JP2004196670A - 微生物防除剤 - Google Patents
微生物防除剤 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004196670A JP2004196670A JP2002363779A JP2002363779A JP2004196670A JP 2004196670 A JP2004196670 A JP 2004196670A JP 2002363779 A JP2002363779 A JP 2002363779A JP 2002363779 A JP2002363779 A JP 2002363779A JP 2004196670 A JP2004196670 A JP 2004196670A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bis
- group
- salt
- examples
- polyoxyethylene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
【解決手段】ビス四級アンモニウム塩化合物に、例えば、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテルなどの、HLBが10〜20であるポリオキシエチレン誘導体を配合して、製剤を得る。この製剤を、樹脂エマルションまたは塗料に添加しても、凝集を防止することができるので、製品品質の向上を図ることができ、また、微生物に対する優れた防除効果を長期にわたって確保することができる。
【選択図】 なし
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、微生物防除剤、詳しくは、細菌、かび、酵母、藻の防除剤として用いられる微生物防除剤に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、各種の工業製品には、細菌、かび、酵母、藻などの有害な微生物が繁殖しやすく、生産性や品質の低下、悪臭の発生などの原因となっている。そのため、このような有害微生物の繁殖を防除すべく、工業製品には、抗菌、防かび、防腐、防藻効果を発現する種々の微生物防除剤を添加することが広く知られている。
【0003】
このような微生物防除剤として、近年、例えば、ビス四級アンモニウム塩化合物が、広い抗菌スペクトルを有し、優れた防除効果を発現することが報告されている(例えば、特許文献1〜8参照。)。
【0004】
【特許文献1】
特開平9−110692号公報
【特許文献2】
特開平10−95773号公報
【特許文献3】
特開平10−287566号公報
【特許文献4】
特開2000−95763号公報
【特許文献5】
特開2000−136185号公報
【特許文献6】
特開2000−198879号公報
【特許文献7】
特開2000−159607号公報
【特許文献8】
特開2001−310191号公報
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記したビス四級アンモニウム塩化合物は、たとえば、樹脂エマルションや塗料などに添加すると、凝集してしまい、製品品質の低下、また、微生物に対する防除効果が著しく減少するという不具合がある。
【0005】
そこで、本発明は、このような不具合に鑑みなされたもので、その目的とするところは、ビス四級アンモニウム塩化合物の凝集を防止して、微生物に対する優れた防除効果を長期にわたって確保することのできる、微生物防除剤を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明者らは、ビス四級アンモニウム塩化合物の凝集を防止するために鋭意検討したところ、ビス四級アンモニウム塩化合物に、ポリオキシエチレン誘導体を配合することにより、ビス四級アンモニウム塩化合物の凝集を防止できる知見を見い出し、さらに研究を進めた結果、本発明を完成するに至った。
【0007】
すなわち、本発明は、
(1) ビス四級アンモニウム塩化合物と、ポリオキシエチレン誘導体とを含有することを特徴とする、微生物防除剤、
(2) ビス四級アンモニウム塩化合物が、下記一般式(1)で示されることを特徴とする、前記(1)に記載の微生物防除剤、
一般式(1)
【0008】
【化2】
(式中、R1およびR2は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を、R3およびR4は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基または水素原子を、R5は、置換基を有していてもよい炭化水素基または炭素−炭素間単結合を、Y1は、−NRnCO−、−CONRn−、−NRnCS−(前記Rnは、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を示す。)、−COO−、−COS−、−O−、−S−または炭素−炭素間単結合を、Y2は、−CONRn−、−NRnCO−、−CSNRn−(前記Rnは、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を示す。)、−OOC−、−SOC−、−O−、−S−または炭素−炭素間単結合を、Zはアニオンを、aは1または2の整数を示す。)
(3) ポリオキシエチレン誘導体のHLBが、10〜20であることを特徴とする、前記(1)または(2)に記載の微生物防除剤、
(4) ポリオキシエチレン誘導体が、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテルであることを特徴とする、前記(1)〜(3)のいずれかに記載の微生物防除剤、
(5) 樹脂エマルションまたは塗料に対する添加剤として用いられることを特徴とする、前記(1)〜(4)のいずれかに記載の微生物防除剤
を提供するものである。
【0009】
【発明の実施の形態】
本発明の微生物防除剤は、有効成分として、ビス四級アンモニウム塩化合物を含有している。
【0010】
本発明に用いられるビス四級アンモニウム塩化合物は、例えば、下記一般式(1)で示される。
【0011】
一般式(1)
【0012】
【化3】
(式中、R1およびR2は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を、R3およびR4は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基または水素原子を、R5は、置換基を有していてもよい炭化水素基または炭素−炭素間単結合を、Y1は、−NRnCO−、−CONRn−、−NRnCS−(前記Rnは、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を示す。)、−COO−、−COS−、−O−、−S−または炭素−炭素間単結合を、Y2は、−CONRn−、−NRnCO−、−CSNRn−(前記Rnは、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を示す。)、−OOC−、−SOC−、−O−、−S−または炭素−炭素間単結合を、Zはアニオンを、aは1または2の整数を示す。)
一般式(1)の式中、R1およびR2で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基およびアラルキル基などが挙げられる。
【0013】
アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、iso−ペンチル、sec−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、デシル、イソデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素数1〜18のアルキル基が挙げられる。
【0014】
アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、メタリル、イソプロペニル、1−プロペニル、2−プロペニル、2−メチル−1−プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプチニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニルなどの炭素数2〜18のアルケニル基が挙げられる。
【0015】
アルキニル基としては、例えば、エチニル、1−プロピニル、2−プロピニル、ブチニル、ペンチニル、オクテニルなどの炭素数2〜8のアルキニル基が挙げられる。
【0016】
シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどの炭素数3〜8のシクロアルキル基が挙げられる。
【0017】
アリール基としては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、ビフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、アズレニルなどの炭素数6〜14のアリール基が挙げられる。
【0018】
アラルキル基としては、例えば、ベンジル、1−フェニルエチル、2−フェニルエチル、1−フェニルプロピル、2−フェニルプロピル、3−フェニルプロピル、ジフェニルメチル、o、mまたはp−メチルベンジル、o、mまたはp−エチルベンジル、o、mまたはp−イソプロピルベンジル、o、mまたはp−tert−ブチルベンジル、2,3−、2,4−、2,5−、2,6−、3,4−または3,5−ジメチルベンジル、2,3,4−、3,4,5−または2,4,6−トリメチルベンジル、5−イソプロピル−2−メチルベンジル、2−イソプロピル−5−メチルベンジル、2−メチル−5−tert−ブチルベンジル、2,4−、2,5−または3,5−ジイソプロピルベンジル、3,5−ジ−tert−ブチルベンジル、1−(2−メチルフェニル)エチル、1−(3−メチルフェニル)エチル、1−(4−メチルフェニル)エチル、1−(2−イソプロピルフェニル)エチル、1−(3−イソプロピルフェニル)エチル、1−(4−イソプロピルフェニル)エチル、1−(2−tert−ブチルフェニル)エチル、1−(4−tert−ブチルフェニル)エチル、1−(2−イソプロピル−4−メチルフェニル)エチル、1−(4−イソプロピル−2−メチルフェニル)エチル、1−(2,4−ジメチルフェニル)エチル、1−(2,5−ジメチルフェニル)エチル、1−(3,5−ジメチルフェニル)エチル、1−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)エチルなどの炭素数7〜16のアラルキル基が挙げられる。
