JP5003375B2 - 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 - Google Patents

感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5003375B2
JP5003375B2 JP2007243718A JP2007243718A JP5003375B2 JP 5003375 B2 JP5003375 B2 JP 5003375B2 JP 2007243718 A JP2007243718 A JP 2007243718A JP 2007243718 A JP2007243718 A JP 2007243718A JP 5003375 B2 JP5003375 B2 JP 5003375B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
propyloxysilane
resin composition
sensitive resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2007243718A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009075326A (ja
Inventor
大吾 一戸
政暁 花村
徹 梶田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp filed Critical JSR Corp
Priority to JP2007243718A priority Critical patent/JP5003375B2/ja
Publication of JP2009075326A publication Critical patent/JP2009075326A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5003375B2 publication Critical patent/JP5003375B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

本発明は、感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法に関する。
薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」と記す。）型液晶表示素子や磁気ヘッド素子、集積回路素子、固体撮像素子などの電子部品には、一般に層状に配置される配線の間を絶縁するために層間絶縁膜が設けられている。層間絶縁膜を形成する材料としては、必要とするパターン形状を得るための工程数が少なくしかも十分な平坦性を有するものが好ましいことから、感放射線性樹脂組成物が幅広く使用されている（特許文献１および特許文献２参照）。
上記電子部品のうち、例えばＴＦＴ型液晶表示素子は、上記の層間絶縁膜の上に、透明電極膜を形成し、さらにその上に液晶配向膜を形成する工程を経て製造されるため、層間絶縁膜は、透明電極膜の形成工程において高温条件に曝されたり、電極のパターン形成に使用されるレジストの剥離液に曝されることとなるため、これらに対する十分な耐性が必要となる。
また近年、ＴＦＴ型液晶表示素子においては、大画面化、高輝度化、高精細化、高速応答化、薄型化等の動向にあり、それに用いられる層間絶縁膜形成用組成物としては高感度であり、形成される層間絶縁膜には低誘電率、高透過率等において、従来にも増して高性能が要求されている。
高耐熱性・高透明性・低誘電率の材料としてシロキサンポリマーを層間絶縁膜に用いることも知られているが（特許文献３および特許文献４参照）、シロキサンを十分に架橋させるには２５０〜３００℃以上の高温焼成が必要であり、表示素子を生産する工程に適用することはできないという問題があった。
一方、ファクシミリ、電子複写機、固体撮像素子等のオンチップカラーフィルターの結像光学系あるいは光ファイバコネクタの光学系材料として３〜１００μｍ程度のレンズ径を有するマイクロレンズ、またはそれらのマイクロレンズを規則的に配列したマイクロレンズアレイが使用されている。
マイクロレンズまたはマイクロレンズアレイの形成には、レンズに相当するレジストパターンを形成した後、加熱処理することによってメルトフローさせ、そのままレンズとして利用する方法や、メルトフローさせたレンズパターンをマスクにしてドライエッチングにより下地にレンズ形状を転写させる方法等が知られている。前記レンズパターンの形成には、感放射線性樹脂組成物が幅広く使用されている（特許文献５および特許文献６参照）。
ところで、上記のようなマイクロレンズまたはマイクロレンズアレイが形成された素子はその後、配線形成部分であるボンディングパッド上の各種絶縁膜を除去するために、平坦化膜およびエッチング用レジスト膜を塗布し、所望のマスクを用いて露光、現像してボンディングパッド部分のエッチングレジストを除去し、次いで、エッチングにより平坦化膜や各種絶縁膜を除去してボンディングパッド部分を露出させる工程に供される。そのためマイクロレンズまたはマイクロレンズアレイには、平坦化膜およびエッチングレジストの塗膜形成工程ならびにエッチング工程において、耐溶剤性や耐熱性が必要となる。
このようなマイクロレンズを形成するために用いられる感放射線性樹脂組成物は、高感度であり、また、それから形成されるマイクロレンズが所望の曲率半径を有するものであり、高耐熱性、高透過率であること等が要求される。
ところで、層間絶縁膜やマイクロレンズは、通常、現像後に行われる２００℃以上の温度下、６０分以上の熱焼成工程（以下、「ポストベーク」という。）を経て最終的なパターンが形成されるが、近年、製造コストの削減やプラスチック基板等、耐熱性に限度のある基板に対応する観点から、熱焼成工程の低温化や短縮化が検討されており、従来より低温ないしは短時間の熱焼成工程でも従来と変わらない性能を有する感放射線性樹脂組成物が強く望まれている。
特開２００１−３５４８２２号公報 特開２００１−３４３７４３号公報 特開２００６−１７８４３６号公報 特開２００７−２７６５９８号公報 特開平６−１８７０２号公報 特開平６−１３６２３９号公報
本発明は以上のような事情に基づいてなされたものである。それ故、本発明の目的は、層間絶縁膜の形成に用いる場合にあっては、高い感放射線感度を有し、２００℃以下のポストベーク温度においても、密着性や各種耐性に優れた層間絶縁膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、マイクロレンズの形成に用いる場合にあっては、高い感放射線感度を有し、２００℃以下のポストベーク温度においても、良好なレンズ形状を有するマイクロレンズを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第１に、
［Ａ］オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基と、オキシラニル基またはオキセタニル基に付加反応しうる官能基とを有するポリシロキサン、
［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物、ならびに
〔Ｃ〕一般式（１）で表される化合物および一般式（４）で表される化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物によって達成される。
Figure 0005003375
[式（１）中、ＡはVIA族〜VIIA族（ＣＡＳ表記）の原子価ｍの元素を表し、ｍは１または２である。ｎは括弧内の構造の繰り返し単位数を表し、０〜３の整数である。ＲはＡに結合している有機基であり、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数４〜３０の複素環基、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数２〜３０のアルケニル基または炭素数２〜３０のアルキニル基を表し、更にＲはアルキル、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アリールチオカルボニル、アシロキシ、アリールチオ、アルキルチオ、アリール、複素環、アリールオキシ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノ、シアノ、ニトロの各基およびハロゲンからなる群より選ばれる少なくとも１種で置換されていてもよい。Ｒの個数はｍ＋ｎ（ｍ−１）＋１であり、Ｒはそれぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。また２個以上のＲが互いに直接または−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−、−ＮＲ’−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、炭素数１〜３のアルキレン基もしくはフェニレン基を介して結合し、元素Ａを含む環構造を形成してもよい。ここでＲ’は炭素数１〜５のアルキル基または炭素数６〜１０のアリール基である。Ｄは下記一般式（２）で表される構造であり、
Figure 0005003375
 式（２）中、Ｅは炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基または炭素数８〜２０の複素環化合物の２価の基を表し、更にＥは炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、炭素数６〜１０のアリール、ヒドロキシ、シアノ、ニトロの各基およびハロゲンからなる群より選ばれる少なくとも１種で置換されていてもよい。Ｇは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−、−ＮＲ’−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、炭素数１〜３のアルキレン基またはフェニレン基を表す。ａは０〜５の整数である。ａ＋１個のＥおよびａ個のＧはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ここでＲ’は前記のものと同じ。
Ｘ−はオニウムの対イオンである。その個数は１分子当りｎ＋１であり、そのうち少なくとも1個は一般式（３）で表されるフッ素化アルキルフルオロリン酸アニオンであって、
Figure 0005003375
残りは他のアニオンであってもよい。一般式（３）において、Ｒｆは水素原子の８０％以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。ｂはその個数を示し、１〜５の整数である。ｂ個のＲｆはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。］
Figure 0005003375
［式（４）中、ＭはVIB族〜VIII族（ＣＡＳ表記）から選ばれる１種の遷移金属元素であり、Ｌ１およびＬ２は遷移金属元素Ｍの配位子である。Ｌ１は炭素数６〜２４の芳香族化合物または炭素数４〜２０の複素環化合物、Ｌ２はインデン、フルオレンまたはシクロペンタジェンのアニオンであり、これらのＬ１、Ｌ２は更にアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、フェニル、ベンゾイル、シアノ、ニトロの各基およびハロゲンからなる群より選ばれる少なくとも１種で置換されていてもよい。ｃ、ｄはそれぞれＬ１、Ｌ２の個数を表し、いずれも０〜２の整数であり、合計個数（ｃ＋ｄ）は２である。２つの配位子がいずれもＬ１またはいずれもＬ２の場合、それぞれは互いに同一であっても異なっていてもよい。配位子Ｌ１、Ｌ２の電荷と遷移金属元素Ｍの電荷との合計電荷ｅは正であって、１または２である。Ｘ−は式（１）におけるＸ−と同義である。］
本発明の上記目的および利点は、第２に、
以下の工程を以下に記載の順で含むことを特徴とする層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成方法によって達成される。
（１）上記の感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（２）該塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）現像工程、および
（４）加熱工程。
さらに本発明の上記目的および利点は、第３に、
上記方法によって形成された層間絶縁膜またはマイクロレンズによって達成される。
本発明の感放射線性樹脂組成物は、高い感放射線感度を有し、２００℃以下のポストベーク温度においても、密着性や各種耐性に優れた層間絶縁膜を容易に形成することができる。また、２００℃以下のポストベーク温度においても、良好なレンズ形状を有するマイクロレンズを容易に形成することができる。
以下、本発明の感放射線性樹脂組成物について詳述する。
［Ａ］成分
本発明で用いられる［Ａ］成分は、オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基と、オキシラニル基またはオキセタニル基に付加反応しうる官能基とを有するポリシロキサンである。
上記オキシラニル基またはオキセタニル基に付加反応しうる官能基としては、例えば水酸基、メルカプト基、アミノ基などを挙げることができる。
本発明で用いられる［Ａ］成分としては、
（ａ１）オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基と加水分解性基とを有するシラン化合物（以下、「化合物（ａ１）」ともいう。）、
（ａ２）オキシラニル基またはオキセタニル基に付加反応しうる官能基と加水分解性基とを有するシラン化合物（以下、「化合物（ａ２）」ともいう。）、ならびに
（ａ３）（ａ１）、（ａ２）以外の加水分解性シラン化合物（以下、「化合物（ａ３）」ともいう。）
の加水分解縮合物（以下、ポリシロキサン［Ａ］という。）であることが好ましい。
本発明で好ましく用いられるポリシロキサン［Ａ］は、化合物（ａ１）から誘導される構成単位を、化合物（ａ１）、（ａ２）および（ａ３）から誘導される繰り返し単位の合計に基づいて、好ましくは５〜７０重量％、特に好ましくは１０〜６０重量％含有している。この構成単位が５重量％未満である共重合体を使用すると、２５０℃未満の焼成条件にて得られる層間絶縁膜やマイクロレンズの耐熱性、表面硬度および剥離液耐性が低下する傾向にあり、一方７０重量％を超える共重合体は保存安定性が悪化する傾向にある。
化合物（ａ１）は、好ましくは下記式（５）











（Ｘ１Ｙ１）ａＳｉＲ１ ｂＲ２ ｃ （５）

（式（５）中、Ｘ１はオキシラニル基、グリシジル基、グリシドキシ基、３，４−エポキシシクロヘキシル基または３−オキセタニル基であり、ただし３−オキセタニル基の３位炭素には炭素数１〜６のアルキル基が置換していてもよく、Ｙ１は単結合、メチレン基または炭素数２〜６のアルキレン基であり、Ｒ１は炭素数１〜６のアルコキシル基または炭素数２〜６のアシルオキシ基であり、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基であり、ａおよびｂはそれぞれ独立に１〜３の整数であり、ｃは０〜２の整数であり、ただしａ＋ｂ＋ｃ＝４である。）
で表されるシラン化合物である。
上記式（５）におけるＸ１の３−オキセタニル基の３位炭素に置換していてもよい炭素数１〜６のアルキル基としては、炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基などを挙げることができる。Ｙ１としてはメチレン基または炭素数２もしくは３のアルキレン基が好ましい。Ｙ１の炭素数２または３のアルキレン基として例えばエチレン基、トリメチレン基などを挙げることができる。Ｒ１としては炭素数１〜３のアルコキシル基または炭素数２〜４のアシルオキシ基が好ましく、例えばメトキシル基、エトキシル基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉ−プロピルオキシ基、アセチル基などを挙げることができる。Ｒ２としては炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜８のアリール基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、フェニル基などを挙げることができる。
かかる化合物（ａ１）の具体例としては、オキシラニル基を含有するシラン化合物として、例えばグリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、グリシドキシメチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、グリシドキシメチルトリアセトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、グリシドキシメチルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、グリシドキシメチルメチルジアセトキシシラン、グリシドキシメチルエチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルエチルジエトキシシラン、グリシドキシメチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、グリシドキシメチルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、グリシドキシメチルエチルジアセトキシシラン、グリシドキシメチルフェニルジメトキシシラン、グリシドキシメチルフェニルジエトキシシラン、グリシドキシメチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、グリシドキシメチルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、グリシドキシメチルフェニルジアセトキシシラン、２−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、２−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、２−グリシドキシエチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−グリシドキシエチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−グリシドキシエチルトリアセトキシシラン、２−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、２−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、２−グリシドキシエチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−グリシドキシエチルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−グリシドキシエチルメチルジアセトキシシラン、２−グリシドキシエチルエチルジメトキシシラン、２−グリシドキシエチルエチルジエトキシシラン、２−グリシドキシエチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−グリシドキシエチルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−グリシドキシエチルエチルジアセトキシシラン、２−グリシドキシエチルフェニルジメトキシシラン、２−グリシドキシエチルフェニルジエトキシシラン、２−グリシドキシエチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−グリシドキシエチルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−グリシドキシエチルフェニルジアセトキシシラン、
３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリアセトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジアセトキシシラン、３−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−グリシドキシプロピルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−グリシドキシプロピルエチルジアセトキシシラン、３−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−グリシドキシプロピルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−グリシドキシプロピルフェニルジアセトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリアセトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメチルジメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメチルジエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルメチルジアセトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルエチルジメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルエチルジエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルエチルジアセトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルフェニルジメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルフェニルジエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルフェニルジアセトキシシラン、
２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアセトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジアセトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルエチルジメトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルエチルジエトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルエチルジアセトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルフェニルジメトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルフェニルジエトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルフェニルジアセトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリアセトキシシラン、３−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルメチルジメトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルメチルジエトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルメチルジアセトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルエチルジメトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルエチルジエトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルエチルジアセトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルフェニルジメトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルフェニルジエトキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）プロピルフェニルジアセトキシシランなど；
オキセタニル基を含有するシラン化合物として、例えば（オキセタン−３−イル）メチルトリメトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルトリエトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルトリアセトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルメチルジメトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルメチルジエトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルメチルジアセトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルエチルジメトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルエチルジエトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルエチルジアセトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルフェニルジメトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルフェニルジエトキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、（オキセタン−３−イル）メチルフェニルジアセトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルトリメトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルトリエトキシシラン、（オキセタン−３−イル）エチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、
２−（オキセタン−３’−イル）エチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルトリアセトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルメチルジエトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルメチルジアセトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルエチルジメトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルエチルジエトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルエチルジアセトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルフェニルジメトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルフェニルジエトキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−（オキセタン−３’−イル）エチルフェニルジアセトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルトリメトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルトリエトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルトリアセトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルメチルジメトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルメチルジエトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルメチルジアセトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルエチルジメトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルエチルジエトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルエチルジアセトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジメトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジエトキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−（オキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジアセトキシシラン、
（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルトリメトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルトリエトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルトリアセトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジメトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジエトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジアセトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジメトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジエトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジアセトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジメトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジエトキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、（３−メチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジアセトキシシラン、
２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルトリメトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルトリエトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルトリアセトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジエトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジアセトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジメトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジエトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジアセトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジメトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジエトキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジアセトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリメトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリエトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリアセトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジメトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジエトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジアセトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジメトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジエトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジアセトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジメトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジエトキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−（３’−メチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジアセトキシシラン、（３’−エチルオキセタン−３’−イル）メチルトリメトキシシラン、
（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルトリエトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルトリアセトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジメトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジエトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルメチルジアセトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジメトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジエトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルエチルジアセトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジメトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジエトキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルフェニルジアセトキシシラン、
２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルトリメトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルトリエトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルトリアセトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジエトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルメチルジアセトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジメトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジエトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルエチルジアセトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジメトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジエトキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）エチルフェニルジアセトキシシラン、
３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリメトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリエトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリアセトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジメトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジエトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルメチルジアセトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジメトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジエトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルエチルジアセトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジメトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジエトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルフェニルジアセトキシシランなどを、それぞれ挙げることができる。
これらのうち、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリメトキシシランまたは３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリエトキシシランが感放射線性樹脂組成物の感度を高め、現像マージンを広くし、耐熱性を向上させる点から好ましく用いられる。これら化合物（ａ１）は、単独であるいは組み合わせて用いられる。
本発明で好ましく用いられるポリシロキサン［Ａ］は、化合物（ａ２）から誘導される構成単位を、化合物（ａ１）、（ａ２）および（ａ３）から誘導される繰り返し単位の合計に基づいて、好ましくは５〜７０重量％、特に好ましくは１０〜６０重量％含有している。この構成単位が５重量％未満である共重合体を使用すると、２５０℃未満の焼成条件にて得られる層間絶縁膜やマイクロレンズの耐熱性、表面硬度および剥離液耐性が低下する傾向にあり、一方７０重量％を超える共重合体は現像後の残膜率が低下したり、保存安定性が悪化する傾向にある。
化合物（ａ２）におけるオキシラニル基またはオキセタニル基に付加反応しうる官能基としては、例えば水酸基、メルカプト基、アミノ基などを挙げることができる。このアミノ基は、第１級アミノ基または第２級アミノ基であることが好ましい。加水分解性基としては、例えばアルコキシル基、アシルオキシ基、アルコキシアルコキシル基などを挙げることができる。このアルコキシル基の有する炭素数は１〜６、アシルオキシ基の有する炭素数は２〜６、アルコキシアルコキシル基の有する炭素数は２〜８であることが、それぞれ好ましい。
化合物（ａ２）は、好ましくは下記式（６）

