JP2005218923A

JP2005218923A - 基板塵埃除去装置

Info

Publication number: JP2005218923A
Application number: JP2004027463A
Authority: JP
Inventors: Shigeki Ikeda; 茂樹池田
Original assignee: NAGAOKA SEISAKUSHO KK
Current assignee: NAGAOKA SEISAKUSHO KK
Priority date: 2004-02-04
Filing date: 2004-02-04
Publication date: 2005-08-18
Also published as: CN1652664A

Abstract

【課題】回転する回転ブラシローラにより基板表面から掻き取った塵埃のほぼ全てを、吸引して、除去できる、基板塵埃除去装置を提供する。
【解決手段】コンベヤ上に搭載されて搬送される基板１０表面に、互いに逆方向に向けて回転する前後２本の回転ブラシローラ２０を、基板１０を横断する方向に向けて、押接させる。そして、その回転する回転ブラシローラ２０により、基板１０表面に付着している塵埃を、基板１０表面から掻き取って、２本の回転ブラシローラ２０の間に浮遊させたり、その２本の回転ブラシローラ２０に付着させたりする。そして、それらの塵埃を、２本の回転ブラシローラ２０の上部周囲を連続して覆う塵埃除去手段の集塵口９２を通して、塵埃除去手段９０の内方に吸引して、排除する。
【選択図】図１

Description

本発明は、プリント配線基板等の基板に付着している塵埃を除去するための、基板塵埃除去装置に関する。

上記プリント配線基板等の基板においては、その基板表面にハンダくずや塵やほこり等の塵埃が付着していると、その塵埃付着箇所の電気抵抗値が下がる等して、その基板の機能が損なわれる恐れがある。この塵埃付着による電気抵抗値の低下は、微小電力で動作する近時の半導体装置用の基板の場合には、致命傷となる。

従って、そのような半導体装置用などの基板の組み立て作業においては、その基板に付着している塵埃を除去する工程が、通常、組み込まれている。
この基板の塵埃除去工程に用いられる塵埃除去装置には、特開２００３−３３４４９９号公報記載のダスト除去装置がある。
このダスト除去装置によるダスト除去方法においては、図４に示したように、基板１０を搬送する搬送方向（図の矢印方向）とは逆方向に回転する回転ブラシローラ２０を、基板１０を横断する方向に向けて、基板１０表面に接触させて、その回転する回転ブラシローラ２０により、基板１０表面に付着している塵埃を基板１０表面から掻き取っている。そして、その基板１０表面から回転する回転ブラシローラ２０により掻き取った塵埃を、回転ブラシローラ２０の上部周囲を覆うダスト集塵手段の集塵口４２を通して、ダスト集塵手段４０の内方に吸引して、排除している。
特開２００３−３３４４９９号公報

しかしながら、上記ダスト除去装置によるダスト除去方法により、基板１０に付着した塵埃を除去した場合には、その基板１０の搬送方向とは逆方向に回転する回転ブラシローラ２０により基板１０表面から掻き取られた塵埃が、その回転する回転ブラシローラ２０の回転力を受けて、回転ブラシローラ２０よりも前方の基板１０の上方空間に広く拡散して舞い上がった。そして、その基板１０の上方空間に広く舞い上がった塵埃の多くが、回転ブラシローラ２０の上部周囲に配置された集塵口４２を通して、ダスト集塵手段４０の内方に的確に吸引されずに、その下方の基板１０に再び付着してしまった。
そのために、上記ダスト除去装置によるダスト除去方法では、その基板１０表面に付着している塵埃の全てを、回転する回転ブラシローラ２０により掻き取って、ダスト集塵手段４０の内方に余すところなく確実に吸引して、除去できなかった。

本発明は、このような課題を解消するためになされたもので、回転する回転ブラシローラにより基板表面から掻き取った塵埃のほぼ全てを、基板周辺から余すところなく確実に吸引して、除去できる、基板塵埃除去装置を提供することを、目的としている。