【0019】
R1およびR2で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基としては、例えば、ヒドロキシル基、ハロゲン原子(例えば、塩素、フッ素、臭素およびヨウ素など)、シアノ基、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどの炭素数1〜6のアルコキシ基など)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基など)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec−ブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなどの炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基など)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオなどの炭素数1〜4のアルキルチオ基など)およびアリールチオ基(例えば、フェニルチオ基など)などが挙げられる。これらの置換基は同一または相異なって1〜5個、好ましくは1〜3個置換していてもよい。
【0020】
上記したR1およびR2で示される置換基を有していてもよい炭化水素基としては、置換基を有していない炭化水素基、または、ヒドロキシル基を有する炭化水素基が好ましく、その中でも、アルキル基またはヒドロキシアルキル基が好ましい。
【0021】
アルキル基としては、好ましくは、炭素数が1〜18のアルキル基、より好ましくは、炭素数が7以上である、ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、デシル、イソデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素数7〜18のアルキル基が挙げられる。
【0022】
ヒドロキシアルキル基としては、好ましくは、炭素数が1〜18のヒドロキシアルキル基、より好ましくは、炭素数が3〜12である、ヒドロキシトリメチレン、ヒドロキシテトラメチレン、ヒドロキシペンタメチレン、ヒドロキシヘキサメチレン、ヒドロキシヘプタメチレン、ヒドロキシオクタメチレン、ヒドロキシノナメチレン、ヒドロキシデカメチレン、ヒドロキシドデカメチレンなどの炭素数3〜12のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
【0023】
R1およびR2は、同一または相異なって、ともに炭素数1〜18のアルキル基であるか、一方が炭素数1〜18のアルキル基で、他方が炭素数3〜12のヒドロキシアルキル基であることが好ましい。
【0024】
一般式(1)の式中、R3およびR4で示される置換基を有していてもよい炭化水素基としては、R1およびR2で示される置換基を有していてもよい炭化水素基と同様のものが挙げられ、好ましくは、アルキル基、より好ましくは、例えば、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、iso−ペンチル、sec−ペンチル、ヘキシルなどの炭素数1〜6のアルキル基が挙げられる。
【0025】
また、R3およびR4で示される置換基を有していてもよいアルコキシ基のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシなどの炭素数1〜8のアルコキシ基が挙げられる。
【0026】
また、R3およびR4で示される置換基を有していてもよいアルコキシ基の置換基としては、R1およびR2で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基と同様のものが挙げられる。
【0027】
上記したR3およびR4で示される置換基を有していてもよいアルコキシ基としては、置換基を有していないアルコキシ基が好ましく、その中でも、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシなどの炭素数1〜3のアルコキシ基が挙げられる。
【0028】
R3およびR4は、同一または相異なって、それぞれ炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基または水素原子であることが好ましく、その中でも、ともに水素原子であることが好ましい。
【0029】
一般式(1)の式中、R5で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の炭化水素基としては、好ましくは、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリレン基などの2価の炭化水素基が挙げられる。
【0030】
アルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、iso−プロピレン、ブチレン、iso−ブチレン、sec−ブチレン、ペンチレン、iso−ペンチレン、sec−ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、2−エチルヘキシレン、ノニレン、デシレン、イソデシレン、ドデシレン、テトラデシレン、ヘキサデシレン、オクタデシレンなどの炭素数1〜18のアルキレン基が挙げられる。
【0031】
アルケニレン基としては、例えば、ビニレン、プロペニレン、ブテニレン、ブタジエニレン、オクテニレン、デセニレン、ウンデセニレン、ドデセニレン、テトラデセニレン、ヘキサデセニレン、オクタデセニレンなどの炭素数2〜18のアルケニレン基が挙げられる。
【0032】
アルキニレン基としては、例えば、エチニレン、プロピニレン、ブチニレン、ペンチニレン、オクテニレンなどの炭素数2〜8のアルキニレン基が挙げられる。
【0033】
シクロアルキレン基としては、例えば、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレンなどの炭素数3〜8のシクロアルキレン基が挙げられる。
【0034】
アリレン基としては、例えば、フェニレン、トリレン、キシリレン、ナフチレンなどの炭素数6〜10のアリレン基が挙げられ、好ましくは、フェニレンおよびキシリレンが挙げられる。
【0035】
また、R5で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基としては、R1およびR2で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基と同様のものが挙げられ、好ましくは、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどの炭素数1〜6のアルコキシ基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec−ブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなどの炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基などが挙げられる。
【0036】
R5で示される置換基を有していてもよい炭化水素基として、好ましくは、炭素数2〜18のアルキレン基、フェニレン基、キシリレン基または炭素−炭素間単結合が挙げられる。
【0037】
また、一般式(1)の式中、Y1で示される−NRnCO−、−CONRn−、−NRnCS−、および、Y2で示される−CONRn−、−NRnCO−、−CSNRn−のRnとしては、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子が挙げられ、置換基を有していてもよい炭化水素基としては、R1およびR2で示される置換基を有していてもよい炭化水素基と同様のものが挙げられる。好ましくは、アルキル基または水素原子が挙げられ、アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、ペンチル、iso−ペンチル、sec−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、2−エチルヘキシルなどの炭素数1〜8のアルキル基が挙げられる。
【0038】
一般式(1)の式中、Y1として、好ましくは、−NHCO−、−CONH−、−COO−、−O−、−S−または炭素−炭素間単結合が挙げられ、また、Y2として、−CONH−、−NHCO−、−OOC−、−O−、−S−または炭素−炭素間単結合が挙げられる。
【0039】
一般式(1)の式中、Zで示されるアニオンとしては、例えば、無機アニオン、有機アニオンが挙げられる。
【0040】
無機アニオンとしては、例えば、ハロゲンイオン(例えば、F-、Cl-、Br-、I-など)、ヨウ素酸イオン(IO3-)、臭素酸イオン(BrO3-)、塩素酸イオン(ClO3-)、過ヨウ素酸イオン(IO4-)、過塩素酸イオン(ClO4-)、硫酸イオン(SO4 2-)、硝酸イオン(NO3-)、リン酸イオン(PO4 3-)、亜硫酸イオン(SO3 2-)、亜硝酸イオン(NO2-)などが挙げられる。
【0041】
有機アニオンとしては、例えば、遊離の有機カルボン酸や遊離の有機スルホン酸などの遊離の有機酸などが挙げられる。遊離の有機酸としては、炭素数1〜20、好ましくは、炭素数1〜10の遊離の有機酸が挙げられる。
【0042】
遊離の有機カルボン酸としては、例えば、1価の飽和カルボン酸イオン、2価の飽和カルボン酸イオン、1価の不飽和カルボン酸イオン、2価の不飽和カルボン酸イオン、ヒドロキシカルボン酸イオン、オキソカルボン酸イオン、芳香族カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【0043】
