JP2005220380A - 銀粉およびその製造方法 - Google Patents

銀粉およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2005220380A
JP2005220380A JP2004027092A JP2004027092A JP2005220380A JP 2005220380 A JP2005220380 A JP 2005220380A JP 2004027092 A JP2004027092 A JP 2004027092A JP 2004027092 A JP2004027092 A JP 2004027092A JP 2005220380 A JP2005220380 A JP 2005220380A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silver
silver powder
paste
particles
particle size
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004027092A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4320447B2 (ja
Inventor
Hiroshi Matsushima
寛 松島
Kozo Ogi
孝造 尾木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dowa Holdings Co Ltd
Original Assignee
Dowa Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dowa Mining Co Ltd filed Critical Dowa Mining Co Ltd
Priority to JP2004027092A priority Critical patent/JP4320447B2/ja
Priority to US11/045,974 priority patent/US7641817B2/en
Priority to TW094102879A priority patent/TWI342246B/zh
Priority to CN2008101490712A priority patent/CN101386070B/zh
Priority to CNB200510008037XA priority patent/CN100444998C/zh
Priority to KR1020050009937A priority patent/KR101122373B1/ko
Publication of JP2005220380A publication Critical patent/JP2005220380A/ja
Priority to US11/736,036 priority patent/US7462301B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4320447B2 publication Critical patent/JP4320447B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/28Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for applying terminals
    • H01C17/281Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for applying terminals by thick film techniques
    • H01C17/283Precursor compositions therefor, e.g. pastes, inks, glass frits
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D5/00Sheets united without binding to form pads or blocks
    • B42D5/04Calendar blocks
    • B42D5/047Calendar blocks in which the calendar sheet or sheets are combined with other articles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42FSHEETS TEMPORARILY ATTACHED TOGETHER; FILING APPLIANCES; FILE CARDS; INDEXING
    • B42F5/00Sheets and objects temporarily attached together; Means therefor; Albums
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42PINDEXING SCHEME RELATING TO BOOKS, FILING APPLIANCES OR THE LIKE
    • B42P2201/00Books or filing appliances for special documents or for special purposes
    • B42P2201/02Books or filing appliances for special documents or for special purposes for photographic documents, e.g. prints, negatives
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42PINDEXING SCHEME RELATING TO BOOKS, FILING APPLIANCES OR THE LIKE
    • B42P2221/00Books or filing appliances with additional arrangements
    • B42P2221/10Books or filing appliances with additional arrangements with tools for inserting sheets, e.g. labels into pockets
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/16Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor
    • H05K1/167Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistor, capacitor, inductor incorporating printed resistors
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/107Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by filling grooves in the support with conductive material
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T74/00Machine element or mechanism
    • Y10T74/19Gearing
    • Y10T74/19219Interchangeably locked
    • Y10T74/19377Slidable keys or clutches
    • Y10T74/19414Single clutch shaft
    • Y10T74/19419Progressive
    • Y10T74/19442Single key
    • Y10T74/19451Spur gears
    • Y10T74/19456Intermediate clutch

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)

Abstract

【課題】 優れた分散性を有し、ペースト化した後に相分離によって浮遊物が生成することなく、ペーストを基板上に印刷した場合に塗膜の厚さを均一にすることができる、銀粉およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 銀塩含有水溶液にアルカリまたは錯化剤を加えて、酸化銀含有スラリーまたは銀錯塩含有水溶液を生成し、攪拌しながら還元剤を加えて銀粒子を還元析出させた後またはその前に、銀粉含有スラリー溶液に分散剤として、アゾール構造を有する化合物、ジカルボン酸、オキシカルボン酸およびこれらの塩から選ばれる少なくとも1種以上のキレート形成剤を添加する。
【選択図】 なし