このような目的を達成するために、本発明の基板塵埃除去装置は、基板搬送用のコンベヤと、該コンベヤ上に搭載されて搬送される基板表面に、基板を横断する方向に向けて押接させる、互いに接近して並ぶ前後２本の回転ブラシローラと、該２本の回転ブラシローラの基板表面に押接させる側のローラ部分が２本の回転ブラシローラ間の内方に向けてそれぞれ回転するように、２本の回転ブラシローラを互いに逆方向に向けて回転させる回転手段と、前記２本の回転ブラシローラの上部周囲を連続して覆う集塵口を持つ塵埃除去手段であって、その２本の回転ブラシローラの間に浮遊する塵埃及びその２本の回転ブラシローラに付着した塵埃を、前記集塵口を通して、吸引して、排除する塵埃除去手段とが備えられたことを特徴としている。

この基板塵埃除去装置においては、コンベヤ上に搭載されて搬送される基板表面に、互いに接近して並ぶ前後２本の回転ブラシローラを、基板を横断する方向に向けて、押接させることができる。それと共に、その互いに接近して並ぶ前後２本の回転ブラシローラを、回転手段により、その２本の回転ブラシローラの基板表面に押接させる側のローラ部分が２本の回転ブラシローラ間の内方に向けてそれぞれ回転するように、互いに逆方向に向けて回転させることができる。そして、その基板表面に押接させる側のローラ部分が２本の回転ブラシローラ間の内方に向けてそれぞれ回転するように、互いに逆方向に向けて回転する２本の回転ブラシローラであって、コンベヤ上に搭載されて搬送される基板表面に押接させた２本の回転ブラシローラにより、基板前部から基板後部にかけての基板表面に付着している塵埃を、基板表面から順次掻き取って、その前後２本の回転ブラシローラ間の内方に巻き上げることができる。そして、その２本の回転ブラシローラ間の内方に巻き上げた塵埃を、２本の回転ブラシローラの間に浮遊させた状態としたり、その２本の回転ブラシローラに付着させた状態としたりできる。そして、その２本の回転ブラシローラの間に浮遊したり、その２本の回転ブラシローラに付着したりした塵埃を、その２本の回転ブラシローラの上部周囲を連続して覆う塵埃除去手段の集塵口を通して、塵埃除去手段の内方に吸引して、排除できる。

その際には、その基板表面に押接させる側のローラ部分が２本の回転ブラシローラ間の内方に向けてそれぞれ回転するように、互いに逆方向に向けて回転する前後２本の回転ブラシローラにより掻き取られて、２本の回転ブラシローラの間に舞い上がった塵埃が、互いに接近して並ぶ前後２本の回転ブラシローラの間に挟まれた状態となって、その前後２本の回転ブラシローラの間からその外方に、回転する回転ブラシローラの回転力を受けて、広く拡散するのが、防止される。即ち、その２本の回転ブラシローラが、２本の回転ブラシローラ間に舞い上がった塵埃が、２本の回転ブラシローラの外方に広く拡散するのを防ぐ防護壁の役目を果たす。そして、その前後２本の回転ブラシローラの間に挟まれた状態で浮遊する基板表面から掻き取られた塵埃のほぼ全てが、その前後２本の回転ブラシローラの上部周囲を連続して覆う塵埃除去手段の集塵口を通して、塵埃除去手段の内方に吸引されて、排除される。
それと同時に、互いに逆方向に向けて回転する前後２本の回転ブラシローラにより基板表面から掻き取られて、その回転する２本の回転ブラシローラに付着した塵埃のほぼ全ても、その前後２本の回転ブラシローラの上部周囲を連続して覆う塵埃除去手段の集塵口を通して、塵埃除去手段の内方に吸引されて、排除される。
その結果、その回転する前後２本の回転ブラシローラにより基板表面から掻き取られた塵埃のほぼ全てを、その２本の回転ブラシローラの上部周囲を連続して覆う塵埃除去手段の集塵口を通して、塵埃除去手段の内方に余すところなく確実に吸引して、排除することが可能となる。

