JP2005050804A - プラズマディスプレイパネルの製造方法およびその製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】金属酸化膜であるMgO膜による保護層8を形成する工程において、その際の成膜は、成膜室である蒸着室21内の、例えば酸素ガスの分圧を一定範囲内として行う。このことにより、蒸着室21内での雰囲気を一定に制御した状態で成膜することとなるため、膜物性を安定とすることができ、画像表示を良質に行うことができるプラズマディスプレイパネルを製造することが可能となる。
【選択図】図2
Description
2001 FPDテクノロジー大全、株式会社電子ジャーナル、2000年10月25日、p598−p600
20 成膜装置
21 蒸着室(成膜室)
22 基板投入室
23 基板取出室
24a,24b,24c 真空排気系
25 搬送手段
26a,26b,26c,26d 仕切壁
27a,27b 加熱ランプ
28a 蒸着源
28b ハース
28c 電子銃
28d 電子ビーム
28e 蒸気流
28f シャッタ
29a ガス導入手段
29b 分圧検出手段
Claims (16)
- プラズマディスプレイパネルの基板へ金属酸化膜を成膜するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記金属酸化膜の成膜に際し、成膜室の所定のガスの分圧を一定範囲内とすることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- プラズマディスプレイパネルの基板へ金属酸化膜を成膜するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記金属酸化膜の成膜に際し、成膜室の所定のガスの分圧を一定範囲内とし、かつ、成膜室の真空度は一定範囲内とすることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 成膜室の所定のガスが酸素ガスであることを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 酸素ガスの分圧は、成膜室を排気しながら酸素ガスを導入することで一定範囲内とすることを特徴とする請求項3に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 酸素ガスの分圧が、1×10−3Pa〜5×10−2Paであることを特徴とする請求項4に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 成膜室の所定のガスが水、水素、一酸化炭素、二酸化炭素の中から選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 水、水素、一酸化炭素、二酸化炭素の中から選ばれる少なくとも一つのガスの分圧は、成膜室を排気しながら、水、水素、一酸化炭素、二酸化炭素の中から選ばれる少なくとも一つのガスを導入することで一定範囲内とすることを特徴とする請求項6に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 水の分圧が、1×10−4Pa〜5×10−3Paであることを特徴とする請求項7に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 水素ガスの分圧が、1×10−3Pa〜5×10−2Paであることを特徴とする請求項7に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 一酸化炭素ガスの分圧が、1×10−3Pa〜5×10−2Paであることを特徴とする請求項7に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 二酸化炭素ガスの分圧が、1×10−4Pa〜3×10−3Paであることを特徴とする請求項7に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 真空度は、成膜室を排気しながら、不活性ガスを導入することで一定範囲内とすることを特徴とする請求項2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- プラズマディスプレイパネルの基板へ金属酸化膜を成膜するプラズマディスプレイパネルの製造装置であって、成膜室と、前記成膜室にガスを導入するガス導入手段と、前記成膜室を排気する排気手段と、前記成膜室内のガスの分圧を検出する分圧検出手段と、前記分圧検出手段からのガスの分圧の情報に基づいて前記成膜室内のガスの分圧が一定範囲内となるように前記ガス導入手段からのガス導入量と前記排気手段による排気量とを制御する制御手段とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造装置。
- プラズマディスプレイパネルの基板へ金属酸化膜を成膜するプラズマディスプレイパネルの製造装置であって、成膜室と、前記成膜室にガスを導入するガス導入手段と、前記成膜室を排気する排気手段と、前記成膜室内のガスの分圧を検出する分圧検出手段と、前記成膜室内の真空度を検出する真空度検出手段と、前記分圧検出手段からのガスの分圧の情報と前記真空度検出手段からの真空度の情報とに基づいて前記成膜室内のガスの分圧と真空度とが一定範囲内となるように、前記ガス導入手段からのガス導入量と前記排気手段による排気量とを制御する制御手段とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造装置。
- 分圧検出手段が、酸素ガスの分圧を検出するものであることを特徴とする請求項13または14に記載のプラズマディスプレイパネルの製造装置。
- 分圧検出手段が、水、水素、一酸化炭素、二酸化炭素の中から選ばれる少なくとも一つのガスの分圧を検出するものであることを特徴とする請求項13または14に記載のプラズマディスプレイパネルの製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004205675A JP2005050804A (ja) | 2003-07-15 | 2004-07-13 | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびその製造装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003197159 | 2003-07-15 | ||
JP2004205675A JP2005050804A (ja) | 2003-07-15 | 2004-07-13 | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびその製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005050804A true JP2005050804A (ja) | 2005-02-24 |
Family
ID=34277318
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004205675A Pending JP2005050804A (ja) | 2003-07-15 | 2004-07-13 | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびその製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2005050804A (ja) |
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