酸、シュウ酸等を使用することができる。その使用量
は、フェノール類１モル当たり１×１０-4〜５×１０-1
モルが好ましい。
【００２３】重縮合の反応には、通常、反応媒質として
水が用いられるが、重縮合の反応において使用するフェ
ノール類がアルデヒド類の水溶液に溶解せず、反応初期
から不均一系になる場合には、反応媒質として親水性有
機溶媒を使用することもできる。この際使用される溶媒
としては、例えばメタノール、エタノール、ブタノール
等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等
の環状エーテル類を挙げることができる。これらの反応
媒質の使用量は、反応原料１００重量部当たり、２０〜
４００重量部が好ましい。縮合の反応温度は、反応原料
の反応性に応じて適宜調節することができるが、通常、
１０〜２００℃である。重縮合の反応終了後、系内に存
在する未反応原料、酸触媒および反応媒質を除去するた
め、一般的には温度を１３０〜２３０℃に上昇させ、減
圧下に揮発分を留去し、ノボラック樹脂を回収する。
【００２４】このようなノボラック樹脂のうち、特に好
ましく使用されるものとして、ｍ−クレゾール／ホルム
アルデヒド重縮合体、ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール
／ホルムアルデヒド重縮合体、 ｍ−クレゾール／２，
３−キシレノール／ホルムアルデヒド重縮合体、 ｍ−
クレゾール／２，４−キシレノール／ホルムアルデヒド
重縮合体、 ｍ−クレゾール／２，５−キシレノール／
ホルムアルデヒド重縮合体、等を挙げることができる。
【００２５】また、ノボラック樹脂のポリスチレン換算
重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、好まし
くは、２,０００〜２０,０００の範囲であり、３,００
０〜１５,０００の範囲であることがより好ましい。Ｍ
ｗが２０,０００を超えると、組成物をウェハーに均一
に塗布することが困難となる場合があり、さらに現像性
および感度が低下する場合がある。
【００２６】（ｂ）１,２−キノンジアジド化合物 本発明で用いられる（ｂ）１,２−キノンジアジド化合
物としては、放射線の照射によりカルボン酸を生成する
機能を有する１,２−キノンジアジド化合物が好まし
く、このようなものとして、１,２−ベンゾキノンジア
ジドスルホン酸エステル、１,２−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸エステル、１,２−ベンゾキノンジアジド
スルホン酸アミド、１,２−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸アミド等を挙げることができる。これらの具体例
としては、２,３,４−トリヒドロキシベンゾフェノン−
１,２−ナフトキノンアジド−４−スルホン酸エステ
ル、２,３,４−トリヒドロキシベンゾフェノン−１,２
−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、
２,４,６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２,４,
６−トリヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキ
ノンジアジド−５−スルホン酸エステル等のトリヒドロ
キシベンゾフェノンの１,２−ナフトキノンジアジドス
ルホン酸エステル類；
【００２７】２,２’,４,４’−テトラヒドロキシベン
ゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−４−スル
ホン酸エステル、２,２’,４,４’−テトラヒドロキシ
ベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−
スルホン酸エステル、２,３,４,３’−テトラヒドロキ
シベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−４
−スルホン酸エステル、２,３,４,３’−テトラヒドロ
キシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−
５−スルホン酸エステル、２,３,４,４’−テトラヒド
ロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド
−４−スルホン酸エステル、２,３,４,４’−テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸エステル、２,３,４,２’−テトラ
ヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２,３,
４,２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェ
ノン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸
エステル、２,３,４,４’−テトラヒドロキシ−３’−
メトキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジ
ド−４−スルホン酸エステル、２,３,４,４’−テトラ
ヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン−１,２−
ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル等のテ
トラヒドロキシベンゾフェノンの１,２−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸エステル；２,３,４,２’,６’−ペ
ンタヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸エステル、２,３,４,２’,
６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフ
トキノンジアジド−５−スルホン酸エステル等のペンタ
ヒドロキシベンゾフェノンの１,２−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸エステル；
【００２８】２,４,６,３’,４’,５’−ヘキサヒドロ
キシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジアジド−
４−スルホン酸エステル、２,４,６,３’,４’,５’−
ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノ
ンジアジド−５−スルホン酸エステル、３,４,５,３’,
４’,５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−１,２−
ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、３,
４,５,３’,４’,５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノ
ン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エ
ステル等のヘキサヒドロキシベンゾフェノンの１,２−
ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル；
【００２９】ビス（２,４−ジヒドロキシフェニル）メ
タン−１,２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸
エステル、ビス（２,４−ジヒドロキシフェニル）メタ
ン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エ
ステル、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１,
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン−１,２−ナフ
トキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、トリ（ｐ
−ヒドロキシフェニル）メタン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸エステル、トリ（ｐ−ヒドロ
キシフェニル）メタン−１,２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸エステル、１,１,１−トリ（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）エタン−１,２−ナフトキノンジアジ
ド−４−スルホン酸エステル、１,１,１−トリ（ｐ−ヒ
ドロキシフェニル）エタン−１,２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸エステル、ビス（２,３,４−トリ
ヒドロキシフェニル）メタン−１,２−ナフトキノンジ
アジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２,３,４−ト
リヒドロキシフェニル）メタン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホン酸エステル、２,２−ビス（２,
３,４−トリヒドロキシフェニル）プロパン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２,２
−ビス（２,３,４−トリヒドロキシフェニル）プロパン
−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エス
テル、１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１,１,
３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−３−フェニルプロパン−１,２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸エステル、４,４’−〔１−
〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチル
エチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール−１,
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
４,４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニ
ル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビス
フェノール−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル、ビス（２,５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン−１,
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
ビス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−
２−ヒドロキシフェニルメタン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホン酸エステル、３,３,３’,３’
−テトラメチル−１,１’−スピロビインデン−５,６,
７,５’,６’,７’−ヘキサノール−１,２−ナフトキノ
ンジアジド−４−スルホン酸エステル、３,３,３’,
３’−テトラメチル−１,１’−スピロビインデン−５,
６,７,５’,６’,７’−ヘキサノール−１,２−ナフト
キノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２,２,４−
トリメチル−７,２’,４’−トリヒドロキシフラバン−
１,２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステ
ル、２,２,４−トリメチル−７,２’,４’−トリヒドロ
キシフラバン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−ス
ルホン酸エステル等の（ポリヒドロキシフェニル）アル
カンの１,２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ルが挙げられる。
【００３０】これらの化合物のほかに、Ｊ. Ｋｏｓａ
ｒ 著“Ｌｉｇｈｔ−Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ Ｓｙｓｔｅ
ｍｓ”３３９〜３５２（１９６５）、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌ
ｅｙ＆ Ｓｏｎｓ 社（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）やＷ. Ｓ.