（Ｘ２Ｙ２）ｄＳｉＲ３ ｅＲ４ ｆ （６）

（式（６）中、Ｘ２は水酸基、ヒドロキシフェニル基、ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ基、メルカプト基またはアミノ基であり、Ｙ２は単結合、メチレン基、炭素数２〜６のアルキレン基または下記式（６−１）

−Ｙ３−Ｚ−Ｙ４− （６−１）

（式（６−１）中、Ｙ３はメチレン基、炭素数２〜６のアルキレン基または炭素数６〜１２のアリーレン基であり、Ｙ４は単結合、メチレン基または炭素数２〜６のアルキレン基であり、Ｚは硫黄原子またはヒドロキシメチレン基であり、ただし式（６−１）の左側が基Ｘ２と結合する。）
で表される二価の基であり、Ｒ３は炭素数１〜６のアルコキシル基、炭素数２〜６のアシルオキシ基または炭素数２〜８のアルコキシアルコキシル基であり、Ｒ４は炭素数１〜６のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基であり、ｄおよびｅはそれぞれ独立に１〜３の整数であり、ｆは０〜２の整数であり、ただしｄ＋ｅ＋ｆ＝４である。）
で表されるシラン化合物である。
上記式（６）におけるＸ２のヒドロキシフェニル基としては４−ヒドロキシフェニル基が好ましく、ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ基としては、ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ基が好ましい。Ｘ２のアミノ基としては、第１級アミノ基または第２級アミノ基であることができ、例えば第１級アミノ基、Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ−２−（アミノエチル）アミノ基などを挙げることができる。Ｙ２としてはメチレン基または炭素数２もしくは３のアルキレン基が好ましい。Ｙ２の炭素数２または３のアルキレン基として例えばエチレン基、トリメチレン基などを挙げることができる。Ｒ３としては炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数２〜４のアシルオキシ基または炭素数２〜６のアルコキシアルコキシル基が好ましく、例えばメトキシル基、エトキシル基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉ−プロピルオキシ基、アセチル基、メトキシエトキシル基などを挙げることができる。Ｒ４としては炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜８のアリール基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、フェニル基などを挙げることができる。
化合物（ａ２）の具体例としては、水酸基を含有するシラン化合物として、例えばヒドロキシメチルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリエトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、ヒドロキシメチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、ヒドロキシメチルトリアセトキシシラン、ヒドロキシメチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、ヒドロキシメチルメチルジメトキシシラン、ヒドロキシメチルメチルジエトキシシラン、ヒドロキシメチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、ヒドロキシメチルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、ヒドロキシメチルメチルジアセトキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジメトキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジエトキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジアセトキシシラン、ヒドロキシメチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、ヒドロキシメチルフェニルジメトキシシラン、ヒドロキシメチルフェニルジエトキシシラン、ヒドロキシメチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、ヒドロキシメチルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、ヒドロキシメチルフェニルジアセトキシシラン、ヒドロキシメチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、２−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリアセトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、２−ヒドロキシエチルメチルジメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルメチルジエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−ヒドロキシエチルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−ヒドロキシエチルメチルジアセトキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジアセトキシシラン、２−ヒドロキシエチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジアセトキシシラン、２−ヒドロキシエチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、
３−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリアセトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリ（メトキシエトキシ）シラン、３−ヒドロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−ヒドロキシプロピルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−ヒドロキシプロピルメチルジアセトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジアセトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジアセトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、
４−ヒドロキシフェニルトリメトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルトリエトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、４−ヒドロキシフェニルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、４−ヒドロキシフェニルトリアセトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルトリ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシフェニルメチルジメトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルメチルジエトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、４−ヒドロキシフェニルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、４−ヒドロキシフェニルメチルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジメトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジエトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジメトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジエトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリメトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリエトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリアセトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルメチルジメトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルメチルジエトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、
４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルメチルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジメトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジエトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジメトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジエトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジアセトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、下記式（ａ２−１）

ＨＯ−Ｙ３−Ｓ−Ｙ４−Ｓｉ（ＯＲ）３ （ａ２−１）

（式（２ａ−１）中、Ｙ３およびＹ４は上記式（６−１）におけるのと同じ意味であり、Ｒはそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基または炭素数２〜６のアシル基である。）で表される化合物など；
メルカプト基を含有するシラン化合物として、例えばメルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、メルカプトメチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、メルカプトメチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、メルカプトメチルトリアセトキシシラン、メルカプトメチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、メルカプトメチルメチルジメトキシシラン、メルカプトメチルメチルジエトキシシラン、メルカプトメチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、メルカプトメチルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、メルカプトメチルメチルジアセトキシシラン、メルカプトメチルエチルジメトキシシラン、メルカプトメチルエチルジエトキシシラン、メルカプトメチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、メルカプトメチルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、メルカプトメチルエチルジアセトキシシラン、メルカプトメチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、メルカプトメチルフェニルジメトキシシラン、メルカプトメチルフェニルジエトキシシラン、メルカプトメチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、メルカプトメチルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、メルカプトメチルフェニルジアセトキシシラン、メルカプトメチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、２−メルカプトエチルトリメトキシシラン、２−メルカプトエチルトリエトキシシラン、２−メルカプトエチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−メルカプトエチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−メルカプトエチルトリアセトキシシラン、２−メルカプトエチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、２−メルカプトエチルメチルジメトキシシラン、２−メルカプトエチルメチルジエトキシシラン、２−メルカプトエチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−メルカプトエチルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−メルカプトエチルメチルジアセトキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジメトキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジエトキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジアセトキシシラン、２−メルカプトエチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、２−メルカプトエチルフェニルジメトキシシラン、２−メルカプトエチルフェニルジエトキシシラン、２−メルカプトエチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−メルカプトエチルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−メルカプトエチルフェニルジアセトキシシラン、２−メルカプトエチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、
３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−メルカプトプロピルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリ（メトキシエトキシ）シラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、３−メルカプトプロピルフェニルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルフェニルジエトキシシラン、３−メルカプトプロピルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−メルカプトプロピルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−メルカプトプロピルフェニルジアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルフェニルジ（メトキシエトキシ）シランなど；
アミノ基を含有するシラン化合物として、例えばアミノメチルトリメトキシシラン、アミノメチルトリエトキシシラン、アミノメチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、アミノメチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、アミノメチルトリアセトキシシラン、アミノメチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、アミノメチルメチルジメトキシシラン、アミノメチルメチルジエトキシシラン、アミノメチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、アミノメチルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、アミノメチルメチルジアセトキシシラン、アミノメチルエチルジメトキシシラン、アミノメチルエチルジエトキシシラン、アミノメチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、アミノメチルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、アミノメチルエチルジアセトキシシラン、アミノメチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、アミノメチルフェニルジメトキシシラン、アミノメチルフェニルジエトキシシラン、アミノメチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、アミノメチルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、アミノメチルフェニルジアセトキシシラン、アミノメチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、２−アミノエチルトリメトキシシラン、２−アミノエチルトリエトキシシラン、２−アミノエチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−アミノエチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−アミノエチルトリアセトキシシラン、２−アミノエチルトリ（メトキシエトキシ）シラン、２−アミノエチルメチルジメトキシシラン、２−アミノエチルメチルジエトキシシラン、２−アミノエチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−アミノエチルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−アミノエチルメチルジアセトキシシラン、２−アミノエチルエチルジメトキシシラン、２−アミノエチルエチルジエトキシシラン、２−アミノエチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−アミノエチルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−アミノエチルエチルジアセトキシシラン、２−アミノエチルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、２−アミノエチルフェニルジメトキシシラン、２−アミノエチルフェニルジエトキシシラン、２−アミノエチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−アミノエチルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−アミノエチルフェニルジアセトキシシラン、２−アミノエチルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−アミノプロピルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−アミノプロピルトリアセトキシシラン、３−アミノプロピルトリ（メトキシエトキシ）シラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−アミノプロピルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−アミノプロピルメチルジアセトキシシラン、３−アミノプロピルエチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルエチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−アミノプロピルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−アミノプロピルエチルジアセトキシシラン、３−アミノプロピルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、３−アミノプロピルフェニルジメトキシシラン、３−アミノプロピルフェニルジエトキシシラン、３−アミノプロピルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−アミノプロピルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−アミノプロピルフェニルジアセトキシシラン、３−アミノプロピルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、
Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリアセトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリ（メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジアセトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルエチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルエチルジエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルエチルジアセトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルフェニルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルフェニルジエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルフェニルジアセトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルフェニルジ（メトキシエトキシ）シラン、
Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリアセトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリ（メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルメチルジアセトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルエチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルエチルジエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルエチルジアセトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルフェニルジメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルフェニルジエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルフェニルジアセトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルフェニルジ（メトキシエトキシ）シランなどを、それぞれ挙げることができる。
これらのうち、ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルプロピル−１−（４’−ヒドロキシフェニル）プロピルチオエーテル、トリメトキシシリルプロピル−１−（２’−ヒドロキシフェニル）プロピルチオエーテル、トリメトキシシリルプロピル−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロピルチオエーテル、トリメトキシシリルプロピル−２−（２’−ヒドロキシフェニル）プロピルチオエーテル、トリメトキシシリルエチル−（４’−ヒドロキシフェニル）チオエーテル、トリメトキシシリルプロピル−（４’−ヒドロキシフェニル）チオエーテル、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシランまたはアミノメチルトリメトキシシランが、得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズの耐熱性、透明性、剥離液耐性の面から好適に用いることができる。
本発明で好ましく用いられるポリシロキサン［Ａ］は、化合物（ａ３）から誘導される構成単位を、化合物（ａ１）、（ａ２）および（ａ３）から誘導される繰り返し単位の合計に基づいて、好ましくは１０〜９０重量％、特に好ましくは２０〜８０重量％含有している。この構成単位が１０重量％未満の場合は感放射線性樹脂組成物の保存安定性が低下する傾向にあり、一方この構成単位の量が９０重量％を超える場合には、得られる層間絶縁膜やマイクロレンズの耐熱性、表面硬度および剥離液耐性が不足する場合がある。
化合物（ａ３）は、好ましくは下記式（７）