Description

本発明は、銀粉およびその製造方法に関し、特に、積層コンデンサの内部電極や回路基板の導体パターンや、プラズマディスプレイパネル用基板の電極や回路などの電子部品に使用する導電性ペースト用の銀粉およびその製造方法に関する。
従来、積層コンデンサの内部電極や回路基板の導体パターンや、プラズマディスプレイパネル(PDP)用基板の電極や回路などの電子部品に使用する導電性ペーストとして、銀粉をガラスフリットとともに有機ビヒクル中に加えて混練することによって製造される銀ペーストが使用されている。このような電子部品の小型化が進み、導体パターンなどの高密度化やファインライン化に対応するため、導電性ペースト用の銀粉は、粒径が適度に小さく、粒度が揃っていることが要求される。
このような導電性ペースト用の銀粉を製造する方法として、銀塩含有水溶液にアルカリまたは錯化剤を加えて、酸化銀含有スラリーまたは銀錯塩含有水溶液を生成した後、還元剤を加えることにより銀粉を還元析出させる方法が知られている。
しかし、このような従来の方法によって製造された銀粉は、凝集が激しく、近年のファインライン化が進んだ積層セラミックコンデンサの内部電極や回路基板の導電パターンや、プラズマディスプレイパネル用基板の電極や回路などの電子部品に適用できないという問題があった。
そのため、凝集が少なく分散性に優れた銀粉を生成するために、銀塩含有水溶液にアルカリまたは錯化剤を加えて、酸化銀含有スラリーまたは銀錯塩含有水溶液を生成し、還元剤を加えて銀粒子を還元析出させた後、銀含有スラリー溶液に分散剤として脂肪酸、脂肪酸塩、界面活性剤、有機金属、保護コロイドのいずれか1種以上を加えることにより、銀粉を生成する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開平10−88206号公報(段落番号0002−0004)
しかし、特許文献1に記載された脂肪酸や界面活性剤などを分散剤として添加することにより生成された銀粉を用いてペーストを作製すると、ペーストが相分離を起こして浮遊物が生成する場合がある。この浮遊物は塗膜中にピンホールを形成し、その結果、焼成後の塗膜の密度を低下させる。
また、特許文献1に記載された脂肪酸や界面活性剤などを分散剤として添加することにより生成された銀粉を用いて作製したペーストを基板上に印刷すると、ペーストのスクリーン版からの抜け性が悪く、気泡を巻き込む場合がある。その結果、焼成後の膜厚が不均一になり、抵抗値にばらつきが生じる場合があるため、このペーストを導体パターンに使用するのは不適当である。
特に、高密度化やファインライン化の要求が高いプラズマディスプレイパネル用基板の電極に使用する導電性ペーストでは、塗膜の密度の低下は大きな問題になる。
また、プラズマディスプレイパネル用基板の電極の形成に使用する導電性ペーストとして、アルカリ現像型感光性ペーストが常用されている。このアルカリ現像型感光性ペーストは、アルカリ可溶型ポリマー、重合性モノマー、光重合開始剤、溶剤、ガラスフリット、安定剤などから構成されているが、アルカリ可溶型ポリマーは、カルボキシル基を含有するために極性が高く、スクリーン印刷の際に気泡を巻き込み、焼成後の膜厚が不均一になるという問題がある。
したがって、本発明は、このような従来の問題点に鑑み、優れた分散性を有し、ペースト化した後に相分離によって浮遊物が生成することなく、ペーストを基板上に印刷した場合の膜厚を均一にすることができる、銀粉およびその製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、銀塩含有水溶液にアルカリまたは錯化剤を加えて、酸化銀含有スラリーまたは銀錯塩含有水溶液を生成し、攪拌しながら還元剤を加えて銀粒子を還元析出させた後またはその前に、銀粉含有スラリー溶液に分散剤として、アゾール構造を有する化合物、ジカルボン酸、オキシカルボン酸およびこれらの塩から選ばれる少なくとも1種以上のキレート形成剤を添加することにより、優れた分散性を有し、ペースト化した後に相分離によって浮遊物が生成することなく、ペーストを基板上に印刷した場合に塗膜の厚さを均一にすることできることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明による銀粉の製造方法は、銀塩と酸化銀の少なくとも一方を含有する水性反応系に、還元剤を加えて銀粒子を析出させるとともに、分散剤としてキレート形成剤を添加することを特徴とする。この銀粉の製造方法において、還元剤を加えて銀粒子を析出させた後にキレート形成剤を添加してもよいし、あるいは、還元剤を加えて銀粒子を析出させる前にキレート形成剤を添加してもよい。また、キレート形成剤は、アゾール構造を有する化合物、ジカルボン酸、オキシカルボン酸およびこれらの塩から選ばれる少なくとも1種であるのが好ましい。
また、本発明による銀粉は、タップ密度が2g/cm以上、レーザー回折法による平均粒径が0.1〜5μm、比表面積が5m/g以下、安息角が50°以下、好ましくは45°以下、さらに好ましくは40°以下であることを特徴とする。タップ密度が2g/cmより小さいと、銀粒子同士の凝集が激しく、ファインライン化への対応が難しくなる。また、レーザー回折法による平均粒径が0.1μmより小さいと、ファインライン化への対応は可能であるが、粒子の活性が高くなり、500℃以上の温度での焼成には適さない。一方、レーザー回折法による平均粒径が5μmより大きいと、分散性が悪くなり、やはりファインライン化への対応が難しくなる。また、比表面積が5m/gより大きいと、ペーストの粘度が高過ぎるため、印刷特性などが悪くなる。さらに、安息角が小さいほど、流動性が高く、銀粉のハンドリング性が良好になる。このような銀粉は、上述した本発明による銀粉の製造方法によって製造することができる。
