JP2005535118A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005535118A5 JP2005535118A5 JP2004524962A JP2004524962A JP2005535118A5 JP 2005535118 A5 JP2005535118 A5 JP 2005535118A5 JP 2004524962 A JP2004524962 A JP 2004524962A JP 2004524962 A JP2004524962 A JP 2004524962A JP 2005535118 A5 JP2005535118 A5 JP 2005535118A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lines
- representation
- shield mesh
- layer
- reference voltage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 36
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 5
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 2
- 230000001808 coupling Effects 0.000 claims 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000002452 interceptive Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
Claims (22)
- 基板内に配置された第1の複数の信号線と、
第1の基準電圧用の第1の複数の接続線と第2の基準電圧用の第2の複数の接続線とを含むシールド・メッシュと
を備え、
前記第1の複数の前記信号線のそれぞれの少なくとも第1の部分は、隣接する信号線から前記第1の複数の接続線のうちの1本と前記第2の複数の接続線のうちの1本との間でシールドされ、
前記第1の複数の信号線の第2の部分は、前記第1、第2の複数の接続線により決められる領域内で互いに隣接する集積回路(IC)デバイス。 - 集積回路(IC)デバイスを設計する方法であって、
基板内の、第1の基準電圧に対する第1の複数の接続線と第2の基準電圧に対する第2の複数の接続線を含むシールド・メッシュの表現を決定することと、
前記基板内の第1の複数の信号線の表現を配線する際に、隣接する信号線から前記第1の複数の接続線のうちの1本と前記第2の複数の接続線のうちの1本との間の前記第1の複数の前記信号線のそれぞれの少なくとも第1の部分をシールドすることと
を含み、
前記第1の複数の信号線の第2の部分は、前記第1、第2の複数の接続線により決められる領域内で互いに隣接する方法。 - デジタル処理システムにより実行されたとき集積回路(IC)デバイスを設計する方法を前記システムに実行させる実行可能コンピュータ・プログラム命令を格納する機械可読媒体であって、前記方法は、
基板内の、第1の基準電圧に対する第1の複数の接続線と第2の基準電圧に対する第2の複数の接続線を含むシールド・メッシュの表現を決定することと、
前記基板内の第1の複数の信号線の表現を配線する際に、隣接する信号線から前記第1の複数の接続線のうちの1本と前記第2の複数の接続線のうちの1本との間の前記第1の複数の前記信号線のそれぞれの少なくとも第1の部分をシールドすることとを含み、
前記第1の複数の信号線の第2の部分が、前記第1、第2の複数の接続線により決められる領域内で互いに隣接する媒体。 - 集積回路(IC)を設計する方法であって、
前記ICの設計の表現で、第1の単一層シールド・メッシュと前記第1の単一層シールド・メッシュに結合されている第1の二重層シールド・メッシュを含むシールド・メッシュの表現を作成することと、
前記第1の単一層シールド・メッシュに隣接する前記ICの第1の領域内に配置された第1の未シールド部分を備え、前記第1の単一層シールド・メッシュ内に配置された第1のシールド済み部分を備え、前記第1の二重層シールド・メッシュ内に配置された第2のシールド済み部分を備える第1の信号ラインの表現を作成することとを含む方法。 - デジタル処理システムにより実行されたとき集積回路(IC)を設計する方法を前記システムに実行させる実行可能コンピュータ・プログラム命令を格納する機械可読媒体であって、前記方法は、
前記ICの設計の表現で、第1の単一層シールド・メッシュと前記第1の単一層シールド・メッシュに結合されている第1の二重層シールド・メッシュを含むシールド・メッシュの表現を作成することと、
前記第1の単一層シールド・メッシュに隣接する前記ICの第1の領域内に配置された第1の未シールド部分を備え、前記第1の単一層シールド・メッシュ内に配置された第1のシールド済み部分を備え、前記第1の二重層シールド・メッシュ内に配置された第2のシールド済み部分を備える第1の信号ラインの表現を作成することとを含む媒体。 - 第1の単一層シールド・メッシュと、前記第1の単一層シールド・メッシュに結合されている第1の二重層シールド・メッシュとを有し、集積回路(IC)の第1の層内に配置された少なくとも第1の部分と前記第1の層と第2の層内に配置された少なくとも第2の部分を備えるシールド・メッシュと、
前記第1の単一層シールド・メッシュに隣接する前記ICの第1の領域内に配置された第1の未シールド部分を備え、前記第1の単一層シールド・メッシュ内に配置された第1のシールド済み部分を備え、前記第1の二重層シールド・メッシュ内に配置された第2のシールド済み部分を備える少なくとも第1の信号ラインと
を備える集積回路(IC)デバイス。 - 集積回路(IC)を設計する方法であって、
前記ICの設計の表現の少なくとも1つの層内でシールド・メッシュの表現を作成することと、
所定の規則群に基づいて前記シールド・メッシュの中と前記シールド・メッシュの外で信号ラインの表現を配線することと、
再配線条件が存在しているかどうかを判別することと、
前記再配線条件が存在しているかどうかの判別に対する応答として前記シールド・メッシュ内の除去可能シールド・ラインを識別することとを含む方法。 - デジタル処理システムにより実行されたとき集積回路(IC)を設計する方法を前記システムに実行させる実行可能コンピュータ・プログラム命令を格納する機械可読媒体であって、前記方法は、
前記ICの設計の表現の少なくとも1つの層内でシールド・メッシュの表現を作成することと、
所定の規則群に基づいて前記シールド・メッシュの中と前記シールド・メッシュの外で信号ラインの表現を配線することと、
再配線条件が存在しているかどうかを判別することと、
前記再配線条件が存在しているかどうかの判別に対する応答として前記シールド・メッシュ内の除去可能シールド・ラインを識別することとを含む媒体。 - 集積回路(IC)を設計する方法であって、
前記ICの少なくとも1つの層内で、第1の基準電圧を供給するように設計されている第1の複数のラインを備え、第2の基準電圧を供給するように設計されている第2の複数のラインを備え、前記第1と前記第2の複数のラインの間に複数のギャップがあるシールド・メッシュの表現を作成することと、