ＳｉＲ５ ｇＲ６ ｈ （７）

（式（７）中、Ｒ５は炭素数１〜６のアルコキシル基または炭素数６〜１８のアルールオキシ基であり、ただしアリールオキシ基の水素原子の一部または全部はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基または炭素数１〜６のアルキル基によって置換されていてもよく、Ｒ６は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数６〜１８のアリール基、または（メタ）アクリロキシ基であり、ただしアリール基の有する水素原子の一部または全部はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基または炭素数１〜６のアルキル基によって置換されていてもよく、（メタ）アクリロキシ基はメチレン基または炭素数２〜６のアルキレン基を介して結合していてもよく、ｇは１〜４の整数であり、ｈは０〜３の整数であり、ただしｇ＋ｈ＝４である。）
で表されるシラン化合物である。
上記式（７）におけるＲ５としては、炭素数１〜４のアルコキシル基または炭素数６〜１２のアルールオキシ基が好ましく、例えばメトキシル基、エトキシル基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉ−プロピルオキシ基、フェノキシ基、ナフチルオキシ基、４−クロロフェノキシ基、４−シアノフェノキシ基、４−ニトロフェノキシ基、４−トルイルオキシ基などを挙げることができる。Ｒ６としては、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数２〜４のアルケニル基、炭素数６〜１２のアリール基、または直接またはメチレン基もしくは炭素数２〜３のアルキレン基を介して結合した（メタ）アクリロキシ基であることが好ましく、その具体例として例えばメチル基、エチル基、フェニル基、４−クロロフェニル基、４−シアノフェニル基、４−ニトロフェニル基、４−トルイル基、ナフチル基、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリロキシメチル基、２−（メタ）アクリロキシエチル基、３−（メタ）アクリロキシプロピル基などを挙げることができる。
化合物（ａ３）の具体例としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロピルオキシシラン、テトライソプロピルオキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシランの如きテトラアルコキシシラン；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、エチルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシランの如きモノアルキルトリアルコキシシラン；
フェニルトリエトキシシラン、ナフチルトリエトキシシラン、４−クロロフェニルトリエトキシシラン、４−シアノフェニルトリエトキシシラン、４−ニトロフェニルトリエトキシシラン、４−メチルフェニルトリエトキシシランの如きモノアリールトリアルコキシシラン；
フェノキシトリエトキシシラン、ナフチルオキシトリエトキシシラン、４−クロロフェニルオキシトリエトキシシラン、４−シアノフェニルトリオキシエトキシシラン、４−ニトロフェニルオキシトリエトキシシラン、４−メチルフェニルオキシトリエトキシシランの如きモノアリールオキシトリアルコキシシラン；
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、メチル（エチル）ジエトキシシラン、メチル（シクロヘキシル）ジエトキシシランの如きジアルキルジアルコキシシラン；
メチル（フェニル）ジエトキシシランの如きモノアルキルモノアリールジアルコキシシラン；ジフェニルジエトキシシランの如きジアリールジアルコキシシラン；
ジフェノキシジエトキシシランの如きジアリールオキシジアルコキシシラン；
メチル（フェノキシ）ジエトキシシランの如きモノアルキルモノアリールオキシジアルコキシシラン；
フェニル（フェノキシ）ジエトキシシランの如きモノアリールモノアリールオキシジアルコキシシラン；
トリメチルエトキシシラン、トリメチル−ｎ−プロピルオキシシラン、ジメチル（エチル）エトキシシラン、ジメチル（シクロヘキシル）エトキシシランの如きトリアルキルモノアルコキシシラン；
ジメチル（フェニル）エトキシシランの如きジアルキルモノアリールモノアルコキシシラン；
メチル（ジフェニル）エトキシシランの如きモノアルキルジアリールモノアルコキシシラン；
トリフェノキシエトキシシランの如きトリアリールオキシモノアルコキシシラン；
メチル（ジフェノキシ）エトキシシランの如きモノアルキルジアリールオキシモノアルコキシシラン；フェニル（ジフェノキシ）エトキシシランの如きモノアリールジアリールオキシモノアルコキシシラン；
ジメチル（フェノキシ）エトキシシランの如きジアルキルモノアリールオキシモノアルコキシシラン；
ジフェニル（フェノキシ）エトキシシランの如きジアリールモノアリールオキシモノアルコキシシラン；
メチル（フェニル）（フェノキシ）エトキシシランの如きモノアルキルモノアリールモノアリールオキシモノアルコキシシラン；
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、ビニルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリ（メトキシエトキシ）シラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、ビニルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルエチルジメトキシシラン、ビニルエチルジエトキシシラン、ビニルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、ビニルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、ビニルエチルジアセトキシシラン、ビニルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、ビニルフェニルジメトキシシラン、ビニルフェニルジエトキシシラン、ビニルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、ビニルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、ビニルフェニルジアセトキシシラン、ビニルフェニルジ（メトキシエトキシ）シランの如きビニル基含有アルコキシシラン；
アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、アリルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、アリルトリアセトキシシラン、アリルトリ（メトキシエトキシ）シラン、アリルメチルジメトキシシラン、アリルメチルジエトキシシラン、アリルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、アリルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、アリルメチルジアセトキシシラン、アリルエチルジメトキシシラン、アリルエチルジエトキシシラン、アリルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、アリルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、アリルエチルジアセトキシシラン、アリルエチルジ（メトキシエトキシ）シラン、アリルフェニルジメトキシシラン、アリルフェニルジエトキシシラン、アリルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、アリルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、アリルフェニルジアセトキシシラン、アリルフェニルジ（メトキシエトキシ）シランの如きアリル基含有シラン；
（メタ）アクリロキシメチルトリメトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルトリエトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルトリアセトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルメチルジメトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルメチルジエトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルメチルジアセトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルエチルジメトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルエチルジエトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルエチルジアセトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルフェニルジメトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルフェニルジエトキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、（メタ）アクリロキシメチルフェニルジアセトキシシラン、
２−（メタ）アクリロキシエチルトリメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルトリアセトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシエチルメチルジメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルメチルジエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシエチルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジアセトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルエチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルエチルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルエチルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルエチルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルエチルジアセトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルフェニルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルフェニルジエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルフェニルジ−ｎ−プロピルオキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルフェニルジ−ｉ−プロピルオキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルフェニルジアセトキシシランの如き（メタ）アクリル基含有シランなどを挙げることができる。
これらの化合物（ａ３）うち、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシランまたは３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシランが、反応性および得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズの耐熱性、透明性、剥離液耐性の面から好適に用いることができる。
本発明で好ましく用いられるポリシロキサン［Ａ］の具体例としては、例えば３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン／２−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン／ジメチルジメトキシシラン共縮合物、２−（３’，４’−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン／３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン／フェニルトリメトキシシラン共縮合物または３−（３’−エチルオキセタン−３’−イル）プロピルトリメトキシシラン／トリメトキシシリルプロピル−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロピルチオエーテル／メチルトリメトキシシラン共縮合物を挙げることができる。
本発明で好ましく用いられるポリシロキサン［Ａ］は、上記の如き化合物（ａ１）、（ａ２）および（ａ３）を、好ましくは溶媒中、好ましくは触媒の存在下において加水分解および縮合することにより、合成することができる。
ポリシロキサン［Ａ］の合成に使用することのできる溶媒としては、例えばアルコール、エーテル、グリコールエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート、芳香族炭化水素、ケトン、エステルなどを挙げることができる。
これらの具体例としては、アルコールとして、例えばメタノール、エタノール、ベンジルアルコール、２−フェニルエチルアルコール、３−フェニル−１−プロパノールなど；エーテルとしてテトラヒドロフランなど；
グリコールエーテルとして、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなど；
エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとして、例えばメチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなど；
ジエチレングリコールとして、例えばジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテルなど；
ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとして、例えばジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなど；
プロピレングリコールモノアルキルエーテルとして、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなど；
プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートとして、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノブチルエーテルプロピオネートなど；
プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートとして、例えばプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテートなど；
芳香族炭化水素として、例えばトルエン、キシレンなど；
ケトンとして、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなど；
エステルとして、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどを、それぞれ挙げることができる。
これらの溶媒のうち、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、プロピレングリコールモノアルキルエーテルまたはプロピレングリコールアルキルエーテルアセテートが好ましく、特にジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートまたは３−メトキシプロピオン酸メチルが好ましい。溶媒の使用量としては、反応溶液中における化合物（ａ１）、（ａ２）および（ａ３）の合計量が１０〜５０重量％となる量とすることが好ましく、１５〜４０重量％となる量とすることがより好ましい。
ポリシロキサン［Ａ］を合成するための加水分解および縮合反応は、好ましくは酸触媒（例えば塩酸、硫酸、硝酸、蟻酸、シュウ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、酸性イオン交換樹脂、各種ルイス酸など）または塩基触媒（例えばアンモニア、１級アミン類、２級アミン類、３級アミン類、ピリジンなどの含窒素芳香族化合物；塩基性イオン交換樹脂；水酸化ナトリウムなどの水酸化物；炭酸カリウムなどの炭酸塩；酢酸ナトリウムなどのカルボン酸塩；各種ルイス塩基など）の存在下で行われる。触媒の使用量としては、化合物（ａ１）、（ａ２）および（ａ３）の合計１モルに対して好ましくは０．２モル以下であり、より好ましくは０．００００１〜０．１モルである。
水の使用量、反応温度および反応時間は適宜に設定される。例えば下記の条件が採用できる。
水の使用量は化合物（ａ１）中の基Ｒ１、化合物（ａ２）中の基Ｒ３および化合物（ａ３）中の基Ｒ５の合計量１モルに対して、好ましくは０．１〜３モル、より好ましくは０．３〜２モル、さらに好ましくは０．５〜１．５モルの量である。
反応温度は、好ましくは４０〜２００℃、より好ましくは５０〜１５０℃である。
反応時間は、好ましくは３０分〜２４時間、より好ましくは１〜１２時間である。
化合物（ａ１）、（ａ２）および（ａ３）ならびに水を一度に添加して加水分解および縮合反応を一段階で行ってもよく、あるいは化合物（ａ１）、（ａ２）および（ａ３）ならびに水をそれぞれ段階的に添加することにより加水分解および縮合反応を多段階で行ってもよい。
本発明で用いられる［Ａ］成分のポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という）は、好ましくは５×１０２〜５×１０４、より好ましくは１×１０３〜３×１０４である。Ｍｗが５×１０２未満であると、現像マージンが十分ではなくなる場合があり、得られる被膜の残膜率などが低下したり、また得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズのパターン形状、耐熱性などに劣ることがあり、一方５×１０４を超えると、感度が低下したりパターン形状に劣ることがある。上記の如き［Ａ］成分を含む感放射線性樹脂組成物は、現像する際に現像残りを生じることなく容易に所定パターン形状を形成することができる。
［Ｂ］成分
本発明で用いられる［Ｂ］成分は、放射線の照射によりカルボン酸を発生する１，２−キノンジアジド化合物であり、フェノール性化合物もしくはアルコール性化合物（以下、「水酸基を有する母核」という。）またはアミノ基を有する母核と、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物を用いることができる。
上記水酸基を有する母核としては、例えばトリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ペンタヒドロキシベンゾフェノン、ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、（ポリヒドロキシフェニル）アルカンおよびその他の水酸基を有する母核を挙げることができる。
これらの具体例としては、トリヒドロキシベンゾフェノンとして、例えば２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノンなど；
テトラヒドロキシベンゾフェノンとして、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノンなど；
ペンタヒドロキシベンゾフェノンとして、例えば２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノンなど；
ヘキサヒドロキシベンゾフェノンとして、例えば２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンなど；
（ポリヒドロキシフェニル）アルカンとして、例えばビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバンなど；
その他の水酸基を有する母核として、例えば２−メチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４−（４−ヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマン、２−［ビス｛（５−イソプロピル−４−ヒドロキシ−２−メチル）フェニル｝メチル］、１−［１−（３−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−４，６−ジヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］−３−（１−（３−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−４，６−ジヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）ベンゼン、４，６−ビス｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−１，３−ジヒドロキシベンゼンなどを、それぞれ挙げることができる。
上記アミノ基を有する母核としては、上記の水酸基を有する母核の水酸基をアミノ基に置換した化合物などを挙げることができる。
これらの母核のうち、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４，４’−〔１−〔４−〔１−〔４−ヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノールが好ましい。
上記１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとしては、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドが好ましく、その具体例としては１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸クロリドおよび１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドを挙げることができ、このうち、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドを使用することが好ましい。
縮合反応においては、フェノール性化合物もしくはアルコール性化合物中の水酸基数またはアミノ基を有する母核のアミノ基数に対して、好ましくは３０〜８５モル％、より好ましくは５０〜７０モル％に相当する１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドを用いることができる。
縮合反応は公知の方法によって実施することができる。
これらの［Ｂ］成分は単独でまたは２種類以上を組み合わせて用いることができる。
［Ｂ］成分の使用割合は、［Ａ］成分１００重量部に対して、好ましくは１〜２５重量部、より好ましくは５〜２０重量部である。この割合が１重量部未満の場合には、現像液となるアルカリ水溶液に対する放射線の照射部分と未照射部分との溶解度の差が小さく、パターニングが困難となる場合があり、また得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズの耐熱性および耐溶剤性が不十分となる場合がある。一方、この割合が２５重量部を超える場合には、放射線照射部分において前記アルカリ水溶液への溶解度が不十分となり、現像することが困難となる場合がある。
［Ｃ］成分
本発明における［Ｃ］成分は、可視光線、紫外線、遠紫外線、荷電粒子線、Ｘ線等の放射線の露光または加熱により酸を発生する化合物である。
本発明を構成するオニウム塩を表す式（１）において、ＡはVIA族〜VIIA族（ＣＡＳ表記）の元素を表し、有機基ＲおよびＤと結合して、オニウム［Ａ’］を形成する。VIA族〜VIIA族の元素のうち好ましいのは、カチオン重合開始能に優れるＳ、ＩおよびＳｅであり、特に好ましいのはＳおよびＩである。ｍは元素Ａの原子価を表し、１または２である。
ＲはＡに結合している有機基であり、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数４〜３０の複素環基、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数２〜３０のアルケニル基または炭素数２〜３０のアルキニル基を表し、これらはアルキル、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アリールチオカルボニル、アシロキシ、アリールチオ、アルキルチオ、アリール、複素環、アリールオキシ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アルキレンオキシ、アミノ、シアノ、ニトロの各基およびハロゲンからなる群より選ばれる少なくとも１種で置換されていてもよい。Ｒの個数はｍ＋ｎ（ｍ−１）＋１であり、Ｒはそれぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。また２個以上のＲが互いに直接または−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−、−ＮＲ’−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、炭素数１〜３のアルキレン基もしくはフェニレン基を介して結合して、元素Ａを含む環構造を形成してもよい。ここでＲ’は炭素数１〜５のアルキル基または炭素数６〜１０のアリール基である。
上記において炭素数６〜３０のアリール基としては、フェニル基などの単環式アリール基およびナフチル、アントラセニル、フェナンスレニル、ビレニル、クリセニル、ナフタセニル、ベンゾアントラセニル、アントラキノリル、フルオレニル、ナフトキノリルなどの縮合多環式アリール基が挙げられる。
炭素数４〜３０の複素環基としては、酸素、窒素、硫黄などのヘテロ原子を１〜３個含む環状のものが挙げられ、これらは同一であっても異なっていてもよく、具体例としては、チエニル、フラニル、ピラニル、ピロリル、オキサゾリル、チアゾリル、ビリジル、ビリミジル、ピラジニルなどの単環式複素環基およびインドリル、ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ベンゾチエニル、イソベンゾチエニル、キノリル、イソキノリル、キノキサリニル、キナゾリニル、カルバゾリル、アクリジニル、フェノチアジニル、フエナジニル、キサンテニル、チアントレニル、フエノキサジニル、フエノキサチイニル、クロマニル、イソクロマニル、ジベンゾチエニル、キサントニル、チオキサントニル、ジベンゾフラニルなどの縮合多環式複素環基が挙げられる。
炭素数１〜３０のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル
、オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル 、ヘキサデシル、オクダデシルなどの直
鎖アルキル基、イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、イソへキシルなどの分岐アルキル基、シクロプロピル、シクロプチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどのシクロアルキル基が挙げられる。
また、炭素数２〜３０のアルケニル基としては、ビニル、アリル、１−プロペニル、イソプロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−１−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチル−１−ブテニル、２−メチル−２−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１，２−ジメチル−１−プロペニル、１−デセニル、２−デセニル、８−デセニル、１−ドデセニル、２−ドデセニル、１０−ドデセニルなどの直鎖または分岐状のものが挙げられる。更に、炭素数２〜３０のアルキニル基としては、エチニル、１−プロビニル、２−プロビニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−メチル−１−プロビニル、１−メチル−２−プロビニル、２−メチル−１−プロビニル、２−メチル−２−プロビニル、１−ぺンチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−メチル−１−ブチニル、２−メチル−２−ブチニル、３−メチル−２−ブチニル、１，２−ジメチル−１−プロビニル、１−デシニル、２−デシニル、８−デシニル、１−ドデシニル、２−ドデシニル、１０−ドデシニルなどの直鎖または分岐状のものが挙げられる。