1価の飽和カルボン酸イオンとしては、例えば、蟻酸イオン(HCOO-)、酢酸イオン(CH3COO-)、プロピオン酸イオン(C2H5COO-)、酪酸イオン(C3H7COO-)、イソ酪酸イオン((CH3)2CHCOO-)、吉草酸イオン(CH3(CH2)3COO-)、イソ吉草酸イオン((CH3)2CHCH2COO-)、ピバル酸イオン((CH3)3CCOO-)、オクタン酸イオン(CH3(CH2)6COO-)、デカン酸イオン(CH3(CH2)8COO-)、ラウリン酸イオン(CH3(CH2)10COO-)、ミリスチン酸イオン(CH3(CH2)12COO-)、パルミチン酸イオン(CH3(CH2)14COO-)、ステアリン酸イオン(CH3(CH2)16COO-)などの炭素数1〜18の1価の飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【0044】
2価の飽和カルボン酸イオンとしては、例えば、シュウ酸イオン((COO-)2)、マロン酸イオン(CH2(COO-)2)、コハク酸イオン((-OOC)(CH2)2(COO-))、グルタル酸イオン((-OOC)(CH2)3(COO-))、アジピン酸イオン((-OOC)(CH2)4(COO-))、ピメリン酸イオン((-OOC)(CH2)5(COO-))、スベリン酸イオン((-OOC)(CH2)6(COO-))、アゼライン酸イオン((-OOC)(CH2)7(COO-))、セバシン酸イオン((-OOC)(CH2)8(COO-))などの炭素数2〜10の2価の飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【0045】
1価の不飽和カルボン酸イオンとしては、例えば、アクリル酸イオン(CH2=CHCOO-)、メタクリル酸イオン(CH2=C(CH3)COO-)、クロトン酸イオン(CH3CH=CHCOO-)、cis−クロトン酸イオン(CH3CH=CHCOO-)、ソルビン酸イオン(CH3CH=CHCH=CHCOO-)、オレイン酸イオン(CH3(CH2)7CH=CH(CH2)7COO-)、trans-9-オクタデセン酸イオン(CH3(CH2)7CH=CH(CH2)7COO-)、フランカルボン酸イオン(C4H3OCOO-)などの炭素数3〜18の1価の不飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【0046】
2価の不飽和カルボン酸イオンとしては、例えば、マレイン酸イオン(CH(COO-)=CHCOO-)、シトラコン酸イオン((CH3)C(COO-)=CHCOO-)、メサコン酸イオン((COO-)C(CH3)=CHCOO-)などの炭素数4〜5の2価の不飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【0047】
ヒドロキシカルボン酸イオンとしては、例えば、乳酸イオン(CH3CH(OH)COO-)、リンゴ酸イオン(CH(OH)(COO-)CH2COO-)、クエン酸イオン(CH2(COO-)C(OH)(COO-)CH2COO-)、グリコン酸イオン(CH2(OH)CH(OH)CH(OH)CH(OH)CH(OH)COO-)などの炭素数3〜6のヒドロキシカルボン酸イオンなどが挙げられる。
【0048】
オキソカルボン酸イオンとしては、例えば、ピルビン酸イオン(CH3COCOO-)、アセト酢酸イオン(CH3COCH2COO-)などの炭素数3〜4のオキソカルボン酸イオンなどが挙げられる。
【0049】
芳香族カルボン酸イオンとしては、例えば、安息香酸イオン(C6H5COO-)、フタル酸イオン(C6H4(COO-)2)、ナフタレンカルボン酸イオン(C10H7COO-)、ピリジンカルボン酸イオン(C5H5NCOO-)などの炭素数5〜11の芳香族カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【0050】
また、遊離の有機スルホン酸としては、例えば、メチル硫酸イオン((CH3)SO4-)、エチル硫酸イオン((C2H5)SO4-)、メチルベンゼンスルホン酸イオン(CH3C6H4SO3-)などの炭素数1〜7の有機スルホン酸イオンが挙げられる。
【0051】
また、一般式(1)の式中、Zで示される有機アニオンとしては、その他に、アミノ酸、エリソルビン酸、アスコルビン酸、デヒドロ酢酸、アルコラート、フェノラートおよび水酸基に起因する有機アニオンなどが挙げられる。
【0052】
これらアニオンは、単独または2種以上併用してもよい。好ましくは、有機アニオン、さらに好ましくは、遊離の有機酸、より好ましくは、遊離の有機カルボン酸が挙げられる。
【0053】
また、aは、1または2の整数を示し、具体的には、ビス四級アンモニウム塩化合物およびアニオンの種類に応じて、適宜決定される。aは、1が特に好ましい。
【0054】
このようなビス四級アンモニウム塩化合物は、以下に示す具体的な化合物に準じて公知の方法により製造することができ、その具体例としては、例えば、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(4−カルバモイル−1−オクチルピリジニウム塩)、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(4−カルバモイル−1−ドデシルピリジニウム塩)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(4−カルバモイル−1−テトラデシルピリジニウム塩)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(4−カルバモイル−1−ヘキサデシルピリジニウム塩)などのN,N’−アルキレン−ビス(4−カルバモイル−1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(3−カルバモイル−1−オクチルピリジニウム塩、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(3−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(3−カルバモイル−1−ドデシルピリジニウム塩)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(3−カルバモイル−1−テトラデシルピリジニウム塩)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(3−カルバモイル−1−ヘキサデシルピリジニウム塩)、N,N’−ヘキサメチレン−ビス(3−カルバモイル−1−オクタデシルピリジニウム塩)などのN,N’−アルキレン−ビス(3−カルバモイル−1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、4,4’−(テトラメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−オクチルピリジニウム塩)、4,4’−(テトラメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−デシルピリジニウム塩)、4,4’−(テトラメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−ドデシルピリジニウム塩)、4,4’−(テトラメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−テトラデシルピリジニウム塩)、4,4’−(テトラメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−ヘキサデシルピリジニウム塩)などの4,4’−(アルキレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、4,4’−(ヘキサメチレンジチオ)ビス(1−オクチルピリジニウム塩)などの4,4’−(アルキレンジチオ)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス(1−ブチルピリジニウム塩)、4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス(1−ヘキシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス(1−オクチルピリジニウム塩)、4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス(1−デシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス(1−ドデシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス(1−テトラデシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス(1−ヘキサデシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス(1−オクタデシルピリジニウム塩)などの4,4’−(p−キシリルジチオ)ビス((1−アルキル)ピリジニウム塩)、例えば、3,3’−(m−キシリルジチオ)ビス(1−テトラデシルピリジニウム塩)などの3,3’−(m−キシリルジチオ)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、N,N’−(p−フェニレン)ビス(4−カルバモイル−1−ヘキシルピリジニウム塩)、N,N’−(p−フェニレン)ビス(4−カルバモイル−1−オクチルピリジニウム塩)、N,N’−(p−フェニレン)ビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)、N,N’−(p−フェニレン)ビス(4−カルバモイル−1−ドデシルピリジニウム塩)、N,N’−(p−フェニレン)ビス(4−カルバモイル−1−テトラデシルピリジニウム塩)、N,N’−(p−フェニレン)ビス(4−カルバモイル−1−ヘキサデシルピリジニウム塩)、N,N’−(p−フェニレン)ビス(4−カルバモイル−1−オクタデシルピリジニウム塩)などのN,N’−(p−