さらに、本発明による銀粉は、ペースト化して基板上に印刷した塗膜の表面粗さが3μm以下であり且つグラインドゲージにより測定したペースト中の粒子の最大粒径が30μm以下、好ましくは15μm以下、さらに好ましくは7.5μm以下であることを特徴とする。このような銀粉は、上述した本発明による銀粉の製造方法によって製造することができる。
本発明によれば、優れた分散性を有し、ペースト化した後に相分離によって浮遊物が生成することなく、ペーストを基板上に印刷した場合の膜厚を均一にすることができる銀粉を製造することができる。
本発明による銀粉およびその製造方法の実施の形態では、銀塩含有水溶液にアルカリまたは錯化剤、好ましくはアンモニア水を加え、酸化銀含有スラリーまたは銀錯塩含有水溶液、好ましくは銀アンミン錯体水溶液を生成し、さらに銀粉の粒径を制御するためにアルカリを添加してpH調整を行う。この酸化銀含有スラリーまたは銀錯塩含有水溶液を攪拌しながら還元剤を加えて銀粒子を還元析出させた後に、銀含有スラリーに分散剤としてキレート形成剤を添加する。あるいは、酸化銀含有スラリーまたは銀錯塩含有水溶液を攪拌しながら分散剤を添加した後に、還元剤を加えて銀粒子を還元析出させてもよい。
分散剤として使用するキレート形成剤は、アゾール構造を有する化合物、ジカルボン酸、オキシカルボン酸およびこれらの塩から選ばれる少なくとも1種であるのが好ましい。
分散剤として使用するアゾール構造を有する化合物の具体例としては、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、セレナゾール、ピラゾール、イソオキサゾール、イソチアゾール、1H−1,2,3−トリアゾール、2H−1,2,3−トリアゾール、1H−1,2,4−トリアゾール、4H−1,2,4−トリアゾール、1,2,3−オキサジアゾール、1,2,4−オキサジアゾール、1,2,5−オキサジアゾール、1,3,4−オキサジアゾール、1,2,3−チアジアゾール、1,2,4−チアジアゾール、1,2,5−チアジアゾール、1,3,4−チアジアゾール、1H−1,2,3,4−テトラゾール、1,2,3,4−オキサトリアゾール、1,2,3,4−チアトリアゾール、2H−1,2,3,4−テトラゾール、1,2,3,5−オキサトリアゾール、1,2,3,5−チアトリアゾール、インダゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾールおよびこれらの塩などが挙げられる。
分散剤として使用するジカルボン酸の具体例としては、シュウ酸、コハク酸、マロン酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸などが挙げられる。
分散剤として使用するオキシカルボン酸の具体例としては、グリコール酸、乳酸、オキシ酪酸、グリセリン酸、酒石酸、リンゴ酸、タルトロン酸、ヒドロアクリル酸、マンデル酸、クエン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。
得られた銀含有スラリーを濾過、水洗、乾燥および解砕することにより銀粉が得られる。解砕の代わりに、特開2002−80901号公報に記載されたように、粒子を機械的に流動化させることができる装置に銀粒子を投入して、粒子同士を機械的に衝突させることによって、銀粉の粒子表面の凹凸や角ばった部分を滑らかにする表面平滑化処理を行ってもよい。
このようにして得られた銀粉は、タップ密度が2g/cm以上、レーザー回折法による平均粒径が0.1〜5μm、比表面積が5m/g以下、安息角が45°以下であり、優れた分散性を有する。
また、このようにして得られた銀粉をビヒクルと混合してペースト化すると、相分離によって浮遊物が生成することがなく、ペーストを基板上に印刷して乾燥させた塗膜の表面粗さは3μm以下であり、膜厚を均一にすることができる。また、グラインドゲージによりペーストに含まれる銀粒子の粒度を評価すると、最大粒径Dmaxが10μm以下であり、優れた分散性を有する。
以下、本発明による銀粉およびその製造方法の実施例について詳細に説明する。
[実施例1]
銀イオンとして12g/Lの硝酸銀水溶液3600mLに、25%アンモニア水180mLと、20g/Lの水酸化ナトリウム水溶液15mLを添加し、銀アンミン錯塩水溶液を得た。この水溶液の液温を40℃とし、37%ホルマリン水溶液192mLを加えて、銀粒子を析出させた。ホルマリン添加終了後30秒後に、銀の量に対して1%のベンゾトリアゾールをスラリー中に添加した。このようにして得られた銀含有スラリーを濾過、水洗、乾燥した後、解砕することによって、銀粉を得た。この銀粉のタップ密度は4.0g/cm、レーザー回折法による平均粒径は2.8μm、比表面積は0.34m/gであった。また、JISR9301−2−2に従って測定した銀粉の安息角は40°であった。
また、得られた銀粉を、30:70の割合のBR605(三菱レイヨン製)とエチルカルビトールアセテートからなるビヒクルに65:35の割合で加えてよく混練し、3本ロールによって分散してペーストを得た。このペーストでは、相分離による浮遊物が生成しなかった。