上記の炭素数６〜３０のアリール基、炭素数４〜３０の複素環基、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数２〜３０のアルケニル基または炭素数２〜３０のアルキニル基は、少なくとも１種の置換基を有してもよく、置換基の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、オクチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクダデシルなどの炭素数１〜１８の直鎖アルキル基；イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、イソへキシルなどの炭素数１〜１８の分岐アルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシルなどの炭素数３〜１８のシクロアルキル基；ヒドロキシ基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ヘキシルオキシ、デシルオキシ、ドデシルオキシなどの炭素数１〜１８の直鎖または分岐のアルコキシ基；アセチル、プロピオニル、ブタノイル、２−メチルプロピオニル、ヘブタノイル、２−メチルブタノイル、３−メチルブタノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、オクタデカノイルなどの炭素数２〜１８の直鎖または分岐のアルキルカルポニル基；ベンゾイル、ナフトイルなどの炭素数７〜１１のアリールカルポニル基；メトキシカルポニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ一ブトキシカルボニル、オクチロキシカルボニル、テトラデシルオキシカルボニル、オクタデシロキシカルボニルなどの炭素数２〜１９の直鎖または分岐のアルコキシカルポニル基；フエノキシカルボニル、ナフトキシカルボニルなどの炭素数７〜１０のアリールオキシカルボニル基；フェニルチオカルボニル、ナフトキシチオカルボニルなどの炭素数７〜１１のアリールチオカルボニル基；アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、イソプロピルカルボニルオキシ、ブチルカルボニルオキシ、イソプチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ、ｔｅｒｔ−プチルカルボニルオキシ、オクチルカルボニルオキシ、テトラデシルカルボニルオキシ、オクタデシルカルボニルオキシなどの炭素数２〜１９の直鎖または分岐のアシロキシ基；フェニルチオ、２−メチルフェニルチオ、３−メチルフェニルチオ、４−メチルフェニルチオ、２−クロロフェニルチオ、３−クロロフェニルチオ、４−クロロフェニルチオ、２−ブロモフェニルチオ、３−ブロモフェニルチオ、４−ブロモフェニルチオ、２−フルオロフェニルチオ、３−フルオロフェニルチオ、４−フルオロフェニルチオ、２−ヒドロキシフェニルチオ、４−ヒドロキシフェニルチオ、２−メトキシフェニルチオ、４−メトキシフェニルチオ、１−ナフチルチオ、２−ナフチルチオ、４−［４−（フェニルチオ）ベンゾイル］フェニルチオ、４−［４−（フェニルチオ）フエノキシ］フェニルチオ、４−［４−（フェニルチオ）フェニル］フェニルチオ、４−（フェニルチオ）フェニルチオ、４−ベンゾイルフェニルチオ、４−ベンゾイル−２−クロロフェニルチオ、４−ベンゾイル−３−クロロフェニルチオ、４−ベンゾイル−３−メチルチオフェニルチオ、４−ベンゾイル−２−メチルチオフェニルチオ、４−（４−メチルチオベンゾイル）フェニルチオ、４−（２−メチルチオベンゾイル）フェニルチオ、４−（ｐ−メチルベンゾイル）フェニルチオ、４−（ｐ−エチルベンゾイル）フェニルチオ、４−（ｐ−イソプロピルベンゾイル）フェニルチオ、４−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）フェニルチオなどの炭素数６〜２０のアリールチオ基；メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ネオペンチルチオ、ｔｅｒｔ−ペンチルチオ、オクチルチオ、デシルチオ、ドデシルチオなどの炭素数１〜１８の直鎖または分岐のアルキルチオ基；フェニル、トリル、ジメチルフェニル、ナフチルなどの炭素数６〜１０のアリール基；チエニル、フラニル、ピラニル、ピロリル、オキサゾリル、チアゾリル、ビリジル、ビリミジル、ピラジニル、インドリル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、キノリル、イソキノリル、キノキサリニル、キナゾリニル、カルバゾリル、アクリジニル、フェノチアジニル、フエナジニル、キサンテニル、チアントレニル、フエノキサジニル、フエノキサチイニル、クロマニル、イソクロマニル、ジベンゾチエニル、キサントニル、チオキサントニル、ジベンゾフラニルなどの炭素数４〜２０の複素環基；フエノキシ、ナフチルオキシなどの炭素数６〜１０のアリールオキシ基；メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル、ブチルスルフィニル、イソプチルスルフィニル、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル、ペンチルスルフィニル、イソペンチルスルフィニル、ネオペンチルスルフィニル、ｔｅｒｔ−ペンチルスルフィニル、オクチルスルフィニルなどの炭素数１〜１８の直鎖または分岐のアルキルスルフィニル基；フユニルスルフィニル、トリルスルフィニル、ナフチルスルフィニルなどの炭素数６〜１０のアリールスルフィニル基；メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、プチルスルホニル、イソプチルスルホニル、ｓｅｃ−ブチルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、イソペンチルスルホニル、ネオペンチルスルホニル、ｔｅｒｔ−ペンチルスルホニル、オクチルスルホニルなどの炭素数１〜１８の直鎖または分岐のアルキルスルホニル基；フェニルスルホニル、トリルスルホニル（トシル基）、ナフチルスルホニルなどの炭素数６〜１０のアリールスルホニル基；
Figure 0005003375
一般式（８）で表されるアルキレンオキシ基（Ｑは水素原子またはメチル基を表し、ｋは１〜５の整数）；無置換のアミノ基並びに炭素数１〜５のアルキル基および／または炭素数６〜１０のアリール基でモノ置換もしくはジ置換されているアミノ基（炭素数１〜５のアルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルなどの直鎖アルキル基；イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−プチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチルなどの分岐アルキル基；シクロプロピル、シクロプチル、シクロペンチルなどのシクロアルキル基が挙げられる。炭素数６〜１０のアリール基の具体例としては、フェニル、ナフチルなどが挙げられる）；シアノ基；ニトロ基；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲンなどが挙げられる。
また、２個以上のＲが互いに直接または−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−、−ＮＲ’−（Ｒ’は炭素数１〜５のアルキル基または炭素数６〜１０のアリール基である。炭素数１〜５のアルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルなどの直鎖アルキル基；イソプロピル、イソプチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチルなどの分岐アルキル基；シクロプロピル、シクロプチル、シクロペンチルなどのシクロアルキル基が挙げられる。炭素数６〜１０のアリール基の具体例としては、フェニル、ナフチルなどが挙げられる）、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、炭素数１〜３のアルキレン基もしくはフェニレン基を介して結合して元素Ａを含む環構造を形成した例としては、下記のものを挙げることができる。
Figure 0005003375
［ＡはVIA族〜VIIA族（ＣＡＳ表記）、Ｌは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−、−ＮＲ’−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、を表す。Ｒ’は前記と同じである。］
式（１）において、原子価ｍのVIA族〜VIIA族（ＣＡＳ表記）の元素Ａに結合しているｍ＋ｎ（ｍ−１）＋１個のＲは互いに同一であっても異なってもよいが、Ｒの少なくとも１つ、更に好ましくはＲのすべてが、前記置換基を有してもよい炭素数６〜３０のアリール基または炭素数４〜３０の複素環基である。
式（１）中のＤは前記式（２）の構造で表され、式（２）中のＥはメチレン、エチレン、プロピレンなどの炭素数１〜８の直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基；フェニレン、キシリレン、ナフチレン、ビフェニレン、アントラセニレンなどの炭素数６〜２０のアリーレン基；ジベンゾフランジイル、ジベンゾチオフェンジイル、キサンテンジイル、フエノキサチインジイル、チアンスレンジイル、ビチオフェンジイル、ビフランジイル、チオキサントンジイル、キサントンジイル、カルバゾールジイル、アクリジンジイル、フェノチアジンジイル、フエナジンジイルなどの炭素数８〜２０の複素環化合物の２価の基を表す。ここで複素環化合物の２価の基とは、複素環化合物の異なる２個の環炭素原子から、おのおの１個の水素原子を除いてできる２価の基のことをいう。
前記アルキレン基、アリーレン基または複素環化合物の２価の基は少なくとも１種の
置換基を有してもよく、置換基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、オクチルなどの炭素数１〜８の直鎖アルキル基；イソプロピル、イソプチル
、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどの炭素数1〜8の分岐アルキル基；シクロプロピル、シクロへキシルなどの炭素数３〜８のシクロアルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、へキシルオキシなどの炭素数１〜８のアルコキシ基；フェニル、ナフチルなどの炭素数６〜１０のアリール基；ヒドロキシ基；シアノ基；ニトロ基またはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲンが挙げられる。
式（２）中のＧは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−、−ＮＲ’−（Ｒ’は前記と同じ）、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、炭素数１〜３のアルキレン基またはフェニレン基を表す。炭素数１〜３のアルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレンなどの直鎖または分岐状のアルキレン基が挙げられる。
式（２）中のａは０〜５の整数である。ａ＋１個のＥおよびａ個のＧはそれぞれ互いに同一であっても異なってもよい。式（２）で表されるＤの代表例を以下に示す。ａ＝０の場合、
Figure 0005003375
ａ＝１の場合、
Figure 0005003375
ａ＝２の場合、
Figure 0005003375
ａ＝３の場合、
Figure 0005003375
これらのＤのうち、以下に示す基が特に好ましい。
Figure 0005003375
式（１）中のｎは、［Ｄ−Ａ＋Ｒｍ−１］結合の繰り返し単位数を表し、０〜３の整数であり、好ましくは０または１である。
式（１）中のオニウムイオン［Ａ＋］として好ましいものは、スルホニウム、ヨードニウム、セレニウムであるが、代表例としては以下のものが挙げられる。
スルホニウムイオンとしては、トリフェニルスルホニウム、トリ−ｐ−トリルスルホニウム、トリ−Ｏ−トリルスルホニウム、トリス（４−メトキシフェニル）スルホニウム、１−ナフチルジフェニルスルホニウム、２−ナフチルジフェニルスルホニウム、トリス（４−フルオロフユニル）スルホニウム、トリ−１−ナフチルスルホニウム、トリ−２−ナフチルスルホニウム、トリス（４−ヒドロキシフェニル）スルホニウム、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム、４−（ｐ−トリルチオ）フェニルジ−ｐ−トリルスルホニウム、４−（４−メトキシフェニルチオ）フェニルビス（４−メトキシフェニル）スルホニウム、４−（フェニル（４−フルオロフェニル）スルホニウム、４−（フェニルチオ）フェニルビス（４−メトキシフユニル）スルホニウム、４−（フェニルチオ）フユニルジ−ｐ−トリルスルホニウム、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド、ビス〔４−（ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］スルホニオ）フェニル〕スルフィド、ビス（４−［ビス（４一フルオロフェニル）スルホニオ］フェニル）スルフィド、ビス（４−［ビス（４−メチルフェニル）スルホニオ］フユニル）スルフィド、ビス（４−［ビス（４−メトキシフェニル）スルホニオ］フェニル）スルフィド、４−（４−ベンゾイル−２−クロロフユニルチオ）フェニルビス（４−フルオロフェニル）スルホニウム、４−（４−ベンゾイル−２−クロロフェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム、４−（４−ベンゾイルフェニルチオ）フェニルビス（４−フルオロフェニル）スルホニウム、４−（４−ベンゾイルフェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム、７−イソプロピル−９−オキソ−１０−チア−９，１０−ジヒドロアントラセン−２−イルジ−ｐ−トリルスルホニウム、７−イソプロピル−９−オキソ−１０−チア−９，１０−ジヒドロアントラセン−２−イルジフェニルスルホニウム、２−［（ジ−ｐ−トリル）スルホニオ］チオキサントン、２−［（ジフェニル）スルホニオ］チオキサントン、４−［４−（４−ｔｅｒｔ−プチルベンゾイル）フェニルチオ］フェニルジ−ｐＬトリルスルホニウム、４−［４−（４−ｔｅｒｔ−プチルベンゾイル）フェニルチオ］フェニルジフェニルスルホニウム、４−［４−（ベンゾイルフェニルチオ）］フェニルジ−ｐ−トリルスルホニウム、４−［４−（ベンゾイルフェニルチオ）］フェニルジフェニルスルホニウム、５−（４−メトキシフェニル）チアアンスレニウム、５−フェニルチアアンスレニウム、５−トリルチアアンスレニウム、５−（４−エトキシフェニル）チアアンスレニウム、５−（２，４，６−トリメチルフェニル）チアアンスレニウムなどのトリアリールスルホニウム；ジフェニルフェナシルスルホニウム、ジフェニル４−ニトロフェナシルスルホニウム、ジフェニルベンジルスルホニウム、ジフェニルメチルスルホニウムなどのジアリールスルホニウム；フェニルメチルベンジルスルホニウム、４−ヒドロキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、４−メトキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、４−アセトカルポニルオキシフユニルメチルベンジルスルホニウム、２−ナフチルメチルベンジルスルホニウム、２−ナフチルメチル（１−エトキシカルポニル）エチルスルホニウム、フユニルメチルフェナシルスルホニ ウム、４−ヒドロキシフェニルメチルフェナシルスルホニウム、４−メトキシフェニルメチルフェナシルスルホニウム、４−アセトカルポニルオキシフェニルメチルフェナシルスルホニウム、２−ナフチルメチルフェナシルスルホニウム、２−ナフチルオクタデシルフェナシルスルホニウム、９−アントラセニルメチルフェナシルスルホニウムなどのモノアリールスルホニウム；ジメチルフェナシルスルホニウム、フェナシルテトラヒドロチオフェニウム、ジメチルベンジルスルホニウム、ベンジルテトラヒドロチオフェニウム、オクタデシルメチルフェナシルスルホニウムなどのトリアルキルスルホニウムなどが挙げられ、これらは以下の文献に記載されている。
トリアリールスルホニウムに関しては、米国特許第４２３１９５１号、米国特許第４２５６８２８号、特開平７−６１９６４号、特開平８−１６５２９０号、特開平７−１０９１４号、特開平７−２５９２２号、特開平８−２７２０８号、特開平８−２７２０９号、特開平８−１６５２９０号、特開平８−３０１９９１号、特開平９−１４３２１２号、特開平９−２７８８１３号、特開平１０−７６８０号、特開平１０−２８７６４３号、特開平１０−２４５３７８号、特開平８−１５７５１０号、特開平１０−２０４０８３号、特開平８−２４５５６６号、特開平８−１５７４５１号、特開平７−３２４０６９号、特開平９−２６８２０５号、特開平９−２７８９３５号、特開２００１−２８８２０５号、特開平１１−８０１１８号、特開平１０−１８２８２５号、特開平１０−３３０３５３、特開平１０−１５２４９５、特開平５−２３９２１３号、特開平７−３３３８３４号、特開平９−１２５３７号、特開平８−３２５２５９号、特開平８−１６０６０６号、特開２０００−１８６０７１号（米国特許第６３６８７６９号）など；ジアリールスルホニウムに関しては、特開平７−３００５０４号、特開昭６４−４５３５７号、特開昭６４−２９４１９号など；モノアリールスルホニウムに関しては、特開平６−３４５７２６号、特開平８−３２５２２５号、特開平９−１１８６６３号（米国特許第６０９３７５３号）、特開平２−１９６８１２号、特開平２−１４７０号、特開平２−１９６８１２号、特開平３−２３７１０７号、特開平３−１７１０１号、特開平６−２２８０８６号、特開平１０−１５２４６９号、特開平７−３００５０５号、特開２００３−２７７３５３、特開２００３−２７７３５２など；トリアルキルスルホニウムに関しては、特開平４−３０８５６３号、特開平５−１４０２１０号、特開平５−１４０２０９号、特開平５−２３０１８９号、特開平６−２７１５３２号、特開昭５８−３７００３号、特開平２−１７８３０３号、特開平１０−３３８６８８号、特開平９−３２８５０６号、特開平１１−２２８５３４号、特開平８−２７１０２号、特開平７−３３３８３４号、特開平５−２２２１６７号、特開平１１−２１３０７号、特開平１１−３５６１３号、米国特許第６０３１０１４号などが挙げられる。
ヨードニウムイオンとしては、ジフェニルヨードニウム、ジ−ｐ−トリルヨードニウム、ビス（４−ドデシルフェニル）ヨードニウム、ビス（４−メトキシフェニル）ヨードニウム、（４−オクチルオキシフェニル）フェニルヨードニウム、ビス（４−デシルオキシフェニル）ヨードニウム、４−（２−ヒドロキシテトラデシルオキシ）フェニルフェニルヨードニウム、4−イソプロピルフェニル（ｐ−トリル）ヨードニウム、イソブチルフェニル（ｐ−トリル）ヨードニウムなどが挙げられ、これらは、Macromolecules，10，1307（1977）、特開平６−１８４１７０号、米国特許第４２５６８２８号、米国特許第４３５１７０８号、特開昭５６−１３５５１９号、特開昭５８−３８３５０号、特開平１０−１９５１１７号、特開２００１−１３９５３９号、特開２０００−５１０５１６号、特開２０００−１１９３０６号などに記載されている。
セレニウムイオンとしては、トリフェニルセレニウム、トリ−ｐ−トリルセレニウム、トリ−０−トリルセレニウム、トリス（４−メトキシフェニル）セレニウム、１−ナフチルジフェニルセレニウム、トリス（４−フルオロフェニル）セレニウム、トリ−１−ナフチルセレニウム、トリ−２−ナフチルセレニウム、トリス（４−ヒドロキシフェニル）セレニウム、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルセレニウム、４−（ｐ−トリルチオ）フェニルジ−ｐ−トリルセレニウムなどのトリアリールセレニウム；ジフェニルフェナシルセレニウム、ジフェニルベンジルセレニウム、ジフェニルメチルセレニウムなどのジアリールセレニウム；フェニルメチルベンジルセレニウム、４−ヒドロキシフェニルメチルベンジルセレニウム、フェニルメチルフェナシルセレニウム、４−ヒドロキシフェニルメチルフェナシルセレニウム、４−メトキシフェニルメチルフェナシルセレニウムなどのモノアリールセレニウム；ジメチルフェナシルセレニウム、フェナシルテトラヒドロセレノフェニウム、ジメチルベンジルセレニウム、ベンジルテトラヒドロセレノフェニウム、オクタデシルメチルフェナシルセレニウムなどのトリアルキルセレニウムなどが挙げられ、これらは特開昭５０−１５１９９７号、特開昭５０−１５１９７６号、特開昭５３−２２５９７号などに記載されている。
これらのオニウムのうちで好ましいものは、スルホニウムとヨードニウムであり、特に好ましいものは、トリフェニルスルホニウム、トリ−ｐ−トリルスルホニウム、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド、ビス〔４−（ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］スルホニオ）フユニル〕スルフィド、ビス（４−［ビス（４−フルオロフェニル）スルホニオ］フェニル）スルフィド、４−（４−ベンゾイル−２−クロロフェニルチオ）フェニルビス（４−フルオロフユニル）スルホニウム、４−（４−ベンゾイルフェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム、７−イソプロピル−９−オキソ−１０−チア−９，１０−ジヒドロアントラセン−２一イルジ−ｐ−トリルスルホニウム、７−イソプロピル−９−オキソ−１０−チア−９，１０−ジヒドロアントラセン−２−イルジフェニルスルホニウム、２−［（ジ−ｐ−トリル）スルホニオ］チオキサントン、２−［（ジフェニル）スルホニオ］チオキサントン、４−［４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）フェニルチオ］フェニルジ−ｐ−トリルスルホニウム、４−［４−（ベンゾイルフェニルチオ）］フェニルジフェニルスルホニウム、５−（４−メトキシフェニル）チアアンスレニウム、５−フェニルチアアンスレニウム、ジフェニルフェナシルスルホニウム、４−ヒドロキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、２−ナフチルメチル（１−エトキシカルボニル）エチルスルホニウム、４−ヒドロキシフェニルメチルフェナシルスルホニウムおよびオクタデシルメチルフェナシルスルホニウムなどのスルホニウムイオン並びにジフェニルヨードニウム、ジ−ｐ−トリルヨードニウム、ビス（４−ドデシルフェニル）ヨードニウム、ビス（４−メトキシフェニル）ヨードニウム、（４−オクチルオキシフェニル）フェニルヨードニウム、ビス（４−デシルオキシ）フェニルヨードニウム、４−（２−ヒドロキシテトラデシルオキシ）フェニルフェニルヨードニウム、４−イソプロピルフェニル（ｐ−トリル）ヨードニウムおよび４−イソブチルフェニル（ｐ−トリル）ヨードニウムなどのヨードニウムイオンが挙げられる。
本発明の遷移金属錯体のフッ素化アルキルフルオロリン酸塩を表す式（４）の配位子Ｌｌは、炭素数６〜２４の芳香族化合物または酸素、窒素、硫黄などのヘテロ原子を主として１〜３個含む炭素数４〜２０の複素環化合物であり、それらは同一であっても異なっていてもよい。炭素数６〜２４の芳香族化合物としては、ベンゼンなどの単環式のものおよびナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ビレン、クリセン、ナフタセン、ベンゾアントラセン、アントラキノン、ナフトキノン、インデン、ビフェニレン、フルオレン、トリフェニレン、コロネンなどの縮合多環式のものが挙げられる。
炭素数４〜２０の複素環化合物としては、チオフェン、フラン、ピラン、ピロール、オキサゾール、チアゾール、ビリジン、ビリミジン、ピラジンなどの単環式のものや、インドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、キナゾリン、カルバゾール、アクリジン、フユノチアジン、フエナジン、キサンテン、チアントレン、フエノキサジン、フエノキサチイン、クロマン、イソクロマン、ジベンゾチオフェン、キサントン、チオキサントン、ジベンゾフランなどの縮合多環式のものが挙げられる。
これらの芳香族化合物または複素環化合物は、以下の置換基から選ばれる少なくとも１種で置換されていてもよく、該置換基の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、オクチル、デシルなどの炭素数１〜１２の直鎖アルキル基；イソプロピル、イソプチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、イソへキシルなどの炭素数１〜１２の分岐アルキル基；シクロプロピル、シクロプチル、シクロペンチル、シクロへキシルなどの炭素数３〜６のシクロアルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、へキシルオキシなどの炭素数１〜６の直鎖および分岐のアルコキシ基；メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオなどの炭素数１〜６の直鎖および分岐のアルキルチオ基；フェニルチオ、ナフチルチオ基などの炭素数６〜１２のアリールチオ基；アセチル、プロピオニル、ブタノイル、２−メチルプロピオニル、ヘプタノイル、２−メチルブタノイル、３−メチルブタノイルなどの炭素数２〜７の直鎖および分岐のアルキルカルボニル基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル 、ｓｅｃｃ−ブトキシカルポニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルなどの炭素数２〜７の直鎖および分岐のアルコキシカルボニル基；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン；フェニル基；ベンゾイル基；シアノ基またはニトロ基などが挙げられる。
上記の置換基を有する芳香族化合物の具体例としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、メシチレン、メトキシベンゼン、エトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン、１，３−ジメトキシベンゼン、１，４−ジメトキシベンゼン、１，３，５−トリメトキシベンゼン、アセチルベンゼン、クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン、１，３−ジクロロベンゼン、１，４−ジクロロベンゼン、２−クロロトルエン、３−クロロトルエン、４−クロロトルエン、ブロモベンゼン、１，２−ジプロモベンゼン、１，３−ジプロモベンゼン、１，４−ジプロモベンゼン、２−ブロモトルエン、３−ブロモトルエン、４−ブロモトルエン、１−メチルナフタレン、２−メチルナフタレン、１−メトキシナフタレン、２−メトキシナフタレン、１−クロロナフタレン、２−クロロナフタレン、１−ブロモナフタレン、２−ブロモナフタレン、ビフェニル、ジフェニルエーテル、ジフェニルスルフィド、トリフェニレンなどが挙げられる。
式（４）の配位子Ｌ２としては、インデン、フルオレンまたはシクロペンタジエンのアニオンが挙げられる。Ｌ２が２つの場合、同一であっても異なっていてもよい。これらは上記の配位子Ｌｌの場合と同じ置換基の少なくとも１種で置換されていてもよく、その例としては、２−メチルインデン、２−エチルインデン、４−メチルインデン、４−クロロインデンなどのインデン誘導体のアニオン；１−メチルフルオレン、４−メチルフルオレン、４−メトキシフルオレン、１−クロロフルオレンなどのフルオレン誘導体のアニオン；メチルシクロペンタジエン、ペンタメチルシクロペンタジエン、フェニルシクロペンタジエン、クロロシクロペンタジエンなどのシクロペンタジエン誘導体のアニオンが挙げられる。
式（４）中、ＭはVIB族〜VIII族（ＣＡＳ表記）から選ばれる１種の遷移金属元素であり、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、ＦｅまたはＣｏなどが挙げられる。このうちＦｅが好ましい。
一般式（４）で表される遷移金属錯体カチオンとしては、例えば、（η５−シクロペンタジェニル）（η６−トルエン）Ｃｒ＋、（η５−シクロペンタジエニル）（η６−キシレン）Ｃｒ＋、（η５−シクロペンタジエニル）（η６−１−メチルナフタレン）Ｃｒ＋、（η５−シクロペンタジエニル）（η６−クメン）Ｃｒ＋、（η５−シクロペンタジェニル）（η６−メシチレン）Ｃｒ＋、（η５−シクロペンタジエニル）（η６−ビレン）Ｃｒ＋、（η５−フルオレニル）（η６−クメン）Ｃｒ＋、（η５−インデニル）（η６−クメン）Ｃｒ＋、ビス（η６−メシチレン）Ｃｒ２＋、ビス（η６−キシレン）Ｃｒ２＋、ビス（η６−クメン）Ｃｒ２＋、ビス（η６−トルエン）Ｃｒ２＋、（η６−トルエン）（η６−キシレン）Ｃｒ２＋、（η６−クメン）（η６−ナフタレン）Ｃｒ２＋、ビス（η５−シクロペンタジェニル）Ｃｒ＋、ビス（η５−インデニル）Ｃｒ＋、（η５−シクロペンタジェニル）（η５−フルオレニル）Ｃｒ＋および（η５−シクロペンタジエニル）（η５−インデニル）Ｃｒ＋などのＣｒ化合物、
更に（η５−シクロペンタジエニル）（η６−トルエン）Ｆｅ＋、（η５−シクロペンタジエニル）（η６−キシレン）Ｆｅ＋、（η５−シクロペンタジェニル）（η６−１−メチルナフタレン）Ｆｅ＋、（η５−シクロペンタジエニル）（η６−クメン）Ｆｅ＋、（η５−シクロペンタジエニル）（η６−メシチレン）Ｆｅ＋、（η５−シクロペンタジエニル）（η６−ビレン）Ｆｅ＋、（η５−フルオレニル）（η６−クメン）Ｆｅ＋、（η５−インデニル）（η６−クメン）Ｆｅ＋、ビス（η６−メシチレン）Ｆｅ２＋、ビス（η６−キシレン）Ｆｅ２＋、ビス（η−クメン）Ｆｅ２＋、ビス（η−トルエン）Ｆｅ２＋、（η６−トルエン）（η６−キシレン）Ｆｅ２＋、（η６−クメン）（η６−ナフタレン）Ｆｅ２＋、ビス（η５−シクロペンタジエニル）Ｆｅ ２＋、ビス（η５−インデニル）Ｆｅ＋、（η５−シクロペンタジエニル）（η５−フルオレニル）Ｆｅ＋および（η５−シクロペンタジエニル）（η５−インデニル）Ｆｅ＋などのＦｅ化合物が挙げられる。
これらは、Macromol．Chem．，81、86（1965）、Angew．Makromol．Chem．，50、9（1976）acromol．Chem．，153、229（1972）、J．Polym．Sci．，Polym．Chem．Edn．，14、1547（1976）、Chem．Ztg．，108、345（1984）、J．Imaging．Sci．，30、174（1986）、chem．Photobiol．A：Chem．，77（1994）、J．Rad．Curing．，26（1986）、Adv．Polym．Sci．，78、61（1986）、米国特許第４９７３７２２号、同第４９９２５７２号、同第３８９５９５４号、ヨーロッパ特許公開第２０３８２９号、同第３５４１８１号、同第９４９１４号、同第１０９８５１号、同第９４９１５号、特開昭５８−２１０９０４号（米国特許第４８６８２８８号）、特開昭５９−１０８００３号、特開２０００−２２６３９６号、特開平２−２８４９０３号などに記載されている。
