CN102284451A - 模具吸真空清洁装置 - Google Patents

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吕明
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Abstract

本发明涉及一种半导体行业的模具吸真空清洁装置，包括在直线导轨上滑动安装的滑块，在滑块上固定有吸尘管，吸尘管上并联安装有上模板吸尘罩与下模板吸尘罩，在上模板吸尘罩的前后壁体之间安装有上滚刷，在上滚刷左右两侧的上模板吸尘罩壁体上均固定有上密封挡片，在下模板吸尘罩的前后壁体之间安装有下滚刷，在下滚刷左右两侧的下模板吸尘罩壁体上均固定有下密封挡片。本发明提高了模具中异物质被去除的几率；本发明操作简单，方便技术人员的修理；本发明持久耐用，减少反复购买备件的费用；本发明中的圆形滚刷的更换方便快捷，减少设备停机时间。

Description

模具吸真空清洁装置
技术领域
本发明涉及一种半导体行业的模具清洁装置，尤其是一种模具吸真空清洁装置。
背景技术
目前，随着我国半导体行业的日益壮大及影响力的持续增加，需对生产出产品的品质及良率有着更高的要求。由于之前吸真空装置过于单一，导致模具上的异物质无法被吸力去除，导致产品异物质不良持续发生。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种可以提高密封性、增加对模具上异物质的清除能力、改善产品品质的。
按照本发明提供的技术方案，所述模具吸真空清洁装置，包括在直线导轨上滑动安装的滑块，在滑块上固定有吸尘管，吸尘管上并联安装有上模板吸尘罩与下模板吸尘罩，在上模板吸尘罩的前后壁体之间安装有上滚刷，在上滚刷左右两侧的上模板吸尘罩壁体上均固定有上密封挡片，在下模板吸尘罩的前后壁体之间安装有下滚刷，在下滚刷左右两侧的下模板吸尘罩壁体上均固定有下密封挡片。
本发明提高了模具中异物质被去除的几率；
本发明操作简单，方便技术人员的修理；
本发明持久耐用，减少反复购买备件的费用；
本发明中的圆形滚刷的更换方便快捷，减少设备停机时间。
附图说明
图1是本发明的整体结构示意图。
具体实施方式
下面结合具体附图和实施例对本发明作进一步说明。
如图所示：该模具吸真空清洁装置，包括在直线导轨1上滑动安装的滑块2，在滑块2上固定有吸尘管9，吸尘管9上并联安装有上模板吸尘罩3与下模板吸尘罩4，在上模板吸尘罩3的前后壁体之间安装有上滚刷5，在上滚刷5左右两侧的上模板吸尘罩3壁体上均固定有上密封挡片7，在下模板吸尘罩4的前后壁体之间安装有下滚刷6，在下滚刷6左右两侧的下模板吸尘罩4壁体上均固定有下密封挡片8。
本发明的装置直线导轨移动到上模10和下模11之间，上模10和下模11闭合到指定位置，在真空吸尘管9退出上模10和下模11的过程中，橡胶的上密封挡片7与上模10之间、下密封挡片8与下模11会进成较为密闭的空间，圆形的上滚刷5与下滚刷6会清洁上模10的下表面、下模11的上表面，异物质会被强力的吸力吸走。

Claims (1)

1.一种模具吸真空清洁装置，其特征是：包括在直线导轨（1）上滑动安装的滑块（2），在滑块（2）上固定有吸尘管（9），吸尘管（9）上并联安装有上模板吸尘罩（3）与下模板吸尘罩（4），在上模板吸尘罩（3）的前后壁体之间安装有上滚刷（5），在上滚刷（5）左右两侧的上模板吸尘罩（3）壁体上均固定有上密封挡片（7），在下模板吸尘罩（4）的前后壁体之间安装有下滚刷（6），在下滚刷（6）左右两侧的下模板吸尘罩（4）壁体上均固定有下密封挡片（8）。
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