また、得られたペーストを325メッシュのスクリーンマスクを用いて基板上に印刷し、150℃で10分間乾燥させた後、超深度形状測定顕微鏡VK−8510(KEYENCE製)により表面粗さを測定すると、表面粗さは2.1μmであり、膜厚は均一であった。
さらに、得られたペーストに含まれる銀粒子の粒度をグラインドゲージにより評価すると、最大粒径Dmaxが6μm、4thスクラッチ(第4スクラッチ)(グラインドゲージによるペースト中の銀粒子の粒度測定において最大粒径から4番目の粒径)が6μm、平均粒径D50が3μmであり、優れた分散性が得られた。
[実施例2]
銀イオンとして12g/Lの硝酸銀水溶液3600mLに、25%アンモニア水180mLと、20g/Lの水酸化ナトリウム水溶液15mLを添加し、銀アンミン錯塩水溶液を得た。この水溶液の液温を40℃とし、40%ベンゾトリアゾールナトリウム水溶液0.4gを添加した後に37%ホルマリン水溶液192mLを加え、銀粒子を析出させた。このようにして得られた銀含有スラリーを濾過、水洗、乾燥した後、解砕することによって、銀粉を得た。この銀粉のタップ密度は4.1g/cm、レーザー回折法による平均粒径は3.3μm、比表面積は0.31m/gであった。また、JISR9301−2−2に従って測定した銀粉の安息角は45°であった。
また、この実施例で得られた銀粉を用いて実施例1と同様の方法によって作製したペーストでは、相分離による浮遊物が生成しなかった。また、実施例1と同様の方法により測定した表面粗さは2.7μmであり、膜厚は均一であった。さらに、実施例1と同様にペーストに含まれる銀粒子の粒度をグラインドゲージにより評価すると、最大粒径Dmaxが5μm、4thスクラッチが5μm、平均粒径D50が3μmであり、優れた分散性が得られた。
[実施例3]
銀イオンとして12g/Lの硝酸銀水溶液3600mLに、25%アンモニア水180mLと、20g/lの水酸化ナトリウム水溶液15mLを添加し、銀アンミン錯塩水溶液を得た。この水溶液の液温を40℃とし、37%ホルマリン水溶液192mLを加え、銀粒子を析出させた。ホルマリン添加終了後に、銀の量に対して0.1%のコハク酸をスラリー中に添加した。このようにして得られた銀含有スラリーを濾過、水洗乾燥した後、解砕することによって、銀粉を得た。この銀粉のタップ密度は2.6g/cm、レーザー回折法による平均粒径は4.5μm、比表面積は0.36m/gであった。また、JISR9301−2−2に従って測定した銀粉の安息角は40°であった。
また、この実施例で得られた銀粉を用いて実施例1と同様の方法によって作製したペーストでは、相分離による浮遊物が生成しなかった。また、実施例1と同様の方法により測定した表面粗さは2.5μmであり、膜厚は均一であった。さらに、実施例1と同様にペーストに含まれる銀粒子の粒度をグラインドゲージにより評価すると、最大粒径Dmaxが7μm、4thスクラッチが6μm、平均粒径D50が3μmであり、優れた分散性が得られた。
[実施例4]
銀イオンとして12g/Lの硝酸銀水溶液3600mLに、25%アンモニア水180mLと、75g/Lの水酸化ナトリウム水溶液16mLを添加し、銀アンミン錯塩水溶液を得た。この水溶液を液温40℃とし、37%ホルマリン水溶液192mLを加え、銀粒子を析出させた。ホルマリンの添加終了後に、銀の量に対して1%のベンゾトリアゾールをスラリー中に添加した。このようにして得られた銀含有スラリーを濾過、水洗、乾燥した後、粒子を機械的に流動化できる筒型高速攪拌機によって表面平滑化処理を行い、銀粉を得た。この銀粉のタップ密度は4.4g/cm、レーザー回折法による平均粒径は2.4μm、比表面積は0.46m/gであった。また、JISR9301−2−2に従って測定した銀粉の安息角は40°であった。
また、この実施例で得られた銀粉を用いて実施例1と同様の方法によって作製したペーストでは、相分離による浮遊物が生成しなかった。また、実施例1と同様の方法により測定した表面粗さは2.2μmであり、膜厚は均一であった。さらに、実施例1と同様にペーストに含まれる銀粒子の粒度をグラインドゲージにより評価すると、最大粒径Dmaxが5μm、4thスクラッチが5μm、平均粒径D50が3μmであり、優れた分散性が得られた。
[比較例]
銀イオンとして12g/Lの硝酸銀水溶液3600mLに、25%アンモニア水180mLと、20g/Lの水酸化ナトリウム水溶液15mLを添加し、銀アンミン錯塩水溶液を得た。この水溶液の液温を40℃とし、37%ホルマリン水溶液192mLを加え、銀粒子を析出させた。ホルマリン添加終了後に、銀の量に対して0.1%のミリスチン酸(脂肪酸)をスラリー中に添加した。このようにして得られた銀含有スラリーを濾過、水洗、乾燥した後、解砕を行って、銀粉を得た。この銀粉のタップ密度は3.4g/cm、レーザー回折法による平均粒径は3.0μm、比表面積は0.40m/gであった。また、JISR9301−2−2に従って測定した銀粉の安息角は55°であり、実施例1〜4と比べてかなり大きかった。
また、この比較例で得られた銀粉を用いて実施例1と同様の方法によって作製したペーストでは、相分離による浮遊物が生成した。また、実施例1と同様の方法により測定した表面粗さは3.2μmであり、膜厚は不均一であった。さらに、実施例1と同様にペーストに含まれる銀粒子の粒度をグラインドゲージにより評価すると、最大粒径Dmaxが33μm、4thスクラッチが7μm、平均粒径D50が4μmであり、良好な分散性が得られなかった。
実施例1〜4および比較例の結果を表1および表2に示す。
Figure 2005220380
Figure 2005220380

