JP2005086170A - 面発光型半導体レーザおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明にかかる面発光型半導体レーザは,基板101の上方に形成された第1ミラー102と、活性層103と、第2ミラー104と、を有する面発光型半導体レーザにおいて、活性層103の近傍に形成された、開口部110を有する絶縁層105を含む第1柱状部130と、第1柱状部130の上方に形成された第2柱状部132と、を含み、第2柱状部132の平面形状は異方性を有する。
【選択図】 図1
Description
基板の上方に形成された第1ミラーと、活性層と、第2ミラーと、を有する面発光型半導体レーザにおいて、
前記活性層の近傍に形成された、開口部を有する絶縁層を含む第1柱状部と、
前記第1柱状部の上方に形成された第2柱状部と、を含み、
前記第2柱状部の平面形状は異方性を有する。
第1ミラーと、活性層と、第2ミラーと、を有する面発光型半導体レーザの製造方法において、
基板の上方に半導体層を積層する工程と、
第1マスク層を用いて、前記半導体層をエッチングすることにより柱状部を形成する工程と、
平面形状が異方性を有する第2マスク層を用いて、前記半導体層および前記柱状部をエッチングすることにより、第1柱状部および該第1柱状部の上方に平面形状が異方性を有する第2柱状部を形成する工程と、
前記第1柱状部内の前記活性層近傍に、開口部を有する絶縁層を形成する工程と、を含む。
1−1.デバイスの構造
図1は、本発明を適用した第1の実施の形態に係る面発光型半導体レーザ(以下、「面発光レーザ」ともいう)100を模式的に示す断面図および面発光レーザ100の要部を模式的に示す平面図である。図2〜図4は、第1の実施の形態に係る面発光レーザ100の要部を模式的に示す平面図である。
本実施の形態の面発光型半導体レーザ100の一般的な動作を以下に示す。なお、下記の面発光型半導体レーザ100の駆動方法は一例であり、本発明の趣旨を逸脱しない限り、種々の変更が可能である。
次に、本発明を適用した第1の実施の形態に係る面発光型半導体レーザ100の製造方法の一例について、図6〜図13を用いて説明する。図6〜図13は、図1に示す本実施の形態の面発光型半導体レーザ100の一製造工程を模式的に示す断面図であり、それぞれ図1に示す断面に対応している。
本実施の形態に係る面発光型半導体レーザ100の主な作用および効果を以下に示す。
2−1.デバイスの構造
図14は、本発明を適用した第2の実施の形態に係る面発光レーザ200を模式的に示す断面図および面発光レーザ200の要部を模式的に示す平面図である。図15〜図17は、第2の実施の形態に係る面発光レーザ200の要部を模式的に示す平面図である。第1の実施の形態に係る面発光レーザ100と実質的に同じ機能を有する構成要素には同一符号を付して、その詳細な説明を省略する。
本実施の形態の面発光型半導体レーザ200の一般的な動作を以下に示す。なお、下記の面発光型半導体レーザ200の駆動方法は一例であり、本発明の趣旨を逸脱しない限り、種々の変更が可能である。第1の実施の形態と実質的に同じ動作についてはその詳細な説明を省略する。
次に、本発明を適用した第2の実施の形態に係る面発光型半導体レーザ200の製造方法の一例について、図6、図7、図18〜図23を用いて説明する。図6、図7、図18〜図23は、図14に示す本実施の形態の面発光型半導体レーザ200の一製造工程を模式的に示す断面図であり、それぞれ図14に示す断面に対応している。第1の実施の形態と実質的に同じ工程については、その詳細な説明を省略する。
ここでは、絶縁層106を形成するための材料として、ポリイミド樹脂を用いた場合について説明する。まず、たとえばスピンコート法を用いて、樹脂前駆体(ポリイミド前駆体)を共振器上に塗布して、樹脂前駆体層を形成する。このとき、孔部40に樹脂前駆体を埋め込むことができる。あるいは、孔部40に樹脂前駆体を埋め込まないこともできる。
本実施の形態に係る面発光型半導体レーザ200の主な作用および効果を以下に示す。
Claims (17)
- 基板の上方に形成された第1ミラーと、活性層と、第2ミラーと、を有する面発光型半導体レーザにおいて、
前記活性層の近傍に形成された、開口部を有する絶縁層を含む第1柱状部と、
前記第1柱状部の上方に形成された第2柱状部と、を含み、
前記第2柱状部の平面形状は異方性を有する、面発光型半導体レーザ。 - 請求項1において、
前記第1柱状部の平面形状は異方性を有しない、面発光型半導体レーザ。 - 請求項1または2において、
前記第2柱状部は、前記絶縁層の垂直上方の領域内に、少なくとも1つの孔部を有する、面発光型半導体レーザ。 - 請求項3において、
前記孔部の平面形状は異方性を有する、面発光型半導体レーザ。 - 請求項3または4において、
前記孔部は、前記絶縁層の開口部を中心にして対称的に配置されている、面発光型半導体レーザ。 - 請求項3〜5のいずれかにおいて、
前記孔部は、前記第2ミラーを構成する物質とは熱膨張係数の異なる物質にて埋め込まれている、面発光型半導体レーザ。 - 請求項1〜6のいずれかにおいて、
前記第2柱状部は、少なくとも1つの他の絶縁層を含み、
前記他の絶縁層は、前記絶縁層の垂直上方の領域内にのみ存在する、面発光型半導体レーザ。 - 請求項7において、
前記他の絶縁層は、前記第2柱状部の周縁に沿ってリング状に形成されている、面発光型半導体レーザ。 - 請求項7または8において、
前記他の絶縁層は、さらに前記孔部の周囲に形成されている、面発光型半導体レーザ。 - 請求項7〜9のいずれかにおいて、
前記絶縁層および前記他の絶縁層は、AlGaAs層を側面から酸化したものである、面発光型半導体レーザ。 - 請求項10において、
前記絶縁層を形成するためのAlGaAs層のAl組成は、前記他の絶縁層を形成するためのAlGaAs層のAl組成よりも高い、面発光型半導体レーザ。 - 第1ミラーと、活性層と、第2ミラーと、を有する面発光型半導体レーザの製造方法において、
基板の上方に半導体層を積層する工程と、
第1マスク層を用いて、前記半導体層をエッチングすることにより柱状部を形成する工程と、
平面形状が異方性を有する第2マスク層を用いて、前記半導体層および前記柱状部をエッチングすることにより、第1柱状部および該第1柱状部の上方に平面形状が異方性を有する第2柱状部を形成する工程と、
前記第1柱状部内の前記活性層近傍に、開口部を有する絶縁層を形成する工程と、を含む、面発光型半導体レーザの製造方法。 - 請求項12において、
前記第2柱状部は、前記絶縁層の垂直上方の領域内に、少なくとも1つの孔部を有するように形成される、面発光型半導体レーザの製造方法。 - 請求項12または13において、
前記絶縁層は、前記第1柱状部を構成する層の一部を酸化して形成される、面発光型半導体レーザの製造方法。 - 請求項12〜14のいずれかにおいて、
前記第2柱状部内における前記絶縁層の垂直上方の領域内にのみ、少なくとも1つの他の絶縁層を形成する工程を含む、面発光型半導体レーザの製造方法。 - 請求項15において、
前記絶縁層を形成する工程と、前記他の絶縁層を形成する工程とは、同一のプロセスで行われる、面発光型半導体レーザの製造方法。 - 請求項15または16において、
前記他の絶縁層は、前記第2柱状部を構成する層の一部を酸化して形成される、面発光型半導体レーザの製造方法。
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