Ｄｅ Ｆｏｒｅｓ 著“Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ”５
０（１９７５） ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ, Ｉｎｃ.
（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）に記載されている１,２−キノン
ジアジド化合物を用いることができる。これらは、その
一部または全量を上記（ａ）アルカリ可溶性樹脂と反応
させて縮合体を形成した形態で用いてもよい。
【００３１】これらの１,２−キノンジアジド化合物の
うち、１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）−３−フェニルプロパン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１,１,
３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−３−フェニルプロパン−１,２− ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸エステル、４,４’−［１−
［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチル
エチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール−１,
２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
４,４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニ
ル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビス
フェノール−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル、２,２,４−トリメチル−７,２’,４’
−トリヒドロキシフラバン−１,２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸エステル、２,２,４−トリメチル
−７,２’,４’−トリヒドロキシフラバン−１,２−ナ
フトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、１,１,
１−トリ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−１,２
−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
１,１,１−トリ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン−
１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステ
ルが、特に本発明において好適に用いられる。１,２−
キノンジアジド化合物は単独でまたは２種以上を混合し
て用いることができる。
【００３２】（ｂ）１,２−キノンジアジド化合物の添
加量は（ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対し
て、好ましくは５〜１００重量部、より好ましくは１０
〜５０重量部である。この添加量が５重量部未満のとき
は、パターンニングが困難になる場合があり、一方、１
００重量部を越える場合は、アルカリ性水溶液からなる
現像液による現像が困難となる場合がある。
【００３３】本発明の組成物においては、主として感度
を向上させる目的で１,２−キノンジアジド化合物に対
する増感剤を配合することができる。増感剤としては、
例えば２Ｈ−ピリド−（３,２−ｂ）−１,４−オキサジ
ン−３（４Ｈ）−オン類、１０Ｈ−ピリド−（３,２−
ｂ）−（１,４）−ベンゾチアジン類、ウラゾ−ル類、
ヒダントイン類、バルビツ−ル酸類、グリシン無水物
類、１−ヒドロキシベンゾトリアゾ−ル類、アロキサン
類、マレイミド類等が挙げられる。これらの増感剤の配
合量は、１,２−キノンジアジド化合物１００重量部に
対して、好ましくは１００重量部以下、より好ましくは
４〜６０重量部である。
【００３４】（Ｃ）常圧における沸点が１８０℃以上の
溶媒 本発明における溶媒は、常圧（１気圧）における沸点
（以下、単に「沸点」という。）が１８０℃以上の溶媒
（以下、「高沸点溶媒」という。）からなる。高沸点溶
媒の沸点は、好ましくは２００℃以上である。また、高
沸点溶媒の沸点の上限は、本発明におけるインクジェッ
ト用有機ＥＬ絶縁膜形成用樹脂組成物からインクジェッ
ト方式により有機ＥＬ絶縁膜を製造することができる限
り、特に制約されるものではないが、樹脂組成物の調製
工程および有機ＥＬ絶縁膜の製造工程における操作性の
観点からみると、沸点が２９０℃以下、好ましくは２８
０℃以下の、常温（２０℃）で比較的低粘度の液体であ
る高沸点溶媒が望ましい。したがって、本発明における
高沸点溶媒の好ましい沸点範囲は、具体的には、１８０
〜２９０℃であり、さらに好ましくは２００〜２８０℃
である。
【００３５】高沸点溶媒としては、例えば、式 R1-O(CH
2CH2O)2-R2（但し、R1およびR2は相互に独立に炭素数２
〜１０のアルキル基を示す。）で表されるジエチレング
リコールジアルキルエーテル系溶媒；式 R3-O(CH2CH2O)
3-R4（但し、R3およびR4は相互に独立に炭素数１〜１０
のアルキル基を示す。）で表されるトリエチレングリコ
ールジアルキルエーテル系溶媒；式 R5-O(CH2CH2O)i-R6
（但し、R5およびR6は相互に独立に炭素数１〜１０の
アルキル基を示し、ｉは２〜３０の整数である。）で表
されるポリエチレングリコールジアルキルエーテル系溶
媒；式 R7-OCH(CH3)CH2O-R8 （但し、R7およびR8は相互
に独立に炭素数２〜１０のアルキル基を示す。）で表さ
れるプロピレングリコールジアルキルエーテル系溶媒；
【００３６】エチレングリコールモノイソアミルエーテ
ル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレ
ングリコールモノフェニルエーテル、等のエチレングリ
コールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモ
ノブチルエーテルアセテート、等のエチレングリコール
モノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエ
ーテル等のジエチレングリコールモノアルキルエーテル
類；ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル
アセテート、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエ
ーテルアセテート等のジエチレングリコールモノアルキ
ルエーテルアセテート類；プロピレングリコールブチル
エーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキル
エーテルアセテート類；エチレングリコールモノフェニ
ルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチル
エーテル、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテ
ル等の他のエーテル類；
【００３７】１−オクタノール、１−ノナノール、ベン
ジルアルコール等のアルコール類；アセトニルアセト
ン、イソホロン等のケトン類；カプロン酸、カプリル酸
等のカルボン酸類；乳酸ブチル、安息香酸エチル、安息
香酸ｎ−ブチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチ
ル、マレイン酸ジ−ｎ−ブチル、グリセリントリアセテ
ート、フマル酸ジ−ｎ−ブチル、フタル酸ジメチル、フ
タル酸ジエチル、フタル酸ジ−ｎ−プロピル、フタル酸
ジ−ｉ−プロピル、フタル酸ジ−ｎ−ブチル、サリチル
酸ｉ−アミル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭
酸プロピレン等のエステル系溶媒等を挙げることができ
る。
【００３８】本発明における好ましい高沸点溶媒として
は、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピ
レングリコール、プロピレングリコールブチルエーテル
アセテート、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエー
テル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ペ
ンタエチレングリコールジメチルエーテル、ヘキサエチ
レングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコー
ルジ−ｎ−ブチルエーテル、乳酸ブチル等を挙げること
ができる。前記高沸点溶媒は、単独でまたは２種以上を
混合して使用することができる。
【００３９】高沸点溶媒の使用量は、（ａ）アルカリ可
溶性樹脂１００重量部に対して、通常、１０〜１０，０
００重量部、好ましくは５０〜５，０００重量部、さら
に好ましくは１００〜２，０００重量部である。
【００４０】本発明においては、高沸点溶媒を使用する
ことにより、下記するような効果を奏することができ
る。即ち、 インクジェット方式により画素パターンを形成する
際には、インクジェット用有機ＥＬ絶縁膜形成用感放射
線性樹脂組成物を吐出させ溶媒を除去した後、加熱し
て、格子状の有機ＥＬ表示素子の絶縁膜を形成するが、
このときの高沸点溶媒の蒸発速度が適度に制御され、吐
出された該樹脂組成物が溶媒除去時や加熱時に急激に変
化することがないため、有機ＥＬ表示素子の絶縁膜を形
成する際の作業マージンが向上する。 インクジェット方式により有機ＥＬ絶縁膜を形成す
る際には、溶媒の蒸発により有機ＥＬ絶縁膜形成用感放
射線性樹脂組成物が次第に粘稠になるが、溶媒の沸点が
低いと粘度変化が大きくなるため、有機ＥＬ絶縁膜の塗
布過程の初期と終期での、吐出された該樹脂組成物の変
化の度合いが大きくなり、有機ＥＬ絶縁膜の塗布に支障
をきたすのに対して、高沸点溶媒を採用することによ
り、この粘度変化を小さく抑えることができ、所望の有
機ＥＬ絶縁膜の塗布が容易となる。 有機ＥＬ絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物を吐出
させるインクジェットヘッドにおける組成物の乾固によ
る目詰まりを防止でき、またそのことにより該組成物を
吐出する際の飛行曲がりも防止でき、良好な直進性を確
保できるため、有機ＥＬ絶縁膜形成用感放射線性樹脂組
成物の利用効率および有機ＥＬ表示素子の絶縁膜製造装
置の洗浄効率が向上する。
【００４１】また、本発明においては、沸点が１８０℃
未満の溶媒（以下、「低沸点溶媒」という。）を高沸点
溶媒と併用することもできる。このような低沸点溶媒と
しては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコール
モノブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキ
ルエーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセ
ロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエ
ーテルアセテート類；エチレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエー
テルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエー
テルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエ
ーテルアセテート類；プロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチル
エーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアル
キルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル
類；
【００４２】プロピレングリコールメチルエーテル、プ
ロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコ
ールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエ
ーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル
類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールプロピルエーテルアセテート等のプロ
ピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；
【００４３】メタノール、エタノール等のアルコール
類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メチル
エチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４
−メチル−２−ペンタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプ
タノン、メチルイソアミルケトンなどのケトン類；およ
び酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、酢酸イソブチル、蟻酸ｎ−アミル、酢酸イソアミ
ル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−ヒドロ
キシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸
エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチ
ル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、
ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロ
キシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピ
ル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキ
シプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プ
ロピル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、
メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢
酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチ
ル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、プロ
ポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、ブトキシ酢
酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、２−メトキシプロピオ
ン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−エ
トキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸
エチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキ
シプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチ
ル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプ
ロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、
３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプ
ロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、
３−ブトキシプロピオン酸エチルなどのエステル類が挙
げられる。
【００４４】これらのうち、ジエチレングリコール類、
プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピ
レングリコールアルキルアセテート類、エステル類が好
ましく、特に、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロ
ピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコー
ルメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエ
チルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メ
チル、３−エトキシプロピオン酸エチル、乳酸メチル、
乳酸エチルが好ましい。
【００４５】これらの低沸点溶媒は、単独でまたは２種
以上を混合して使用することができる。低沸点溶媒の使
用割合は、高沸点溶媒と低沸点溶媒との合計に対して、
通常、５０重量％以下、好ましくは３０重量％以下であ
る。この場合、低沸点溶媒の使用割合が５０重量％を超
えると、高沸点溶媒を使用することによる所期の効果が
損なわれるおそれがある。
【００４６】本発明の有機ＥＬ絶縁膜形成用感放射線性
樹脂組成物において、（ｄ）エポキシ基を分子内に２個
以上含有する化合物、ならびに（ｅ）メラミン化合物の
うちから選ばれる少なくとも一つの化合物を使用するこ
とによって、該組成物から形成された絶縁膜は、特にパ
ッシブ型液晶表示素子の陰極形成時に使用されるレジス
ト剥離液に対する耐性が十分に高く、レジスト剥離液に
晒されても絶縁膜が剥離することがない。
【００４７】（ｄ）エポキシ基を分子内に２個以上含有
する化合物 本発明で使用できる（ｄ）エポキシ基を分子内に２個以
上含有する化合物としては、例えばエピコート１００
１、１００２、１００３、１００４、１００７、１００
９、１０１０、８２８（油化シェルエポキシ（株）製）
等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂市販品、エピコー
ト８０７（油化シェルエポキシ（株）製）等のビスフェ
ノールＦ型エポキシ樹脂市販品、エピコート１５２、１
５４（油化シェルエポキシ（株）製）、ＥＰＰＮ２０
１、２０２（日本化薬（株）製）等のフェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂市販品、ＥＯＣＮ−１０２、１０３
Ｓ、１０４Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７（日本化
薬（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（油化シェルエ
ポキシ（株）製）等のクレゾールノボラック型エポキシ
樹脂市販品、ＣＹ−１７５、１７７、１７９（ＣＩＢＡ
−ＧＥＩＧＹ Ａ.Ｇ.製）ＥＲＬ−４２３４、４２９
９、４２２１、４２０６（Ｕ.Ｃ.Ｃ.社製）、ショーダ
イン５０９（昭和電工（株）製）、アルダライトＣＹ−
１８２、１９２、１８４（ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ Ａ.
Ｇ.製）、エピクロン２００、４００（大日本インキ
（株）製）、エピコート８７１、８７２（油化シェルエ
ポキシ（株）製）、ＥＤ−５６６１、５６６２（セラニ
ーズコーティング（株）製）等の環式脂肪族エポキシ樹
脂市販品、エポライト１００ＭＦ（共栄社化学（株）
製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂（株）製）等の脂肪