フェニレン)ビス(4−カルバモイル−1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、N,N’−(m−フェニレン)ビス(3−カルバモイル−1−ドデシルピリジニウム塩)などのN,N’−(m−フェニレン)ビス(3−カルバモイル−1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−ブチルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−ペンチルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−ヘキシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−ヘプチルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−オクチルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−デシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−ドデシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−テトラデシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−ヘキサデシルピリジニウム塩)、4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−オクタデシルピリジニウム塩)などの4,4’−(p−フタルアミド)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、3,3’−(m−フタルアミド)ビス(1−オクタデシルピリジニウム塩)などの3,3’−(m−フタルアミド)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、1,4−テトラメチレンビス(4−カルバモイル−1−ヘキサデシルピリジニウム塩)、1,6−ヘキサメチレンビス(3−カルバモイル−1−ドデシルピリジニウム塩)、1,6−オクタメチレンビス(3−カルバモイル−1−テトラデシルピリジニウム塩)、3,3’−(1,3−トリメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−ドデシルピリジニウム塩)などの(アルキレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、4,4’−(1,8−オクタメチレンジオキシ)ビス(1−ドデシルピリジニウム塩)、3,3’−(1,6−ヘキサメチレンジオキシ)ビス(1−ヘキサドデシルピリジニウム塩)などの(アルキレンジオキシ)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、4,4’−(1,6−ヘキサメチレンジオキシジカルボニル)ビス(1−オクチルピリジニウム塩)、3,3’−(1,6−テトラメチレンジオキシジカルボニル)ビス(1−ドデシルピリジニウム塩)などの(アルキレンジオキシジカルボニル)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、4,4’−(1,4−テトラメチレンジカルボニルジオキシ)ビス(1−オクチルピリジニウム塩)などの(アルキレンジカルボニルジオキシ)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、4,4’−(1,8−オクタメチレンジカルボニルジチオキシ)ビス(1−オクタデシルピリジニウム塩)などの(アルキレンジカルボニルジチオキシ)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、3,3’−(p−フタロイルジオキシ)ビス(1−デシルピリジニウム塩)、3,3’−(m−フタロイルジチオキシ)ビス(1−デシルピリジニウム塩)などの(フタロイルジチオキシ)ビス(1−アルキルピリジニウム塩)、例えば、1−オクチル−1’−(3−ヒドロキシトリメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−オクチル−1’−(6−ヒドロキシヘキサメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−オクチル−1’−(8−ヒドロキシオクタメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−オクチル−1’−(10−ヒドロキシデカメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−オクチル−1’−(12−ヒドロキシドデカメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−デシル−1’−(3−ヒドロキシトリメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−デシル−1’−(6−ヒドロキシヘキサメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−デシル−1’−(8−ヒドロキシオクタメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−デシル−1’−(10−ヒドロキシデカメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−デシル−1’−(12−ヒドロキシドデカメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−ドデシル−1’−(3−ヒドロキシトリメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−ドデシル−1’−(6−ヒドロキシヘキサメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−ドデシル−1’−(8−ヒドロキシオクタメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−ドデシル−1’−(10−ヒドロキシデカメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩、1−ドデシル−1’−(12−ヒドロキシドデカメチレン)−4,4’−ジピリジニウム塩 などの1−アルキル−1’−(12−ヒドロキシアルキレン)−4,4’−ジピリジニウム塩などが挙げられる。
【0055】
なお、上記したビス四級アンモニウム塩化合物のピリジニウム塩としては、上記したZで示されるアニオンとの塩であれば特に制限されないが、例えば、ブロマイド(ピリジニウムブロマイド)、アイオダイド(ピリジニウムアイオダイド)、アセテート(ピリジニウムアセテート)などが挙げられる。
【0056】
これらのうち、好ましくは、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムブロマイド)(ダイマー38、イヌイ社製)、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムアセテート)(ダイマー38A、イヌイ社製)、4,4’−(テトラメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−デシルピリジニウムブロマイド)(ダイマー136、イヌイ社製)、4,4’−(テトラメチレンジカルボニルジアミノ)ビス(1−デシルピリジニウムアセテート)(ダイマー136A、イヌイ社製)が挙げられる。さらに好ましくは、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムアセテート)(ダイマー38A、イヌイ社製)が挙げられる。これらビス四級アンモニウム塩化合物は、単独または2種以上併用してもよい。
【0057】
そして、本発明の微生物防除剤では、ビス四級アンモニウム塩化合物の凝集を防止するために、ポリオキシエチレン誘導体を含有している。
【0058】
ポリオキシエチレン誘導体としては、例えば、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル、例えば、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレートなどのポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、例えば、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビットなどのポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、例えば、ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレングリコールモノステアレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ポリエチレングリコールモノオレートなどのポリオキシエチレン脂肪酸エステル、例えば、ポリオキシエチレンアルキルアミン、例えば、ポリオキシエチレン硬化ひまし油などが挙げられる。
【0059】
これらポリオキシエチレン誘導体は、市販品として入手可能であり、より具体的には、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテルとして、例えば、エマルゲン(花王社製、以下同じ)A−60、エマルゲンA−90、エマルゲンA−500、エマルゲンB−66、エマルゲンL−40などが挙げられる。
【0060】
