JP2006080267A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 実装基板との接続信頼性に優れる半導体装置を低コストかつ短時間で製造する方法を提供する。
【解決手段】 半導体チップと略同一の寸法に封止される半導体装置を製造する方法であって、主面に複数の電極パッドを有する半導体ウエハを準備するステップと、主面上に電極パッドと接続される導体ポストを形成するステップと、主面上を封止樹脂で覆うステップと、封止樹脂を研削して導体ポストの頂面を露出させるステップと、封止樹脂をブラスト加工により研磨して導体ポストの頂面近傍の側面を露出させるステップと、封止樹脂から露出した導体ポストに接続される外部電極を形成するステップと、を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【選択図】 図３

Description

本発明は、半導体装置の製造方法、特に、チップサイズパッケージ型の樹脂封止半導体装置の製造方法に関する。
近年、ノートパソコンや携帯電話に代表される携帯機器が急速に普及し、それに搭載される半導体装置の小型化、薄膜化、軽量化が要求されている。これを実現するキーテクノロジーの一つとして、半導体チップのサイズに限りなく近づけたＣＳＰ（Ｃｈｉｐ Ｓｉｚｅ Ｐａｃｋａｇｅ）などの高密度パッケージがある。特に、封止工程をウエハ状態で行うＷ−ＣＳＰ（Ｗａｆｅｒ Ｌｅｖｅｌ Ｃｈｉｐ Ｓｉｚｅ Ｐａｃｋａｇｅ）は、製造コストの低減化などが期待できることから、究極の小型パッケージとして注目を集めている。
一般的なＷ−ＣＳＰの構造は、半導体チップの電極パッドに接続される再配線層と、再配線層に接続される導体ポストと、導体ポストと略一の高さで半導体チップ上を覆う封止樹脂と、導体ポストの先端に形成される電極とからなっている。そして、Ｗ−ＣＳＰタイプの半導体装置を実装基板、例えば、プリント配線基板に実装するには、Ｗ−ＣＳＰの外部電極、例えば、半田の球状電極と、実装基板上に形成される接続パッドとを融解接合する。この時、落下や振動などの物理的衝撃や、温度の寒暖差などによる熱応力から接合部を保護するため、半導体装置と実装基板との界面に樹脂、いわゆる、アンダーフィルを充填することが行われている。
しかしながら、半導体装置と実装基板との界面にアンダーフィルを充填して接続信頼性を向上させる方法は、アンダーフィルの充填や硬化に時間を要するため、製造コストの増大と生産性の低下を引き起こしていた。そこで、アンダーフィルを使用せずに半導体装置と実装基板との接続信頼性を向上させる種々の方法が提案されている。
チップサイズパッケージにおける接続信頼性の向上に関する発明が、例えば、特許文献１乃至７に記載されている。
特許文献１乃至３に記載の発明は、封止樹脂から突起電極（導体ポストに相当）の先端部を露出し、露出された突起電極の先端部を実装基板と接続している。突起電極を覆う樹脂層は樹脂封止工程において形成されるため、半導体装置を実装基板に実装する際にアンダーフィルを充填する必要がなくなり、実装工程の簡略化を実現することができる。なお、特許文献１乃至３に記載の発明では、封止樹脂に覆われた突起電極の先端部を露出する手段として、レーザ、エッチング、機械研磨及びブラストなどが開示されている。
特許文献４に記載の発明は、導体ポストの頂面にニッケルめっき膜と、パラジウムめっき膜と、金めっき膜との３層膜を形成している。これにより、導体ポストと外部電極、例えば、半田の球状電極との接合性を向上させている。なお、特許文献４に記載の発明では、公知の圧縮成形法で樹脂封止を行っている。すなわち、封止用フィルムが配設された金型で半導体装置の表面に樹脂を圧縮付勢して封止する。この時、封止用フィルムに導体ポストの先端部がめり込んだ状態になることで、導体ポストの表面が樹脂封止から露出される。