族ポリグリシジルエーテル市販品を挙げることができ
る。
【００４８】これらの化合物のうち、ビスフェノールＡ
型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フ
ェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂、脂肪族ポリグリシジルエーテル類
が現像性および反射凹凸の形状コントロールの観点から
本発明においては好適に用いられる。また、上記したエ
ポキシ化合物の他、例えばビスフェノールＡ、ビスフェ
ノールＦのグリシジルエーテルの如き化合物も使用でき
る。
【００４９】本発明の組成物が、これら（ｄ）エポキシ
基を分子内に２個以上含有する化合物を含有するもので
ある場合、その添加量は（ａ）アルカリ可溶性樹脂１０
０重量部に対して、好ましくは１００重量部以下、より
に好ましくは１〜１００重量部、特に好ましくは５〜５
０重量部である。エポキシ基を分子内に２個以上含有す
る化合物をこのような範囲で含有する組成物から形成さ
れた硬化物は、耐熱性や密着性に優れるものとなる。こ
こで、エポキシ基を分子内に２個以上含有する化合物の
添加量が１重量部より少ないと、硬化反応が充分に進行
し難く、そのような組成物から形成された硬化膜は、耐
熱性、耐溶剤性に劣るものとなる場合がある。また１０
０重量部を越えると組成全体の軟化点が低下し、光拡散
反射膜に用いるパターンを形成する際の加熱処理中に形
状が保持でき難いという問題が起こる。なお、前述の
（ａ）アルカリ可溶性樹脂において、共重合モノマーと
してエポキシ基含有不飽和モノマーを使用した場合は、
「エポキシ基を分子内に２個以上含有する化合物」とい
いうるが、アルカリ可溶性を有する点で（ｄ）成分とは
異なる。
【００５０】（ｅ）メラミン化合物 本発明で用いられる（ｅ）メラミン化合物は、下記一般
式（１）
【００５１】
【化１】
【００５２】（式中、Ｒ9〜Ｒ14は同一でも異なってい
てもよく、それぞれ水素原子または基−ＣＨ2ＯＲを示
し、Ｒは水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を示
す。）で表わされる化合物である。このような化合物と
しては、例えばヘキサメチロールメラミン、ヘキサブチ
ロールメラミン、部分メチロール化メラミン及びそのア
ルキル化体等を挙げることができる。このような化合物
の市販品としては、例えば、サイメル３００、３０１、
３０３、３７０、３２５、３２７、７０１、２６６、２
６７、２３８、１１４１、２７２、２０２、１１５６、
１１５８（以上、三井サイアナミッド（株）製）、ニカ
ラックＭｘ−７５０、−０３２、−７０６、−７０８、
−４０、−３１、−４５、ニカラックＭｓ−１１、−０
０１、ニカラックＭｗ−３０、−２２（以上、三和ケミ
カル社製）などを好ましく使用することができる。
【００５３】本発明の組成物がこれら（ｅ）成分を含有
するものである場合、その添加量は、（ａ）アルカリ可
溶性樹脂１００重量部に対して、好ましくは１００重量
部以下、より好ましくは１〜１００重量部、特に好まし
くは５〜５０重量部である。この範囲の添加量におい
て、良好な形状の粗面を形成でき、アルカリに対する適
当な溶解性を示す組成物が得られることとなる。
【００５４】その他の添加剤 本発明の有機ＥＬ絶縁膜形成用樹脂組成物には、本発明
の目的を損なわない限りにおいて、その他の添加剤を使
用することができる。このようなその他の添加剤として
は、例えば、増感剤、界面活性剤、接着助剤、保存安定
剤、消泡剤等が挙げられる。
【００５５】上記増感剤は、本発明の有機ＥＬ絶縁膜形
成用樹脂組成物の放射線に対する感度を向上させる目的
で配合することができる。増感剤としては、例えば２Ｈ
−ピリド−（３,２−ｂ）−１,４−オキサジン−３（４
Ｈ）−オン類、１０Ｈ−ピリド−（３,２−ｂ）−（１,
４）− ベンゾチアジン類、ウラゾ−ル類、ヒダントイ
ン類、バルビツ−ル酸類、グリシン無水物類、１−ヒド
ロキシベンゾトリアゾ−ル類、アロキサン類、マレイミ
ド類等が挙げられる。これらの増感剤の配合量は、
（ｂ）１,２−キノンジアジド化合物１００重量部に対
して、好ましくは１００重量部以下、より好ましくは１
〜５０重量部である。
【００５６】上記界面活性剤は、塗布性、例えばストリ
エーションや乾燥塗膜形成後の放射線照射部の現像性を
改良するために配合することができる。界面活性剤とし
ては例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポ
リオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチ
レンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキル
エーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエー
テル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等の
ポリオキシエチレンアリールエーテル類、ポリエチレン
グリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジス
テアレート等の、ポリエチレングリコールジアルキルエ
ステル類等のノニオン系界面活性剤、エフトップＥＦ３
０１、３０３、３５２（新秋田化成（株）製）、メガフ
ァックＦ１７１、１７２、１７３（大日本インキ（株）
製）、フロラードＦＣ４３０、４３１（住友スリーエム
（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−
３８２、ＳＣ−１０１、１０２、１０３、１０４、１０
５、１０６（旭硝子（株）製）等のフッ素系界面活性
剤、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学
工業（株）製）、アクリル酸系またはメタクリル酸系
（共）重合体ポリフローＮｏ.５７、９５（共栄社化学
（株）製）等が挙げられる。このような界面活性剤の配
合量は、組成物の固形分あたり、通常２重量部以下、好
ましくは１重量部以下である。
【００５７】上記接着助剤は、本発明の有機ＥＬ絶縁膜
形成用感放射線性樹脂組成物から形成された絶縁膜と基
板との密着性を改良するために使用することができる。
このような接着助剤としては、官能性シランカップリン
グ剤が好ましく使用され、例えばカルボキシル基、メタ
クリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反
応性置換基を有するシランカップリング剤が挙げられ
る。具体的にはトリメトキシシリル安息香酸、γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソ
シアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、β−（３,４−エポ
キシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが
挙げられる。このような接着助剤の配合量は、組成物の
固形分１００重量部あたり、通常１５重量部以下、好ま
しくは１０重量部以下である。
【００５８】本発明の有機ＥＬ絶縁膜形成用感放射線性
樹脂組成物は、その使用目的により、適宜の固形分濃度
を採用できるが、例えば、固形分濃度１０〜４０重量％
とすることができる。また上記のように調製された組成
物溶液は、孔径０．２μｍ程度のミリポアフィルタなど
を用いて濾過した後、使用に供することもできる。
【００５９】有機ＥＬ表示素子の絶縁膜の形成方法 本発明の有機ＥＬ絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物を
用いて、例えば次のようにして有機ＥＬ表示素子の絶縁
膜を形成することができる。本発明の有機ＥＬ絶縁膜形
成用感放射線性樹脂組成物は、下地基板表面にインクジ
ェット装置により塗布し、プレベークにより溶媒を除去
することによって塗膜とすることができる。また、プレ
ベークの条件は、各成分の種類、配合割合などによって
も異なるが、通常６０〜１３０℃で０．５〜１５分間程
度の条件が最適である。プリベーク後の膜厚は有機ＥＬ
絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物の固形分濃度や塗布
条件により所望の値とすることができるが、０.２５〜
４μm程度とすることができる。
【００６０】次に、形成された塗膜に所定のパターンの
マスクを介して放射線を照射する。ここで用いられる放
射線としては、例えばｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線
（波長３６５ｎｍ）等の紫外線、ＫｒＦエキシマレーザ
ー等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のＸ線、電子
線等の荷電粒子線が挙げられる。これらのうち、ｇ線お
よびｉ線が好ましい。これら放射線の露光量は、通常５
０〜１０，０００Ｊ／ｍ２、好ましくは１００〜５，０
００Ｊ／ｍ２である。
【００６１】放射線を照射した後、現像液を用いて現像
処理して放射線の照射部分を除去することにより所望の
パターンを得ることができる。ここで用いられる現像液
としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウ
ム、アンモニア水等の無機アルカリ類；エチルアミン、
ｎ−プロピルアミン等の第一級アミン類；ジエチルアミ
ン、ジ−ｎ−プロピルアミン等の第二級アミン類；トリ
エチルアミン、メチルジエチルアミン等の第三級アミン
類；ジメチルエタノ−ルアミン、トリエタノ−ルアミン
等のアルコ−ルアミン類；テトラメチルアンモニウムヒ
ドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、
コリン等の第四級アンモニウム塩またはピロ−ル、ピペ
リジン、１,８−ジアザビシクロ−（５.４.０）−７−
ウンデセン、１,５−ジアザビシクロ−（４.３.０）−
５−ノナン等の環状アミン類を水に溶解したアルカリ水
溶液が好ましく使用される。また該現像液には、水溶性
有機溶媒、例えばメタノ−ル、エタノ−ル等のアルコ−
ル類や界面活性剤を適量添加して使用することもでき
る。さらに本発明の組成物を溶解する各種有機溶媒も現
像液として使用することができる。現像方法としては、
液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法等を利用するこ
とができる。現像処理後に、パターニングされた膜に対
し、例えば流水洗浄によるリンス処理を行ってもよい。
さらに、高圧水銀灯などによる放射線を全面に照射する
ことにより、当該膜中に残存する１，２−キノンジアジ
ド化合物の分解処理を行うこともできる。
【００６２】その後、この膜をホットプレート・オーブ
ン等の加熱装置を用いて加熱することにより硬化処理を
行う。この硬化処理における加熱温度は、例えば１５０
〜２８０℃とすることができ、加熱時間は、ホットプレ
ート上で焼成を行う場合には５〜３０分間、オーブン中
で焼成を行う場合には３０〜９０分間とすることができ
る。
【００６３】有機ＥＬ表示素子の製造 本発明の有機ＥＬ素子は、前記の如くして形成された絶
縁膜を備えている。本発明の有機ＥＬ素子は例えば下記
の如くして製造される。ガラス基板上にＩＴＯ等の透明
電極をスパッタリングで形成し、その上に前記の如くし
て絶縁膜パターンを形成する。次いで、例えば塩酸系エ
ッチャントでＩＴＯ膜をエッチングし、レジスト膜を剥
離して透明電極をパターン化例えばストライプ状にパタ
ーン化する。このパターン化された透明電極を持つ基盤
上に、上記の如くして本発明の絶縁膜のパターンを形成
する。次いで、電子輸送層、逆テーパー状のカソード隔
壁を形成し、正孔輸送層、有機ＥＬ発光層、カソード層
を順次形成する。正孔輸送層としては例えばＣｕＰｃ、
Ｈ2Ｐｃの如きフタロシアニン系材料、あるいは芳香族
アミンが用いられる。また、有機ＥＬ発光材料として
は、例えばＡｌｑ3、ＢｅＢｑ3の如き基材母体にキナク
リドンやクマリンをドープした材料の如きいわゆる低分
子有機ＥＬ材料や、ポリフェニレンビニレン系、フルオ
レン系の如き高分子有機ＥＬ材料が用いられる。さら
に、カソード材料としては、例えばＭｇ−Ａｌ、Ａｌ−
Ｌｉ、Ａｌ−Ｌｉ2Ｏ、Ａｌ−ＬｉＦなどが用いられ
る。次に、中空構造のＳＵＳ缶と上記基板をエポキシ樹
脂等の封止材で封止したのち、モジュールに組立て、有
機ＥＬ素子とすることができる。
【００６４】
【実施例】以下、本発明を下記実施例により詳細に説明
するが、本発明はこれら実施例に何ら制約されるもので
はない。なお、下記において測定した分子量は、東洋ソ
ーダ製ＧＰＣクロマトグラフＨＬＣ−８０２０でポリス
チレン換算重量平均分子量であり、「％」は「重量％」
を意味する。
【００６５】合成例１（樹脂ａ−１の合成） 冷却管、攪拌機および温度計を装着したフラスコに、ｔ
−ブトキシスチレン１７６ｇ（０.１ｍｏｌ）およびア
ゾビスブチロニトリル５.８ｇ（０.０４ｍｏｌ）を入
れ、プロピレングリコールモノメチルエーテル２５０ｍ
ｌを加えて溶解させて、７５℃で４時間重合させた。得
られたポリｔ−ブトキシスチレン溶液に５重量％硫酸水
溶液５０ｇを混合して、１００℃で３時間加水分解反応
を行った。次いで、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート５００ｍｌを加えた後、脱イオン水１
０００ｍｌで３回洗浄した。その後、有機層を減圧にて
脱溶し、真空乾燥してＭｗ２４，０００のアルカリ可溶