Claims (9)

  1. 銀塩と酸化銀の少なくとも一方を含有する水性反応系に、還元剤を加えて銀粒子を析出させるとともに、分散剤としてキレート形成剤を添加することを特徴とする、銀粉の製造方法。
  2. 前記還元剤を加えて銀粒子を析出させた後に前記キレート形成剤を添加することを特徴とする、請求項1に記載の銀粉の製造方法。
  3. 前記還元剤を加えて銀粒子を析出させる前に前記キレート形成剤を添加することを特徴とする、請求項1に記載の銀粉の製造方法。
  4. 前記キレート形成剤が、アゾール構造を有する化合物、ジカルボン酸、オキシカルボン酸およびこれらの塩から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれかに記載の銀粉の製造方法。
  5. タップ密度が2g/cm以上、レーザー回折法平均粒径が0.1〜5μm、比表面積が5m/g以下、安息角が50°以下であることを特徴とする、銀粉。
  6. 前記安息角が45°以下であることを特徴とする、請求項5に記載の銀粉。
  7. ペースト化して基板上に印刷した塗膜の表面粗さが3μm以下であり且つグラインドゲージにより測定したペースト中の粒子の最大粒径が30μm以下であることを特徴とする、銀粉。
  8. 前記グラインドゲージにより測定したペースト中の粒子の最大粒径が15μm以下であることを特徴とする、請求項7に記載の銀粉。
  9. 前記グラインドゲージにより測定したペースト中の粒子の最大粒径が7.5μm以下であることを特徴とする、請求項7に記載の銀粉。

JP2004027092A 2004-02-03 2004-02-03 銀粉およびその製造方法 Expired - Lifetime JP4320447B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004027092A JP4320447B2 (ja) 2004-02-03 2004-02-03 銀粉およびその製造方法
US11/045,974 US7641817B2 (en) 2004-02-03 2005-01-28 Silver powder and method for producing same
TW094102879A TWI342246B (en) 2004-02-03 2005-01-31 Silver powder and method for producing same
CNB200510008037XA CN100444998C (zh) 2004-02-03 2005-02-03 银粉及其制造方法
CN2008101490712A CN101386070B (zh) 2004-02-03 2005-02-03 银粉
KR1020050009937A KR101122373B1 (ko) 2004-02-03 2005-02-03 은 분말 및 그의 제조 방법
US11/736,036 US7462301B2 (en) 2004-02-03 2007-04-17 Silver powder

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004027092A JP4320447B2 (ja) 2004-02-03 2004-02-03 銀粉およびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005220380A true JP2005220380A (ja) 2005-08-18
JP4320447B2 JP4320447B2 (ja) 2009-08-26

Family

ID=34805861

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004027092A Expired - Lifetime JP4320447B2 (ja) 2004-02-03 2004-02-03 銀粉およびその製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (2) US7641817B2 (ja)
JP (1) JP4320447B2 (ja)
KR (1) KR101122373B1 (ja)
CN (2) CN101386070B (ja)
TW (1) TWI342246B (ja)