前記複数のギャップ内で少なくとも1つの信号ラインの表現を配線することと、
前記配線後、前記複数のギャップのうちの1つのギャップが前記IC内に残っているかどうかを判別することと、
前記判別結果に応じて前記第1と前記第2の複数のラインのうちの少なくとも1本の導体の量の表現を増大することとを含む方法。 - 集積回路(IC)の少なくとも1つの層内の、第1の基準電圧を供給するように設計されている第1の複数のラインを備え、第2の基準電圧を供給するように設計されている第2の複数のラインを備え、前記第1の複数のラインと前記第2の複数のラインのうちの少なくとも1本は前記第1、第2の複数のラインのうちの他のラインより幅広であるシールド・メッシュと、
前記第1と前記第2の複数のラインのうち2本の間の前記少なくとも1つの層内に配置された少なくとも1本の信号ラインとを含む集積回路(IC)。 - 集積回路(IC)を設計する方法であって、
少なくとも1つの追加ブロックを備えるICの設計の表現に少なくとも1つの一体のシールド層を有するロジック回路のあらかじめ設計されているブロックの表現を組み込むことと、
前記少なくとも1つの追加ブロックから前記少なくとも1つの一体のシールド層を通して少なくとも1本の信号ラインを配線することとを含む方法。 - 集積回路(IC)デバイスであって、
一体のシールド層を有する、前記IC内のロジックのあらかじめ設計されているブロックと、
前記一体のシールド層を通して配線される、ロジックの追加ブロックからの少なくとも1本の信号ラインとを備える集積回路デバイス。 - 集積回路(IC)を設計する方法であって、
第1の基準軸と第2の基準軸に関して実質的に直交する形で配線されている導線を持つ少なくとも第1の層と第2の層の表現を作成することと、
前記第1、第2の基準軸に関して実質的に直交しない形で配線されているラインを含むシールド・メッシュを含む少なくとも2つの追加層の表現を作成することとを含む方法。 - 集積回路(IC)であって、
第1の基準軸と第2の基準軸に関して実質的に直交する形で配線されている導線を持つ少なくとも第1の層と第2の層と、
前記第1、第2の基準軸に関して実質的に直交しない形で配線されているラインを含むシールド・メッシュを含む少なくとも2つの追加層とを含む集積回路。 - 集積回路(IC)を設計する方法であって、
前記ICの設計の表現の少なくとも1つの層内で、第1の基準電圧を供給するように設計されている第1の複数のラインを備え、第2の基準電圧を供給するように設計されている第2の複数のラインを備え、前記シールド・メッシュの与えられた領域内の前記第1の複数と前記第2の複数のラインの本数により第1のライン密度が決定されるシールド・メッシュの表現を生成することと、
コンピュータ援用IC設計工程内で信号内の混雑レベルを判定することと、
前記混雑レベルの前記判定に応じて、前記シールド・メッシュ内に、前記第1の基準電圧又は前記第2の基準電圧のいずれかを与える、前記第1の密度より低い第2のライン密度を持つ窓の表現を作成することと、
前記窓の中に信号ラインの表現を配線することとを含む方法。 - 集積回路(IC)デバイスであって、
第1の基準電圧を供給するように設計されている第1の複数のラインと第2の基準電圧を供給するように設計されている第2の複数のラインとを含むシールド・メッシュを備え、前記シールド・メッシュの与えられた領域内の前記第1の複数と前記第2の複数のラインの本数により第1のライン密度とが決定され、前記シールド・メッシュは前記第1の基準電圧又は前記第2の基準電圧のいずれかを供給するラインの前記第1の密度より小さい第2のライン密度を有する窓を有する、少なくとも1つの層と、
前記窓内に配線されている少なくとも1本の信号ラインを備える集積回路デバイス。 - 集積回路(IC)を設計する方法であって、
シールド・メッシュの表現を生成することであって、前記ICの設計の表現の少なくとも1つの層内で、第1の基準電圧を供給するように設計されている第1の複数のラインを備え、第2の基準電圧を供給するように設計されている第2の複数のラインを備え、前記シールド・メッシュの与えられた領域内の前記第1の複数と前記第2の複数のラインの本数により第1のライン密度が決定されるシールド・メッシュの表現を生成することと、
前記シールド・メッシュ内に、前記第1の基準電圧又は前記第2の基準電圧のいずれかを与える、前記第1の密度より低い第2のライン密度を持つ窓の表現を作成することと、
前記窓内に配線されている少なくとも1本の信号ラインの表現を作成することとを含む方法。 - 集積回路(IC)を設計する方法であって、
ICの設計の表現内の所望の大きさのデカップリング容量を決定することと、
前記設計の前記表現のシールド・メッシュの少なくとも1つの層内に信号ラインを配線する際に、前記配線で、ラインのデカップリングのため前記シールド・メッシュ内に温存するスペースを用意する前記所望の大きさを考慮することと、
前記シールド・メッシュ内で容量性デカップリング・ラインを配線し、それによって、前記温存してあるスペースの少なくとも一部を使用することとを含む方法。 - 集積回路(IC)を設計する方法であって、
前記ICの少なくとも1つの層内に、第1の基準電圧を供給するように設計されている第1の複数のラインと第2の基準電圧を供給するように設計されている第2の複数のラインとを含むラインからなるシールド・メッシュの表現を作成することと、
前記第1の基準電圧又は前記第2の基準電圧のいずれか1つを供給する、前記第1と前記第2の基準電圧のうちの他方を供給するラインに隣接して配置された少なくとも1本のラインの表現を追加することとを含む方法。 - 集積回路(IC)デバイスであって、
第1の基準電圧を供給するように設計されている第1の複数のラインと第2の基準電圧を供給するように設計されている第2の複数のラインを含むシールド・メッシュを備える前記IC内の少なくとも1つの層であって、前記シールド・メッシュは、約50ミクロン×25ミクロンの領域内で前記基準電圧のうちの1つを供給する10本のラインのうちの少なくとも一部を配置する密度を持つ層と、
前記シールド・メッシュを通して配線された複数の信号ラインであって、前記信号ラインのそれぞれは前記第1の複数又は前記第2の複数のラインのうちの少なくとも1本に隣接して配置され、前記第1の複数のラインのうちの少なくとも1本と前記第2の複数のラインのうちの少なくとも1本は、信号ラインに干渉することなく、互いに隣接し、それらの間に容量カップリングをもたらす、信号ラインとを備える集積回路デバイス。 - 集積回路(IC)を設計する方法であって、
前記ICの少なくとも1つの層の表現を作成し、前記少なくとも1つの層は第1の複数のラインのうちの少なくとも2本の隣接するラインと第2の複数のラインのうち少なくとも2本の隣接するラインの繰り返しパターンを含むメッシュを持ち、前記第1の複数のラインは第1の基準電圧を供給するように設計されており、前記第2の複数のラインは第2の基準電圧を供給するように設計されていることと、
前記第1の基準電圧を供給するように設計され、隣接する第2の複数のラインのペアの間に配置される、少なくとも1本のラインの表現を作成することとを含む方法。 - 集積回路(IC)を設計する方法であって、
