JPH03288857A - レジスト材料及び感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はネガパターンを高精度に再現し、かつ酸素プラ
ズマ耐性の高い高エネルギー線用のレジスト材料及び紫
外線に対してポジパターンを高精度に再現しつる感光性
樹脂組成物に関する。

〔従来の技術〕

ノボラック樹脂と感光剤のナフトキノンジアジドから成
るポジ形のフォトレジストは、高感度、高解像度、アル
カリ可溶性等の特徴を持つため、リソグラフィの分野に
おいて最近用いられている。さて、２層レジスト［Ｂ、
　Ｊ、リン（８，ＪＬｉｎ）、ソリッド　ステート　テ
クノロジー（Ｓｏｌｉｄ　５ｔａｔｅ　Ｔｅｃｈｎｏｌ
、）、第２４巻、第７３頁（１９８１）］において、高
形状比のパターンは基板上に形成したレジスト薄膜をマ
スクとして、酸素プラズマエツチング（０２ＲＩＢ）で
異方性エツチングすることによって得られている。この
０２ＲＩＢ耐性はレジスト材料にとって極めて重要視さ
れるようになっており、０．ＲＩＢにより酸化物を形成
するような材料、−船にはケイ素（シリコン）を含む材
料が０．ＲＩＢ耐性に優れているとされている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかるに、上記のレジストは、シリコン成分を含んでい
ないため０．ＲＩＢ耐性が悪いという欠点があった。こ
れを解決するため、ポリシロキサン系のレジスト材料が
提案されているが、この種の材料は一般にガラス転移温
度が低く、このため加工時にほこりが付き易い、膜厚制
御が困難、現像時のパターン変形による現像性低下など
の問題があり、プロセスとの適合性に大きな課題が残さ
れていた。

したがって、本発明の目的は、ガラス転移温度が高く、
また、０２旧Ｂ耐性に優れ、かつ、アルカリ現像タイプ
のレジスト材料及びそれを含む樹脂組成物を提供するこ
とにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明を４Ｊ１脱すれば、本発明の第１の発明はレジス
ト材料に関する発明であって、一種以上の多官能アルコ
キシシランの加水分解・縮合によって得られるポリシロ
キサンを含有するレジスト材料において、前記多官能ア
ルコキシシランの一部又は全部がオキシラン環を含有し
ていることを特徴とする。

そして、本発明の第２の発明は感光性樹脂組成物に関す
る発明であって、一種以上の多官能アルコキシシランの
加水分解・縮合によって得られるポリシロキサンとオル
トナフトキノン系化合物を含有する感光性樹脂組成物に
おいて、前記多官能アルコキシシランの一部又は全部が
オキシラン環を含有していることを特徴とする。

本発明は、前記の問題点を解決するために、まず、シロ
キサン結合を骨格構造とすることにより　０２ＲＩＢ耐
性を高め、多官能アルコキシシランを原料とすることに
よる梯子型の化学構造をとることによりガラス転移温度
を高め、また、オキシラン環を導入し、これを開環した
水酸基によりアルカリ溶解性を高めたものである。

本発明の第１の発明のレジスト材料を構成するポリシロ
キサンは、一般には次のような方法によって台底される
。まず、特定のアルコキシシランをエタノールなどのア
ルコールに溶解し、これに水と塩酸などの触媒を加える
。この触媒は場合によっては除いてもよい。この反応は
常温で進行するが、必要に応じて加熱してもよい。

所定時間経過後、反応溶液を水中に投入し、沈殿した生
成物をろ別した後乾燥する。この段階での生成物を実用
に供しても良いし、また、更に高重合体を所望する場合
には、生成物を適当な溶媒中、アルカリ触媒などにより
更に反応を進めれば良い。あるいは、バルク状で更に加
熱して縮合を進める方法も有効である。これらの反応過
程において、必要であればオキシラン環を開通するため
に、酸やアルカリなどの触媒を加えてもよい。

また、本発明の多官能アルコキシシランの加水分解・縮
合によって得られたポリシロキサンは、一般に末端にシ
ラノール基を有するため、これが縮合を起こし経時的に
特性を変化しつる可能性がある。これを避けるためには
、シリル化剤によりシラノール基を他の非反応性の置換
基に置換することができる。