上記の遷移金属錯体カチオンのうちで好ましいものは、（η５−シクロペンタジエニル）（η６−トルエン）Ｆｅ＋、（η５−シクロペンタジエニル）（η６−キシレン）Ｆｅ＋、（η５−シクロペンタジエニル）（η６−１−メチルナフタレン）Ｆｅ＋、（η５−シクロペンタジエニル）（η６−クメン）Ｆｅ＋、（η５−シクロペンタジエニル）（η６−メシチレン）Ｆｅ＋、（η５−シクロペンタジエニル）（η６−ビレン）Ｆｅ＋、（η５−フルオレニル）（η６−クメン）Ｆｅ＋、（η５−インデニル）（η６−クメン）Ｆｅ＋、ビス（η６−メシチレン）Ｆｅ２＋、ビス（η６−キシレン）Ｆｅ２＋、ビス（η６−クメン）Ｆｅ２＋、（η６−トルエン）（η６−キシレン）Ｆｅ２＋、（η６−クメン）（η６−ナフタレン）Ｆｅ２＋、ビス（η５−シクロペンタジエニル）Ｆｅ＋、ビス（η５−インデニル）Ｆｅ＋、（η５−シクロペンタジエニル）（η５−フルオレニル）Ｆｅ＋および（η５−シクロペンタジエニル）（η５−インデニル）Ｆｅ＋である。
式（１）および式（４）においてＸ−は対イオンである。式（１）において、その個数は１分子当りｎ＋１であり、また、式（４）において、その個数は１分子当りｅであり、そのうち少なくとも１個は式（３）で表されるフッ素化アルキルフルオロリン酸アニオンであって、残りは他のアニオンであってもよい。他のアニオンとしては、従来公知のアニオンであればいかなるものでもよく、例えばＦ−、ＣＩ−、Ｂｒ−、Ｉ−などのハロゲンイオン；ＯＨ−、ＣｌＯ４ −、ＦＳＯ３ −、ＣＩＳＯ３ −、ＣＨ３ＳＯ３ −、Ｃ６Ｈ５ＳＯ３ −、ＣＦ３ＳＯ３ −などのスルホン酸イオン類；ＨＳＯ４ −、ＳＯ４ ２−などの硫酸イオン類；ＨＣＯ３ −、ＣＯ３ ２−などの炭酸イオン類；Ｈ２ＰＯ４−、ＨＰＯ４ ２−、ＰＯ４ ３−などのリン酸イオン類；ＰＦ６−、ＰＦ５ＯＨ−などのフルオロリン酸イオン類；ＢＦ４ −、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４ −、Ｂ（Ｃ６Ｈ４ＣＦ３）４ −などのホウ酸イオン類；ＡＩＣＩ４ −；ＢｉＦ６ −などが挙げられる。その他には、ＳｂＦ６ −、ＳｂＦ５ＯＨ−などのフルオロアンチモン酸イオン類、あるいはＡｓＦ６ −、ＡｓＦ５ＯＨ−などのフルオロヒ素酸イオン類が挙げられるが、これらは毒性の元素を含むため好ましくない。
式（３）で表されるフッ素化アルキルフルオロリン酸アニオンにおいて、Ｒｆはフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、好ましい炭素数は１〜８、さらに好ましい炭素数は１〜４である。アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、オクチルなどの直鎖アルキル基；イソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどの分岐アルキル基；さらにシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシルなどのシクロアルキル基などが挙げられ、アルキル基の水素原子がフッ素原子に置換された割合は、通常、８０％以上、好ましくは９０％以上、さらに好ましくは１００％である。フッ素原子の置換率が８０％未満では、本発明のオニウムおよび遷移金属錯体の塩のカチオン重合開始能が低下する。
特に好ましいＲｆは、炭素数が１〜４、かつフッ素原子の置換率が１００％の直鎖または分岐のパーフルオロアルキル基であり、具体例としては、ＣＦ３、ＣＦ３ＣＦ２、（ＣＦ３）２ＣＦ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２、（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＦ３）ＣＦ、（ＣＦ３）３Ｃが挙げられる。
式（３）においてＲｆの個数ｂは、１〜５の整数であり、好ましくは２〜４であり、特に好ましくは２または３である。ｂ個のＲｆはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
好ましいフッ素化アルキルフルオロリン酸アニオンの具体例としては、［（ＣＦ３ＣＦ２）２ＰＦ４］−，［（ＣＦ３ＣＦ２）３ＰＦ３］−，［（（ＣＦ３）２ＣＦ）２ＰＦ４］−、［（（ＣＦ３）２ＣＦ）３ＰＦ３］−、［（ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２）２ＰＦ４］−、［（ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２）３ＰＦ３］−、［（（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２）２ＰＦ４］−、［（（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２）３ＰＦ３］−、［（ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）２ＰＦ４］−および［（ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）３ＰＦ３］−が挙げられ、これらのうち、［（ＣＦ３ＣＦ２）３ＰＦ３］−、［（ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２）３ＰＦ３］−、［（（ＣＦ３）２ＣＦ）３ＰＦ３］−、［（（ＣＦ３）２ＣＦ）２ＰＦ４］−、［（（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２）３ＰＦ３］−および［（（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２）２ＰＦ４］−が特に好ましい。
本発明のオニウムまたは遷移金属錯体のフッ素化アルキルフルオロリン酸塩は、複分解法によって製造できる。複分解法は、例えば、新実験化学講座１４−Ｉ巻（１９７８年、丸善）p−448；AdvanceinPolymerScience，62，1−48（1984）；新実験化学講座１４−III巻（１９７８年、丸善）p1838−1846；有機硫黄化学（合成反応編、１９８２年、化学同人）、第8章、p237−280；日本化学雑誌，87，（5），74（1966）J．Org．Chem．，32，2580（1967）；TetrahedronLetters，36，3437（1973）；Bulletindela SocieteChimiquedeFrance，1，228（1976），；BulletindelaSocieteChimiquede Francell，2571（1975）；Inorg．Chem．，10，1559（1971）；Chem．Ber．，93，2729（1960）；］．anomet．Chem．，54，255（1973）；”organometallicSyntheses”，VOl．1，AcademicPress，P138（1965）；Tetrahedron，39，4027（1983）；］．Amer．Chem．Soc．，103，758（1981）；］．Chem．Soc．，Chem．Commun．，1971，930（71）；］．Amer．Chem．Soc．，92，7207（1970）；特開昭６４−４５３５７号、特開昭６１−２１２５５４号、特開昭６１−１００５５７号、特開平５−４９９６号、特開平７−８２２４４号、特開平７−８２２４５号、特開昭５８−２１０９０４号、特開平６−１８４１７０号などに記載されているが、まずオニウムまたは遷移金属錯体のＦ−、ＣＩ−、Ｂｒ−、Ｉ−などのハロゲンイオン塩；ＯＨ−塩；ＣｌＯ４ −塩；ＦＳＯ３ −、ＣＩＳＯ３ −、ＣＨ３ＳＯ３ −、Ｃ６Ｈ５ＳＯ３ −、ＣＦ３ＳＯ３ −などのスルホン酸イオン類との塩；ＨＳＯ４ −、ＳＯ４ ２−などの硫酸イオン類との塩；ＨＣＯ３ −、ＣＯ３ ２−、などの炭酸イオン類との塩；Ｈ２ＰＯ４ −、ＨＰＯ４ ２−、ＰＯ３ ４−などのリン酸イオン類との塩などを製造し、これを式（３）で表されるフッ素化アルキルフルオロリン酸アニオンのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩または４級アンモニウム塩と、必要により、ＫＰＦ６、ＫＢＦ４、ＬｉＢ（Ｃ６Ｆ５）４などの他のアニオン成分とを理論量以上含む水溶液中に加えて複分解させる。これにより生成した本発明の塩は、結晶または油状で分離してくるので、結晶はろ過により回収し、液状のものは分液または適当な溶媒による抽出によって回収することができる。このようにして得られた本発明のオニウムまたは遷移金属錯体の塩は、必要により再結晶または水や溶媒による洗浄などの方法で精製することができる。
このようにして得られたオニウムおよび遷移金属錯体のフッ素化アルキルフルオロリン酸塩の構造は、一般的な分析手法、例えば、１Ｈ、１３Ｃ、１９Ｆ、１３Ｐなどの各核磁気共鳴スペクトル、赤外吸収スペクトルあるいは元素分析などによって同定することができる。
上記の複分解反応に用いるフッ素化アルキルフルオロリン酸塩としては、アルカリ金属の塩が好ましい。この塩は前駆体であるフッ素化アルキルフルオロホスホランとフッ化アルカリ金属とをジメチルエーテル、ジェトキシエタン、アセトニトリルまたはこれらの混合物のような非プロトン性の溶媒中、−３５〜６０℃で反応させて得られる（米国特許６２１０８３０号）。前駆体のフッ素化アルキルフルオロホスホランは、例えば、アルキルホスフィンを常圧下、−１５〜２０℃の温度でフッ化水素酸により電気化学的にフッ素化する方法（米国特許６２６４８１８号）などにより得られる。電気化学的フッ素化の進行は電気量に比例し、通常、理論的電気量の９０〜１５０％、特に１１０〜１３０％が消費された時点でフッ素化を終了する。これによりアルキル基の水素原子が８０％以上、好ましくは９０％以上がフッ素で置換されたフッ素化アルキルフルオロホスホランが得られる。目的のフッ素化アルキルフルオロホスホランは電解液から分離するので分液により回収し、必要により蒸留によって精製する。
本発明のオニウムおよび遷移金属錯体のフッ素化アルキルフルオロリン酸塩は、カチオン重合開始剤として単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、従来公知の他のカチオン重合開始剤と併用してもよい。他のカチオン開始剤としては、例えば、スルホニウム、ヨードニウム、セレニウム、アンモニウム、ホスホニウムなどのオニウムイオン類または遷移金属錯体イオンと各種アニオンの塩が挙げられ、アニオンの例としては、Ｆ−、ＣＩ−、Ｂｒ−、Ｉ−などのハロゲンイオン；ＯＨ−；ＣｌＯ４ −；ＦＳＯ３ −、ＣＩＳＯ３ −、ＣＨ３ＳＯ３ −、Ｃ６Ｈ５ＳＯ３ −、ＣＦ３ＳＯ３ −などのスルホン酸イオン類；ＨＳＯ４ −、ＳＯ４２−などの硫酸イオン類；ＨＣＯ３ −、ＣＯ３２−などの炭酸イオン類；Ｈ２ＰＯ４ −、ＨＰＯ４ ２−、ＰＯ４ ３−などのリン酸イオン類；ＰＦ６ −、ＰＦ５ＯＨ−などのフルオロリン酸イオン類；ＢＦ４ −、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４ −、Ｂ（Ｃ６Ｈ４ＣＦ３）４ −などのホウ酸イオン類；ＡＩＣＩ４ −；ＢｉＦ６ −；ＳｂＦ６ −、ＳｂＦ５ＯＨ−などのフルオロアンチモン酸イオン類；ＡｓＦ６ −、ＡｓＦ５ＯＨ−などのフルオロヒ素酸イオン類などが挙げられる。更にはアンモニウムまたはホスホニウムのフッ素化アルキルフルオロリン酸塩などと併用してもよい。ただし、フルオロアンチモン酸イオン類およびフルオロヒ素酸イオン類は毒性の元素を含むため好ましくない。
上記のスルホニウムイオン、ヨードニウムイオンまたはセレニウムイオンは公知のすべてのものを包含し、その代表例と参考文献は本明細書中の［００８５］〜［００８８］に記載されている。
上記のアンモニウムイオンとしては、例えば，テトラメチルアンモニウム、エチルトリメチルアンモニウム、ジエチルジメチルアンモニウム、トリエチルメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、トリメチル−ｎ−プロピルアンモニウム、トリメチルイソプロピルアンモニウム、トリメチル−ｎ−ブチルアンモニウム、トリメチルイソブチルアンモニウム、トリメチル−ｔ−ブチルアンモニウム、トリメチル−ｎ−へキシルアンモニウム、ジメチルジ−ｎ−プロピルアンモニウム、ジメチルジイソプロピルアンモニウム、ジメチル−ｎ−プロピルイソプロピルアンモニウム、メチルトリ−ｎ−プロピルアンモニウム、メチルトリイソプロピルアンモニウムなどのテトラアルキルアンモニウム；Ｎ，Ｎ−ジメチルピロリジニウム、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルピロリジニウム、Ｎ，Ｎ−ジエチルピロリジニウムなどのピロリジニウム；Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリニウム、Ｎ，Ｎ’−ジエチルイミダゾリニウム、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチルイミダゾリニウム、１，２，３−トリメチルイミダゾリニウム、１，３，４−トリメチルイミダゾリニウム、１，３−ジエチル−２−メチルイミダゾリニウム、１，３−ジエチル−４−メチルイミダゾリニウム、１，２，３，４−テトラメチルイミダゾリニウムなどのイミダゾリニウム；Ｎ，Ｎ’−ジメチルテトラヒドロビリミジニウム、Ｎ，Ｎ’−ジエチルテトラヒドロビリミジニウム、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチルテトラヒドロビリミジニウム、１，２，３−トリメチルテトラヒドロビリミジニウムなどのテトラヒドロビリミジニウム；Ｎ，Ｎ’−ジメチルモルホリニウム、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルモルホリニウム、Ｎ，Ｎ−ジエチルモルホリニウムなどのモルホリニウム；Ｎ，Ｎ−ジメチルピペリジニウム、Ｎ−エチル−Ｎ’−メチルピペリジニウム、Ｎ，Ｎ’−ジエチルピペリジニウムなどのピペリジニウム；Ｎ−メチルビリジニウム、Ｎ−エチルビリジニウム、Ｎ−ｎ−プロピルビリジニウム、Ｎ−イソプロピルビリジニウム、Ｎ−ｎ−ブチルピリジニウム、Ｎ−ベンジルビリジニウム、Ｎ−フェナシルピリジウムなどのビリジニウム；Ｎ，Ｎ’−ジメチルイミダゾリウム、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルイミダゾリウム、Ｎ，Ｎ’−ジエチルイミダゾリウム、１，２−ジエチル−３−メチルイミダゾリウム、１，３−ジエチル−２−メチルイミダゾリウム、１−メチル−３−ｎ−プロピル−２，４−ジメチルイミダゾリウムなどのイミダゾリウム；Ｎ−メチルキノリウム、Ｎ−エチルキノリウム、Ｎ−ｎ−プロピルキノリウム、Ｎ−イソプロピルキノリウム、Ｎ−ｎ−ブチルキノリウム、Ｎ−ベンジルキノリウム、Ｎ−フェナシルキノリウムなどのキノリウム；Ｎ−メチルイソキノリウム、Ｎ−エチルイソキノリウム、Ｎ−ｎ−プロピルイソキノリウム、Ｎ−イソプロピルイソキノリウム、Ｎ−ｎ−ブチルイソキノリウム、Ｎ−ベンジルイソキノリウム、Ｎ−フェナシルイソキノリウムなどのイソキノリウム；ベンジルベンゾチアゾニウム、フェナシルベンゾチアゾニウムなどのチアゾニウム；ベンジルアクリジウム、フェナシルアクリジウムなどのアクリジウムが挙げられる。
これらは、米国特許第４０６９０５５号、特許第２５１９４８０号、特開平５−２２２１１２号、特開平５−２２２１１１号、特開平５−２６２８１３号、特開平５−２５５２５６号、特開平７−１０９３０３号、特開平１０−１０１７１８号、特開平２−２６８１７３号、特開平９−３２８５０７号、特開平５−１３２４６１号、特開平９−２２１６５２号、特開平７−４３８５４号、特開平７−４３９０１号、特開平５−２６２８１３号、特開平４−３２７５７４、特開平２−４３２０２号、特開昭６０−２０３６２８号、特開昭５７−２０９９３１号、特開平９−２２１６５２号などに記載されている。
上記のホスホニウムイオンとしては、例えば，テトラフェニルホスホニウム、テトラ−ｐ−トリルホスホニウム、テトラキス（２−メトキシフェニル）ホスホニウム、テトラキス（３−メトキシフェニル）ホスホニウム、テトラキス（４−メトキシフェニル）ホスホニウムなどのテトラアリールホスホニウム；トリフェニルベンジルホスホニウム、トリフェニルフェナシルホスホニウム、トリフェニルメチルホスホニウム、トリフェニルプチルホスホニウムなどのトリアリールホスホニウム；トリエチルベンジルホスホニウム、トリプチルベンジルホスホニウム、テトラエチルホスホニウム、テトラプチルホスホニウム、テトラへキシルホスホニウム、トリエチルフェナシルホスホニウム、トリプチルフェナシルホスホニウムなどのテトラアルキルホスホニウムなどが挙げられる。これらは、特開平６−１５７６２４号、特開平５−１０５６９２号、特開平７−８２２８３号、特開平９−２０２８７３号などに記載されている。
上記の遷移金属錯体イオンの代表例と参考文献は、本明細書中の［００９５］〜［００９６］に記載されている。
本発明の［Ｃ］成分は、カチオン重合性化合物への溶解を容易にするため、あらかじめカチオン重合を阻害しない溶剤類に溶かしておいてもよく、該溶剤類としては、例えば、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、１，２−ブチレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートなどのカーボネート類；酢酸エチル、乳酸エチル、β−プロビオラクトン、β−ブチロラクトン、γ−ブチロラクトン、∂−バレロラクトン、と−カプロラクトンなどのエステル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロビレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコールなどのモノアルキルエーテル類、例えば、モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプチルエテルまたーは ジアルキルエテルー類、例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、更には前記モノアルキルエーテル類の酢酸エステルなどのグリコール類などが挙げられる。これらの溶剤類を使用する場合の使用割合は、通常、［Ｃ］成分１００部に対して、溶剤類１５〜１０００部、好ましくは３０〜５００部である。
本発明において［Ｃ］成分の使用割合は、共重合体［Ａ］１００重量部に対して、通常０．０５〜１０部、好ましくは０．１〜５部であるが、適当な使用割合は、カチオン重合性化合物の性質やエネルギー線の種類と照射量、温度、硬化時間、湿度、塗膜の厚みなど、さまざまな要因を考慮することによって決定される。［Ｃ］成分の使用割合が０．０５部より少ないとカチオン重合性化合物の重合が不十分となり、１０部より多いと未反応のカチオン重合開始剤やその分解物により硬化物の特性が低下する場合がある。
本発明の感放射線性樹脂組成物には、必要により従来公知の増感剤を併用することができる。このような増感剤の例は、特開平１１−２７９２１２号、特開平９−１８３９６０号などに記載されており、具体的には、アントラセン、９，１０−ジブトキシアントラセン、９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、２−ｔｅｒｔ−プチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９−メトキシ−１０−メチルアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、２−ｔｅｒｔ−ブチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、９−エトキシ−１０−メチルアントラセン、９，１０−ジプロポキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジプロポキシアントラセン、２−ｔｅｒｔ−ブチル−９，１０−ジプロポキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジプロポキシアントラセン、９−イソプロポキシ−１０−メチルアントラセン、９，１０−ジベンジルオキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジベンジルオキシアントラセン、２−ｔｅｒｔ−９，１０−ジベンジルオキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジベンジルオキシアントラセン、９−ベンジルオキシー１０−メチルアントラセン、９，１０−ジーα−メチルベンジルオキシアントラセン、２−エチルー９，１０−ジーα−メチルベンジルオキシアントラセン、２−ｔｅｒｔ−９，１０−ジーα−メチルベンジルオキシアントラセン、２，３−ジメチル−９，１０−ジーα−メチルベンジルオキシアントラセン、９−（α−メチルベンジルオキシ）−１０−メチルアントラセン、９，１０−ジフェニルアントラセン、９−メトキシアントラセン、９−エトキシアントラセン、９−メチルアントラセン、９−ブロモアントラセン、９−メチルチオアントラセン、９−エチルチオアントラセンなどのアントラセン類；ビレン；１，２−ベンゾアントラセン；ペリレン；テトラセン；コロネン；チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン類；フェノチアジン；キサントン；１−ナフトール、２−ナフトール、１−メトキシナフタレン、２−メトキシナフタレン、１，４−ジヒドロキシナフタレン、１，５−ジヒドロキシナフタレン、１，６−ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジメトキシナフタレン、１，１’−チオビス（２−ナフトール）、１，１’−ピー（２−ナフトール）、４−メトキシ−１−ナフトールなどのナフタレン類；ジメトキシアセトフェノン、ジェトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパンー１−オン、４’−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシメチルー２−メチルプロピオフェノン、２，２−ジメトキシー１，２−ジフェニルエタンー１−オン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−プチルジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−プチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−アジドベンザルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−プチルエーテル、ベンゾインイソプチルエーテル、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパンー１−オン、ベンゾフェノン、０−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーケトン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィドなどのケトン類；Ｎ−フェニルカルバゾール、Ｎ−エチルカルバゾール、ポリーＮ−ビニルカルバゾール、Ｎ−グリシジルカルバゾールなどのカルバゾール類；１，４−ジメトキシクリセン、１，４−ジェトキシクリセン、１，４−ジプロポキシクリセン、１，４−ジベンジルオキシクリセン、１，４−ジーα−メチルベンジルオキシクリセンなどのクリセン類；９−ヒドロキシフェナントレン、９−メトキシフェナントレン、９−エトキシフェナントレン、９−ベンジルオキシフェナントレン、９，１０−ジメトキシフェナントレン、９，１０−ジェトキシフェナントレン、９，１０−ジプロポキシフェナントレン、９，１０−ジベンジルオキシフェナントレン、９，１０−ジーα−メチルベンジルオキシフェナントレン、９−ヒドロキシー１０−メトキシフェナントレン、９−ヒドロキシー１０−エトキシフェナントレンなどのフェナントレン類が挙げられる。
これらの増感剤を使用する場合の使用割合は、本発明の共重合体［Ａ］１００重量部に対して、通常０．００５〜２０部、好ましくは０．０１〜１０部である。
その他の成分
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の共重合体［Ａ］、［Ｂ］、および［Ｃ］成分を必須成分として含有するが、その他必要に応じて［Ｄ］少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物、［Ｅ］共重合体［Ａ］以外のエポキシ樹脂、［Ｆ］界面活性剤、あるいは［Ｇ］接着助剤を含有することができる。
上記［Ｄ］少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物（以下、「［Ｄ］成分」ということがある。）としては、例えば単官能（メタ）アクリレート、２官能（メタ）アクリレートまたは３官能以上の（メタ）アクリレートを好適に挙げることができる。
上記単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙げられる。これらの市販品としては、例えばアロニックスＭ−１０１、同Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４（以上、東亞合成(株)製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＣ−１１０Ｓ、同ＴＣ−１２０Ｓ（以上、日本化薬(株)製）、ビスコート１５８、同２３１１（以上、大阪有機化学工業(株)製）等が挙げられる。
上記２官能（メタ）アクリレートとしては、例えばエチレングリコール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げられる。これらの市販品としては、例えばアロニックスＭ−２１０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（以上、東亞合成(株)製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同Ｒ−６０４（以上、日本化薬(株)製）、ビスコート２６０、同３１２、同３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工業(株)製）などが挙げられる。
上記３官能以上の（メタ）アクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォスフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられ、その市販品としては、例えばアロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０（以上、東亞合成(株)製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０（以上、日本化薬(株)製）、ビスコート２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工業(株)製）などが挙げられる。
これらのうち、３官能以上の（メタ）アクリレートが好ましく用いられ、そのうちでもトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
これらの単官能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリレートは、単独であるいは組み合わせて用いられる。［Ｄ］成分の使用割合は、共重合体［Ａ］１００重量部に対して、好ましくは５０重量部以下、より好ましくは３０重量部以下である。
このような割合で［Ｄ］成分を含有させることにより、本発明の感放射線性樹脂組成物から得られる層間絶縁膜またはマイクロレンズの耐熱性および表面硬度等を向上させることができる。この使用量が５０重量部を超えると、基板上に感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成する工程において膜荒れが生じることがある。
上記［Ｅ］共重合体［Ａ］以外のエポキシ樹脂（以下、「［Ｅ］成分」ということがある。）としては、相溶性に影響がないかぎり限定されるものではない。好ましくはビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルメタアクリレートを（共）重合した樹脂等を挙げることができる。これらのうち、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂等が特に好ましい。
［Ｅ］成分の使用割合は、共重合体［Ａ］１００重量部に対して、好ましくは３０重量部以下である。このような割合で［Ｅ］成分が含有されることにより、本発明の感放射線性樹脂組成物から得られる保護膜または絶縁膜の耐熱性および表面硬度等をさらに向上させることができる。この割合が３０重量部を超えると、基板上に感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成する際、塗膜の膜厚均一性が不十分となる場合がある。
なお、共重合体［Ａ］も「エポキシ樹脂」といい得るが、アルカリ可溶性を有する点で［Ｅ］成分とは異なる。［Ｅ］成分はアルカリ不溶性である。
本発明の感放射線性樹脂組成物には、さらに塗布性を向上するため上記［Ｆ］界面活性剤を使用することができる。ここで使用できる［Ｆ］界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびノニオン系界面活性剤を好適に用いることができる。