特許文献５に記載の発明は、導体ポストの頂面にニッケルめっき膜と、パラジウムめっき膜と、半田めっき膜との３層膜を形成している。これにより、導体ポストと外部電極、例えば、半田の球状電極との接合性を向上させている。また、半田めっき膜の端面が封止樹脂の外表面よりも突出すると共に、半田めっき膜が接する半田めっき膜の下地層との界面が封止樹脂の外表面よりも内側位置にあるように形成している。これにより、導体ポストと球状電極との接合部が封止樹脂の内壁面とニッケルめっき膜とによって囲まれた凹部内で支持されることになり、外部電極の耐久性が向上する。なお、特許文献５に記載の発明では、公知の圧縮成形法で樹脂封止を行っている。すなわち、封止用フィルムが配設された金型で半導体装置の表面に樹脂を圧縮付勢して封止する。この時、封止用フィルムに導体ポストの先端部がめり込んだ状態になることで、導体ポストの表面が樹脂封止から露出される。
特許文献６に記載の発明は、封止樹脂と半導体チップとの熱膨張率の差に起因して発生する半導体装置の反りを防止するため、２枚の半導体チップを裏面で貼り合わせた両面対称構造の半導体装置を形成し、半導体装置全体の反りを低減している。これにより、半導体装置と実装基板との接続信頼性を向上させている。なお、特許文献６に記載の発明では、公知の圧縮成形法で樹脂封止を行っている。すなわち、封止用フィルムが配設された金型で半導体装置の表面に樹脂を圧縮付勢して封止する。この時、封止用フィルムに導体ポストの先端部がめり込んだ状態になることで、導体ポストの表面が樹脂封止から露出される。
特許文献７に記載の発明は、レーザ照射により導体ポスト周辺の封止樹脂に溝を形成し、半田の球状電極が導体ポストの頂面及び側面の一部で接合されるようにしている。これにより、導体ポストと球状電極との接合力を増大させ、半導体装置と実装基板との接続信頼性を向上させている。また、特許文献６に記載の発明では、封止樹脂を研削して導体ポストの表面を一旦露出させてからレーザ加工している。
特開平１０−７９３６２号公報（第１８−１９頁、第１９−２１図） 特開２０００−２９４５７８号公報（第１８−１９頁、第１９−２１図） 特開２００３−１９７６５５号公報（第１８−１９頁、第１９−２１図） 特開２０００−２１６１１１号公報（第３−４頁、第２図） 特開２０００−２１６１８５号公報（第４−５頁、第２−３図） 特開２０００−２７７６８２号公報（第８−９頁、第１−２図） 特開２０００−３５３７６６号公報（第３−４頁、第１−２図）
上述したように、チップサイズパッケージの接続信頼性を向上させる方法には種々あるが、それぞれに対して次のような課題が考えられる。
特許文献１乃至３に記載の発明では、封止樹脂から突起電極の先端を露出させるためにレーザ、エッチング、機械研磨及びブラストなどで表面加工を行っている。しかしながら、封止樹脂に完全に覆われた状態からレーザ加工、エッチング加工及びブラスト加工を行う場合、その処理時間が長くなってしまう。また、機械研磨を行えば処理時間が短縮できるが、機械研磨のみで突起電極の先端を封止樹脂から精度よく露出させることは困難である。
特許文献４に記載の発明では、導体ポストの頂面にニッケルめっき膜と、パラジウムめっき膜と、金めっき膜との３層膜を形成して、導体ポストと外部電極との接合性を向上させている。しかしながら、銅めっきで形成される導体ポストは１００μｍと厚く、導体ポストの高さにはかなりの個体差が存在するものと思われる。そのため、導体ポスト上に形成される外部電極をも含めた最終的な高さにバラツキを生じ、半導体装置と実装基板との接続高さが不均一になってしまう。これにより、半導体装置と実装基板との接合部位において局所的な応力集中が発生し、接合部位の破壊を誘発する虞がある。
特許文献５に記載の発明では、導体ポストの頂面にニッケルめっき膜と、パラジウムめっき膜と、半田めっき膜との３層膜を形成して、導体ポストと外部電極との接合性を向上させている。しかしながら、特許文献４と同様に、銅めっきで形成される導体ポストは１００μｍと厚く、導体ポストの高さにはかなりの個体差が存在するものと思われる。そのため、導体ポスト上に形成される外部電極をも含めた最終的な高さにバラツキを生じ、半導体装置と実装基板との接続高さが不均一になってしまう。これにより、半導体装置と実装基板との接合部位において局所的な応力集中が発生し、接合部位の破壊を誘発する虞がある。また、特許文献５に記載の発明では、導体ポストと外部電極との接合部が封止樹脂の内壁面とニッケルめっき膜とによって囲まれた凹部内で支持されるようして外部電極の耐久性を向上させている。しかしながら、この構造では、熱応力のように比較的緩やかに加わる力に対しては効果的ではあるが、落下や振動などのように瞬間的に加わる衝撃力に対しては十分な効果が得られない。