本発明の基板塵埃除去装置においては、コンベヤの幅を、該コンベヤ上に搭載されて搬送される基板の幅に合せて、広狭に調整する調整手段を備えると良い。
そうした場合には、その調整手段を用いて、コンベヤ上に搭載されて搬送される基板の幅に合せて、コンベヤの幅を広狭に調整できる。そして、その幅が基板の幅に合せて広狭に調整されたコンベヤ上に塵埃除去用の基板を的確に搭載して、その基板をコンベヤ上を安定させた状態で搬送できる。

本発明の基板塵埃除去装置においては、２本の回転ブラシローラを、コンベヤ上に搭載されて搬送される基板に対して、上下方向に昇降させる、昇降手段を備えると良い。
そうした場合には、そのコンベヤ上に搭載されて搬送される基板表面に半導体装置などの様々の電子部品が装着されている場合に、その基板表面に装着された電子部品の高さに合せて、昇降手段を用いて、２本の回転ブラシローラを、そのコンベヤ上に搭載されて搬送される基板に対して、所定距離上方に上昇させることができる。そして、そのコンベヤ上に搭載されて搬送される電子部品が装着された基板を、２本の回転ブラシローラに接触させずに、その２本の回転ブラシローラの下方を抵抗なく円滑にくぐり抜けさせることができる。そして、その基板表面に装着された電子部品が、２本の回転ブラシローラに衝突して、損傷を負うのを、防ぐことができる。
次いで、そのコンベヤ上に搭載されて搬送される電子部品が装着されていない他の基板表面に付着している塵埃を回転する２本の回転ブラシローラにより掻き取ろうとする場合には、昇降手段により所定距離上方に上昇させた２本の回転ブラシローラを、昇降手段を再び用いて、コンベヤ上に搭載されて搬送される基板に対して、所定距離下方に降下させることができる。そして、そのコンベヤ上に搭載されて搬送される電子部品が装着されていない他の基板表面に、回転する２本の回転ブラシローラを確実に押接させて、その回転する２本の回転ブラシローラにより、その他の基板表面に付着している塵埃を基板表面から掻き取ることができる。

本発明の基板塵埃除去装置においては、２本の回転ブラシローラよりも後方又は前方のコンベヤ上に搭載されて搬送される基板に帯電した静電気を除去する、除電手段を備えると良い。
そうした場合には、回転する２本の回転ブラシローラを押接させる基板が、その２本の回転ブラシローラと基板との間に発生する摩擦力の影響を受けて、静電気が帯電した状態となっても、その基板が２本の回転ブラシローラよりも後方のコンベヤ上に搭載されて搬送される際に、その基板に帯電した静電気を、除電手段により除去できる。そして、その基板に帯電した静電気に吸引されて、基板周辺に浮遊する塵埃が基板に再付着するのを、防ぐことができる。
あるいは、基板が２本の回転ブラシローラよりも前方のコンベヤ上に搭載されて搬送される際に、その基板に帯電している静電気を、除電手段により予め除去できる。そして、その基板に帯電している静電気に吸引されて、基板周辺に浮遊する塵埃が基板に付着するのを、防ぐことができる。

本発明の基板塵埃除去装置においては、２本の回転ブラシローラよりも後方又は前方のコンベヤ上に搭載されて搬送される基板表面にエアーを吹き付けて、その基板表面に刻設された溝内又は／及びその基板に設けられたスルーホール内に付着している塵埃を、エアーにより吹き飛ばして除去するエアー吹き付け手段を備えると良い。
そうした場合には、そのエアー吹き付け手段を用いて、２本の回転ブラシローラよりも後方又は前方のコンベヤ上に搭載されて搬送される基板表面にエアーを吹き付けて、その基板表面に刻設された溝内又は／及びその基板に設けられたスルーホール内に付着している塵埃であって、回転する２本の回転ブラシローラにより掻き取って除去できない塵埃を、その溝内又は／及びスルーホール内からその外部にエアーにより吹き飛ばして除去できる。