前記ICの少なくとも1つの層の表現を作成し、前記少なくとも1つの層は第1の複数のラインのうちの少なくとも2本の隣接するラインと第2の複数のラインのうち少なくとも2本の隣接するラインの繰り返しパターンを持ち、前記第1の複数のラインは第1の基準電圧を供給するように設計されており、前記第2の複数のラインは第2の基準電圧を供給するように設計されていることと、
前記少なくとも1つの層上で前記第1又は前記第2の複数のラインのうちの少なくとも1本に隣接して配置された少なくとも1本の信号ラインの表現を作成することとを含む方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US39976002P | 2002-07-29 | 2002-07-29 | |
US60/399,760 | 2002-07-29 | ||
PCT/US2003/023559 WO2004012107A2 (en) | 2002-07-29 | 2003-07-24 | Integrated circuit devices and methods and apparatuses for designing integrated circuit devices |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005535118A JP2005535118A (ja) | 2005-11-17 |
JP2005535118A5 true JP2005535118A5 (ja) | 2006-08-17 |
JP5281731B2 JP5281731B2 (ja) | 2013-09-04 |
Family
ID=31188615
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004524962A Expired - Lifetime JP5281731B2 (ja) | 2002-07-29 | 2003-07-24 | 集積回路デバイスと集積回路デバイスを設計するための方法及び装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US7943436B2 (ja) |
EP (1) | EP1546946A2 (ja) |
JP (1) | JP5281731B2 (ja) |
KR (4) | KR101100048B1 (ja) |
AU (1) | AU2003254227A1 (ja) |
WO (1) | WO2004012107A2 (ja) |
Families Citing this family (80)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7739624B2 (en) * | 2002-07-29 | 2010-06-15 | Synopsys, Inc. | Methods and apparatuses to generate a shielding mesh for integrated circuit devices |
US7943436B2 (en) | 2002-07-29 | 2011-05-17 | Synopsys, Inc. | Integrated circuit devices and methods and apparatuses for designing integrated circuit devices |
US7197738B1 (en) * | 2002-08-09 | 2007-03-27 | Cadence Design Systems, Inc. | Method and apparatus for routing |
US7480885B2 (en) | 2002-11-18 | 2009-01-20 | Cadence Design Systems, Inc. | Method and apparatus for routing with independent goals on different layers |
US7624367B2 (en) | 2002-11-18 | 2009-11-24 | Cadence Design Systems, Inc. | Method and system for routing |
JP3781736B2 (ja) * | 2003-05-09 | 2006-05-31 | ローム株式会社 | 半導体装置及びこれを用いたオーディオ機器 |
US7131084B2 (en) * | 2003-12-09 | 2006-10-31 | International Business Machines Corporation | Method, apparatus and computer program product for implementing automated detection excess aggressor shape capacitance coupling in printed circuit board layouts |
US7448012B1 (en) | 2004-04-21 | 2008-11-04 | Qi-De Qian | Methods and system for improving integrated circuit layout |
JP2005347591A (ja) * | 2004-06-04 | 2005-12-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | スタンダードセル、スタンダードセル方式の半導体集積回路装置および半導体集積回路装置のレイアウト設計方法 |
US7571408B1 (en) * | 2005-03-09 | 2009-08-04 | Cadence Design Systems, Inc. | Methods and apparatus for diagonal route shielding |
US7472368B2 (en) * | 2005-03-24 | 2008-12-30 | International Business Machines Corporation | Method for implementing vertically coupled noise control through a mesh plane in an electronic package design |
US7472366B1 (en) * | 2005-08-01 | 2008-12-30 | Cadence Design Systems, Inc. | Method and apparatus for performing a path search |
US7694258B1 (en) | 2005-08-01 | 2010-04-06 | Cadence Design Systems, Inc. | Method and apparatus for inserting metal fill in an integrated circuit (“IC”) layout |
US7299446B2 (en) * | 2005-08-16 | 2007-11-20 | Lsi Corporation | Enabling efficient design reuse in platform ASICs |
JP2007194496A (ja) | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Toshiba Corp | 半導体集積回路 |
