JP2005183505A - 多孔質層付きシリコン基板を製造する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】銀イオンを含有する、過酸化水素などの酸化剤とフッ化水素酸の混合水溶液に、多結晶シリコン基板を浸すことにより、基板の表面に多孔質シリコン層を形成することを特徴とし、場合により更にアルカリ処理をして上方の多孔質層を除去することによりテクスチャー構造を形成することを特徴とする。
【選択図】図1
Description
そこで従来、結晶系太陽電池においては、基板の表面をアルカリにより選択エッチングして多数のピラミッドが連なった所謂テクスチャー形状とすることにより、エネルギー変換効率の向上が図られていた。これは、基板表面が平坦である場合と異なり、一旦はピラミッドの斜面で反射した光であっても隣のピラミッドの斜面が受光してそこでの屈折により入射させるという光閉じ込め効果を利用したものである。
それ故、この発明の課題は、多孔質層付きのシリコン基板を安価に且つ環境に悪影響を及ぼすことなく製造する方法を提供することにある。
金属イオンを含有する、酸化剤とフッ化水素酸の混合水溶液に、シリコン基板を浸すことにより、基板の表面に多孔質シリコン層を形成することを特徴とする。
金属イオンとしては、銀、銅、ニッケル、白金、パラジウム及び金のうちから選ばれる1種以上のイオンが挙げられる。この発明の方法によれば、金属イオンを含む液中で金属がシリコン基板表面に析出し、その金属が過酸化水素等の酸化剤の還元触媒として働き、酸化剤がシリコン基板から速やかに電子を受け取る。それによって、基板内に正孔が残る。この正孔が基板材料の酸化及び液中への溶解を促進する。その結果、基板の表面が、直径数nm程度の多数の小さな孔からなる多孔質層とその下に位置する直径数百nm程度の多数の大きな孔からなる多孔質層との二重層となる。
Claims (4)
- 金属イオンを含有する、酸化剤とフッ化水素酸の混合水溶液に、シリコン基板を浸すことにより、基板の表面に多孔質シリコン層を形成することを特徴とする多孔質層付きシリコン基板の製造方法。
- 前記金属イオンが、銀、銅、ニッケル、白金、パラジウム及び金のうちから選ばれる1種以上のイオンである請求項1に記載の方法。
- 前記酸化剤が、過酸化水素、酸素及びオゾンのうちから選ばれる1種以上である請求項1に記載の方法。
- 前記シリコン基板を前記混合水溶液に浸した後、アルカリ水溶液に浸す請求項1に記載の方法。
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