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008001974A (ja) * 2006-03-31 2008-01-10 Dowa Holdings Co Ltd 銀粉及びその製造方法
JP2008031526A (ja) * 2006-07-28 2008-02-14 Mitsubishi Materials Corp 銀微粒子の製造方法
JP2008221842A (ja) * 2007-02-16 2008-09-25 Mitsubishi Materials Corp 凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の製造方法
WO2008143061A1 (ja) 2007-05-16 2008-11-27 Dic Corporation 銀含有ナノ構造体の製造方法及び銀含有ナノ構造体
JP2013023722A (ja) * 2011-07-20 2013-02-04 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 銀粉の製造方法
JP2013136818A (ja) * 2011-12-28 2013-07-11 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 銅粉
JP2013199706A (ja) * 2007-02-27 2013-10-03 Mitsubishi Materials Corp 金属ナノ粒子の合成方法
KR101327973B1 (ko) * 2005-09-20 2013-11-13 미쓰이 긴조꾸 고교 가부시키가이샤 플레이크 은분말의 제조 방법 및 그 제조 방법으로 제조된플레이크 은분말
CN103537711A (zh) * 2013-10-30 2014-01-29 宇辰新能源材料科技无锡有限公司 一种球形亚微米钴粉的制备方法
US9580810B2 (en) 2007-02-27 2017-02-28 Mitsubishi Materials Corporation Dispersion of metal nanoparticles, method for producing the same, and method for synthesizing metal nanoparticles
KR20170065604A (ko) 2014-09-29 2017-06-13 도와 일렉트로닉스 가부시키가이샤 은 분말, 그 제조방법 및 친수성 도전성 페이스트
JP2019186206A (ja) * 2018-04-10 2019-10-24 タク・マテリアル株式会社 導電性ペーストおよびその製造方法
WO2020017564A1 (ja) 2018-07-17 2020-01-23 Dowaエレクトロニクス株式会社 球状銀粉の製造方法
WO2022092045A1 (ja) * 2020-10-27 2022-05-05 住友金属鉱山株式会社 グラビア印刷用導電性ペースト、電子部品、及び積層セラミックコンデンサ
JP7242952B1 (ja) 2021-09-17 2023-03-20 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀粉及び銀粉の製造方法
WO2023042870A1 (ja) * 2021-09-17 2023-03-23 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀粉及び銀粉の製造方法

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005240092A (ja) * 2004-02-26 2005-09-08 Dowa Mining Co Ltd 銀粉およびその製造方法
JP5028695B2 (ja) * 2004-11-25 2012-09-19 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀粉およびその製造方法
US20060289837A1 (en) * 2005-06-23 2006-12-28 Mcneilly Kirk Silver salts of dicarboxcylic acids for precious metal powder and flakes
EP1950767B1 (en) * 2005-09-21 2012-08-22 Nihon Handa Co., Ltd. Pasty silver particle composition, process for producing solid silver, solid silver, joining method, and process for producing printed wiring board
JP2007235082A (ja) 2006-02-02 2007-09-13 E I Du Pont De Nemours & Co 太陽電池電極用ペースト
DE102008023882A1 (de) * 2008-05-16 2009-11-19 Bayer Materialscience Ag Druckbare Zusammensetzung auf Basis von Silberpartikeln zur Erzeugung elektrisch leitfähiger Beschichtungen
DE102009014424A1 (de) * 2008-08-22 2010-02-25 W.C. Heraeus Gmbh Stoff aus Metall und Milchsäurekondensat sowie elektronisches Bauteil
CN101451270B (zh) * 2008-12-11 2011-04-13 常振宇 一种大批量制备贵金属纳米线的方法
US9340697B2 (en) 2009-08-14 2016-05-17 Nano-C, Inc. Solvent-based and water-based carbon nanotube inks with removable additives
CN101710497B (zh) * 2009-12-08 2011-04-20 华中科技大学 一种纳米银导电浆料
TWI509631B (zh) 2011-02-25 2015-11-21 Henkel IP & Holding GmbH 用於電子裝置之可燒結銀薄片黏著劑
JP5872440B2 (ja) * 2012-02-13 2016-03-01 Dowaエレクトロニクス株式会社 球状銀粉およびその製造方法
US10000670B2 (en) 2012-07-30 2018-06-19 Henkel IP & Holding GmbH Silver sintering compositions with fluxing or reducing agents for metal adhesion
CN103624267A (zh) * 2013-12-03 2014-03-12 浙江光达电子科技有限公司 一种连续法制备银粉的方法
EP2913140B1 (en) * 2014-02-26 2018-01-03 Heraeus Precious Metals North America Conshohocken LLC Molybdenum-containing glass frit for electroconductive paste composition
CN107709418B (zh) 2015-05-08 2021-04-27 汉高知识产权控股有限责任公司 可烧结的膜和膏及其使用方法
KR102033542B1 (ko) * 2017-04-28 2019-10-17 대주전자재료 주식회사 구형 은 입자 및 이의 제조방법
KR102033545B1 (ko) * 2017-06-05 2019-10-17 대주전자재료 주식회사 은 입자 및 이의 제조방법
CN114653962A (zh) * 2022-03-25 2022-06-24 电子科技大学 一种导电胶用银粉的改性方法
CN115780824B (zh) * 2023-01-29 2023-05-30 苏州银瑞光电材料科技有限公司 一种高烧结活性银粉的制备方法及应用
CN116511520B (zh) * 2023-04-23 2024-03-15 东方电气集团科学技术研究院有限公司 一种大小粒径混合银粉及其制备方法和导电银浆