JP5225985B2 (ja) * | 2007-05-18 | 2013-07-03 | シャープ株式会社 | 表示装置 |
EP2148237B1 (en) * | 2007-05-18 | 2013-05-15 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display device |
EP2148236A4 (en) * | 2007-05-18 | 2011-02-02 | Sharp Kk | DISPLAY DEVICE |
JP2009054760A (ja) * | 2007-08-27 | 2009-03-12 | Nec Electronics Corp | 半導体装置、配線設計方法、配線設計装置、及びプログラム |
JP2009123993A (ja) * | 2007-11-16 | 2009-06-04 | Nec Electronics Corp | 半導体集積回路装置 |
JP2009231513A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Elpida Memory Inc | 半導体装置 |
JP2009245961A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Nec Electronics Corp | 半導体集積回路 |
JP5350681B2 (ja) * | 2008-06-03 | 2013-11-27 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
US8566776B2 (en) * | 2008-11-13 | 2013-10-22 | Qualcomm Incorporated | Method to automatically add power line in channel between macros |
JP2011100989A (ja) * | 2009-10-09 | 2011-05-19 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置 |
US8288657B2 (en) * | 2009-10-12 | 2012-10-16 | International Business Machines Corporation | Noise coupling reduction and impedance discontinuity control in high-speed ceramic modules |
JP6066542B2 (ja) | 2010-11-18 | 2017-01-25 | ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエルPS4 Luxco S.a.r.l. | 半導体装置 |
US8927879B2 (en) | 2010-11-22 | 2015-01-06 | International Business Machines Corporation | Crosstalk reduction between signal layers in a multilayered package by variable-width mesh plane structures |
JP5603768B2 (ja) * | 2010-12-28 | 2014-10-08 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路の配線方法、半導体回路配線装置および半導体集積回路 |
US8847393B2 (en) * | 2011-02-28 | 2014-09-30 | Freescale Semiconductor, Inc. | Vias between conductive layers to improve reliability |
KR101128063B1 (ko) | 2011-05-03 | 2012-04-23 | 테세라, 인코포레이티드 | 캡슐화 층의 표면에 와이어 본드를 구비하는 패키지 적층형 어셈블리 |
US8423940B2 (en) * | 2011-08-15 | 2013-04-16 | International Business Machines Corporation | Early noise detection and noise aware routing in circuit design |
US8836136B2 (en) | 2011-10-17 | 2014-09-16 | Invensas Corporation | Package-on-package assembly with wire bond vias |
US8832632B1 (en) * | 2011-10-27 | 2014-09-09 | Synopsys Taiwan Co., LTD. | Compact routing |
JP6015018B2 (ja) * | 2012-02-07 | 2016-10-26 | 株式会社リコー | 製品全体エレキ仕様の編集・検証システム |
US9117052B1 (en) | 2012-04-12 | 2015-08-25 | Cadence Design Systems, Inc. | Methods, systems, and articles of manufacture for interactively implementing physical electronic designs with track patterns |
US9003349B1 (en) | 2013-06-28 | 2015-04-07 | Cadence Design Systems, Inc. | Methods, systems, and articles of manufacture for implementing a physical electronic design with area-bounded tracks |
US9251299B1 (en) | 2013-06-28 | 2016-02-02 | Cadence Design Systems, Inc. | Methods, systems, and articles of manufacture for associating track patterns with rules for electronic designs |
US8984465B1 (en) | 2013-06-28 | 2015-03-17 | Cadence Design Systems, Inc. | Methods, systems, and articles of manufacture for automatically assigning track patterns to regions for physical implementation of an electronic design |
US8601425B2 (en) * | 2012-04-12 | 2013-12-03 | International Business Machines Corporation | Solving congestion using net grouping |