特許文献６に記載の発明では、特許文献４及び５と同様に、導体ポストの高さにはかなりの個体差が存在するものと思われる。そのため、導体ポスト上に形成される外部電極をも含めた最終的な高さにバラツキを生じ、半導体装置と実装基板との接続高さが不均一になってしまう。これにより、半導体装置と実装基板との接合部位において局所的な応力集中が発生し、接合部位の破壊を誘発する虞がある。
特許文献７に記載の発明では、導体ポスト周辺の封止樹脂に溝を形成し、半田の球状電極が導体ポストの頂面及び側面の一部で接合されるようにして導体ポストと球状電極との接合力を増大させている。しかしながら、溝の形成をレーザ照射で行うため、加工に時間を要してしまう。そのため、今後の半導体装置の多ピン化傾向を考慮すると、製造コスト及び時間の面で十分ではない。
本発明に係る半導体装置の製造方法は、半導体チップと略同一の寸法に封止される半導体装置を製造する方法であって、主面に複数の電極パッドを有する半導体ウエハを準備するステップと、主面上に電極パッドと接続される導体ポストを形成するステップと、主面上を封止樹脂で覆うステップと、封止樹脂を研削して導体ポストの頂面を露出させるステップと、封止樹脂をブラスト加工により研磨して導体ポストの頂面近傍の側面を露出させるステップと、封止樹脂から露出した導体ポストに接続される外部電極を形成するステップと、を含むことを特徴とする。
本発明によれば、まず、通常の研削法（グラインド）を用いて封止樹脂から導体ポストの頂面を一旦露出させる。次に、ブラスト法を用いて導体ポストの頂面近傍の側面を所定の高さ分だけ露出させ、その後導体ポストに接続する外部電極を形成する。これにより、外部電極が導体ポストの頂面及び側面の一部で接合される構造となるため、導体ポストと外部電極との接合力が増大し、半導体装置と実装基板との接続信頼性が向上する。また、導体ポスト側面の露出加工をブラスト法で行うため、ウエハ一括の簡略的な処理が可能となり、レーザ法などによる露出加工に比べて加工時間を短縮することができると共に、製造コストを低減することができる。さらに、ブラスト法による導体ポスト側面の露出加工に先立ち、研削法（グラインド）による導体ポスト頂面の露出加工を行うことで、半導体装置の表面が平坦化され導体ポストの高さが均一となると共に、導体ポストの露出加工を全てブラスト法で行うよりも加工時間を短縮することができる。
（１）第１実施形態
図１は、本発明の第１実施形態に係る製造方法により製造された樹脂封止半導体装置１００の一部の断面構造図である。
樹脂封止半導体装置１００は、半導体チップ１と、保護膜２及び３と、電極パッド４と、再配線層５と、導体ポスト６と、球状電極７と、封止樹脂８とを備えている。
半導体チップ１は、素子形成面１ａ側に保護膜２と電極パッド４とを備えており、素子形成面１ａにはトランジスタなどの半導体素子によって電子回路（図示せず）が構成されている。保護膜２は、機械的応力や不純物の進入から半導体チップ１を保護するためのパッシベーションであり、例えば、シリコン酸化膜（ＳｉＯ２）やシリコン窒化膜（Ｓｉ３Ｎ４）などが使用される。電極パッド４は、半導体チップ１と外部との間で電気信号のやり取りをするもので、素子形成面１ａに形成された半導体素子（図示せず）と電気的に接続されている。保護膜３は、電極パッド４の上方を除いて半導体チップ１上に形成され、例えば、ポリイミド樹脂などが使用される。再配線層５は、保護膜３上に形成され、電極パッド４と電気的に接続している。導体ポスト６は、再配線層５と球状電極７とを接続している。再配線層５及び導体ポスト６は、例えば、Ｃｕ（銅）やＡｌ（アルミニウム）などの金属が使用される。球状電極７は、導体ポスト６上に形成され、樹脂封止半導体装置１００を外部装置、例えば、プリント配線基板などと接続するための端子であり、一般的には半田が使用される。封止樹脂８は、保護膜３と、再配線層５と、導体ポスト６とを封止し、例えば、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂が使用される。なお、樹脂封止半導体装置１００において、導体ポスト６の高さは約８０〜９０μｍであり、導体ポスト６の径は約２５０μｍである。また、封止樹脂８は、導体ポスト６の頂面及び側面の一部を露出するように導体ポスト６の高さよりも所定の厚さｄ、例えば、１０μｍ程度薄く形成されており、封止樹脂８より露出した導体ポスト６の頂面及び側面の一部に接合するように球状電極７が形成されている。