本発明において用いられるオキシラン環（例えばエポキ
シ基）を有する多官能アルコキシシランは特に限定する
ものではなく、分子中に、オキシラン環を持つ２官能あ
るいは３官能のアルコキシシランである。具体的には、
３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グ
リシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３
，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシ
ラン、３−（Ｎ−アリル−Ｎグリシジル）アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、３−（Ｎ、Ｎ−ジグリシジル）
アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−グリンジルー
？Ｊ　。

Ｎ＝ビス〔３〜（メチルジメトキシシリル）プロピル〕
アミン、Ｎ−グリシジル−Ｎ、Ｎ−ビス−Ｃ３−（）　
！Ｊメト牛フシシリルプロピル〕アミン、３−グリシド
キシプロビルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプ
ロビルメチルジェトキシシラン、２−（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−（
Ｎ−アリル−Ｎ−グリシジル）アミノプロピルトリエト
キシシラン、３−　（Ｎ、Ｎ−ジグリシジル）アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、Ｎ−グリシジル−Ｎ、Ｎ−
ビス〔３−メチルジェトキシシリル）プロピル〕アミン
、Ｎ−グリシジル−Ｎ、Ｎ−ビス−［３−（）リエトキ
シシリル）プロピル〕アミン等が例示される。

また、本発明にはオキシラン環を有する多官能アルコキ
シシランと、汎用の金属アルコキシドあるいは金属塩化
物との共重合によって得られるポリシロキサンも含まれ
る。この種の汎用の金属アルコキシドは特に限定するも
のではないが、次のようなものが例示される。ジメトキ
シジメチルシラン、ジェトキシジメチルシラン、ジメト
キシメチル−３，３，３−トリフルオロプロピルシラン
、ジェトキシジビニルシラン、ジェトキシジエチルシラ
ン、３−アミノプロピルジェトキシメチルシラン、３−
　（２−アミノエチルアミノ）プロピルジメトキシメチ
ルシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、ジェトキ
シメチルフェニルシラン、ジメトキシジフェニルシラン
、ジェトキシジフェニルシラン、トリス（２−メトキシ
エトキシ）ビニルシラン、メチルトリメトキシシラン、
エチルトリメトキシシラン、３，３．３−トリフルオロ
プロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、３−（Ｎ−メチルアミノ）プロピルトリメトキシシ
ラン、メチルトリス−（２−アミノエトキシ）シラン、
トリアセトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラ
ン、エチルトリエトキシシラン、２−メルカプトエチル
トリメトキシシラン、３−　（２−アミノエチルアミノ
）プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシ
シラン、２−シアノエチルトリエトキシシラン、アリル
トリエトキシシラン、３−グリシドキシプロビルトリメ
トキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシル
トリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシンラ
ン、メチルトリプロポキシシラン、フェニルトリエトキ
シシラン、３−［：Ｎ−７リルー（２−アミノエチル）
］アミノプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−アリ
ル−Ｎ−グリシジル）アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、３−　（Ｎ、Ｎジグリシジル）アミノプロピルトリ
メトキシシラン、４−トリメトキシシリルテトラヒドロ
フタル酸無水物、４−トリエトキシシリルテトラヒドロ
フタル酸無水物、４−トリイソプロポキシシリルテトラ
ヒドロフタル酸無水物、４−トリメトキシシリルテトラ
ヒドロフタル酸、４トリエトキシシリルテトラヒドロフ
タル酸、４−トリイソプロポキシシリルテトラヒドロフ
タル酸、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン
、テトラブトキシシラン、テトラエトキシジルコン、テ
トラブトキシジルコン、テトライソプロポキシジルコン
、テトラメトキシゲルマン、テトラエトキシチタン、テ
トラブトキシチタン、テトラブトキシスズ、ペンタブト
キシニオブ、ペンタブトキシタリウム、トリエトキシボ
ロン、トリブトキシガリウム、ジブトキシ釦、トリブト
キシネオジム、トリブトキシエルビウム。これらのうち
、特に好ましいのは、原料の入手しやすさ、反応性、得
られた生成物の特性等の点から、フェニルトリエトキシ
シラン、メチルトリエトキシシラン及びテトラエトキシ
シランである。また、金属塩化物としては、ｎ−ブチル
トリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、エチルト
リクロロシラン、メチルトリクロロシラン、フェニルト
リクロロシラン、トリクロロビニルシラン、ジフェニル
ジクロロシラン等が例示される。