性樹脂（ポリヒドロキシスチレン）を得た。このアルカ
リ可溶性樹脂を、「樹脂ａ−１」とする。
【００６６】合成例２（樹脂ａ−２の合成） 冷却管、攪拌機および温度計を装着したフラスコに、メ
タクレゾール５７ｇ（０.６ｍｏｌ）、パラクレゾール
３８ｇ（０.４ｍｏｌ）、３７重量％ホルムアルデヒド
水溶液７５.５ｇ（ホルムアルデヒド０.９３ｍｏｌ）、
シュウ酸二水和物０.６３ｇ（０.００５ｍｏｌ）、メチ
ルイソブチルケトン２６４ｇを仕込んだ後、フラスコを
油浴中に浸し、反応液を還流させながら、攪拌下４時間
重縮合を行った。次いで油浴の温度を３時間かけて昇温
し、その後に、フラスコ内の圧力を３０〜５０ｍｍＨｇ
まで減圧し、揮発分を除去し、溶融している樹脂を室温
まで冷却して回収した。この樹脂を酢酸エチルに樹脂成
分が３０％になるように溶解した後、この溶液重量の
１.３倍量のメタノールと、０.９倍量の水を加えて、攪
拌放置した。次いで２層に分離した下層を取り出し、濃
縮し、乾燥して、Ｍｗ８，０００のアルカリ可溶性樹脂
（ノボラック樹脂）を得た。このアルカリ可溶性樹脂
を、「樹脂ａ−２」とする。
【００６７】合成例３（樹脂ａ−３の合成） 冷却管および攪拌機を備えたフラスコに、２,２’−ア
ゾビス（２,４−ジメチルバレロニトリル）８重量部お
よびジエチレングリコールエチルメチルエーテル２２０
重量部を仕込んだ。引き続きスチレン１０重量部、メタ
クリル酸２０重量部、メタクリル酸グリシジル４０重量
部、メタクリレート１５部およびシクロヘキシルマレイ
ミド１０重量部を仕込み窒素置換した後さらに１,３−
ブタジエン５重量部を仕込みゆるやかに撹拌を始めた。
溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持
し共重合体「ａ−３」を含む重合体溶液を得た。得られ
た重合体溶液の固形分濃度は３１．０％重量、Ｍｗ８，
２００であった。
【００６８】実施例１ （ａ）成分として樹脂ａ−１ １００重量部、（ｂ）成
分として１,１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン（１モル）
と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロ
リド（１.９モル）との縮合物（１,１,３−トリス（２,
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニ
ルプロパン−１,２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホン酸エステル）を３０．０重量部、（ｃ）成分として
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートを
４００重量部、および界面活性剤としてメガファックＦ
１７２（大日本インキ（株）製）を０．０１重量部混合
し、さらに全体の固形分濃度が２０％になるようにジエ
チレングリコールメチルエチルエーテルで希釈・溶解さ
せた後、孔径０．２μｍのメンブランフィルターで濾過
し、本発明の組成物溶液を調製した。
【００６９】絶縁膜の形成 インクジェット装置を用いて上記組成物を、ガラス基板
上に１．２μｍの膜厚になるように塗布した後、ホット
プレート上で８０℃、１．５分間プレベークして塗膜を
形成した。その後、３０μｍの絶縁膜パターンマスクを
介してキャノン（株）製アライナーＰＬＡ−５０１Ｆで
露光を行った後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシ
ド２．３８重量％水溶液にて２５℃、１分間現像した。
その後、水で流水洗浄し、乾燥してウェハー上にパター
ンを形成した。このパターンを更にオーブン中で２３０
℃にて６０分間加熱処理して、絶縁膜パターンを形成し
た。
【００７０】（１）感度の評価 上記のようにして３０μｍのパターンが形成できた最小
露光量を調べた。この値を表１に示す。この値が２００
ｍＪ／ｃｍ2以下のとき、感放射線性は良好といえる。
【００７１】（２）断面形状の評価 上記のようにして形成した絶縁膜パターンの断面形状
を、走査型電子顕微鏡（日立製作所（株）製、形式「Ｓ
−４２００」）で調べ、断面形状のテーパー角（パター
ンの断面形状の底辺と、エッジ部の接線とがなす角。以
下同じ。）を測定した。結果を表１に示す。この値が５
０゜以下のとき、パターンの断面形状は良好といえる。
【００７２】（３）現像残りの有無 ＩＴＯを蒸着したガラス基板上に上記と同様にして絶縁
膜パターンを形成後、以下の２つの方法により現像残り
の有無を調べた。 グリーンランプ（（株）フナテック社製）を用い、目
視で観察。 走査型電子顕微鏡（（株）日立製作所製、形式「Ｓ−
４２００」）を使用し、倍率４０，０００倍にて観察。 観察結果を表１に示す。
【００７３】（４）耐熱性の評価 上記のようにして絶縁膜を形成する際、オーブン中で２
３０℃にて６０分間加熱処理する前後の膜厚の変化率を
表１に示した。この値の絶対値が加熱前後で５％以内の
ときに、耐熱性良好といえる。
【００７４】（５）耐溶剤性の評価 上記のようにして形成した絶縁膜パターンを、７０℃に
温度制御されたジメチルスルホキシド中に２０分間浸漬
させ、浸漬による膜厚変化率を測定した。結果を表１に
示す。この値の絶対値が５％未満の場合、耐溶剤性は良
好といえる。
【００７５】（６）耐アルカリ性の評価 上記のようにして形成した絶縁膜パターンを、２５℃に
温度制御された１％ＮａＯＨ水溶液中に２０分間浸漬さ
せ、浸漬による膜厚変化率を測定した。結果を表１に示
す。この値の絶対値が５％未満の場合、耐アルカリ性は
良好といえる。
【００７６】（７）インクジェット塗布性の評価 インクジェット装置を用いて上記組成物を、ガラス基板
上に１．２μｍの膜厚になるように塗布した後、ホット
プレート上で８０℃、１．５分間プレベークして塗膜を
形成した。この塗膜の表面の凹凸を、接触式膜厚測定装
置α-ステップ（テンコールジャパン（株）製）を用い
て、測定長２，０００μｍ、測定範囲２，０００μｍ×
２，０００μｍ角、測定点数ｎ＝５で測定した。各測定
ごとの最高部と最低部の高低差の平均値（ｎｍ）を表１
に示す。この値が３００ｎｍ以下のとき、インクジェッ
ト塗布性は良好といえる。
【００７７】（８）乾固特性の評価 固定針型マイクロシリンジ（ハミルトンマイクロシリン
ジ、型番７０１、針内径０．１３ｍｍ）に上記組成物を
吸引し、針を下に向けてマイクロシリンジを垂直に保持
し、針先から上記組成物を１μｌ押し出した状態で２５
℃の室内にて２４時間放置した後の組成物の状態を観察
した。結果を表１に示す。表１において、針先にて組成
物が乾固していなければ○、乾固して針穴が詰まってい
れば×と記す。
【００７８】実施例２、３、４、５ 実施例１において、（ａ）成分、（ｂ）成分、および
（ｃ）成分の種類と添加量、ならびにその他の溶媒の種