また、ポリオキシエチレンラウリルエーテルとして、例えば、エマルゲン104P、エマルゲン105、エマルゲン106、エマルゲン108、エマルゲン109P、エマルゲン120、エマルゲン123P、エマルゲン147、エマルゲン130Kなどが挙げられる。また、ポリオキシエチレンセチルエーテルとして、例えば、エマルゲン210P、エマルゲン220などが挙げられる。また、ポリオキシエチレンステアリルエーテルとして、例えば、エマルゲン306P、エマルゲン320Pなどが挙げられる。また、ポリオキシエチレンオレイルエーテルとして、例えば、エマルゲン404、エマルゲン408、エマルゲン409P、エマルゲン420、エマルゲン430などが挙げられる。また、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテルとして、例えば、エマルゲン705、エマルゲン707、エマルゲン709、エマルゲンLS114などが挙げられる。また、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルとして、例えば、エマルゲン810、エマルゲン840Sなどが挙げられる。また、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルとして、例えば、エマルゲン903、エマルゲン904、エマルゲン905、エマルゲン906、エマルゲン909、エマルゲン910、エマルゲンPI−20T、エマルゲン911、エマルゲン913、エマルゲン920、エマルゲン930、エマルゲン931、エマルゲン935、エマルゲン950、エマルゲン985などが挙げられる。
【0061】
また、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレートとして、例えば、レオドール(花王社製、以下同じ)TW−L120、レオドールTW−L106、レオドールスーパーTW−L120などが挙げられる。また、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテートとして、例えば、レオドールTW−P120が挙げられる。また、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレートとして、例えば、レオドールTW−S120、レオドールTW−S106、レオドールスーパーTW−S120などが挙げられる。また、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレートとして、例えば、レオドールTW−S320などが挙げられる。また、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエートとしては、例えば、レオドールTW−O120、レオドールTW−O106、レオドールスーパーTW−O120、エマゾール(花王社製、以下同じ)O−105Rなどが挙げられる。また、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエートとして、例えば、レオドールTW−O320などが挙げられる。また、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビットとして、例えば、レオドール430、レオドール440、レオドール460などが挙げられる。
【0062】
また、ポリエチレングリコールモノラウレートとして、例えば、エマノーン(花王社製、以下同じ)1112などが挙げられる。また、ポリエチレングリコールモノステアレートとして、例えば、エマノーン3199などが挙げられる。また、ポリエチレングリコールジステアレートとして、例えば、エマノーン3299、エマノーン3299Rなどが挙げられる。また、ポリエチレングリコールモノオレエートとして、例えば、エマノーン4110などが挙げられる。また、ポリオキシエチレンアルキルアミンとして、例えば、アミート(花王社製、以下同じ)105、アミート320などが挙げられる。また、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油として、例えば、エマノーンCH−25、エマノーンCH−40、エマノーンCH−60(K)、エマノーンCH−80などが挙げられる。
【0063】
これらポリオキシエチレン誘導体は、単独または2種以上併用してもよい。
【0064】
また、これらポリオキシエチレン誘導体のなかでは、好ましくは、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテルが挙げられる。
【0065】
また、本発明では、このようなポリオキシエチレン誘導体において、HLBが10〜20、さらには、12.8〜18.0のものが好ましく用いられる。HLBがこのような範囲にあるポリオキシエチレン誘導体を用いれば、ビス四級アンモニウム塩化合物の凝集をより一層防止することができる。
【0066】
ポリオキシエチレン誘導体を含有させる割合は、特に制限されないが、ビス四級アンモニウム塩化合物100重量部に対して、例えば、10〜1000重量部、好ましくは、50〜500重量部である。このような範囲において、ビス四級アンモニウム塩化合物の凝集を最も防止することができる。
【0067】
ポリオキシエチレン誘導体を微生物防除剤に含有させるには、特に制限されず、ビス四級アンモニウム塩化合物にポリオキシエチレン誘導体を配合すればよく、種々の剤型に調製することができる。
【0068】
本発明の微生物防除剤を製剤化するには、特に制限されることなく、公知の方法を用いることができ、その目的および用途に応じて、例えば、液剤(水懸濁剤および油剤を含む。)、ペースト剤、粉剤、粒剤、マイクロカプセルなどの公知の種々の剤型に製剤化することができる。また、包接化合物として調製してもよく、さらに、層状ケイ酸塩などのモンモリロナイト(スメクタイト類など)などに担持させ、あるいは、クレー、シリカ、ホワイトカーボン、タルクなどに吸着させることにより調製することもできる。
【0069】
これらのうち、例えば、液剤として製剤化する場合には、ビス四級アンモニウム塩化合物およびポリオキシエチレン誘導体を、上記した配合割合で、適宜溶剤に溶解または分散すればよい。より具体的には、例えば、液剤100重量%中に、ビス四級アンモニウム塩化合物が1.0〜30重量%、ポリオキシエチレン誘導体が0.3〜10重量%、溶剤がその残量となる割合でそれぞれ配合し、溶解または分散させればよい。用いられる溶剤としては、少なくともビス四級アンモニウム塩化合物を溶解しまたは分散し得る溶剤であれば特に制限されない。
【0070】
このような溶剤としては、例えば、水、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、tert−ブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノールなどのアルコール系溶剤、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコール系溶剤、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピレンカーボネートなどのケトン系溶剤、例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチルエーテルなどのエーテル系溶剤、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、γ−ブチロラクトン、アジピン酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、コハク酸ジメチルなどのエステル系溶剤、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、N−メチルピロリドンなどの極性溶剤などが挙げられる。
【0071】
これらのうち、好ましくは、水、アルコール系溶剤、グリコール系溶剤、極性溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独または2種以上併用してもよい。
【0072】
また、本発明の微生物防除剤は、その目的および用途によって、公知の添加剤、例えば、他の防藻剤および/または防かび剤、酸化防止剤、光安定剤などを添加してもよい。
【0073】
他の防藻剤および/または防かび剤としては、例えば、イソチアゾリン系化合物、ニトロアルコール系化合物、ジチオール系化合物、チオフェン系化合物、ハロアセチレン系化合物、フタルイミド系化合物、ハロアルキルチオ系化合物、ピリチオン系化合物、フェニルウレア系化合物、トリアジン系化合物、グアニジン系化合物、トリアゾール系化合物、ベンズイミダゾール系化合物、四級アンモニウム塩系化合物などが挙げられる。
【0074】
イソチアゾリン系化合物としては、2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、2−n−オクチル−4−イソチアゾリン−3−オン、5−クロロ−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、5−クロロ−2−n−オクチル−4−イソチアゾリン−3−オン、4−クロロ−2−n−オクチル−4−イソチアゾリン−3−オン、4,5−ジクロロ−2−n−オクチル−4−イソチアゾリン−3−オン、2−メチル−4,5−トリメチレン−4−イソチアゾリン−3−オン、1,2−ベンツイソチアゾリン−3−オン、N−n−ブチル−1,2−ベンツイソチアゾリン−3−オンが挙げられる。
【0075】
ニトロアルコール系化合物としては、例えば、2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3−ジオール、2,2−ジブロモ−2−ニトロ−1−エタノールなどが挙げられる。
【0076】
ジチオール系化合物としては、例えば、4,5−ジクロロ−1,2−ジチオール−3−オンがなど挙げられる。
【0077】
チオフェン系化合物としては、例えば、3,3,4−トリクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド、3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドなどが挙げられる。
【0078】
ハロアセチレン系化合物としては、例えば、N−ブチル−3−ヨードプロピオール酸アミド、3−ヨード−2−プロピニルブチルカーバメートなどが挙げられる。
【0079】