本発明において用いられる触媒は特に限定するものでは
なく、酸触媒及びアルカリ触媒が用いられる。このよう
に酸触媒としては、塩酸、フッ化水素酸、硝酸、硫酸、
酢酸、ギ酸等が例示される。また、アルカリ触媒として
は、アンモニア、水酸ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化カルシウム等が例示される。

第１の発明のポリシロキサンから戊るレジスト材料は適
当な感光剤との組合せで様々な用途に応用できる。本発
明の第２の発明はこのような組合せの一つであり、第１
の発明のポリシロキサンとオルトナフトキノン系の感光
剤とを含有する感光性樹脂組成物に関するものである。

前記のレジスト材料はアルカリ可溶性であるため、オル
トナフトキノン系化合物を加えることにより、ポジ型の
感光性樹脂組成物として利用できる。すなわち、本発明
の感光性樹脂は紫外線（ＵＶ）照射により、照射部分の
オルトナフトキノン系化合物が相応するインデンカルボ
ン酸となり、照射部はアルカリ現像で除去されるためポ
ジ型レジスト特性を示す。

また、高エネルギー線によりパターン露光した後、紫外
線を全面照射した後露光するイメージリバーサル法では
、ネガ型のパターンが形成できる。

この感光性樹脂組成物においてオルトナフトキノン系化
合物は、アルカリ液に対するレジストの溶解防止剤とし
ての役割を果す。オルトナフトキノン系化合物の添加量
は、通常５〜４０重量％の範囲であり、５％未満ではポ
リマー化合物のアルカリ現像液に対する溶解を抑制する
ことが困難であり、アルカリ現像ができなくなり、また
４０％を越えるとレジスト材料としてのシリコン含有率
が低下し、酸素プラズマ耐性が低下する。一般には２０
％程度が好ましい添加量である。

本発明におけるオルトナフトキノン系の感光剤とは特に
限定するものではないが、化合物中にナフトキノンジア
ジド（１）を含む感光剤をいう。一般には、多価フェノ
ールの水酸基にナフトキノンジアジドをスルホン酸エス
テルの形で結合させたものである。

次に、本発明の感光性樹脂組成物を用いて、パターンを
形成する方法の１例を述べる。まず、シリコンなどの基
板上に有機高分子材料の膜を形成し、その上に本発明の
感光性樹脂組成物を塗布して２層構造とする。次いで熱
処理した後、光照射して照射部分のみを現像溶媒に可溶
性とし、次いで現像により照射部の感光性樹脂組成物を
除去する。次に、非照射部の感光性樹脂組成物をマスク
とし、酸素ガスを用いるドライエツチングによって、下
層の有機高分子膜をエツチング除去することにより、パ
ターンを形成する。上記の有機高分子材料としては５酸
素プラズマによりエツチングされるものであればその種
類を問わないが、パターン形成後、これをマスクとして
基板をドライエツチングする際、耐性が必要とされるた
め、芳香族含有ポリマーが望ましい。

以下、本発明におけるポリシロキサンの合成例を示すが
、これらに限定されるものではない。

合成例１ ３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン２３．６
ｇ（０，１モル）をエタノールに溶解し、かくはんしな
がらこれに塩酸水溶液を添加した。

常温で２４時間反応させた後、更に６０℃で１４４時間
反応させた。室温に冷却後アンモニアを加えて更に２４
時間反応を続けた。反応後、反応溶液を蒸留水中に投入
し、生成した沈殿物をろ別し白色のポリマーを得た。生
成物はテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、エタノール、エ
チレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソル
ブ）　　メチルイソブチルケトン（Ｍ　Ｉ　ＢＫ）、ア
セトン等の溶媒に可溶であった。これらの溶液からは透
明で均一な膜が得られた。

