JP2005060219A5 - - Google Patents
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- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 7
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 claims description 4
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims description 4
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 3
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- -1 methanol Chemical class 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004217655A JP4011566B2 (ja) | 2003-07-25 | 2004-07-26 | シリカゾル及びその製造方法 |
| TW094101169A TW200604097A (en) | 2004-07-26 | 2005-01-14 | Silica sol and manufacturing method therefor |
| PCT/JP2005/000551 WO2006011252A1 (ja) | 2004-07-26 | 2005-01-18 | シリカゾル及びその製造方法 |
| US11/632,936 US20070237701A1 (en) | 2004-07-26 | 2005-01-18 | Silica Sol and Process for Producing Same |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003280475 | 2003-07-25 | ||
| JP2004217655A JP4011566B2 (ja) | 2003-07-25 | 2004-07-26 | シリカゾル及びその製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005060219A JP2005060219A (ja) | 2005-03-10 |
| JP2005060219A5 true JP2005060219A5 (enExample) | 2007-04-12 |
| JP4011566B2 JP4011566B2 (ja) | 2007-11-21 |
Family
ID=34380113
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004217655A Expired - Lifetime JP4011566B2 (ja) | 2003-07-25 | 2004-07-26 | シリカゾル及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4011566B2 (enExample) |
Families Citing this family (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE112007001757B4 (de) | 2006-07-31 | 2023-10-05 | Fuso Chemical Co., Ltd. | Siliziumdioxid-Sol |
| JPWO2008123373A1 (ja) | 2007-03-27 | 2010-07-15 | 扶桑化学工業株式会社 | コロイダルシリカ及びその製造方法 |
| JP5084670B2 (ja) * | 2008-09-01 | 2012-11-28 | 日揮触媒化成株式会社 | シリカゾルおよびその製造方法 |
| JP2011171689A (ja) | 2009-07-07 | 2011-09-01 | Kao Corp | シリコンウエハ用研磨液組成物 |
| JP5615529B2 (ja) * | 2009-11-16 | 2014-10-29 | 日揮触媒化成株式会社 | 無機酸化物微粒子分散液、研磨用粒子分散液及び研磨用組成物 |
| KR101198316B1 (ko) | 2009-11-16 | 2012-11-06 | 한국전기연구원 | 무용제형 실리카졸 및 그 제조방법 |
| JP5645702B2 (ja) * | 2010-02-19 | 2014-12-24 | 株式会社トクヤマ | 無機酸化物粒子分散液の濃縮物の製造方法、及び無機酸化物粒子の製造方法 |
| JP5495880B2 (ja) * | 2010-03-25 | 2014-05-21 | 扶桑化学工業株式会社 | コロイダルシリカの二次粒子径調整方法 |
| BR112014002156A2 (pt) * | 2011-07-29 | 2017-02-21 | Momentive Performance Mat Inc | método para preparar partículas de óxidos de metais de alta pureza e materiais feitos delas |
| TWI549911B (zh) | 2011-12-28 | 2016-09-21 | 日揮觸媒化成股份有限公司 | 高純度氧化矽溶膠及其製造方法 |
| JP5822356B2 (ja) | 2012-04-17 | 2015-11-24 | 花王株式会社 | シリコンウェーハ用研磨液組成物 |
| JP6047395B2 (ja) * | 2012-12-20 | 2016-12-21 | 日揮触媒化成株式会社 | 高純度シリカゾルおよびその製造方法 |
| KR102205327B1 (ko) | 2013-06-10 | 2021-01-19 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 실리카 졸 및 실리카 졸의 제조 방법 |
| JP5893706B2 (ja) | 2013-10-25 | 2016-03-23 | 花王株式会社 | シリコンウェーハ用研磨液組成物 |
| JP6371193B2 (ja) * | 2014-10-22 | 2018-08-08 | 日揮触媒化成株式会社 | シリカ系複合粒子分散液の製造方法 |
| JP6455142B2 (ja) * | 2014-12-26 | 2019-01-23 | 三菱マテリアル株式会社 | シリカゾル分散液及びシリカ多孔質膜形成用組成物 |
| JP6757729B2 (ja) | 2015-07-31 | 2020-09-23 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | シリカゾルの製造方法 |
| JP2017171599A (ja) * | 2016-03-23 | 2017-09-28 | 高化学技術株式会社 | 固体触媒、及びその固体触媒を用いたエチレングリコールの製造方法 |
| KR102647949B1 (ko) | 2017-11-16 | 2024-03-14 | 닛키 쇼쿠바이카세이 가부시키가이샤 | 실리카 입자의 분산액 및 그 제조 방법 |
| JP7213234B2 (ja) * | 2018-03-30 | 2023-01-26 | 日揮触媒化成株式会社 | シリカ粒子分散液、研磨組成物及びシリカ粒子分散液の製造方法 |
| JP7181142B2 (ja) * | 2019-03-28 | 2022-11-30 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | シリカゾルの製造方法 |
| JP7552019B2 (ja) * | 2020-01-28 | 2024-09-18 | 三菱ケミカル株式会社 | シリカ粒子の製造方法、シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
| JP7516763B2 (ja) * | 2020-01-28 | 2024-07-17 | 三菱ケミカル株式会社 | シリカ粒子の製造方法、シリカゾルの製造方法、中間生成物の除去方法及び研磨方法 |
| JP7581910B2 (ja) * | 2020-02-04 | 2024-11-13 | 三菱ケミカル株式会社 | シリカ粒子の製造方法、シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
| CN111646479B (zh) * | 2020-06-12 | 2022-01-07 | 河北宇天昊远纳米材料有限公司 | 一种制备大粒径硅溶胶的方法 |
| JP7622443B2 (ja) * | 2021-01-15 | 2025-01-28 | 三菱ケミカル株式会社 | シリカ粒子の製造方法、シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
| JP7782173B2 (ja) * | 2021-09-15 | 2025-12-09 | 三菱ケミカル株式会社 | シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
| JP7782174B2 (ja) * | 2021-09-15 | 2025-12-09 | 三菱ケミカル株式会社 | シリカゾルの製造方法、研磨方法、半導体ウェハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
| US20250042749A1 (en) | 2021-12-23 | 2025-02-06 | Fuso Chemical Co., Ltd. | Colloidal silica and production method therefor |
| JP2023132953A (ja) * | 2022-03-11 | 2023-09-22 | 三菱ケミカル株式会社 | シリカ粒子の製造方法及びシリカゾルの製造方法 |
| CN115924922B (zh) * | 2023-02-13 | 2024-11-19 | 山东大学 | 一种化学机械抛光用硅溶胶及其制备方法与应用 |
-
2004
- 2004-07-26 JP JP2004217655A patent/JP4011566B2/ja not_active Expired - Lifetime
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