以上、説明したように、本発明の基板塵埃除去装置によれば、その回転する前後２本の回転ブラシローラにより基板表面から掻き取った塵埃のほぼ全てを、その周辺に広く拡散させずに、塵埃除去手段の内方に余すところなく確実に吸引して、排除することが可能となる。

次に、本発明の実施の形態を図面に従い説明する。
図１ないし図３は本発明の基板塵埃除去装置の好適な実施の形態を示し、図１はその原理構造説明図、図２はその正面図、図３はその塵埃除去手段を取り外した状態の平面図である。以下に、この基板塵埃除去装置を説明する。

この基板塵埃除去装置には、図２と図３に示したように、基板１０を搭載して搬送するコンベヤ６０が備えられている。コンベヤ６０は、左右一対の無端ベルト６２のそれぞれを、一対のコンベヤ枠６４の内側を同一方向に同一速度で同期巡回させる構造をしている。そして、その左右一対の無端ベルト６２上に亙って搭載された基板１０を、無端ベルト６２の巡回方向に無端ベルト６２と同一速度で搬送する構造をしている。
コンベヤ６０の中途部上方には、コンベヤ６０上に搭載されて搬送される基板１０表面に、基板１０を横断する方向に向けて押接させる、前後２本の長尺の回転ブラシローラ２０が、互いに接近させて回転自在に並べて支持されている。
２本の回転ブラシローラの回転軸２２には、その２本の回転ブラシローラ２０を、その基板１０表面に押接させる側のローラ部分が２本の回転ブラシローラ２０間の内方に向けてそれぞれ回転するように、互いに逆方向に向けて回転させる回転手段８０が連結されている。回転手段８０は、ギヤ付き電動モータ８２と、該モータの出力軸の回転力を２本の回転ブラシローラの回転軸２２のそれぞれに伝える歯車機構８４とから構成されている。
２本の回転ブラシローラ２０の上部周囲は、その２本の回転ブラシローラ２０の間に浮遊する塵埃及びその２本の回転ブラシローラ２０に付着した塵埃を吸引して、排除する塵埃除去手段９０の集塵口９２により隙間なく連続して覆われている。塵埃除去手段９０は、真空ポンプ（図示せず）等を用いて構成されていて、２本の回転ブラシローラ２０の上部周囲を連続して覆う集塵口９２を通して、２本の回転ブラシローラ２０の間に浮遊する塵埃及び２本の回転ブラシローラ２０に付着した塵埃を、塵埃除去手段９０のダクト９４内方に吸引して、排除する構造をしている。

図１ないし図３に示した基板塵埃除去装置は、以上のように構成されていて、この基板塵埃除去装置においては、図１に示したように、コンベヤ６０上に搭載されて搬送される基板１０表面に、コンベヤ６０の中途部上方に互いに接近して並ぶ前後２本の回転ブラシローラ２０を、基板１０を横断する方向に向けて、押接させることができる。それと共に、その互いに接近して並ぶ前後２本の回転ブラシローラ２０を、その基板１０表面に押接させる側のローラ部分が２本の回転ブラシローラ２０間の内方に向けてそれぞれ回転するように、回転手段８０により、互いに逆方向に向けて回転させることができる。そして、その基板１０表面に押接させる側のローラ部分が２本の回転ブラシローラ２０間の内方に向けてそれぞれ回転するように、互いに逆方向に向けて回転する前後２本の回転ブラシローラ２０であって、コンベヤ６０上に搭載されて搬送される基板１０表面に押接させた２本の回転ブラシローラ２０により、基板１０前部から基板１０後部にかけての基板１０表面に付着している塵埃を、基板１０表面から順次掻き取って、２本の回転ブラシローラ２０の間に巻き上げることができる。そして、その２本の回転ブラシローラ２０の間に巻き上げた塵埃を、２本の回転ブラシローラ２０の間に浮遊させた状態としたり、その２本の回転ブラシローラ２０に付着させた状態としたりできる。そして、その２本の回転ブラシローラ２０の間に浮遊したり、その２本の回転ブラシローラ２０に付着したりした塵埃を、その２本の回転ブラシローラ２０の上部周囲を連続して覆う塵埃除去手段の集塵口９２を通して、塵埃除去手段９０の内方に吸引して、排除できる。