US8835228B2 (en) | 2012-05-22 | 2014-09-16 | Invensas Corporation | Substrate-less stackable package with wire-bond interconnect |
US8964453B2 (en) | 2012-06-28 | 2015-02-24 | Synopsys, Inc. | SRAM layouts |
US9104830B1 (en) * | 2013-06-28 | 2015-08-11 | Cadence Design Systems, Inc. | Methods, systems, and articles of manufacture for assigning track patterns to regions of an electronic design |
US9213793B1 (en) | 2012-08-31 | 2015-12-15 | Cadence Design Systems, Inc. | Methods, systems, and articles of manufacture for implementing electronic designs using flexible routing tracks |
US8949761B2 (en) * | 2012-11-30 | 2015-02-03 | International Business Machines Corporation | Techniques for routing signal wires in an integrated circuit design |
US8866306B2 (en) * | 2013-01-02 | 2014-10-21 | International Business Machines Corporation | Signal path and method of manufacturing a multiple-patterned semiconductor device |
US9026973B2 (en) * | 2013-03-14 | 2015-05-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | System and method for arbitrary metal spacing for self-aligned double patterning |
US8843869B1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-23 | Globalfoundries Inc. | Via insertion in integrated circuit (IC) designs |
US9190392B1 (en) * | 2013-05-20 | 2015-11-17 | Sandia Corporation | Three-dimensional stacked structured ASIC devices and methods of fabrication thereof |
US9165103B1 (en) | 2013-06-28 | 2015-10-20 | Cadence Design Systems, Inc. | Methods, systems, and articles of manufacture for tessellating and labeling routing space for routing electronic designs |
US9167710B2 (en) | 2013-08-07 | 2015-10-20 | Invensas Corporation | Embedded packaging with preformed vias |
US9583456B2 (en) | 2013-11-22 | 2017-02-28 | Invensas Corporation | Multiple bond via arrays of different wire heights on a same substrate |
US20150186586A1 (en) * | 2013-12-30 | 2015-07-02 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Integrated circuit layouts and methods to improve performance |
US9583411B2 (en) | 2014-01-17 | 2017-02-28 | Invensas Corporation | Fine pitch BVA using reconstituted wafer with area array accessible for testing |
JP2016012903A (ja) | 2014-06-02 | 2016-01-21 | ソニー株式会社 | 撮像素子、撮像方法、および電子機器 |
JP6384210B2 (ja) * | 2014-09-02 | 2018-09-05 | 株式会社ソシオネクスト | 半導体装置 |
US11239154B2 (en) | 2015-01-20 | 2022-02-01 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | Fishbone structure enhancing spacing with adjacent conductive line in power network |
US9490222B1 (en) * | 2015-10-12 | 2016-11-08 | Invensas Corporation | Wire bond wires for interference shielding |
US10042806B2 (en) * | 2016-02-02 | 2018-08-07 | Xilinx, Inc. | System-level interconnect ring for a programmable integrated circuit |
US10002100B2 (en) * | 2016-02-02 | 2018-06-19 | Xilinx, Inc. | Active-by-active programmable device |
EP3414642A4 (en) * | 2016-02-08 | 2020-09-30 | Chaologix, Inc. | SIDE CHANNEL CONSCIOUS AUTOMATIC PLACE AND ROUTE |
JP6599813B2 (ja) | 2016-04-12 | 2019-10-30 | 三重富士通セミコンダクター株式会社 | 半導体集積回路及び半導体集積回路の設計方法 |
US10516396B2 (en) * | 2016-04-29 | 2019-12-24 | University Of Florida Research Foundation, Incorporated | Overlay architecture for programming FPGAs |
