JP2005327806A - 絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】n型ベース領域21となる半導体基板と、半導体基板の第1の主面の表面層に部分的に設けられたp型ウェル領域22と、ウェル領域22に接して半導体基板の第1の主面からウェル領域22よりも深い位置まで形成されたトレンチ24内にゲート絶縁膜25を介して設けられたゲート電極26と、トレンチ24の側壁に接してウェル領域22の表面層に設けられたn型ソース領域27と、半導体基板の第1の主面の表面層の残りの部分に設けられた絶縁領域39と、ソース領域27およびウェル領域22の両方に電気的に接続するエミッタ電極28と、半導体基板の第2の主面側に設けられたp型コレクタ領域30と、コレクタ領域30に電気的に接続するコレクタ電極31とを備える。
【選択図】 図1
Description
図1は、本発明の実施の形態1にかかるIGBTの構造を示す断面図である。図1に示すように、p型ウェル領域22は、n型ベース領域21となる半導体基板の第1の主面の表面層に部分的に設けられている。ウェル領域22に接して半導体基板の第1の主面からは、複数のトレンチ24が、ウェル領域22よりも深い位置まで形成されている。
図2は、本発明の実施の形態2にかかるIGBTの構造を示す断面図である。図2に示すように、実施の形態2は、図1に示す実施の形態1のIGBTにおいて絶縁領域39となっていた領域、すなわち、隣り合うトレンチ24,24に挟まれた複数の領域のうち、ウェル領域22を除く領域が、上半部の半導体領域32と下半部の厚い絶縁領域39の二層構造になっているものである。
図6は、本発明の実施の形態3にかかるIGBTの構造を示す断面図である。図6に示すように、p型ウェル領域42とp型フローティングウェル領域43が、n型ベース領域41となる半導体基板の第1の主面の表面層に形成されている。
22 ウェル領域
24 トレンチ
25 ゲート絶縁膜
26 ゲート電極
27 ソース領域
28 エミッタ電極
30 コレクタ領域
31 コレクタ電極
32 半導体領域
39 絶縁領域
Claims (10)
- 第1導電型のベース領域となる半導体基板と、
前記半導体基板の第1の主面の表面層に部分的に設けられた第2導電型のウェル領域と、
前記ウェル領域に接して前記半導体基板の第1の主面から前記ウェル領域よりも深い位置まで形成されたトレンチ内にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極と、
前記トレンチの側壁に接して前記ウェル領域の表面層に設けられた第1導電型のソース領域と、
前記半導体基板の第1の主面の表面層の残りの部分に設けられた絶縁領域と、
前記ソース領域および前記ウェル領域の両方に電気的に接続するエミッタ電極と、
前記半導体基板の第2の主面側に設けられた第2導電型のコレクタ領域と、
前記コレクタ領域に電気的に接続するコレクタ電極と、
を備えることを特徴とする絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ。 - 前記半導体基板は、原基板の表面上に前記絶縁領域を部分的に形成し、前記原基板の露出面から半導体をエピタキシャル成長させた基板であることを特徴とする請求項1に記載の絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ。
- 前記絶縁領域は、前記トレンチと同じ深さまで埋め込まれていることを特徴とする請求項1または2に記載の絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ。
- 平面レイアウトにおいて、前記絶縁領域は、全体の面積の65%以上の面積を占めていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ。
- 平面レイアウトにおいて、前記絶縁領域と、前記半導体基板が表面に現れている領域は、前記トレンチを挟んで交互に直線状に形成されており、前記半導体基板が表面に現れている領域の幅は3μm以下であり、前記絶縁領域の幅は8μm以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ。
- 第1導電型のベース領域となる半導体基板と、
前記半導体基板の第1の主面の表面層に部分的に設けられた第2導電型のウェル領域と、
前記ウェル領域に接して前記半導体基板の第1の主面から前記ウェル領域よりも深い位置まで形成されたトレンチ内にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極と、
前記トレンチの側壁に接して前記ウェル領域の表面層に設けられた第1導電型のソース領域と、
前記半導体基板の第1の主面の表面層の残りの部分に設けられた半導体領域と、
前記半導体領域と前記ベース領域との間に埋め込まれた絶縁領域と、
前記ソース領域および前記ウェル領域の両方に電気的に接続するエミッタ電極と、
前記半導体基板の第2の主面側に設けられた第2導電型のコレクタ領域と、
前記コレクタ領域に電気的に接続するコレクタ電極と、
を備えることを特徴とする絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ。 - 前記半導体基板は、原基板の表面上に前記絶縁領域を部分的に形成し、前記原基板の露出面から半導体をエピタキシャル成長させた基板であることを特徴とする請求項6に記載の絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ。
- 前記絶縁領域上の前記半導体領域は、前記エミッタ電極に電気的に接続されていることを特徴とする請求項6または7に記載の絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ。
- 前記絶縁領域上の前記半導体領域は、前記ゲート電極に電気的に接続されていることを特徴とする請求項6または7に記載の絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ。
- 平面レイアウトにおいて、前記絶縁領域上の前記半導体領域は、全体の面積の65%以上の面積を占めていることを特徴とする請求項6〜9のいずれか一つに記載の絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ。
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