フッ素系界面活性剤の具体例としては、１，１，２，２−テトラフロロオクチル（１，１，２，２−テトラフロロプロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフロロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフロロブチル）エーテル、ヘキサエチレングリコール（１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフロロブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロペンチル）エーテル、パーフロロドデシルスルホン酸ナトリウム、１，１，２，２，８，８，９，９，１０，１０−デカフロロドデカン、１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロデカン等の他、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム；フルオロアルキルオキシエチレンエーテル；フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール；パーフルオロアルキルアルコキシレート；フッ素系アルキルエステル等を挙げることができる。これらの市販品としては、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（以上、ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、ＦＣ−１７１、ＦＣ−４３０、ＦＣ−４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６（旭硝子(株)製）、エフトップＥＦ３０１、同３０３、同３５２（新秋田化成（株）製）などが挙げられる。
上記シリコーン系界面活性剤としては、例えばＤＣ３ＰＡ、ＤＣ７ＰＡ、ＦＳ−１２６５、ＳＦ−８４２８、ＳＨ１１ＰＡ、ＳＨ２１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＨ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）等の商品名で市販されているものを挙げることができる。
上記ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル類など；（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ.５７、９５（共栄社化学（株）製）などを使用することができる。
これらの界面活性剤は単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
これらの［Ｆ］界面活性剤は、共重合体［Ａ］１００重量部に対して、好ましくは５重量部以下、より好ましくは２重量部以下で用いられる。［Ｆ］界面活性剤の使用量が５重量部を超えると、基板上に塗膜を形成する際、塗膜の膜あれが生じやすくなることがある。
本発明の感放射線性樹脂組成物においてでは、また、基体との接着性を向上させるために［Ｇ］接着助剤を使用することもできる。このような［Ｇ］接着助剤としては、官能性シランカップリング剤が好ましく使用され、例えばカルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシランカップリング剤が挙げられる。具体的にはトリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。このような［Ｇ］接着助剤は、共重合体［Ａ］１００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下、より好ましくは１０重量部以下の量で用いられる。接着助剤の量が２０重量部を超える場合は、現像工程において現像残りが生じやすくなる場合がある。
感放射線性樹脂組成物
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の共重合体［Ａ］、［Ｂ］および［Ｃ］成分ならびに上記の如き任意的に添加するその他の成分を均一に混合することによって調製される。通常、本発明の感放射線性樹脂組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状態で用いられる。例えば共重合体［Ａ］、［Ｂ］および［Ｃ］成分ならびに任意的に添加されるその他の成分を、所定の割合で混合することにより、溶液状態の感放射線性樹脂組成物を調製することができる。
本発明の感放射線性樹脂組成物の調製に用いられる溶媒としては、共重合体［Ａ］、［Ｂ］および［Ｃ］成分ならびに任意的に配合されるその他の成分の各成分を均一に溶解し、各成分と反応しないものが用いられる。
このような溶媒としては、上述した共重合体［Ａ］を製造するために使用できる溶媒として例示したものと同様のものを挙げることができる。
このような溶媒のうち、各成分の溶解性、各成分との反応性、塗膜形成のしやすさ等の点から、アルコール、グリコールエーテル、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート、エステルおよびジエチレングリコールが好ましく用いられる。これらのうち、ベンジルアルコール、２−フェニルエチルアルコール、３−フェニル−１−プロパノール、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プルピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチルが特に好ましく使用できる。
さらに前記溶媒とともに膜厚の面内均一性を高めるため、高沸点溶媒を併用することもできる。併用できる高沸点溶媒としては、例えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。これらのうち、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドが好ましい。
本発明の感放射性樹脂組成物の溶媒として、高沸点溶媒を併用する場合、その使用量は、溶媒全量に対して、好ましくは５０重量％以下、より好ましくは４０重量％以下、さらに好ましくは３０重量％以下とすることができる。高沸点溶媒の使用量がこの使用量を越えると、塗膜の膜厚均一性、感度および残膜率が低下する場合がある。
本発明の感放射線性樹脂組成物を溶液状態として調製する場合、溶液中に占める溶媒以外の成分（すなわち共重合体［Ａ］、［Ｂ］および［Ｃ］成分ならびに任意的に添加されるその他の成分の合計量）の割合は、使用目的や所望の膜厚の値等に応じて任意に設定することができるが、好ましくは５〜５０重量％、より好ましくは１０〜４０重量％、さらに好ましくは１５〜３５重量％である。
このようにして調製された組成物溶液は、孔径０.２μｍ程度のミリポアフィルタなどを用いて濾過した後、使用に供することもできる。
層間絶縁膜、マイクロレンズの形成
次に本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて、本発明の層間絶縁膜、マイクロレンズを形成する方法について述べる。本発明の層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成方法は、以下の工程を以下に記載の順で含む。
（１）本発明の感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（２）該塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）現像工程、および
（４）加熱工程。
（１）本発明の感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程
上記（１）の工程においては、本発明の組成物溶液を基板表面に塗布し、好ましくはプレベークを行うことにより溶剤を除去して、感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成する。
使用できる基板の種類としては、例えばガラス基板、シリコンウエハーおよびこれらの表面に各種金属が形成された基板を挙げることができる。
組成物溶液の塗布方法としては、特に限定されず、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット法等の適宜の方法を採用することができ、特にスピンコート法、スリットダイ塗布法が好ましい。プレベークの条件としては、各成分の種類、使用割合等によっても異なる。例えば、６０〜１１０℃で３０秒間〜１５分間程度とすることができる。
形成される塗膜の膜厚としては、プレベーク後の値として、層間絶縁膜を形成する場合にあっては例えば３〜６μｍ、マイクロレンズを形成する場合にあっては例えば０．５〜３μｍが好ましい。
（２）該塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程
上記（２）の工程においては、形成された塗膜に所定のパターンを有するマスクを介して、放射線を照射した後、現像液を用いて現像処理して放射線の照射部分を除去することによりパターニングを行う。このとき用いられる放射線としては、例えば紫外線、遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線等が挙げられる。
上記紫外線としては例えばｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等が挙げられる。遠紫外線としては例えばＫｒＦエキシマレーザー等が挙げられる。Ｘ線としては例えばシンクロトロン放射線等が挙げられる。荷電粒子線として例えば電子線等を挙げることができる。
これらのうち、紫外線が好ましく、なかでもｇ線および／またはｉ線を含む放射線が特に好ましい。
露光量としては、層間絶縁膜を形成する場合にあっては５０〜１，５００Ｊ／ｍ２、マイクロレンズを形成する場合にあっては５０〜２，０００Ｊ／ｍ２とすることが好ましい。
（３）現像工程
現像処理に用いられる現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕−５−ノナン等のアルカリ（塩基性化合物）の水溶液を用いることができる。また、上記のアルカリの水溶液にメタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や界面活性剤を適当量添加した水溶液、または本発明の組成物を溶解する各種有機溶媒を現像液として使用することができる。さらに、現像方法としては、例えば液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等の適宜の方法を利用することができる。このときの現像時間は、組成物の組成によって異なるが、例えば３０〜１２０秒間とすることができる。
（４）加熱工程
上記のように実施した（３）現像工程後に、パターニングされた薄膜に対して、好ましくは例えば流水洗浄によるリンス処理を行い、さらに、好ましくは高圧水銀灯などによる放射線を全面に照射（後露光）することにより、当該薄膜中に残存する１，２−キノンジアジト化合物の分解処理を行った後、この薄膜を、ホットプレート、オーブン等の加熱装置により加熱処理（ポストベーク処理）することにより、当該薄膜の硬化処理を行う。上記後露光工程における露光量は、好ましくは２，０００〜５，０００Ｊ／ｍ２程度である。また、上記加熱処理工程における加熱温度としては、従来、好ましくは２００〜２５０℃程度の処理温度が採用されてきたが、本発明の感放射線性樹脂組成物においては、１７０〜２００℃程度の処理温度でも十分な諸性能を有する層間絶縁膜またはマイクロレンズを形成することができる。加熱時間としても、従来、ホットプレート使用の場合、好ましくは１５〜３０分間、オーブン使用の場合、好ましくは６０〜９０分間の処理時間が採用されてきたが、本発明の樹脂組成物においては、２００℃以上の加熱温度であれば、ホットプレート使用の場合１０〜２０分間、オーブン使用の場合３０〜６０分間、２００℃未満の加熱温度であれば、ホットプレート使用の場合２０〜３０分間、オーブン使用の場合４０〜８０分間の処理時間であっても、十分な諸性能を有する層間絶縁膜またはマイクロレンズを形成することができる。この際に、２回以上の加熱工程を行うステップベーク法等を用いることもできる。
このようにして、目的とする層間絶縁膜またはマイクロレンズに対応する、パターン状薄膜を基板の表面上に形成することができる。
層間絶縁膜
上記のようにして形成された本発明の層間絶縁膜は、２００℃以下のポストベーク温度においても、基板への密着性が良好であり、耐溶剤性および耐熱性に優れ、電子部品の層間絶縁膜として好適に使用できる。
マイクロレンズ
上記のようにして形成された本発明のマイクロレンズは、２００℃以下のポストベーク温度においても、基板への密着性が良好であり、耐溶剤性および耐熱性に優れ、かつ高い透過率と良好なメルト形状を有するものであり、固体撮像素子のマイクロレンズとして好適に使用できる。
なお、本発明のマイクロレンズの形状は、図１（ａ）に示したように、半凸レンズ形状となる。
以下に合成例、実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
［Ｃ］成分の合成
国際公開０５／１１６０３８号パンフレットの実施例に従い、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート（以下、「Ｃ−１」とする。）、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムトリス（へプタフルオロプロピル）トリフルオロホスフェート（以下、「Ｃ−２」とする。）および（η５−シクロペンタジェニル）（η６−トルエン）Ｆｅ（ＩＩ）トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート（以下、「Ｃ−３」とする。）を合成した。
［Ａ］成分の合成例
合成例１
分留管を備えた５００ｍＬの三つ口フラスコに２−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン３３．３ｇ、ジメチルジメトキシシラン７２．１ｇをとり、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル７６．８ｇを加えて溶解させ、得られた混合溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら３０分間かけて４０℃に加温した。これに１．４ｇのシュウ酸を含んだ４３．３ｇのイオン交換水を３０分間かけて連続的に添加した。そして、４０℃で２時間反応させた後、得られた反応液を１０Ｔｏｒｒまで減圧し副生成物のメタノールを留去した。その後、反応液を１時間かけて１００℃まで昇温し、副生成物の水を留去しながら１００℃で２時間反応させた。こうして得られた反応液を６０℃まで冷却し、まず３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン４７．２ｇを３０分かけ連続的に添加し、その後０．４ｇのシュウ酸を含んだ１０．８ｇのイオン交換水を３０分間かけて連続的に添加し、６０℃で３時間反応させた。反応液から副生成物のメタノールと水を減圧留去して、固形分濃度が４０％になるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテルを添加し得られた樹脂溶液［Ａ−１］の重量平均分子量は２，６００であった。
合成例２
分留管を備えた５００ｍＬの三つ口フラスコに３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン３９．３ｇ、フェニルトリメトキシシラン１１９．０ｇをとり、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル７６．８ｇを加えて溶解させ、得られた混合溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら３０分間かけて４０℃に加温した。これに１．４ｇのシュウ酸を含んだ４３．３ｇのイオン交換水を３０分間かけて連続的に添加した。そして、４０℃で２時間反応させた後、得られた反応液を１０Ｔｏｒｒまで減圧し副生成物のメタノールを留去した。その後、反応液を１時間かけて１００℃まで昇温し、副生成物の水を留去しながら１００℃で２時間反応させた。こうして得られた反応液を６０℃まで冷却し、まず２−（３'，４'−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン４９．３ｇを３０分かけ連続的に添加し、その後０．４ｇのシュウ酸を含んだ１０．８ｇのイオン交換水を３０分間かけて連続的に添加し、６０℃で３時間反応させた。反応液から副生成物のメタノールと水を減圧留去して、固形分濃度が４０％になるようにジエチレングリコールメチルエチルエーテルを添加し得られた樹脂溶液［Ａ−２］の重量平均分子量は２，５００であった。
合成例３
５００ｍＬの三つ口フラスコに３−（３'−エチルオキセタン−３'−イル）プロピルトリメトキシシラン５５．７ｇ、トリメトキシシリルプロピル−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロピルチオエーテル６６．１ｇ、メチルトリメトキシシラン４０．３ｇをとり、メチルイソブチルケトン１３９．７ｇを加えて溶解させ、得られた混合溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら６０℃に加温した。これに、１．０ｇのトリエチルアミンを含んだ５４．０ｇのイオン交換水を１時間かけて連続的に添加した。そして、６０℃で３時間反応させた後、得られた反応液を室温まで冷却した。その後、１重量％のシュウ酸水溶液２００ｇを添加し、有機相を分離し更に同様の操作を繰り返した。こうして得られる有機層を２００ｇのイオン交換水で洗浄を行った。得られた有機層から、反応副生成物であるアルコール分と水を反応液から減圧留去した。この重合体［Ａ−３］の重量平均分子量は２，４００であった。
比較合成例１
分留管を備えた５００ｍＬの三つ口フラスコにメチルトリメトキシシラン８８．５ｇ、フェニルトリメトキシシラン６９．４ｇをとり、ジアセトンアルコール１３８．９ｇを加えて溶解させ、得られた混合溶液をマグネチックスターラにより撹拌しながら０．２ｇのリン酸を含んだ５４．０ｇのイオン交換水を３０分間かけて連続的に添加した。そして４０℃で３０分間反応させた後、１時間かけて１００℃まで昇温し、メタノールと水を留去しながら２時間反応させた。その後、固形分が３５重量％、ジアセトンアルコール／γ―ブチロラクトン＝９０／１０になるように希釈し、樹脂溶液［ａ−１］を得た。この重合体［ａ−１］の重量平均分子量は２，９００であった。
実施例１
［感放射線性樹脂組成物の調製］
上記合成例１で合成した［Ａ］成分として重合体［Ａ−１］を含有する溶液を、重合体［Ａ−１］１００重量部（固形分）に相当する量、成分［Ｂ］として４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２．０モル）の縮合物（Ｂ−１）３０重量部、および 4−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート（Ｃ−１）を３重量部とを混合し、固形分濃度が３０重量％となるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテルに溶解させた後、口径０．２μｍのメンブランフィルタで濾過して、感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−１）を調製した。
実施例２〜１０、１２〜１８、比較例１〜７
［感放射線性樹脂組成物の調製］
実施例１において、［Ａ］、［Ｂ］および［Ｃ］成分として、表１に記載のとおりの種類、量を使用した他は、実施例１と同様にして実施し、感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−２）〜（Ｓ−１０）、（Ｓ−１２）〜（Ｓ−１８）および（ｓ−１）〜（ｓ−７）を調製した。
なお、実施例２、３、１３、１４において、［Ｂ］成分の記載は、それぞれ２種類の１，２−キノンジアジド化合物を併用したことを表す。
実施例１１
実施例１において、固形分濃度が２０重量％になるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテル／プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート＝６／４に溶解したことと、［Ｆ］ＳＨ−２８ＰＡ（東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）を添加したこと以外は実施例１と同様に組成物を調製し、感放射線性樹脂組成物の溶液（Ｓ−１１）を調製した。
Figure 0005003375
表１中、成分の略称はそれぞれ次の意味である。
（Ｂ−１）：４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２．０モル）の縮合物
（Ｂ−２）：４，４’，４’’‐エチリジントリス（フェノール）（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（２．０モル）の縮合物
（Ｂ−３）： ２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル（２．４４モル）
（Ｃ−１）：4−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート
（Ｃ−２）：4−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムトリス（へプタフルオロプロピル）トリフルオロホスフェート
（Ｃ−３）：（η5−シクロペンタジエニル）（η6−トルエン）Fe（ＩＩ）トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート
（Ｃ−４）：4−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート（商品名 ＤＴＳ−１０２ ミドリ化学株式会社製）
（Ｃ−５）：4−アセトキシフェニル−ジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート（商品名 ＳＩ−１５０ 三新化学工業株式会社製）
（Ｃ−６）：Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフチルジカルボキシルイミド（商品名 ＮＡＩ−１０５ みどり化学株式会社製）
実施例１〜１１、比較例１〜５
＜層間絶縁膜としての性能評価＞
上記のように調製した感放射線性樹脂組成物を使用し、以下のように層間絶縁膜としての各種の特性を評価した。
［感度の評価］
シリコン基板上に、実施例１〜１０、比較例１〜５についてはスピンナーを用いて、表２に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークして膜厚４．０μｍの塗膜を形成した。実施例１１についてはスリットダイコーターにより塗布を行い、０．５Ｔｏｒｒにて真空乾燥を行った後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークして膜厚４．０μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜に所定のパターンを有するパターンマスクを介してキャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）で露光時間を変化させて露光を行った後、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、８０秒間、液盛り法で現像した。超純水で１分間流水洗浄を行い、乾燥させてウエハー上にパターンを形成した。３．０μｍのライン・アンド・スペース（１０対１）のスペース・パターンが完全に溶解するために必要な露光量を測定した。この値を感度として、表２に示した。この値が１，０００Ｊ／ｍ２以下の場合に感度が良好であると言える。
〔耐溶剤性の評価〕
シリコン基板上に、実施例１〜１０、比較例１〜５についてはスピンナーを用いて、表２に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークして塗膜を形成した。実施例１１についてはスリットダイコーターにより塗布を行い、０．５Ｔｏｒｒにて真空乾燥を行った後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークして塗膜を形成した。得られた塗膜にキャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）で積算照射量が３，０００Ｊ／ｍ2となるように露光し、このシリコン基板をクリーンオーブン内にて２２０℃で１時間加熱して膜厚３．０μｍの硬化膜を得た。得られた硬化膜の膜厚（Ｔ１）を測定した。そして、この硬化膜が形成されたシリコン基板を７０℃に温度制御されたジメチルスルホキシド中に２０分間浸漬させた後、当該硬化膜の膜厚（ｔ１）を測定し、浸漬による膜厚変化率｛｜ｔ１−Ｔ１｜／Ｔ１｝×１００〔％〕を算出した。結果を表２に示す。この値が５％以下のとき、耐溶剤性は良好といえる。
また、ポストベーク温度を２２０℃から１８０℃に変更し、同様に耐溶剤性を評価した。膜厚変化率が５％以下で、かつポストベーク温度が２２０℃の場合と同等の膜厚変化率を示せば、１５０℃のポストベーク温度でも十分な耐溶剤性があると判断できる。
なお、耐溶剤性の評価においては形成する膜のパターニングは不要のため、現像工程は省略した。
〔耐熱性の評価〕
上記耐溶剤性の評価と同様にして、２２０℃／１時間と１８０℃／１時間のポストベーク条件でそれぞれ硬化膜を形成し、得られた硬化膜の膜厚（Ｔ２）を測定した。次いで、この硬化膜基板をクリーンオーブン内にて２４０℃で１時間追加ベークした後、当該硬化膜の膜厚（ｔ２）を測定し、追加ベークによる膜厚変化率｛｜ｔ２−Ｔ２｜／Ｔ２｝×１００〔％〕を算出した。結果を表２に示す。この値が５％以下のとき、耐熱性は良好といえる。また、ポストベーク温度が１５０℃の場合は、膜厚変化率が５％以下で、かつポストベーク温度が２２０℃の場合と同等の膜厚変化率を示せば、１８０℃のポストベーク温度でも十分な耐熱性があると判断できる。
〔透明性の評価〕
上記の耐溶剤性の評価においてシリコン基板の代わりにガラス基板「コーニング７０５９（コーニング社製）」を用いたこと以外は同様にして、２２０℃／１時間と１８０℃／１時間のポストベーク条件でそれぞれ硬化膜を形成した。この硬化膜を有するガラス基板の光線透過率を分光光度計「１５０−２０型ダブルビーム（（株）日立製作所製）」を用いて４００〜８００ｎｍの範囲の波長で測定した。そのときの最低光線透過率の値を表２に示す。この値が９０％以上のとき、透明性は良好といえる。
〔比誘電率の評価〕
研磨したＳＵＳ３０４製基板上に、実施例１〜１０、比較例１〜５についてはスピンナーを用いて、表２に記載の組成物を塗布した後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークして膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。実施例１１についてはスリットダイコーターにより塗布を行い、０．５Ｔｏｒｒにて真空乾燥を行った後、１００℃にて２分間ホットプレート上でプレベークして膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜にキャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）で積算照射量が３，０００Ｊ／ｍ２となるように露光し、この基板をクリーンオーブン内にて２２０℃で１時間、もしくは１８０℃で１時間焼成することにより、硬化膜を得た。この硬化膜について、蒸着法によりＰｔ／Ｐｄ電極パターンを形成させ誘電率測定用サンプルを作成した。該基板を周波数１０ｋＨｚの周波数で、横河・ヒューレットパッカード（株）製ＨＰ１６４５１Ｂ電極およびＨＰ４２８４ＡプレシジョンＬＣＲメーターを用いてＣＶ法により当該基板の比誘電率を測定した。結果を表２に示した。この値が３．４以下のとき、誘電率は良好といえる。
なお、比誘電率の評価においては形成する膜のパターニングは不要のため、現像工程は省略した。
Figure 0005003375
実施例１２〜１８、比較例６〜７
＜マイクロレンズとしての性能評価＞
上記のように調製した感放射線性樹脂組成物を使用し、以下のようにマイクロレンズとしての各種の特性を評価した。なお耐溶剤性の評価、耐熱性の評価、透明性の評価は上記層間絶縁膜としての性能評価における結果を参照されたい。
〔感度の評価〕
シリコン基板上に、実施例１２〜１８、比較例６〜７についてはスピンナーを用いて、表３に記載の組成物を塗布した後、９０℃にて２分間ホットプレート上でプレベークして膜厚２．０μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜に所定のパターンを有するパターンマスクを介してニコン（株）製ＮＳＲ１７５５ｉ７Ａ縮小投影露光機（ＮＡ＝０.５０、λ＝３６５ｎｍ）で露光時間を変化させて露光し、表３に記載した濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、１分間液盛り法で現像した。水でリンスし、乾燥してウェハー上にパターンを形成した。０.８μｍライン・アンド・スペ−スパタ−ン（１対１）のスペース線幅が０.８μｍとなるのに必要な露光時間を測定した。この値を感度として、表３に示した。この値が２，０００Ｊ／ｍ２以下の場合に感度が良好であると言える。
〔マイクロレンズの形成〕
シリコン基板上に実施例１２〜１８、比較例６〜７についてはスピンナーを用いて、表３に記載の組成物を塗布した後、９０℃にて２分間ホットプレート上でプレベークして膜厚２．０μｍの塗膜を形成した。得られた塗膜に４．０μｍドット・２．０μｍスペ−スパタ−ンを有するパターンマスクを介してニコン（株）製ＮＳＲ１７５５ｉ７Ａ縮小投影露光機（ＮＡ＝０.５０、λ＝３６５ｎｍ）で上記「［感度の評価］」にて測定した感度の値に相当する露光量で露光を行い、表３の感度の評価における現像液濃度として記載した濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液にて２５℃、１分間液盛り法で現像した。水でリンスし、乾燥してウエハー上にパターンを形成した。その後、キャノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（超高圧水銀ランプ）で積算照射量が３，０００Ｊ／ｍ2となるように露光した。その後ホットプレートにて１３０℃で１０分間加熱後さらに２００℃で１０分間加熱してパターンをメルトフローさせマイクロレンズを形成した。
形成されたマイクロレンズの底部（基板に接する面）の寸法（直径）および断面形状を表３に示す。マイクロレンズ底部の寸法は４．０μｍを超え５．０μｍ未満であるとき、良好といえる。なお、この寸法が５．０μｍ以上となると、隣接するレンズ同士が接触する状態であり、好ましくない。また、断面形状は図１に示した模式図において、（ａ）のような半凸レンズ形状であるときに良好であり、（ｂ）のような略台形上の場合は不良である。
Figure 0005003375
マイクロレンズの断面形状の模式図である。