その際には、その基板１０表面に押接させる側のローラ部分が２本の回転ブラシローラ２０間の内方に向けてそれぞれ回転するように、互いに逆方向に向けて回転する前後２本の回転ブラシローラ２０により掻き取られて、回転ブラシローラ２０の回転方向に当たる、２本の回転ブラシローラ２０間の上方に舞い上がった塵埃が、互いに接近して並ぶ前後２本の回転ブラシローラ２０の間に挟まれた状態となって、その前後２本の回転ブラシローラ２０の間から、回転する回転ブラシローラ２０の回転力を受けて、その外方に広く拡散するのが、防止される。そして、その前後２本の回転ブラシローラ２０の間に挟まれた状態で浮遊する基板１０表面から掻き取られた塵埃のほぼ全てが、その前後２本の回転ブラシローラ２０の上部周囲を連続して覆う塵埃除去手段の集塵口９２を通して、塵埃除去手段９０の内方に余すところなく確実に吸引されて、排除される。
それと同時に、その基板１０表面に押接させる側のローラ部分が２本の回転ブラシローラ２０間の内方に向けてそれぞれ回転するように、互いに逆方向に向けて回転する前後２本の回転ブラシローラ２０により基板１０表面から掻き取られて、その回転する２本の回転ブラシローラ２０に付着した塵埃のほぼ全ても、その前後２本の回転ブラシローラ２０の上部周囲を連続して覆う塵埃除去手段の集塵口９２を通して、塵埃除去手段９０の内方に余すところなく確実に吸引されて、排除される。
その結果、その回転する前後２本の回転ブラシローラ２０により基板１０表面から掻き取られた塵埃のほぼ全てを、その２本の回転ブラシローラ２０の上部周囲を連続して覆う塵埃除去手段の集塵口９２を通して、塵埃除去手段９０の内方に余すところなく確実に吸引して、排除することが可能となる。

この基板塵埃除去装置においては、図２に示したように、コンベヤ６０の幅を、そのコンベヤ６０上に搭載されて搬送される基板１０の幅に合せて、広狭に調整する調整手段１００を備えると良い。調整手段１００は、その左右いずれか一方（図２では、左側としている）のコンベヤ枠６４を、ガイドレール６６に沿って左右に移動させて、ボルト６８等によりガイドレール６６の任意部位に解放可能に固定できる構造とすると良い。他方のコンベヤ枠６４は、装置本体３０に動かぬように固定した構造とすると良い。そして、その一方のコンベヤ枠６４をガイドレール６６に沿って適宜距離移動させて、ガイドレール６６の任意部位に固定し直すことにより、左右一対のコンベヤ枠６４の内側に巡回可能に支持された一対の無端ベルト６２の間の距離を、その左右一対の無端ベルト６２上に亙って搭載して搬送する基板１０の幅に合せて、広狭に調整できる構造とすると良い。
そして、その調整手段１００を用いて、コンベヤ６０上に搭載されて搬送される基板１０の幅に合せて、コンベヤ６０の幅を広狭に調整できるようにすると良い。そして、その幅が基板１０の幅に合せて広狭に調整されたコンベヤ６０上に塵埃除去用の基板１０を的確に搭載して、その基板１０をコンベヤ６０上を安定させた状態で搬送できるようにすると良い。