WO2017200639A1 (en) * | 2016-05-16 | 2017-11-23 | Micron Technology, Inc. | Assemblies having shield lines of an upper wiring level electrically coupled with shield lines of a lower wiring level |
US10304771B2 (en) | 2017-03-10 | 2019-05-28 | Micron Technology, Inc. | Assemblies having shield lines of an upper wiring layer electrically coupled with shield lines of a lower wiring layer |
US9754872B1 (en) | 2016-05-16 | 2017-09-05 | Micron Technology, Inc. | Assemblies having shield lines of an upper wiring level electrically coupled with shield lines of a lower wiring level |
KR102636095B1 (ko) * | 2016-12-16 | 2024-02-13 | 삼성전자주식회사 | 쿼드러플 패터닝 리소그래피를 위한 집적 회로, 상기 집적 회로의 설계를 위한 컴퓨팅 시스템 및 컴퓨터 구현 방법 |
US10923425B2 (en) * | 2017-01-20 | 2021-02-16 | Arm Limited | Power distribution |
US10417371B2 (en) * | 2017-01-27 | 2019-09-17 | Arm Limited | Power grid healing techniques |
US10438636B2 (en) * | 2017-12-07 | 2019-10-08 | Advanced Micro Devices, Inc. | Capacitive structure for memory write assist |
US10943045B2 (en) | 2018-01-31 | 2021-03-09 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor device including standard-cell-adapted power grid arrangement and method for generating layout diagram of same |
JP2020043219A (ja) * | 2018-09-11 | 2020-03-19 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 回路基板、半導体装置、および、電子機器 |
US11074390B2 (en) * | 2018-09-28 | 2021-07-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | Method of designing an integrated circuit and integrated circuit |
CN109543309B (zh) * | 2018-11-23 | 2023-01-06 | 珠海一微半导体股份有限公司 | 一种基于版图关键信号的干扰排查方法 |
US11011459B1 (en) * | 2020-02-06 | 2021-05-18 | Qualcomm Incorporated | Back-end-of-line (BEOL) on-chip sensor |
US11182530B1 (en) | 2020-11-03 | 2021-11-23 | Dialog Semiconductor (Uk) Limited | Automatic routing system workflow |
US11921559B2 (en) * | 2021-05-03 | 2024-03-05 | Groq, Inc. | Power grid distribution for tensor streaming processors |
KR102459919B1 (ko) | 2022-05-04 | 2022-10-27 | 주식회사 송산특수엘리베이터 | 출입문이 탑승카 진행방향과 직각으로 구비된 경사형 엘리베이터의 도어 개폐 및 잠금장치 |
KR102640248B1 (ko) * | 2023-06-16 | 2024-02-27 | 주식회사 하이퍼엑셀 | 생성형 거대 인공지능 모델의 효율적인 하드웨어 매핑을 위한 방법 및 시스템 |
CN117172193A (zh) * | 2023-10-19 | 2023-12-05 | 合芯科技(苏州)有限公司 | 标准单元金属层的版图结构及其设计方法 |
Family Cites Families (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2940593A1 (de) | 1979-10-06 | 1981-04-16 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Mehrlagen-modul mit konstantem wellenwiderstand |
JPS61129847A (ja) | 1984-11-29 | 1986-06-17 | Toshiba Corp | 半導体装置の金属配線パタ−ン形成方法 |
JPH01152642A (ja) | 1987-12-09 | 1989-06-15 | Nec Corp | 半導体集積回路 |
JPH07105445B2 (ja) | 1988-08-15 | 1995-11-13 | 株式会社東芝 | 集積回路の配線構造 |
JP2580301B2 (ja) | 1988-12-27 | 1997-02-12 | 株式会社日立製作所 | 半導体集積回路装置 |
JPH03120743A (ja) | 1989-10-03 | 1991-05-22 | Nec Corp | 半導体装置 |
JPH03120743U (ja) | 1990-03-23 | 1991-12-11 | ||
KR940008132B1 (ko) | 1991-11-28 | 1994-09-03 | 삼성전자 주식회사 | 신호선간의 잡음을 억제하는 메모리 소자 |
US5288949A (en) | 1992-02-03 | 1994-02-22 | Ncr Corporation | Connection system for integrated circuits which reduces cross-talk |
EP0682852B1 (en) | 1993-02-02 | 1998-10-28 | AST RESEARCH, Inc. | A circuit board arrangement including shielding grids, and constructing thereof |