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1173426A (en) * 1966-04-12 1969-12-10 Fuji Photo Film Co Ltd Process for producing Silver Salt of Benzotriazole
US4353741A (en) * 1979-03-12 1982-10-12 Olin Corporation Silver coated particles and a process for preparing them
US4333966A (en) * 1979-07-30 1982-06-08 Graham Magnetics, Inc. Method of forming a conductive metal pattern
US5000928A (en) * 1986-03-17 1991-03-19 Eastman Kodak Company Preparation of ultra-pure silver nitrate
JPS63213606A (ja) * 1987-03-02 1988-09-06 Daido Steel Co Ltd 銀微粉末の製造方法
FI95816C (fi) * 1989-05-04 1996-03-25 Ad Tech Holdings Ltd Antimikrobinen esine ja menetelmä sen valmistamiseksi
US5188660A (en) * 1991-10-16 1993-02-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for making finely divided particles of silver metals
US5389122A (en) * 1993-07-13 1995-02-14 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for making finely divided, dense packing, spherical shaped silver particles
JPH0741811A (ja) * 1993-07-30 1995-02-10 Nippon Steel Corp 金属粉末製造に伴う金属粉末の酸化防止方法
GB9425031D0 (en) * 1994-12-09 1995-02-08 Alpha Metals Ltd Printed circuit board manufacture
JPH08176620A (ja) * 1994-12-27 1996-07-09 Dowa Mining Co Ltd 銀粉の製造法
JPH09256008A (ja) * 1996-03-15 1997-09-30 Noritake Co Ltd 単分散性銀−パラジウム複合粉末の製造方法及びその粉末
US7022266B1 (en) * 1996-08-16 2006-04-04 Dow Corning Corporation Printable compositions, and their application to dielectric surfaces used in the manufacture of printed circuit boards
JP4025839B2 (ja) 1996-09-12 2007-12-26 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀粉および銀粉の製造方法
US6211116B1 (en) * 1998-06-08 2001-04-03 Agfa-Gevaert Substantially light-insensitive black and white thermographic recording material with improved image tone
JP3751154B2 (ja) * 1998-10-22 2006-03-01 同和鉱業株式会社 銀粉の製造方法
CN1227148A (zh) * 1999-01-19 1999-09-01 沈阳黎明发动机制造公司 高纯高分散性球形超细银粉及生产方法
JP2000239713A (ja) * 1999-02-23 2000-09-05 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk 鱗片状銀粉末の製造方法
US6110254A (en) * 1999-02-24 2000-08-29 The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce Method for chemical precipitation of metallic silver powder via a two solution technique
JP2000265202A (ja) * 1999-03-12 2000-09-26 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk 銀粉末の製造方法
JP4862180B2 (ja) * 1999-08-13 2012-01-25 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀粉の製造方法及びフレーク状銀粉の製造方法
JP2001107101A (ja) * 1999-10-12 2001-04-17 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 高分散性球状銀粉末及びその製造方法
CN1266761A (zh) * 2000-03-23 2000-09-20 南京大学 纳米级银粉的制备方法
JP4408171B2 (ja) * 2000-06-23 2010-02-03 日立オムロンターミナルソリューションズ株式会社 現金自動取引システム
JP4569727B2 (ja) 2000-09-08 2010-10-27 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀粉およびその製造方法
CN1174827C (zh) * 2001-08-17 2004-11-10 中国科学院过程工程研究所 化学还原法制备六方片状银粉
JP2003253312A (ja) * 2002-03-01 2003-09-10 Murata Mfg Co Ltd 銀粉末の製造方法及び銀粉末
JP3508766B2 (ja) * 2002-06-14 2004-03-22 住友電気工業株式会社 金属微粉末の製造方法
JP4109520B2 (ja) * 2002-09-12 2008-07-02 三井金属鉱業株式会社 低凝集性銀粉並びにその低凝集性銀粉の製造方法及びその低凝集性銀粉を用いた導電性ペースト
JP4568472B2 (ja) * 2002-11-29 2010-10-27 東レ・ダウコーニング株式会社 銀粉末の製造方法および硬化性シリコーン組成物

Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101327973B1 (ko) * 2005-09-20 2013-11-13 미쓰이 긴조꾸 고교 가부시키가이샤 플레이크 은분말의 제조 방법 및 그 제조 방법으로 제조된플레이크 은분말
JP2008001974A (ja) * 2006-03-31 2008-01-10 Dowa Holdings Co Ltd 銀粉及びその製造方法
JP2008031526A (ja) * 2006-07-28 2008-02-14 Mitsubishi Materials Corp 銀微粒子の製造方法
JP2008221842A (ja) * 2007-02-16 2008-09-25 Mitsubishi Materials Corp 凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の製造方法
US9580810B2 (en) 2007-02-27 2017-02-28 Mitsubishi Materials Corporation Dispersion of metal nanoparticles, method for producing the same, and method for synthesizing metal nanoparticles
JP2013199706A (ja) * 2007-02-27 2013-10-03 Mitsubishi Materials Corp 金属ナノ粒子の合成方法
US9580811B2 (en) 2007-02-27 2017-02-28 Mitsubishi Materials Corporation Dispersion of metal nanoparticles, method for producing the same, and method for synthesizing metal nanoparticles
WO2008143061A1 (ja) 2007-05-16 2008-11-27 Dic Corporation 銀含有ナノ構造体の製造方法及び銀含有ナノ構造体
US8088437B2 (en) 2007-05-16 2012-01-03 Dic Corporation Method for production of silver-containing nano-structure, and silver-containing nano-structure
JP2013023722A (ja) * 2011-07-20 2013-02-04 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 銀粉の製造方法
JP2013136818A (ja) * 2011-12-28 2013-07-11 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 銅粉
CN103537711A (zh) * 2013-10-30 2014-01-29 宇辰新能源材料科技无锡有限公司 一种球形亚微米钴粉的制备方法
CN103537711B (zh) * 2013-10-30 2016-09-14 宇辰新能源材料科技无锡有限公司 一种球形亚微米钴粉的制备方法
KR20170065604A (ko) 2014-09-29 2017-06-13 도와 일렉트로닉스 가부시키가이샤 은 분말, 그 제조방법 및 친수성 도전성 페이스트
US10272490B2 (en) 2014-09-29 2019-04-30 Dowa Electronics Materials Co., Ltd. Silver powder, method for producing same, and hydrophilic conductive paste
US10807161B2 (en) 2014-09-29 2020-10-20 Dowa Electronics Materials Co., Ltd. Silver powder, method for producing same, and hydrophilic conductive paste
JP2019186206A (ja) * 2018-04-10 2019-10-24 タク・マテリアル株式会社 導電性ペーストおよびその製造方法
US11548068B2 (en) 2018-07-17 2023-01-10 Dowa Electronics Materials Co., Ltd. Method of producing spherical silver powder
WO2020017564A1 (ja) 2018-07-17 2020-01-23 Dowaエレクトロニクス株式会社 球状銀粉の製造方法
KR20210033975A (ko) 2018-07-17 2021-03-29 도와 일렉트로닉스 가부시키가이샤 구형상 은분의 제조방법
WO2022092045A1 (ja) * 2020-10-27 2022-05-05 住友金属鉱山株式会社 グラビア印刷用導電性ペースト、電子部品、及び積層セラミックコンデンサ
CN116113671A (zh) * 2020-10-27 2023-05-12 住友金属矿山株式会社 凹版印刷用导电性浆料、电子部件以及叠层陶瓷电容器
JP7242952B1 (ja) 2021-09-17 2023-03-20 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀粉及び銀粉の製造方法
WO2023042870A1 (ja) * 2021-09-17 2023-03-23 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀粉及び銀粉の製造方法
JP2023044686A (ja) * 2021-09-17 2023-03-30 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀粉及び銀粉の製造方法
JP2023044656A (ja) * 2021-09-17 2023-03-30 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀粉及び銀粉の製造方法
JP7416905B2 (ja) 2021-09-17 2024-01-17 Dowaエレクトロニクス株式会社 銀粉及び銀粉の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW200528217A (en) 2005-09-01
CN100444998C (zh) 2008-12-24
CN101386070B (zh) 2010-09-01
US20070181858A1 (en) 2007-08-09
US20050167640A1 (en) 2005-08-04
KR101122373B1 (ko) 2012-03-26
CN101386070A (zh) 2009-03-18
US7641817B2 (en) 2010-01-05
JP4320447B2 (ja) 2009-08-26
US7462301B2 (en) 2008-12-09
CN1651169A (zh) 2005-08-10
TWI342246B (en) 2011-05-21
KR20060041638A (ko) 2006-05-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4320447B2 (ja) 銀粉およびその製造方法
EP1609547B1 (en) Method for producing spherical silver powder with high shrinkage
JP5872440B2 (ja) 球状銀粉およびその製造方法
JP2005330529A (ja) 球状銀粉およびその製造方法
EP2026924B1 (en) Process for making highly dispersible spherical silver powder particles and silver particles formed therefrom
KR101141839B1 (ko) 은분 및 그의 제조 방법
JP6129909B2 (ja) 球状銀粉およびその製造方法
JP2006193795A (ja) 球状銀粉およびその製造方法
JP2007270334A (ja) 銀粉及びその製造方法
JP5847511B2 (ja) 導電用銀被覆硝子粉及びその製造方法、並びに導電性ペースト
JP2009231059A (ja) オフセット印刷用導電性インクおよびそれを用いた回路パターン形成方法
JP5352768B2 (ja) 感光性導電ペースト用銀粉の製造方法
JP2006097086A (ja) 球状銀粉およびその製造方法
JP6791652B2 (ja) 銀粉およびその製造方法
JP2006161145A (ja) 銀粉およびその製造方法
JP2009013490A (ja) ニッケル粉末およびその製造方法
JP2007224422A (ja) 銀粉およびこれを用いたペースト
KR20200061193A (ko) 단분산 은 분말의 제조방법
JP2006257514A (ja) ナノスケールの金属被膜および該被膜を製造する方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051226

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070301

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070424

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070524

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080311

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080424

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080930

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081029

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090428

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20090514

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090515

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20090514

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4320447

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120612

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120612

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130612

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term