合成例２ ３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１１．８
ｇ（０，０５モル〉及びフェニルトリエトキシシラン１
２．０ｇ（０，０５モル）をエタノールに溶解し、かく
はんしながらこれに塩酸水溶液を添加した。常温で２４
時間反応させた後、更に６０℃で１４４時間反応させた
。反応後反応溶液を蒸留水中に投入し、生成した沈殿物
をろ別し白色のポリマーを得た。生成物はＴＨＦ。

エタノール、エチルセロソルブ、ＭＩＢＫ、ア七トン、
酢酸エチル等の溶媒に可溶であった。

これらの溶液からは透明で均一な膜が得られた。

合成例３ ３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１１．８
ｇ（０，０５モル）及びメチルトリエトキシシラン８．
９ｇ（０，０５モル）をエタノールに溶解し、かくはん
しながらこれに塩酸水溶液を添加した。常温で２４時間
反応させた後、更に６０℃で１４４時間反応させた。反
応後反応溶液を蒸留水中に投入し、生成した沈殿物をろ
別し白色のポリマーを得た。生成物はＴＨＦ。

エタノール、エチルセロソルブ、ＭＩＢＫ、アセトン、
酢酸エチル等の溶媒に可溶であった。

これらの溶液からは透明で均一な膜が得られた。

合成例４ ３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン４．７２
　ｇ　（０，０２モル〉、メチルトリエトキシシラン８
．９ｇ（０，０５モル）及びテトラエトキシシラン６．
２４ｇ（０，０３モル）をエタノールに溶解し、かくは
んしながらこれに塩酸水溶液を添加した。常温で６時間
反応させた後、アンモニア水を加えて更に６０℃２４時
間反応させた。反応後反応溶液を蒸留水中に投入し、生
成した沈殿物をろ別し白色のポリマーを得た。

生成物はＴＨＦ、エタノール、エチルセロソルブ、Ｍ　
Ｉ　ＢＫ、アセトン、酢酸エチル等の溶媒に可溶であっ
た。これらの溶液からは透明で均な膜が得られた。

合成例５ ２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメ
トキシシラン２４．６ｇ（０，１モル）をエタノールに
溶解し、かくはんしながらこれに塩酸水溶液を添加した
。常温で２４時間反応させた後、更に６０℃で１４４時
間反応させた。

反応後、反応溶液を蒸留水中に投入し、生成した沈殿物
をろ別し白色のポリマーを得た。生成物はＴＨＦ、エタ
ノール、エチルセロソルブ、Ｍ　Ｉ　ＢＫ、アセトン等
の溶媒に可溶であった。

これらの溶液からは透明で均一な膜が得られた。

第１図は生成物フィルムの赤外スペクトルを波数（ｃｍ
”’、横軸〉と透過率（％、縦軸）との関係で示した図
である。モノマーの赤外スペクトルに認められた８、３
７μｍのメトキシ基の吸収が大幅に減少しており、また
、１１．３μｍのオキシラン環の吸収も減少している。

更に、モノマーには見られなかった２、９６μｍのＯＨ
基の吸収が認められ、水酸基を持つポリシロキサンの生
成が確認された。

合成例６ ２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメ
トキシシラン１２．３ｇ（０°０５モル）及びフェニル
トリエトキシシラン１２．０ｇ（０，０５モル）をエタ
ノールに溶解し、かくはんしながらこれに塩酸水溶液を
添加した。常温で２４時間反応させた後、更に６０℃で
１４４時間反応させた。反応後反応溶液を蒸留水中に投
入し、生成した沈殿物をろ別し白色のポリマーを得た。

生成物はＴＨＦ、エタノール、エチルセロソルブ、ＭＩ
ＢＫ、アセトン、酢酸エチル等の溶媒に可溶であった。

これらの溶液からは透明で均一な膜が得られた。

合成例７ ２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメ
トキシシラン１２．３ｇ（０，０５モル〉及びメチルト
リエトキシシラン８．９ｇ（０，０５モル）をエタノー
ルに溶解し、かくはんしながらこれに塩酸水溶液を添加
した。常温で２４時間反応させた後、更に６０℃１４４
時間反応させた。反応後反応溶液を蒸留水中に投入し、
生成した沈殿物をろ別し白色のポリマーを得た。