Claims (17)

  1. ［Ａ］オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基と、オキシラニル基またはオキセタニル基に付加反応しうる官能基とを有するポリシロキサン、
    ［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物、ならびに
    ［Ｃ］一般式（１）で表される化合物および一般式（４）で表される化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物
    を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
    Figure 0005003375
     [式（１）中、ＡはVIA族〜VIIA族（ＣＡＳ表記）の原子価ｍの元素を表し、ｍは１または２である。ｎは括弧内の構造の繰り返し単位数を表し、０〜３の整数である。ＲはＡに結合している有機基であり、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数４〜３０の複素環基、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数２〜３０のアルケニル基または炭素数２〜３０のアルキニル基を表し、更にＲはアルキル、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アリールチオカルボニル、アシロキシ、アリールチオ、アルキルチオ、アリール、複素環、アリールオキシ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノ、シアノ、ニトロの各基およびハロゲンからなる群より選ばれる少なくとも１種で置換されていてもよい。Ｒの個数はｍ＋ｎ（ｍ−１）＋１であり、Ｒはそれぞれ互いに同一であっても異なっていてもよい。また２個以上のＲが互いに直接または−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−、−ＮＲ’−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、炭素数１〜３のアルキレン基もしくはフェニレン基を介して結合し、元素Ａを含む環構造を形成してもよい。ここでＲ’は炭素数１〜５のアルキル基または炭素数６〜１０のアリール基である。Ｄは下記一般式（２）で表される構造であり、
    Figure 0005003375
     式（２）中、Ｅは炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基または炭素数８〜２０の複素環化合物の２価の基を表し、更にＥは炭素数１〜８のアルキル、炭素数１〜８のアルコキシ、炭素数６〜１０のアリール、ヒドロキシ、シアノ、ニトロの各基およびハロゲンからなる群より選ばれる少なくとも１種で置換されていてもよい。Ｇは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＮＨ−、−ＮＲ’−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、炭素数１〜３のアルキレン基またはフェニレン基を表す。ａは０〜５の整数である。ａ＋１個のＥおよびａ個のＧはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ここでＲ’は前記のものと同じ。Ｘ−はオニウムの対イオンである。その個数は１分子当りｎ＋１であり、そのうち少なくとも1個は一般式（３）で表されるフッ素化アルキルフルオロリン酸アニオンであって、
    Figure 0005003375
     残りは他のアニオンであってもよい。一般式（３）において、Ｒｆは水素原子の８０％以上がフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。ｂはその個数を示し、１〜５の整数である。ｂ個のＲｆはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。］
    Figure 0005003375
     ［式（４）中、ＭはVIB族〜VIII族（ＣＡＳ表記）から選ばれる１種の遷移金属元素であり、Ｌ１およびＬ２は遷移金属元素Ｍの配位子である。Ｌ１は炭素数６〜２４の芳香族化合物または炭素数４〜２０の複素環化合物、Ｌ２はインデン、フルオレンまたはシクロペンタジェンのアニオンであり、これらのＬ１、Ｌ２は更にアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、フェニル、ベンゾイル、シアノ、ニトロの各基およびハロゲンからなる群より選ばれる少なくとも１種で置換されていてもよい。ｃ、ｄはそれぞれＬ１、Ｌ２の個数を表し、いずれも０〜２の整数であり、合計個数（ｃ＋ｄ）は２である。２つの配位子がいずれもＬ１またはいずれもＬ
    ２の場合、それぞれは互いに同一であっても異なっていてもよい。配位子Ｌ１、Ｌ２の電荷と遷移金属元素Ｍの電荷との合計電荷ｅは正であって、１または２である。Ｘ−は式（１）におけるＸ−と同義である。］
  2. ［Ａ］ポリシロキサンが、
    （ａ１）オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基と加水分解性基とを有するシラン化合物、
    （ａ２）オキシラニル基またはオキセタニル基に付加反応しうる官能基と加水分解性基とを有するシラン化合物、ならびに
    （ａ３）（ａ１）、（ａ２）以外の加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物である、請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
  3. ［Ａ］ポリシロキサンにおけるオキシラニル基またはオキセタニル基に付加反応しうる官能基が水酸基、メルカプト基またはアミノ基である、請求項１または２に記載の感放射線性樹脂組成物。
  4. 一般式（１）のＡが、ＳまたはＩであり、Ｒのうち少なくとも１つが炭素数６〜３０のアリール基または炭素数４〜３０の複素環基であり、これらはアルキル、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アリールチオカルボニル、アシロキシ、アリールチオ、アルキルチオ、アリール、複素環、アリールオキシ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノ、シアノ、ニトロの各基およびハロゲンからなる群より選ばれる少なくとも１種で置換されていてもよい、請求項１〜３のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。
  5. 一般式（１）のｍ＋ｎ（ｍ−１）＋１個のＲのすべてが、炭素数６〜３０のアリール基または炭素数４〜３０の複素環基であり、これらはアルキル、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アリールチオカルボニル、アシロキシ、アリールチオ、アルキルチオ、アリール、複素環、アリールオキシ、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノ、シアノ、ニトロの各基およびハロゲンからなる群より選ばれる少なくとも１種で置換されていてもよく、それぞれ互いに同一であっても異なってもよい、請求項１〜４のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。
  6. 一般式（１）のＤが
    Figure 0005003375
     で表される群から選ばれる少なくとも１種の基である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。
  7. 一般式（１）のｎが０または１であり、オニウムイオンが、トリフェニルスルホニウム、トリ−ｐ−トリルスルホニウム、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド、ビス〔４−（ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］スルホニオ）フェニル〕スルフィド、ビス（４−［ビス（４−フルオロフェニル）スルホニオ］フェニル）スルフィド、４−（４−ベンゾイル−２−クロロフェニルチオ）フェニルビス（４−フルオロフェニル）スルホニウム、４−（４−ベンゾイルフェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム、７−イソプロピル−９−オキソ−１０−チア−９，１０−ジヒドロアントラセン−２−イルジ−ｐ−トリルスルホニウム、７−イソプロピル−９−オキソ−１０−チア−９，１０−ジヒドロアントラセン−２−イルジフェニルスルホニウム、２−［（ジ−ｐ−トリル）スルホニオ］チオキサントン、２−［（ジフェニル）スルホニオ］チオキサントン、４−［４−（４−tert−ブチルベンゾイル）フェニルチオ］フェニルジ−ｐ−トリルスルホニウム、４−（４−ベンゾイルフェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム、５−（４−メトキシフェニル）チアアンスレニウム、５−フェニルチアアンスレニウム、ジフェニルフェナシルスルホニウム、４−ヒドロキシフェニルメチルベンジルスルホニウム、２−ナフチルメチル（１−エトキシカルボニル）エチルスルホニウム、４−ヒドロキシフェニルメチルフェナシルスルホニウム、オクタデシルメチルフェナシルスルホニウム、ジフェニルヨードニウム、ジ−ｐ−トリルヨードニウム、ビス（４−ドデシルフェニル）ヨードニウム、ビス（４−メトキシフェニル）ヨードニウム、（４−オクチルオキシフェニル）フェニルヨードニウム、ビス（４−デシルオキシ）フェニルヨードニウム、４−（２−ヒドロキシテトラデシルオキシ）フェニルフェニルヨードニウム、４−イソプロピルフェニル（ｐ−トリル）ヨードニウムまたは４−イソブチルフェニル（ｐ−トリル）ヨードニウムである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。
  8. 一般式（４）において、ＭがＣｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、ＦｅおよびＣｏの群から選ばれる１種である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。
  9. 一般式（４）において、配位子Ｌ１が、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、メシチレン、メトキシベンゼン、アセチルベンゼン、クロロベンゼン、２−クロロトルエン、３−クロロトルエン、４−クロロトルエン、ナフタレン、１−メチルナフタレン、１−メトキシナフタレン、２−メトキシナフタレン、１−クロロナフタレン、２−クロロナフタレン、ビフェニル、インデン、ビレンまたはジフェニルスルフィドである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。
  10. 一般式（４）において、配位子Ｌ２が、インデン、フルオレンまたはシクロペンタジエンのアニオンである、請求項１〜９のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。
  11. 一般式（４）で表される化合物のカチオンが、（η5−シクロペンタジエニル）（η６−トルエン）Ｆｅ＋、（η5−シクロペンタジエニル）(η6−キシレン）Ｆｅ＋、（η5−シクロペンタジエニル）（η6−1−メチルナフタレン）Ｆｅ＋、（η5−シクロペンタジエニル）（η6−クメン）Ｆｅ＋、（η5−シクロペンタジエニル）（η6−メシチレン）Ｆｅ＋、（η5−シクロペンタジエニル）（η6−ビレン）Ｆｅ＋、（η5−フルオレニル）（η6−クメン）Ｆｅ＋、（η5−インデニル）（η6−クメン）Ｆｅ＋、ビス（η6−メシチレン）Ｆｅ２＋、ビス（η6−キシレン）Ｆｅ２＋、ビス（η6−クメン）Ｆｅ２＋、（η6−トルエン）（η6−キシレン）Ｆｅ２＋、（η6−クメン）（η6−ナフタレン）Ｆｅ２＋、ビス（η5−シクロペンタジエニル）Ｆｅ＋、ビス（η5−インデニル）Ｆｅ＋、（η5−シクロペンタジエニル）（η5−フルオレニル）Ｆｅ＋または（η5−シクロペンタジエニル）（η5−インデニル）Ｆｅ＋である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。
  12. 一般式（３）において、Ｒｆの炭素数が１〜８であり、水素原子がフッ素原子で置換された割合が９０％以上である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。
  13. 一般式（３）において、Ｒｆの炭素数が炭素数１〜４の直鎖または分岐のパーフルオロアルキル基である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。
  14. 一般式（３）で表されるフッ素化アルキルフルオロリン酸アニオンが、［（ＣＦ３ＣＦ２）３ＰＦ３］−、［（ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２）３ＰＦ３］−、［（（ＣＦ３）２ＣＦ)３ＰＦ３］−、［（（ＣＦ３）２ＣＦ)２ＰＦ４］−、［（（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２）３ＰＦ３］−、［（（ＣＦ３）２ＣＦＣＦ２）２ＰＦ４］−である、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。
  15. 層間絶縁膜またはマイクロレンズ形成用である請求項１〜１４のいずれか一項に記載の感放射線性樹脂組成物。
  16. 少なくとも以下の工程を以下に記載の順で含むことを特徴とする層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成方法。
    （１）請求項１５に記載の感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
    （２）該塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
    （３）現像工程、および
    （４）加熱工程。
  17. 請求項１６の方法により形成された層間絶縁膜またはマイクロレンズ。
JP2007243718A 2007-09-20 2007-09-20 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 Active JP5003375B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007243718A JP5003375B2 (ja) 2007-09-20 2007-09-20 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007243718A JP5003375B2 (ja) 2007-09-20 2007-09-20 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009075326A JP2009075326A (ja) 2009-04-09
JP5003375B2 true JP5003375B2 (ja) 2012-08-15