また、この基板塵埃除去装置においては、図２に示したように、２本の回転ブラシローラ２０を、コンベヤ６０上に搭載されて搬送される基板１０に対して、上下方向に昇降させる、昇降手段１１０を備えると良い。昇降手段１１０は、２本の回転ブラシローラ２０を回転自在に支持する支持枠２４を、装置本体３０に対して、上下方向に昇降自在に支持するガイド部３２と、該ガイド部に沿って上下方向に適宜距離昇降させた支持枠２４をガイド部３２の任意部位に解放可能に固定するボルト３６等から構成すると良い。
そして、そのコンベヤ６０上に搭載されて搬送される基板１０表面に半導体装置などの様々の電子部品（図示せず）が装着されている場合に、その基板１０表面に装着された電子部品の高さに合せて、昇降手段１１０を用いて、２本の回転ブラシローラ２０を、そのコンベヤ６０上に搭載されて搬送される基板１０に対して、所定距離上方に上昇させると良い。そして、そのコンベヤ６０上に搭載されて搬送される電子部品が装着された基板１０を、２本の回転ブラシローラ２０に衝突させずに、その２本の回転ブラシローラ２０の下方を抵抗なく円滑にくぐり抜けさせると良い。そして、その基板１０表面に装着された電子部品が、２本の回転ブラシローラ２０に突き当たって、損傷を負うのを、防ぐと良い。
次いで、そのコンベヤ６０上に搭載されて搬送される電子部品が装着されていない他の基板１０表面に付着している塵埃を回転する２本の回転ブラシローラ２０により掻き取ろうとする場合には、昇降手段１１０により所定距離上方に上昇させた２本の回転ブラシローラ２０を、昇降手段１１０を再度用いて、そのコンベヤ６０上に搭載されて搬送される他の基板１０に対して、所定距離下方に降下させると良い。そして、そのコンベヤ６０上に搭載されて搬送される電子部品が装着されていない他の基板１０表面に、回転する２本の回転ブラシローラ２０を確実に押接させて、その回転する２本の回転ブラシローラ２０により、その他の基板１０表面に付着している塵埃を基板１０表面から掻き取ると良い。

また、この基板塵埃除去装置においては、図１に示したように、２本の回転ブラシローラ２０よりも後方又は前方（図１では、後方としている）のコンベヤ６０上に搭載されて搬送される基板１０に帯電した静電気を除去する、除電手段１２０を備えると良い。除電手段１２０には、市販のものを用いると良い。
そして、回転する２本の回転ブラシローラ２０を押接させた基板１０が、その２本の回転ブラシローラ２０と基板１０との間に発生する摩擦力の影響を受けて、静電気が帯電した状態となっても、その基板１０が２本の回転ブラシローラ２０よりも後方のコンベヤ６０上に搭載されて搬送される際に、その基板１０に帯電した静電気を、除電手段１２０により除去できるようにすると良い。そして、その基板１０に帯電した静電気に吸引されて、基板１０周辺に浮遊する塵埃が基板１０に再付着するのを、防ぐと良い。
また、場合によっては、除電手段１２０を備える代わりに、２本の回転ブラシローラ２０に、帯電防止機能を持つブラシローラを用いても良い。そして、その２本の回転ブラシローラ２０の下方をくぐり抜けてその後方のコンベア６０上に送り出されて来る基板１０が、その回転する２本の回転ブラシローラ２０からの摩擦力を受けて、静電気が帯電した状態となるのを、防いでも良い。
あるいは、基板１０が２本の回転ブラシローラ２０よりも前方のコンベヤ６０上に搭載されて搬送される際に、その基板１０に帯電している静電気を、除電手段１２０により予め除去できるようにしても良い。そして、その基板１０に帯電している静電気に吸引されて、その基板１０周辺に浮遊する塵埃が基板１０に付着するのを、防いでも良い。

