JPWO2007055304A1 - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
2 前面板
3 前面基板
4 走査電極
4a,5a 透明電極
4b,5b バス電極
5 維持電極
6 表示電極
7 誘電体層
8 保護膜
9 背面板
10 背面基板
11 アドレス電極
12 下地誘電体層
13 隔壁
14R,14G,14B 蛍光体層
15 放電空間
16 放電セル
20 成膜装置
21 蒸着室
22 基板搬入室
23 基板搬出室
24a,24b,24c 真空排気系
25 搬送部
26a,26b,26c,26d 仕切壁
27a,27b 基板加熱部
28a 蒸着源
28b ハース
28c 電子銃
28d 電子ビーム
28e 蒸気流
28g,28h シャッタ
29a,29b ガス導入部
29c 分圧検出部
30 基板保持具
図1は、本発明の実施の形態における交流面放電型PDPの構造を示す斜視図である。PDPは、ガラス製の前面板、背面板にそれぞれ行電極、列電極が直交配置され、画素(ピクセル)となる行電極と列電極の交点および両基板間にある隔壁により放電空間を形成する構造である。
図1は、本発明の実施の形態における交流面放電型PDPの構造を示す斜視図である。PDPは、ガラス製の前面板、背面板にそれぞれ行電極、列電極が直交配置され、画素(ピクセル)となる行電極と列電極の交点および両基板間にある隔壁により放電空間を形成する構造である。
以下に本発明の実施の形態におけるPDPの製造方法を用いて保護膜を成膜して、PDPを試作して評価した実施例について説明する。本実施例の成膜装置の条件を表1に示す。
2 前面板
3 前面基板
4 走査電極
4a,5a 透明電極
4b,5b バス電極
5 維持電極
6 表示電極
7 誘電体層
8 保護膜
9 背面板
10 背面基板
11 アドレス電極
12 下地誘電体層
13 隔壁
14R,14G,14B 蛍光体層
15 放電空間
16 放電セル
20 成膜装置
21 蒸着室
22 基板搬入室
23 基板搬出室
24a,24b,24c 真空排気系
25 搬送部
26a,26b,26c,26d 仕切壁
27a,27b 基板加熱部
28a 蒸着源
28b ハース
28c 電子銃
28d 電子ビーム
28e 蒸気流
28g,28h シャッタ
29a,29b ガス導入部
29c 分圧検出部
30 基板保持具
Claims (6)
- 表示電極および誘電体層が形成された基板を成膜室内に搬入するとともに、前記基板を搬送しながら前記基板の前記誘電体層が形成された面に金属酸化膜を連続的に成膜するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記金属酸化膜を成膜する際に、前記成膜室の成膜空間の中央より前記基板搬送方向の下流側の前記成膜室内におけるガスの分圧を計測するとともに、前記分圧に基づいて前記成膜室内にH2Oを含むガスを導入することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記金属酸化膜が酸化マグネシウム膜であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記成膜室内におけるガスのうち、H2O、OHの少なくとも1種類のガスの分圧を計測することを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記H2Oの分圧が6.0×10−4Pa以上2.0×10−3Pa以下となるように、前記H2Oを含むガスの導入を制御することを特徴とする請求項3記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記H2Oの分圧が1.2×10−3Pa以上2.0×10−3Pa以下であることを特徴とする請求項4に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 前記OHの分圧が2.0×10−4Pa以上1.6×10−3Pa以下となるように、前記H2Oを含むガスの導入を制御することを特徴とする請求項3記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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