生成物はＴＨＦ、エタノール、エチルセロソルブ、ＭＩ
ＢＫ、アセトン、酢酸エチル等の溶媒に可溶であった。

これらの溶液からは透明で均な膜が得られた。

合成例８ ２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメ
トキシシラン４．９２ｇ（０，０２モル）、メチルトリ
エトキシシラン８．９ｇ（０，０５モル〉及びテトラエ
トキシシラン６．２４ｇ（０，０３モル）をエタノール
に溶解し、かくはんしながらこれに塩酸水溶液を添加し
た。常温で６時間反応させた後、アンモニア水を加えて
更に６０℃２４時間反応させた。室温に冷却後、アンモ
ニアを加え更に１２時間反応を続けた。反応後反応溶液
を蒸留水中に投入し、生成した沈殿物をろ別し白色のポ
リマーを得た。生成物はＴＨＦ、エタノール、エチルセ
ロソルブ、ＭＩＢＫ、アセトン、酢酸エチル等の溶媒に
可溶であった。

これらの溶液からは透明で均一な膜が得られた。

合成例９ ．３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン４．７
２ｇ（０，０２モル）、メチルトリエトキシシラン８．
９ｇ（０，０５モル）及びテトライソプロポキシチタン
８．５２ｇ（０，０３モル）をエタノールに溶解し、か
くはんしながらこれに塩酸を添加した。還流下で１２時
間反応させた後、常温に戻し水を加え１４４時間反応さ
せた。反応後反応溶液を蒸留水中に投入し、生成した沈
殿物をろ別し白色のポリマーを得た。生成物はＴＨＦ、
エタノール、エチルセロソルブ、ＭＩＢＫ、アセトン、
酢酸エチル等の溶媒に可溶であった。これらの溶液から
は透明で均一な膜が得られた。

合成例１０ ２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメ
トキシシラン４．９２　ｇ　（０，０２モル）及びフェ
ニルトリエトキシシランｌ　９．２　ｇ　（０，０８モ
ル）をエタノールに溶解し、かくはんしながらこれに塩
酸水溶液を添加した。常温で２４時間反応させた後、更
に６０℃で１４４時間反応させた。反応後反応溶液を蒸
留水中に投入し、生成した沈殿物をろ別し白色のポリマ
ーを得た。生成物はＴＨＦ、エタノール、エチルセロソ
ルブ、ＭＩＢＫ、アセトン、酢酸エチル等の溶媒に可溶
であった。これらの溶液からは透明で均一な膜が得られ
た。

合成例１１ ２〜（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメ
トキシシラン２．４６　ｇ　（０，０１モル〉、４−ト
リメトキシシリルテトラヒドロフタル酸無水物２．７２
　ｇ　（０，０１モル）及びフェニルトリエトキシシラ
ン１９．２　ｇ　（０，０８モル）をエタノールに溶解
し、かくはんしながらこれに塩酸水溶液を添加した。常
温で２４時間反応させた後、更に６０℃で１４４時間反
応させた。反応後反応溶液を蒸留水中に投入し、生成し
た沈殿物をろ別し白色のポリマーを得た。生成物はＴＨ
Ｆ、エタノール、エチルセロソルブ、ＭＩＢＫ、アセト
ン、酢酸エチル等の溶媒に可溶であった。これらの溶液
からは透明で均一な膜が得られた。

合成例１２ ２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメ
トキシシラン４．９２　ｇ　（０，０２モル）及びメチ
ルトリエトキシシラン１４．２　ｇ　（０，０８モル）
をエタノールに溶解し、かくはんしながらこれに塩酸水
溶液を添加した。常温で２４時間反応させた後、更に６
０℃で１４４時間反応させた。反応後反応溶液を蒸留水
中に投入し、生成した沈殿物をろ別し白色のポリマーを
得た。

生成物はＴ　ＨＦ　、エタノール、エチルセロソルブ、
ＭＩＢＫ、アセトン、酢酸エチル等の溶媒に可溶であっ
た。これらの溶液からは透明で均一な膜が得られた。

［実施例］ 以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明するが
、本発明は以下の例に限定されるものではない。