次に、本発明の第１実施形態に係る樹脂封止半導体装置１００の製造方法を説明する。図２乃至３は、樹脂封止半導体装置１００の製造工程を簡略に示したものである。なお、Ｗ−ＣＳＰでは、封止工程をウエハ状態で行うため、図２乃至３はウエハ状態での加工となる。
まず、図２（ａ）に示すように、ウエハ検査によって電気的特性が評価された半導体ウエハ１’を準備する。半導体ウエハ１’は、素子形成面１ａ側に保護膜２と電極パッド４とを備えている。素子形成面１ａには、トランジスタなどの半導体素子によって電子回路（図示せず）が構成されており、電極パッド４はそれらの半導体素子と電気的に接続している。また、電極パッド４の上方を除いて保護膜２が形成されている。保護膜２は、一般的にはシリコン酸化膜（ＳｉＯ２）であるが、シリコン窒化膜（Ｓｉ３Ｎ４）であってもよい。
次に、図２（ｂ）に示すように、半導体ウエハ１’の全面にポリイミド樹脂を塗布し、ホトリソエッチングにより電極パッド４の上方を除いて保護膜３を形成する。続いて、スパッタ法でＣｕを堆積し、ホトリソエッチングにより電極パッド４と接続するように再配線層５を形成する。なお、再配線層５の材料として、Ｃｕの代わりにＡｌなどを使用することも可能である。続いて、再配線層５の一部にめっき法によりＣｕの導体ポスト６を、例えば、高さ１００μｍ、径２５０μｍで形成する。めっき工程は、例えば、半導体ウエハ１’の全面にレジストを塗布した後、再配線層５の一部を露出するようにレジストを加工して開口部を形成する。次に、半導体ウエハ１’をＣｕのめっき液に漬け込み、開口部にめっき液を充填させる。めっき液が固まった後、レジストを除去すれば再配線層５上に導体ポスト６が形成される。なお、導体ポスト６の材料として、Ｃｕの代わりにＡｌなどを使用することも可能である。
次に、図２（ｃ）に示すように、保護膜３と、再配線層５と、導体ポスト６とを封止樹脂８、例えば、エポキシ樹脂などで封止する。この時、導体ポスト６の全てが覆われるように、導体ポスト６の高さ、例えば、１００μｍよりも厚く封止樹脂８を形成する。続いて、封止樹脂８の表面を研削（グラインド）し、導体ポスト６の表面を露出させる。この研削工程において、導体ポスト６及び封止樹脂８の表面が平坦化され、高さの揃った導体ポスト６が形成される。なお、この研削工程において、導体ポスト６の高さは８０〜９０μｍ程度に薄膜化する。
次に、図３（ｄ）に示すように、導体ポスト６及び封止樹脂８の表面にブラスト加工を施す。本実施形態では、ブラスト加工に液体ホーニング法を使用する。液体ホーニング法とは、研粒と水とを混合した液体（スラリー）をノズルから圧縮空気と一緒にターゲットに噴出して物理的に研磨を行うものである。一度に広範囲の加工が可能であり、また、加工表面を平坦かつ均一に仕上げることができるため、面加工には最適な研磨方法とされている。本実施形態における液体ホーニングの条件は、研粒にアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）の多角形粒子を使用し、空気圧力０．２５ＭＰａ、処理速度１０ｍｍ／ｓｅｃで２回処理を施す。液体ホーニング法による表面研磨では、金属を材料とする導体ポスト６の研磨レートに比べ、エポキシ樹脂などを材料とする封止樹脂８の研磨レートが格段に早いため、導体ポスト６の側面を効果的に露出させることができる。本実施形態では、液体ホーニング法による表面研磨により、封止樹脂８から導体ポスト６を１０μｍ程度露出させている。なお、ブラスト加工は液体ホーニング法に限るものではなく、封止樹脂８から導体ポスト６の側面を効果的に露出させることができる方法であれば、乾式、温式、液圧式を問わない。
