JP2006165559A - 薄膜トランジスタ、その製造方法及び薄膜トランジスタを備えた平板表示装置 - Google Patents
薄膜トランジスタ、その製造方法及び薄膜トランジスタを備えた平板表示装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極と絶縁されたソース及びドレイン電極と、ゲート電極と絶縁され、ソース及びドレイン電極にそれぞれ接する有機半導体層と、ソース及びドレイン電極及び有機半導体層とゲート電極とを絶縁させる絶縁層と、ゲート電極と連結された第1配線と、ソース及びドレイン電極の何れか一つと連結された第2配線と、を備え、ゲート電極、第1配線、ソース及びドレイン電極、及び、第2配線のうち、少なくとも何れか一つが、導電性ナノ粒子及び硬化性樹脂の硬化物を含む薄膜トランジスタである。また、その製造方法及び薄膜トランジスタを備えた平板表示装置である。これにより、薄膜トランジスタのうち導電性膜は、精密なパターンを有し、低コストの低温工程で製造されうる。
【選択図】図2
Description
実施例1
硬化性樹脂としてフォトレジストインク(Clriant社製)及び導電性ナノ粒子としてAg粒子が含まれたAgインク(Cabot社製、Ag粒子の平均粒径は30nmである)を準備し、9:1の重量比で混合した。前記混合物をガラス基板上に900rpmで30秒間スピンコーティングした後、110℃で2分30秒間ソフトベーキングさせた。この後、第1配線パターンに沿って25mJ/cm2の露光エネルギーに5秒間露光させた後、現像液に60秒間浸漬させて現像した。それを130℃で3分間ハードベーキングさせ、幅が15μmであり、高さが1μmであるパターンを形成した。
硬化性樹脂として5wt%のPVA溶液及び導電性ナノ粒子としてAg粒子が含まれたAgインク(Cabot社製、Ag粒子の平均粒径は30nmである)を準備し、9:1の重量比で混合した。前記混合物をガラス基板上に1000rpmで30秒間スピンコーティングした後、常温で10分間乾燥させた。この後、第1配線パターンに沿って600mJ/cm2の露光エネルギーに120秒間露光させた後、現像液に60秒間浸漬させて現像した。それを100℃で20分間ハードベーキングさせ、幅が15μmであり、高さが1μmであるパターンを形成した。
12、22 ゲート電極
12a 第1配線
13、23 絶縁層
14、24 ソース及びドレイン電極
14a 第2配線
15、25 有機半導体層
27 パッシベーション膜
28 画素分離膜
30 OLED
31 第1電極
33 第2電極
Claims (13)
- ゲート電極と、
前記ゲート電極と絶縁されたソース及びドレイン電極と、
前記ゲート電極と絶縁され、前記ソース及びドレイン電極にそれぞれ接する有機半導体層と、
前記ソース及びドレイン電極及び前記有機半導体層と前記ゲート電極とを絶縁させる絶縁層と、
前記ゲート電極と連結された第1配線と、
前記ソース及びドレイン電極の何れか一つと連結された第2配線と、を備え、
前記ゲート電極、前記第1配線、前記ソース及びドレイン電極、及び、前記第2配線のうち、少なくとも何れか一つが導電性ナノ粒子及び硬化性樹脂の硬化物を含むことを特徴とする薄膜トランジスタ。 - 前記導電性ナノ粒子は、Au、Ag、Cu、Ni、Pt、Pd及びAlのナノ粒子からなる群から選択された一つ以上であることを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記導電性ナノ粒子は、2.0m2/gないし10.0m2/gの比表面積を有することを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記導電性ナノ粒子は、10nmないし100nmの平均粒径を有することを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記硬化性樹脂の硬化物は、フタレート系樹脂、エポキシ樹脂、ウレア系樹脂、メラミン系樹脂、アセチレン系樹脂、ピロール系樹脂、チオフェン系樹脂、オレフィン系樹脂及びアルコール系樹脂からなる群から選択された一つ以上の硬化物であることを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記硬化性樹脂の硬化物は、ポリエチレンフタレート、ポリブチレンフタレート、ポリジヒドロキシメチルシクロヘキシルテレフタレート、ウレア−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン(2,4,6−トリアミノ−1,3,5−トリアジン−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ウレア樹脂、メラミン−フェノル樹脂、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリ(3−アルキルチオフェン)、ポリフェニレンビ二リデン、ポリエチレンビ二リデン及びポリビニルアルコールからなる群から選択された一つ以上の硬化物であることを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記ゲート電極、前記第1配線、前記ソース及びドレイン電極、及び、前記第2配線のうち、少なくとも何れか一つの表面粗度が5Åないし500Åであることを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
- 前記有機半導体層は、ペンタセン、テトラセン、アントラセン、ナフタレン、α−6−チオフェン、α−4−チオフェン、ペリレン及びその誘導体、ルブレン及びその誘導体、コロネン及びその誘導体、ペリレンテトラカルボン酸イミド及びその誘導体、ペリレンテトラカルボン酸ニ無水物及びその誘導体、ポリチオフェン及びその誘導体、ポリパラフェニレンビニレン及びその誘導体、ポリパラフェニレン及びその誘導体、ポリフロレン及びその誘導体、ポリチオフェンビニレン及びその誘導体、ポリチオフェン−複素環芳香族共重合体及びその誘導体、ナフタレンのオリゴアセン及びそれらの誘導体、α−5−チオフェンのオリゴチオフェン及びそれらの誘導体、金属含有/非含有のフタロシアニン及びそれらの誘導体、ピロメリット酸二無水物及びその誘導体、ピロメリット酸ジイミド及びそれらの誘導体からなる群から選択された一つ以上の物質であることを特徴とする請求項1に記載の薄膜トランジスタ。
- 導電性ナノ粒子及び硬化性樹脂を含む硬化性ペースト組成物を提供する工程と、
前記硬化性ペースト組成物を基板に塗布する工程と、
ゲート電極、前記ゲート電極と連結された第1配線、ソース及びドレイン電極、及び、前記ソース及びドレイン電極の何れか一つと連結された第2配線のうち、少なくとも何れか一つのパターンに沿って前記硬化性ペースト組成物を硬化させる工程と、
未硬化の硬化性ペースト組成物を除去し、前記ゲート電極、前記第1配線、前記ソース及びドレイン電極、及び、前記第2配線のうち、少なくとも何れか一つを形成する工程と、を含む薄膜トランジスタの製造方法。 - 前記硬化性ペースト組成物は、TEOS、テルピネオール、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、トルエン及びテキサノールからなる群から選択された一つ以上のビークルをさらに含むことを特徴とする請求項9に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記硬化性ペースト組成物の粘度は、10cpsないし100cpsであることを特徴とする請求項9に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 前記硬化工程をUVレーザーまたはIRレーザーを利用して行うことを特徴とする請求項9に記載の薄膜トランジスタの製造方法。
- 請求項1ないし請求項8の何れか1項に記載の薄膜トランジスタを各副画素に備え、前記薄膜トランジスタのソース電極またはドレイン電極に画素電極が接続されたことを特徴とする平板表示装置。
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