類を表１の通りとした他は、実施例１と同様に組成物溶
液を調製し評価した。ただし実施例３のみ、現像液とし
て使用するテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶
液の濃度を０．４重量％とし、他の実施例は実施例１と
同様、２．３８重量％水溶液を使用した。結果は表１に
示す。なお、表１において、各成分の添加量は重量部で
あり、表中の「−」は、該当する成分を添加していない
ことを表す。また、（ｂ）成分、（ｃ）成分、ならびに
その他の溶媒の略称は、それぞれ以下のものを表す。
【００７９】ｂ−１：１,１,３−トリス（２,５−ジメ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパ
ン（１．０モル）と１,２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホン酸クロリド（１．９モル）との縮合物（１,
１,３−トリス（２,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）−３−フェニルプロパン−１,２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホン酸エステル） ｂ−２：４,４'−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシ
フェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデ
ン］ビスフェノール（１．０モル）と１,２−ナフトキ
ノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２．０モル）
との縮合物（４,４'−［１−［４−［１−［４−ヒドロ
キシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリ
デン］ビスフェノール−１,２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸エステル） ｂ−３：２，３，４−ヒドロキシベンゾフェノン（１．
０モル）と１,２−ナフトキノンジアジド−５−スルホ
ン酸クロリド（２．０モル）との縮合物（２，３，４−
ヒドロキシベンゾフェノン−１,２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸エステル） ｃ−１：ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセ
テート ｃ−２：ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート Ｓ−１：ジエチレングリコールジメチルエーテル Ｓ−２：ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
【００８０】実施例６、７、８、９ 実施例２において、さらに（ｄ）成分または（ｅ）成分
を表１に記載した種類と添加量の通り加えた他は、実施
例２と同様に組成物溶液を調製し評価した。結果は表１
に示す。なお、（ｄ）成分、（ｅ）成分の略称は、それ
ぞれ以下のものを表す。
【００８１】ｄ−１：油化シェルエポキシ（株）製「エ
ピコート１５２」 ｄ−２：油化シェルエポキシ（株）製「エピコート８２
８」 ｅ−１：三井サイアナミッド（株）製「サイメル３０
０」 ｅ−２：三井サイアナミッド（株）製「サイメル３０
３」
【００８２】比較例１、２ 実施例２において、（ｃ）成分を加えず、かわりにＳ−
１、Ｓ−２を溶剤とした他は、実施例２と同様に組成物
溶液を調製し評価した。結果は表１に示す。表１から明
らかなように、これら（ｃ）成分を加えない組成物を用
いた実験例では、インクジェット塗布性に劣ることが示
された。
【００８３】
【表１】
【００８４】
【発明の効果】本発明によれば、有機ＥＬ表示素子の絶
縁膜をインクジェット方式により塗布するために好適な
感放射線性樹脂組成物、その組成物から形成された絶縁
膜、およびその絶縁膜を具備する有機ＥＬ表示素子を得
ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 63/00 Ｃ０８Ｌ 101/00 101/00 Ｃ０９Ｄ 5/25 Ｃ０９Ｄ 5/25 7/12 7/12 163/00 163/00 201/00 201/00 Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ Ｈ０５Ｂ 33/10 Ｈ０５Ｂ 33/10 33/12 Ｂ 33/12 33/14 Ａ 33/14 Ｂ４１Ｊ 3/04 １０１Ｙ (72)発明者 馬場 厚 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Ｆターム(参考） 2C056 EA24 FB01 2H025 AA00 AA20 AB14 AB17 AC04 AC08 AD03 BE01 BJ10 CB28 CB42 CB45 CC03 CC06 CC20 FA17 3K007 AB18 DB03 FA01 4J002 BC121 BG011 BH021 CD012 CD052 CD062 EC067 ED027 EE027 EF057 EH037 EQ036 EU188 GQ01 4J038 CC021 CC091 CG041 CG061 CG081 CG141 DB001 DF022 DF042 EA011 GA05 GA06 JA19 JA26 JA27 JA34 JA37 JA56 JA57 JB15 JB39 JC14 KA06 NA19 NA21 PA06 PB08 PB09

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 （ａ）アルカリ可溶性樹脂、（ｂ）１，
    ２−キノンジアジド化合物、および（ｃ）常圧における
    沸点が１８０℃以上の溶媒を含有することを特徴とす
    る、インクジェット方式による有機ＥＬ表示素子の絶縁
    膜形成に用いる感放射線性樹脂組成物。
  2. 【請求項２】 さらに（ｄ）エポキシ基を分子内に２個
    以上有する化合物、および、ｅ）メラミン化合物のうち
    から選ばれる少なくとも一つの化合物を含有する、請求
    項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
  3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の感放射
    線性樹脂組成物から形成された有機ＥＬ表示素子の絶縁
    膜。
  4. 【請求項４】 請求項３に記載の絶縁膜を有する有機Ｅ
    Ｌ表示素子。
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