次に、図３（ｅ）に示すように、導体ポスト６上に半田の球状電極７を形成する。球状電極７の形成は、例えば、ボールマウント方式によって行われる。すなわち、バルクの半田ボールをボールマウンタにより機械的に導体ポスト６上に搭載し、引き続きリフローすることにより球状電極７を形成する。球状電極７は、封止樹脂８より露出した導体ポスト６の頂面及び側面の一部に接合するよう形成されるため、導体ポスト６と球状電極７との接合力が増大して耐衝撃性が向上する。
最後に、図３（ｆ）に示すように、半導体ウエハ１’を、例えば、ダイヤモンドカッターなどで個片化して樹脂封止半導体装置１００が完成する。
なお、本実施形態では、ＢＧＡ（Ｂａｌｌ Ｇｒｉｄ Ａｒｒａｙ）タイプの樹脂封止半導体装置１００について説明したが、一般に、半導体チップ上に封止樹脂に覆われた導体ポストを有し、さらに導体ポスト上に外部電極が形成される構造の半導体装置であれば本発明を適用することは可能である。
〔作用効果〕
第１実施形態に係る半導体装置の製造方法によれば、頂面及び側面の一部が露出された導体ポスト６に対して球状電極７を形成する。これにより、球状電極７が導体ポスト６の頂面及び側面で支持されるようになり、球状電極７と導体ポスト６との接合力が増大して耐衝撃性が向上するため、樹脂封止半導体装置１００と実装基板との接続信頼性が向上する。また、ブラスト法による導体ポスト６の側面の露出加工に先立ち、研削法（グラインド）による導体ポスト６の頂面の露出加工を行うことで、導体ポスト６及び封止樹脂８の表面が平坦化され導体ポスト６の高さが均一となる。これにより、導体ポスト６上に形成される球状電極７をも含めた最終的な高さが均一となるため、樹脂封止半導体装置１００と実装基板との接合部位において局所的な応力集中が生じにくくなり、接続信頼性が向上する。また、導体ポスト６の側面の露出加工をブラスト法、例えば、液体ホーニング法で行うことにより、ウエハ一括の簡略的な処理が可能となるため、レーザ法などによる露出加工に比べて加工時間を短縮することができると共に、製造コストを低減することができる。さらに、導体ポスト６の露出加工を研削法（グラインド）とブラスト法の２段階で行うことにより、露出加工を全てブラスト法で行うよりも加工時間を短縮することができる。
（２）第２実施形態
図４は、本発明の第２実施形態に係る製造方法により製造された樹脂封止半導体装置１０１の一部の断面構造図である。
第２実施形態に係る樹脂封止半導体装置１０１は、第１実施形態に係る樹脂封止半導体装置１００（図１）において、さらに、導電層９を導体ポスト６の頂面に備えている。導電層９は、例えば、ニッケルめっき膜であり、球状電極７の材料である半田の拡散防止を主目的としている。ニッケルめっき膜の膜厚は、例えば、３μｍである。封止樹脂８は、導電層９の頂面と、導体ポスト６及び導電層９の側面の一部を露出するように導体ポスト６の高さよりも所定の厚さｄ’、例えば、１０〜１３μｍ程度薄く形成されている。その他の構造は樹脂封止半導体装置１００と同一であるため、図４では、樹脂封止半導体装置１００と同一の構造については図１と同一符号を付してその説明を省略する。
次に、本発明の第２実施形態に係る樹脂封止半導体装置１０１の製造方法を説明する。第２実施形態に係る樹脂封止半導体装置１０１の製造方法は、ウエハ検査によって電気的特性が評価された半導体ウエハ１’を準備する工程（図２（ａ））から、封止樹脂８の表面を研削（グラインド）して導体ポスト６の表面を露出させる工程（図２（ｃ））までは、第１実施形態を製造する方法と同じである。第２実施形態では、封止樹脂８の表面を研削（グラインド）して導体ポスト６の表面を露出させる工程（図２（ｃ））の後において、さらに、導電層９を導体ポスト６の頂面に形成する工程が追加となる。
導電層９形成は、例えば、導体ポスト６の頂面に無電界めっき法によりニッケルめっき膜を選択的に形成する。ニッケルめっき膜の膜厚は、例えば、３μｍである。ニッケルめっき膜を形成する目的は２つある。１つは、上述したように、球状電極７の材料である半田の拡散防止のためである。導体ポスト６の材料であるＣｕと、球状電極７の材料である半田に含まれるＳｎ（錫）とは融解接合により硬く脆い金属間化合物を形成するが、この金属間化合物が厚く形成されると、長期使用時の信頼性、特に耐落下衝撃性などが低下してしまう。そのため、ニッケルのバリア層により半田の拡散を抑制し、金属間化合物が形成されることを抑制するのである。２つめは、導体ポスト６の側面を露出するブラスト加工（図３ｄ））において、導体ポスト６の頂面周辺部が過剰に研磨されることを防止するためである。導体ポスト６の頂面周辺部が過剰に研磨されると、球状電極７の高さにバラツキを生じたり、機械的な強度が低下したりする虞がある。そのため、硬い金属であるニッケルのバリア層を形成し、ブラスト加工において導体ポスト６の頂面周辺部が過剰に研磨されること抑制するのである。導電層９を形成した後、図３（ｄ）乃至（ｆ）と同様の工程を経て、樹脂封止半導体装置１０１が完成する。