US5410107A (en) | 1993-03-01 | 1995-04-25 | The Board Of Trustees Of The University Of Arkansas | Multichip module |
FR2702595B1 (fr) | 1993-03-11 | 1996-05-24 | Toshiba Kk | Structure de câblage multicouche. |
JPH06291256A (ja) | 1993-04-01 | 1994-10-18 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 半導体集積回路 |
US5334800A (en) | 1993-07-21 | 1994-08-02 | Parlex Corporation | Flexible shielded circuit board |
JP2921463B2 (ja) | 1996-01-30 | 1999-07-19 | 日本電気株式会社 | 半導体集積回路チップ |
TW399319B (en) | 1997-03-19 | 2000-07-21 | Hitachi Ltd | Semiconductor device |
US6353189B1 (en) | 1997-04-16 | 2002-03-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Wiring board, wiring board fabrication method, and semiconductor package |
JP4109340B2 (ja) | 1997-12-26 | 2008-07-02 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体集積回路装置 |
CN1255975A (zh) * | 1998-01-23 | 2000-06-07 | 住友金属工业株式会社 | 阻抗-电压转换器 |
US6180998B1 (en) | 1998-03-30 | 2001-01-30 | Lsi Logic Corporation | DRAM with built-in noise protection |
US5999440A (en) | 1998-03-30 | 1999-12-07 | Lsi Logic Corporation | Embedded DRAM with noise-protecting substrate isolation well |
US6218631B1 (en) * | 1998-05-13 | 2001-04-17 | International Business Machines Corporation | Structure for reducing cross-talk in VLSI circuits and method of making same using filled channels to minimize cross-talk |
TW462214B (en) | 1999-07-14 | 2001-11-01 | Mitac Int Corp | A method and structure of four layer circuit board improving circuit performance and avoiding electromagnetic interference |
JP3398693B2 (ja) | 1999-08-24 | 2003-04-21 | エヌイーシーマイクロシステム株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP2001093982A (ja) | 1999-09-22 | 2001-04-06 | Hitachi Ltd | 配線容量計算方法、クロストークディレイ計算方法、およびそれらのデータを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 |
JP2001127162A (ja) | 1999-10-25 | 2001-05-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体集積回路 |
US6510545B1 (en) | 2000-01-19 | 2003-01-21 | Sun Microsystems, Inc. | Automated shielding algorithm for dynamic circuits |
JP2001345385A (ja) | 2000-06-02 | 2001-12-14 | Nec Corp | 半導体集積回路の配線方法 |
JP4558172B2 (ja) * | 2000-10-16 | 2010-10-06 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 消費電力低減回路 |
US6750396B2 (en) | 2000-12-15 | 2004-06-15 | Di/Dt, Inc. | I-channel surface-mount connector |
JP4083977B2 (ja) | 2000-12-20 | 2008-04-30 | 富士通株式会社 | 半導体集積回路及び配線決定方法 |
US6426890B1 (en) * | 2001-01-26 | 2002-07-30 | International Business Machines Corporation | Shared ground SRAM cell |
US6622294B2 (en) | 2001-09-28 | 2003-09-16 | Intel Corporation | Adaptive power routing and shield sharing to reduce shield count |
JP3842111B2 (ja) | 2001-11-13 | 2006-11-08 | 富士通株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
US6650010B2 (en) | 2002-02-15 | 2003-11-18 | International Business Machines Corporation | Unique feature design enabling structural integrity for advanced low K semiconductor chips |
EP1339082A1 (en) | 2002-02-25 | 2003-08-27 | Asahi Glass Company Ltd. | Impact-resistant film for flat display panel, and flat display panel |
US6734472B2 (en) | 2002-04-25 | 2004-05-11 | Synplicity, Inc. | Power and ground shield mesh to remove both capacitive and inductive signal coupling effects of routing in integrated circuit device |