フタルイミド系化合物としては、例えば、N−1,1,2,2−テトラクロロエチルチオ−テトラヒドロフタルイミド(Captafol)、N−トリクロロメチルチオ−テトラヒドロフタルイミド(Captan)、N−ジクロロフルオロメチルチオフタルイミド(Fluorfolpet)、N−トリクロロメチルチオフタルイミド(Folpet)などが挙げられる。
【0080】
ハロアルキルチオ系化合物としては、例えば、N−ジメチルアミノスルホニル−N−トリル−ジクロロフルオロメタンスルファミド(Tolylfluanide)、N−ジメチルアミノスルホニル−N−フェニル−ジクロロフルオロメタンスルファミド(Dichlofluanide)などが挙げられる。
【0081】
ピリチオン系化合物としては、例えば、ナトリウムピリチオン、ジンクピリチオンなどが挙げられる。
【0082】
フェニルウレア系化合物としては、例えば、3−(3,4−ジクロロフェニル)−1,1−ジメチルウレアなどが挙げられる。
【0083】
トリアジン系化合物としては、例えば、2−メチルチオ−4−t−ブチルアミノ−6−シクロプロピルアミノ−s−トリアジンなどが挙げられる。
【0084】
グアニジン系化合物としては、例えば、1,6−ジ−(4’−クロロフェニルジグアニド)−ヘキサン、ポリヘキサメチレンビグアニジン塩酸塩などが挙げられる。
【0085】
トリアゾール系化合物としては、例えば、α−[2−(4−クロロフェニル)エチル]−α−(1,1−ジメチルエチル)−1H−1,2,4−トリアゾール−1−エタノール(慣用名:テブコナゾール)、1−[[2−(2,4−ジクロロフェニル)−4−n−プロピル−1,3−ジオキソラン−2−イル]メチル]−1H−1,2,4−トリアゾール(慣用名:プロピコナゾール)、1−[[2−(2,4−ジクロロフェニル)−1,3−ジオキソラン−2−イル]メチル]−1H−1,2,4−トリアゾール(慣用名:アザコナゾール)、α−(4−クロロフェニル)−α−(1−シクロプロピルエチル)−1H−1,2,4−トリアゾール−1−エタノール(慣用名:シプロコナゾール)などが挙げられる。
【0086】
ベンズイミダゾール系化合物としては、例えば、メチル 2−ベンズイミダゾールカルバメート、エチル 2−ベンズイミダゾールカルバメート、2−(4−チアゾリル)ベンズイミダゾールなどが挙げられる。
【0087】
四級アンモニウム塩系化合物としては、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド、塩化ベンザルコニウム、ジ−n−デシル−ジメチルアンモニウムクロライド、1−ヘキサデシルピリジニウムクロライドなどが挙げられる。
【0088】
また、他の防藻剤および/または防かび剤として、その他に、例えば、ジヨードメチル−p−トルイルスルホン、p−クロロフェニル−3−ヨードプロパルギルフォルマールなどの有機ヨウ素系化合物、例えば、テトラメチルチウラムジスルフィドなどのチオカーバメート系化合物、例えば、2,4,5,6−テトラクロロイソフタロニトリルなどのニトリル系化合物、例えば、2,3,5,6−テトラクロロ−4−(メチルスルフォニル)ピリジンなどのピジリン系化合物、例えば、2−(4−チオシアノメチルチオ)ベンゾチアゾールなどのベンゾチアゾール系化合物、例えば、3−ベンゾ[b]チエン−2−イル−5,6−ジヒドロ−1,4,2−オキサチアジン−4−オキサイドなどのオキサチアジン系化合物などが挙げられる。
【0089】
これらの他の防藻剤および/または防かび剤は、単独または2種以上併用してもよい。また、他の防藻剤および/または防かび剤の配合割合は、その剤型および目的ならびに用途によって適宜決定されるが、例えば、ビス四級アンモニウム塩化合物100重量部に対して、1〜9000重量部、好ましくは、3〜8000重量部である。
【0090】
また、酸化防止剤としては、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2’−メチレンビス[4−メチル−6−t−ブチルフェノール]などのフェノール系酸化防止剤、例えば、アルキルジフェニルアミン、N,N’−ジ−s−ブチル−p−フェニレンジアミンなどのアミン系酸化防止剤などが挙げられる。
【0091】
これら、酸化防止剤は、例えば、液剤の場合には、液剤100重量部に対して0.1〜5重量部添加される。
【0092】
また、光安定剤としては、例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケートなどのヒンダードアミン系光安定剤などが挙げられる。
【0093】
このような光安定剤は、例えば、液剤の場合には、液剤100重量部に対して0.1〜10重量部添加される。
【0094】
このようにして得られる本発明の微生物防除剤は、優れた、抗菌、防かび、防腐、防藻作用などを発現し、細菌、かび、酵母、藻などに対する防除剤として用いることができ、しかも、ポリオキシエチレン誘導体の配合により、ビス四級アンモニウム塩化合物の凝集を防止することができる。その結果、製品品質の向上を図ることができ、また、微生物に対する優れた防除効果を長期にわたって確保することができる。
【0095】
そのため、本発明の微生物防除剤は、例えば、製紙パルプ工場、冷却水循環工程などの種々の産業用水や、切削油などの金属加工用油剤、カゼイン、澱粉糊、にかわ、塗工紙、紙用塗工液、表面サイズ剤、接着剤、合成ゴムラテックス、インキ、ポリビニルアルコールフィルム、塩化ビニルフィルム、樹脂製品、セメント混和剤、シーリング剤、目地剤、樹脂エマルション、塗料などの各種工業製品などの有害微生物の防除の用途において有効に用いることができる。
【0096】
より具体的には、例えば、製紙パルプ工場などのスライムコントロール剤、金属加工用油剤の防腐剤、塗料の防腐防かび剤、樹脂エマルションの防腐防かび剤、セメント混和剤の防腐剤、インキの防腐防かび剤、湿し水の防腐防かび剤、セメント減水剤の防腐防かび剤、植物の延命剤などの工業用の有害微生物防除剤として好適に用いられ、さらに好適には、樹脂エマルション、塗料に対する有害微生物の防除のための添加剤として用いられる。
【0097】
なお、本発明の微生物防除剤は、その適用対象に応じて添加量を適宜決定すればよいが、例えば、1〜1000mg(全有効成分)/kg(製品)、好ましくは、5〜500mg(全有効成分)/kg(製品)の濃度として用いることができる。
【0098】
また、本発明の微生物防除剤は、pHが、3〜13、好ましくは、4〜12の適用対象に用いることができ、さらには、例えば、SO2 2−、SO3 2−、HSO2 −、HSO3 −、S2O3 2−、好ましくは、SO3 2−、HSO3 −、S2O3 2−などの還元剤の存在下においても、その効力を有効に発現することができる。なお、この場合の還元剤の濃度は、例えば、製品中1〜10000ppmであることが好ましい。
【0099】
【実施例】
以下に実施例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。なお、以下の実施例に用いる有効成分の略号を下記に示す。
【0100】
HMDP−Br:N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムブロマイド)
HMDP−Ac:N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムアセテート)
MIT:2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン
実施例1
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)2.5g、エマルゲン120(ポリオキシエチレンラウリルエーテル、HLB15.3、花王社製)2.5g、プロピレングリコール95gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0101】
実施例2
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)2.5g、エマルゲン130K(ポリオキシエチレンラウリルエーテル、HLB18.1、花王社製)2.5g、プロピレングリコール95gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0102】
実施例3
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)2.5g、エマルゲン709(ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、HLB13.3、花王社製)2.5g、プロピレングリコール95gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0103】
実施例4
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)2.5g、エマルゲンLS114(ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、HLB14.0、花王社製)2.5g、プロピレングリコール95gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0104】
実施例5
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)2.5g、レオドールTW−S120(ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、HLB14.9、花王社製)2.5g、プロピレングリコール95gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0105】
実施例6
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)2.5g、レオドールTW−P120(ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、HLB15.6、花王社製)2.5g、プロピレングリコール95gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0106】
実施例7