また、この基板塵埃除去装置においては、図１に示したように、２本の回転ブラシローラ２０よりも後方又は前方（図１では、前方としている）のコンベヤ６０上に搭載されて搬送される基板１０表面にエアーを吹き付けて、その基板１０表面にレーザ等を用いて刻設された溝（図示せず）内又は／及びその基板１０に設けられたスルーホール（図示せず）内に付着している塵埃を、エアーにより吹き飛ばして除去するエアー吹き付け手段１３０を備えると良い。エアー吹き付け手段１３０は、エアーコンプレッサ（図示せず）から吐き出されるエアーを、コンベヤ６０上に搭載されて搬送される基板１０表面近くに配置されたノズル１３２から、基板１０表面に向けて噴射させる構造とすると良い。
そして、そのエアー吹き付け手段１３０を用いて、２本の回転ブラシローラ２０よりも後方又は前方のコンベヤ６０上に搭載されて搬送される基板１０表面にエアーを吹き付けて、その基板１０表面に刻設された溝内又は／及びその基板１０に設けられたスルーホール内に付着している塵埃であって、回転する２本の回転ブラシローラ２０により掻き取って除去できない塵埃を、その溝内又は／及びスルーホール内からその外部にエアーにより吹き飛ばして除去できるようにすると良い。

本発明の基板塵埃除去装置は、プリント基板、セラミック基板等の様々の基板表面に付着している塵埃を、その基板表面から掻き取って、除去するための装置として、広く有効利用可能である。

本発明の基板塵埃除去装置の原理構造説明図である。本発明の基板塵埃除去装置の正面図である。本発明の基板塵埃除去装置の塵埃除去手段を取り外した状態の平面図である。従来のダスト除去装置の原理構造説明図である。

符号の説明

１０基板
２０回転ブラシローラ
３０装置本体
４０ダスト集塵手段
６０コンベヤ
８０回転手段
９０塵埃除去手段
９２塵埃除去手段の集塵口
１００調整手段
１１０昇降手段
１２０除電手段
１３０エアー吹き付け手段

Claims

基板搬送用のコンベヤと、該コンベヤ上に搭載されて搬送される基板表面に、基板を横断する方向に向けて押接させる、互いに接近して並ぶ前後２本の回転ブラシローラと、該２本の回転ブラシローラの基板表面に押接させる側のローラ部分が２本の回転ブラシローラ間の内方に向けてそれぞれ回転するように、２本の回転ブラシローラを互いに逆方向に向けて回転させる回転手段と、前記２本の回転ブラシローラの上部周囲を連続して覆う集塵口を持つ塵埃除去手段であって、その２本の回転ブラシローラの間に浮遊する塵埃及びその２本の回転ブラシローラに付着した塵埃を、前記集塵口を通して、吸引して、排除する塵埃除去手段とが備えられたことを特徴とする基板塵埃除去装置。
前記コンベヤの幅を、該コンベヤ上に搭載されて搬送される基板の幅に合せて、広狭に調整する調整手段が備えられたことを特徴とする請求項１記載の基板塵埃除去装置。
前記２本の回転ブラシローラを、コンベヤ上に搭載されて搬送される基板に対して、上下方向に昇降させる、昇降手段が備えられたことを特徴とする請求項１又は２記載の基板塵埃除去装置。
前記２本の回転ブラシローラよりも後方又は前方のコンベヤ上に搭載されて搬送される基板に帯電した静電気を除去する、除電手段が備えられたことを特徴とする請求項１、２又は３記載の基板塵埃除去装置。
前記２本の回転ブラシローラよりも後方又は前方のコンベヤ上に搭載されて搬送される基板表面にエアーを吹き付けて、その基板表面に刻設された溝内又は／及びその基板に設けられたスルーホール内に付着している塵埃を、前記エアーにより吹き飛ばして除去するエアー吹き付け手段が備えられたことを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の基板塵埃除去装置。