US7943436B2 (en) * | 2002-07-29 | 2011-05-17 | Synopsys, Inc. | Integrated circuit devices and methods and apparatuses for designing integrated circuit devices |
US7409662B1 (en) | 2008-02-19 | 2008-08-05 | International Business Machines Corporation | Systems and methods involving designing shielding profiles for integrated circuits |
-
2003
- 2003-07-23 US US10/626,031 patent/US7943436B2/en active Active
- 2003-07-24 KR KR1020107019274A patent/KR101100048B1/ko active IP Right Grant
- 2003-07-24 KR KR1020057001712A patent/KR101100049B1/ko active IP Right Grant
- 2003-07-24 WO PCT/US2003/023559 patent/WO2004012107A2/en active Search and Examination
- 2003-07-24 KR KR1020117004893A patent/KR101160857B1/ko active IP Right Grant
- 2003-07-24 JP JP2004524962A patent/JP5281731B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-07-24 EP EP03771985A patent/EP1546946A2/en not_active Withdrawn
- 2003-07-24 KR KR1020117019056A patent/KR101278434B1/ko active IP Right Grant
- 2003-07-24 AU AU2003254227A patent/AU2003254227A1/en not_active Abandoned
-
2011
- 2011-05-04 US US13/101,043 patent/US8286118B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2012
- 2012-10-08 US US13/647,329 patent/US8881086B2/en not_active Expired - Lifetime
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2005535118A5 (ja) | ||
JP5281731B2 (ja) | 集積回路デバイスと集積回路デバイスを設計するための方法及び装置 | |
US6305000B1 (en) | Placement of conductive stripes in electronic circuits to satisfy metal density requirements | |
US9355199B2 (en) | Method and apparatus for camouflaging a standard cell based integrated circuit | |
US6924552B2 (en) | Multilayered integrated circuit with extraneous conductive traces | |
US6218631B1 (en) | Structure for reducing cross-talk in VLSI circuits and method of making same using filled channels to minimize cross-talk | |
US7037820B2 (en) | Cross-fill pattern for metal fill levels, power supply filtering, and analog circuit shielding | |
US8645889B2 (en) | Noise coupling reduction and impedance discontinuity control in high-speed ceramic modules | |
US9747406B2 (en) | Spine routing with multiple main spines | |
CN115329712B (zh) | 一种pcb走线生成方法、装置、设备及服务器板卡 | |
JP2007311500A (ja) | 半導体装置の設計方法及びこれを実行するプログラム | |
US7996806B2 (en) | Methods and apparatus for layout of multi-layer circuit substrates | |
Ma et al. | Formulae and applications of interconnect estimation considering shield insertion and net ordering | |
KR101698248B1 (ko) | 집적 회로의 제조 방법 및 레이아웃 | |
US20080148213A1 (en) | Routing method for reducing coupling between wires of an electronic circuit | |
US7526744B2 (en) | Integrated circuit design method for efficiently generating mask data | |
WO2015054536A1 (en) | Spine routing with multiple main spines | |
Kusnadi et al. | A method of measuring nets routability for MCM's general area routing problems | |
JP4498787B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2011222854A (ja) | 半導体集積回路のレイアウト方法及び半導体集積回路 | |
JPH11177029A (ja) | 半導体集積回路 | |
JP3266136B2 (ja) | 半導体集積回路の自動配線方法、及び半導体集積回路装置 | |
Soudan | Semi-random net reordering for reducing timing variations and improving signal integrity | |
CN114566483A (zh) | 一种芯片及电子设备 | |
JP2005109294A (ja) | 半導体集積回路、半導体集積回路の設計方法および設計装置 |