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)2.5g、エマルゲンA−60(ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、HLB12.8、花王社製)2.5g、プロピレングリコール95gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0107】
実施例8
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)2.5g、エマルゲンB−66(ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、HLB13.2、花王社製)2.5g、プロピレングリコール95gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0108】
実施例9
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)2.5g、エマルゲンA−90(ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、HLB14.5、花王社製)2.5g、プロピレングリコール95gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0109】
実施例10
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)2.5g、エマルゲンA−500(ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、HLB18.0、花王社製)2.5g、プロピレングリコール95gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0110】
比較例1
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)2.5g、デモールNL(β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物のナトリウム塩、花王社製)2.5g、プロピレングリコール95gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0111】
比較例2
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)2.5g、プロピレングリコール97.5gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0112】
試験例1
上記で得られた実施例1〜10および比較例1、2の液剤1重量部と、下記に示す2種類の樹脂エマルションA、B3重量部とをそれぞれ配合して攪拌することにより、凝集の有無を確認した。その結果を表1に示す。
【0113】
樹脂エマルションA:クロスレン(SBR(スチレン・ブタジエン・ゴム)ラテックス、pH8.5、武田薬品工業社製)
樹脂エマルションB:AC3754(アクリルエマルション、pH7、武田薬品工業社製)
【0114】
【表1】
実施例11
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)2.5g、コーデック50C(MIT:50重量%、ロームアンドハース社製)5.0g、エマルゲンA−500(ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、HLB18.0、花王社製)2.5g、プロピレングリコール90gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0115】
比較例3
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)2.5g、コーデック50C(MIT:50重量%、ロームアンドハース社製)5.0g、プロピレングリコール92.5gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0116】
試験例2
上記で得られた実施例11および比較例3の液剤を、0.2重量%の割合でそれぞれ添加した下記に示す2種類の樹脂エマルションC、D30gのそれぞれを、水300gで希釈した後、400メッシュ(1辺1インチ(25.4mm)の中のふるい目の数、以下同様)のふるいで濾過し、50gの水で残渣を洗浄した後、その残渣の重量をそれぞれ測定し、残渣率(残渣量(g)/製品量(g)×100)を求めた。その結果を表2に示す。
【0117】
樹脂エマルションC:S−500(酢酸ビニル−エチレン共重合体エマルション、住友化学社製)
樹脂エマルションD:S−900(酢酸ビニル−エチレン−アクリル酸エステル共重合体エマルション、住友化学社製)
【0118】
【表2】
実施例12
ダイマー38A(HMDP−Ac:5重量%水溶液、イヌイ社製)40g、エマルゲンA−500(ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、HLB18.0、花王社製)2.5g、水57.5gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0119】
実施例13
ダイマー38A(HMDP−Ac:5重量%水溶液、イヌイ社製)40g、エマルゲンA−60(ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、HLB12.8、花王社製)2.5g、水57.5gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0120】
比較例4
ダイマー38A(HMDP−Ac:5重量%水溶液、イヌイ社製)40g、水60gを配合して、室温で撹拌して溶解することにより、100gの液剤を得た。
【0121】
試験例3
上記で得られた実施例12、13および比較例4の液剤100重量部と、下記に示す2種類の塗料A、B100重量部とをそれぞれ配合して攪拌することにより、凝集の有無を確認した。その結果を表3に示す。
【0122】
塗料A:クロストップ(スズカファイン社製)
塗料B:カラー(王子製紙社製)
【0123】
【表3】
試験例4
上記で得られた実施例12、13および比較例4の液剤を、0.5重量%の割合でそれぞれ添加した上記と同じ2種類の塗料A、B30gのそれぞれを、水で10倍希釈した後、400メッシュのふるいで濾過し、105℃で3時間乾燥後、その残渣の重量をそれぞれ測定し、残渣率(残渣量(g)/製品量(g)×100)を求めた。その結果を表4に示す。
【0124】
【表4】
試験例5
上記で得られた実施例12、13および比較例4の液剤を、上記と同じ塗料A100gに、表5に示す所定濃度となるようにそれぞれ添加し、さらに、クロストップ腐敗塗料を1g添加して、33℃、1週間培養後、菌数を測定した。その結果を表5に示す。
【0125】
【表5】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明の微生物防除剤では、ポリオキシエチレン誘導体の配合により、ビス四級アンモニウム塩化合物の凝集を防止することができる。その結果、製品品質の向上を図ることができ、また、微生物に対する優れた防除効果を長期にわたって確保することができ、例えば、樹脂エマルションまたは塗料に対する添加剤として好適に用いることができる。
Claims (5)
- ビス四級アンモニウム塩化合物と、ポリオキシエチレン誘導体とを含有することを特徴とする、微生物防除剤。
- ビス四級アンモニウム塩化合物が、下記一般式(1)で示されることを特徴とする、請求項1に記載の微生物防除剤。
一般式(1)
- ポリオキシエチレン誘導体のHLBが、10〜20であることを特徴とする、請求項1または2に記載の微生物防除剤。
- ポリオキシエチレン誘導体が、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテルであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の微生物防除剤。
- 樹脂エマルションまたは塗料に対する添加剤として用いられることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の微生物防除剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002363779A JP4473503B2 (ja) | 2002-12-16 | 2002-12-16 | 微生物防除剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002363779A JP4473503B2 (ja) | 2002-12-16 | 2002-12-16 | 微生物防除剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004196670A true JP2004196670A (ja) | 2004-07-15 |
JP4473503B2 JP4473503B2 (ja) | 2010-06-02 |
Family
ID=32761834
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002363779A Expired - Fee Related JP4473503B2 (ja) | 2002-12-16 | 2002-12-16 | 微生物防除剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4473503B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006181334A (ja) * | 2004-12-02 | 2006-07-13 | Daio Paper Corp | 抗菌性を有するウェットタイプ拭き取り用品 |
JP2007084823A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | L'air Liquide Sante Internatl | アルカリ性コーティング組成物の殺カビ性および殺藻性仕上げのための組成物 |