実施例１ 合成例１−１２で得たレジスト材料のエチルセロソルブ
溶液でスピンコード法により約０．３μｍの厚さでシリ
コンウェハに塗布し、８０℃で２０分プリベークした。

ブリベータ後、高１ネルギー線（電子線、Ｘ線、遠紫外
線）を照射した。照射後、マイクロポジット２４０１　
　（シブレイ社製）と水の比がＩ／Ｉの現像液でそれぞ
れ現像し、照射部の残膜が初期膜厚の５０％となる照射
量を感度として求めた。また、解像性はライン＆スペー
スパターンで解像しつる最小パターン寸法を測定した。

感度と最小バターン寸法を表 １ に示す。

実施例２ 合成例１−１２で得たレジスト材料にノボラック系のナ
フトキノン化合物を２０重量％添加した感光性樹脂組成
物を約１．２μｍの厚さでシリコンウェハに塗布し、８
０℃で２０分間プリベークした。ブリベータ後マスクア
ライナ−（キャノン社製）を用いて紫外線照射した。照
射後、実施例１と同じ現像液で現像し、照射部の残膜が
０となる照射量を感度として求めた。

表２に感度と解像性を示す。解像性はライン＆スペース
パターンを形成して評価し、いずれの材料も０．５μｍ
幅のパターンが形成できた。

実施例３ シリコンウェハにＡＺ−１３５０レジスト（ヘキスト社
魁）を３μｍの厚さに塗布し、２００℃で３０分間加熱
し不溶化させた。このＡＺレジストの上に実施例２で用
いたレジスト材料を実施例２と同様な操作で約１．２μ
ｍの厚さに塗布し、８０℃で２０分間プリベークした。

ブリベータ後、０．５μｍのライン＆スペースのパター
ンを持つクロムマスクを通して紫外線を照射し、実施例
２と同一組成の現像液で現像を行ったところ、マスクの
パターンがレジスト材料に転写された。その後、平行平
板型スパッタエツチング装置で酸素ガスをエツチングガ
スとして、またレジストパターンをマスクとしてＡ２レ
ジストをエツチングした。ＲＦパワー０．２Ｗ／ｃｍ２
．０．ガス圧２０ミリトールの条件で１５分エツチング
することにより、レジストパターンに覆われていない部
分のＡＺレジストは完全に消滅した。

また、実施例２で用いたいずれのレジスト材料でも０．
５μｍライン＆スペースパターンが約２μｍの厚さで形
成できた。

実施例４ 実施例２で用いた感光性樹脂組成物は電子線、Ｘ線、紫
外線を用いたイメージリバーサル法によってもパターン
が形成できることが確認された。

〔発明の効果］ 以上税目したように、本発明のレジスト材料はアルカリ
可溶性のポリシロキサンであり、高エネルギー線照射に
より架橋を生じるため、アルカリ現像可能な非膨潤型ネ
ガ型レジストになる。また、シリコンを含有するため酸
素プラズマ耐性が高く、したがって、２層レジストの上
層レジストとして使用できる。他方、上記レジストにオ
ルトナフトキノン系化合物を添加した感光性樹脂組成物
は紫外線に対し高感度のポジ型レジストとなる。

いずれもアルカリ現像が可能であり、また、２層レジス
トに使用できるため、０．５μｍ以下の微細パターンが
高アスペクト比で形成できる利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は合成例５において台底した生成物の赤外スペク
トルを示す図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一種以上の多官能アルコキシシランの加水分解・縮
   合によって得られるポリシロキサンを含有するレジスト
   材料において、前記多官能アルコキシシランの一部又は
   全部がオキシラン環を含有していることを特徴とするレ
   ジスト材料。 ２、一種以上の多官能アルコキシシランの加水分解・縮
   合によって得られるポリシロキサンとオルトナフトキノ
   ン系化合物を含有する感光性樹脂組成物において、前記
   多官能アルコキシシランの一部又は全部がオキシラン環
   を含有していることを特徴とする感光性樹脂組成物。