Family

ID=40610350

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007243718A Active JP5003375B2 (ja) 2007-09-20 2007-09-20 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5003375B2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010241948A (ja) * 2009-04-06 2010-10-28 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 放射線硬化性シリコーン組成物
EP2309648A1 (en) 2009-09-14 2011-04-13 Thomson Licensing Method for encoding floating-point data, method for decoding floating-point data, and corresponding encoder and decoder
JP5917150B2 (ja) * 2009-11-27 2016-05-11 Jsr株式会社 ポジ型感放射線性組成物、硬化膜及びその形成方法
CN103180784B (zh) * 2010-09-02 2016-01-20 东丽株式会社 感光性组合物、由其形成的固化膜及具有固化膜的元件
JP2012155226A (ja) * 2011-01-27 2012-08-16 Jsr Corp ポジ型感放射線性組成物、硬化膜、硬化膜の形成方法、表示素子、及び硬化膜形成用のポリシロキサン
JP5803635B2 (ja) * 2011-12-07 2015-11-04 Jsr株式会社 ポジ型感放射線性組成物、硬化膜、硬化膜の形成方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03288857A (ja) * 1990-04-06 1991-12-19 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> レジスト材料及び感光性樹脂組成物
JPH0551458A (ja) * 1991-08-23 1993-03-02 Fujitsu Ltd 有機けい素重合体およびこれを用いる半導体装置の製造方法
JP4148098B2 (ja) * 2002-10-24 2008-09-10 住友化学株式会社 感放射線性樹脂組成物
US7709598B2 (en) * 2004-05-28 2010-05-04 San-Apro Limited Fluorinated alkyl fluorophoshoric acid salts of onium and transition metal complex
JP4670693B2 (ja) * 2005-03-18 2011-04-13 東レ株式会社 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP2006284976A (ja) * 2005-04-01 2006-10-19 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、それから形成された突起およびスペーサー、ならびにそれらを具備する液晶表示素子
JP4581810B2 (ja) * 2005-04-21 2010-11-17 Ｊｓｒ株式会社 層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物およびマイクロレンズ形成用感放射線性組成物
JP5003081B2 (ja) * 2005-09-28 2012-08-15 東レ株式会社 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子
JP4677871B2 (ja) * 2005-10-03 2011-04-27 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成
JP5081627B2 (ja) * 2005-11-25 2012-11-28 サンアプロ株式会社 フッ素化アルキルフルオロリン酸スルホニウムの製造方法
JP2007193318A (ja) * 2005-12-21 2007-08-02 Toray Ind Inc 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜および硬化膜を有する素子
JP2007226214A (ja) * 2006-01-27 2007-09-06 Toray Ind Inc 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009075326A (ja) 2009-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4947300B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズならびにそれらの形成方法
JP4849251B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP4207581B2 (ja) 耐熱感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び電子部品
JP5240459B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズならびにそれらの形成方法
JP5003375B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP5003376B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
TWI430025B (zh) 感放射線性樹脂組成物、與層間絕緣膜及微透鏡之製法
KR101409552B1 (ko) 감방사선성 수지 조성물, 층간 절연막 및 마이크로렌즈, 및이들의 형성 방법
JP6123620B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、表示素子の絶縁膜、その形成方法及び表示素子
KR100942124B1 (ko) 절연막 형성용 감방사선성 조성물, 절연막 및 표시 소자
KR20140104355A (ko) 네거티브형 감광성 실록산 조성물
WO2009104680A1 (ja) 感放射線性樹脂組成物、その硬化物及び該組成物を用いた層間絶縁膜及び光学用デバイス
KR20130045172A (ko) 포지티브형 감광성 조성물
JP2011123450A (ja) ポジ型感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその形成方法
JP2009075284A (ja) 感放射線性樹脂組成物、液晶表示素子のスペーサーおよび保護膜ならびにそれらの形成方法
TW200903157A (en) Radiation-sensitive resin composition, interlayer insulation film and microlens, and method for manufacturing the same
TW201529668A (zh) 顯示元件的硬化膜的製造方法、感放射線性樹脂組成物及其應用、以及加熱裝置
WO2011065215A1 (ja) ポジ型感放射線性組成物、硬化膜及びその形成方法
JP2008145579A (ja) ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜、保護膜、絶縁膜およびそれを用いた半導体装置、表示体装置。
JP2010008603A (ja) 配線隔壁形成用感放射線性樹脂組成物ならびに配線隔壁およびその形成方法
TW200947132A (en) Positive radiation-sensitive resin composition, microlens, and method for forming microlens
JP4600644B2 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物、半導体装置及び表示素子、並びに半導体装置及び表示素子の製造方法
KR101432300B1 (ko) 감방사선성 수지 조성물, 층간 절연막 및 마이크로렌즈, 및이들의 제조 방법
JP2004107562A (ja) 液晶表示素子の層間絶縁膜を形成するための感放射線性組成物、それから形成された層間絶縁膜、および液晶表示素子
JP2005165185A (ja) 耐熱感光性樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100319

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111214

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111220

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120210

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120424

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120507

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150601

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5003375

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150601

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250