なお、本実施形態では、ＢＧＡ（Ｂａｌｌ Ｇｒｉｄ Ａｒｒａｙ）型の樹脂封止半導体装置１０１について説明したが、一般に、半導体チップ上に封止樹脂に覆われた導体ポストを有し、さらに導体ポスト上に外部電極が形成される構造の半導体装置であれば本発明を適用することは可能である。
〔作用効果〕
第２実施形態に係る半導体装置の製造方法によれば、導体ポスト６の頂面に導電層９、例えば、ニッケルめっき膜を形成することで、半田の拡散を抑制してＣｕと半田の金属間化合物が形成されることを抑制すると共に、導体ポスト６の頂面周辺部が過剰に研磨されること抑制する。この２つの効果により、第１実施形態における作用効果に加え、さらに樹脂封止半導体装置１０１と実装基板との接合部位の接続信頼性を向上させることができる。
第１実施形態に係る樹脂封止半導体装置の構造図。 第１実施形態に係る樹脂封止半導体装置の製造工程図。 第１実施形態に係る樹脂封止半導体装置の製造工程図。 第２実施形態に係る樹脂封止半導体装置の構造図。
符号の説明
１・・・半導体チップ
１’・・・半導体ウエハ
２、３・・・保護膜
４・・・電極パッド
５・・・再配線層
６・・・導体ポスト
７・・・球状電極
８・・・封止樹脂
９・・・導電層
１００、１０１・・・樹脂封止半導体装置

Claims (9)

  1. 半導体チップと略同一の寸法に封止される半導体装置を製造する方法であって、
    主面に複数の電極パッドを有する半導体ウエハを準備するステップと、
    前記主面上に前記電極パッドと接続される導体ポストを形成するステップと、
    前記主面上を封止樹脂で覆うステップと、
    前記封止樹脂を研削して前記導体ポストの頂面を露出させるステップと、
    前記封止樹脂をブラスト加工により研磨して前記導体ポストの頂面近傍の側面を露出させるステップと、
    前記封止樹脂から露出した前記導体ポストに接続される外部電極を形成するステップと、
    を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
  2. 前記ブラスト加工は、液体ホーニング法により行われることを特徴とする、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
  3. 前記ブラスト加工に使用する砥粒は、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）の多角形粒子であることを特徴とする、請求項２に記載の半導体装置の製造方法。
  4. 前記外部電極は、半田の球状電極であることを特徴とする、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
  5. 前記導体ポストの頂面を露出させるステップの後において、前記導体ポストの頂面に導電層を形成するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
  6. 前記ブラスト加工は、液体ホーニング法により行われることを特徴とする、請求項５に記載の半導体装置の製造方法。
  7. 前記ブラスト加工に使用する砥粒は、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）の多角形粒子であることを特徴とする、請求項６に記載の半導体装置の製造方法。
  8. 前記導電層は、ニッケルめっき膜であることを特徴とする、請求項５に記載の半導体装置の製造方法。
  9. 前記外部電極は、半田の球状電極であることを特徴とする、請求項８に記載の半導体装置の製造方法。
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