JP2008094740A (ja) * | 2006-10-10 | 2008-04-24 | Okayama Univ | 新規な抗マラリア剤 |
WO2008065882A1 (fr) * | 2006-11-30 | 2008-06-05 | Japan Envirochemicals, Ltd. | Agent de contrôle de microorganismes et procédé de stabilisation correspondant |
JP2018065779A (ja) * | 2017-06-27 | 2018-04-26 | 大阪ガスケミカル株式会社 | 抗ウイルス剤 |
US11046658B2 (en) | 2018-07-02 | 2021-06-29 | Incyte Corporation | Aminopyrazine derivatives as PI3K-γ inhibitors |
CN116332840A (zh) * | 2023-01-17 | 2023-06-27 | 山西大学 | 双酰胺类吡啶季铵盐水性涂料防腐缓蚀剂及其制备方法 |
US11926616B2 (en) | 2018-03-08 | 2024-03-12 | Incyte Corporation | Aminopyrazine diol compounds as PI3K-γ inhibitors |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0585992A (ja) * | 1991-09-27 | 1993-04-06 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | ジアミン系化合物塩及び消毒薬 |
JPH1095773A (ja) * | 1996-09-19 | 1998-04-14 | Inui Kk | 抗菌活性を有するビス第四アンモニウム塩化合物及びその製造方法 |
JP2001107082A (ja) * | 1999-10-12 | 2001-04-17 | Inui Kk | 抗菌性洗剤組成物 |
JP2003081713A (ja) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Nagase Chemtex Corp | 抗微生物剤組成物 |
-
2002
- 2002-12-16 JP JP2002363779A patent/JP4473503B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0585992A (ja) * | 1991-09-27 | 1993-04-06 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | ジアミン系化合物塩及び消毒薬 |
JPH1095773A (ja) * | 1996-09-19 | 1998-04-14 | Inui Kk | 抗菌活性を有するビス第四アンモニウム塩化合物及びその製造方法 |
JP2001107082A (ja) * | 1999-10-12 | 2001-04-17 | Inui Kk | 抗菌性洗剤組成物 |
JP2003081713A (ja) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Nagase Chemtex Corp | 抗微生物剤組成物 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006181334A (ja) * | 2004-12-02 | 2006-07-13 | Daio Paper Corp | 抗菌性を有するウェットタイプ拭き取り用品 |
JP4673640B2 (ja) * | 2004-12-02 | 2011-04-20 | 大王製紙株式会社 | 抗菌性を有するウェットタイプ拭き取り用品 |
JP2007084823A (ja) * | 2005-09-21 | 2007-04-05 | L'air Liquide Sante Internatl | アルカリ性コーティング組成物の殺カビ性および殺藻性仕上げのための組成物 |
JP2008094740A (ja) * | 2006-10-10 | 2008-04-24 | Okayama Univ | 新規な抗マラリア剤 |
WO2008065882A1 (fr) * | 2006-11-30 | 2008-06-05 | Japan Envirochemicals, Ltd. | Agent de contrôle de microorganismes et procédé de stabilisation correspondant |
US8183261B2 (en) | 2006-11-30 | 2012-05-22 | Japan Envirochemicals, Ltd. | Microorganism control agent and stabilizing method |
JP2018065779A (ja) * | 2017-06-27 | 2018-04-26 | 大阪ガスケミカル株式会社 | 抗ウイルス剤 |
US11926616B2 (en) | 2018-03-08 | 2024-03-12 | Incyte Corporation | Aminopyrazine diol compounds as PI3K-γ inhibitors |
US11046658B2 (en) | 2018-07-02 | 2021-06-29 | Incyte Corporation | Aminopyrazine derivatives as PI3K-γ inhibitors |
CN116332840A (zh) * | 2023-01-17 | 2023-06-27 | 山西大学 | 双酰胺类吡啶季铵盐水性涂料防腐缓蚀剂及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4473503B2 (ja) | 2010-06-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2017019789A (ja) | 微生物防除剤 | |
JP2004196670A (ja) | 微生物防除剤 | |
JP5587701B2 (ja) | 実験用水循環/収容装置用微生物防除剤、および実験用水循環/収容装置の微生物防除方法 | |
JP4416998B2 (ja) | 微生物防除剤 | |
JP2004143163A (ja) | 工業用殺菌剤、塗料、インク、樹脂エマルション、金属加工油剤、湿し水 | |
JP3587839B2 (ja) | ビス四級アンモニウム塩化合物の安定化方法 | |
CN116347983A (zh) | 杀生物组合物和方法 | |
JP3502629B1 (ja) | 微生物防除剤および安定化方法 | |
AU631750B2 (en) | Biocide composition | |
JP2003292408A (ja) | 微生物防除剤 | |
JP4799073B2 (ja) | 微生物防除剤 | |
JP2004143140A (ja) | 微生物防除剤 | |
JP2006022022A (ja) | 微生物防除剤 | |
JP2004067540A (ja) | 藻類防除剤および藻類防除方法 | |
JP2004123617A (ja) | 微生物防除剤 | |
JP5834320B1 (ja) | 防かび組成物およびコーティング剤 | |
JPH0647524B2 (ja) | 工業用防菌剤 | |
JP4993443B2 (ja) | 工業用殺菌剤およびそれを用いた殺菌方法 | |
JP3719738B2 (ja) | 有害微生物撲滅剤 | |
JP2002003307A (ja) | 工業用殺菌剤 | |
JP2002316903A (ja) | 防藻剤 | |
JP4546132B2 (ja) | 工業用殺菌組成物およびその調製方法 | |
JP2004123701A (ja) | 微生物防除剤 | |
JP6824187B2 (ja) | 防かび組成物およびコーティング剤 | |
JP4308725B2 (ja) | 微生物防除剤 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051024 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090812 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090827 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20091021 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20091026 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091110 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091210 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100107 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100302 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100305 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4473503 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100107 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160312 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |