JP3502629B1 - 微生物防除剤および安定化方法 - Google Patents
微生物防除剤および安定化方法Info
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Abstract
【要約】
【課題】 有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合
物を安定化させ、優れた微生物に対する防除効果を長期
にわたって確保することのできる、微生物防除剤、およ
び、その微生物防除剤の有効成分であるビス四級アンモ
ニウム塩化合物の安定化方法を提供すること。 【解決手段】 微生物防除剤の有効成分であるビス四級
アンモニウム塩化合物に、非プロトン性極性溶媒２０〜
６０重量部およびプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部
を配合して、ビス四級アンモニウム塩化合物を安定化さ
せる。これによって、ビス四級アンモニウム塩化合物の
製剤中における経時的な分解を抑制することができ、優
れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保する
ことができる。
物を安定化させ、優れた微生物に対する防除効果を長期
にわたって確保することのできる、微生物防除剤、およ
び、その微生物防除剤の有効成分であるビス四級アンモ
ニウム塩化合物の安定化方法を提供すること。 【解決手段】 微生物防除剤の有効成分であるビス四級
アンモニウム塩化合物に、非プロトン性極性溶媒２０〜
６０重量部およびプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部
を配合して、ビス四級アンモニウム塩化合物を安定化さ
せる。これによって、ビス四級アンモニウム塩化合物の
製剤中における経時的な分解を抑制することができ、優
れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保する
ことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、微生物防除剤およ
び安定化方法、詳しくは、細菌、かび、酵母、藻の防除
剤として用いられる微生物防除剤、および、その微生物
防除剤の有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合物
の安定化方法に関する。
び安定化方法、詳しくは、細菌、かび、酵母、藻の防除
剤として用いられる微生物防除剤、および、その微生物
防除剤の有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合物
の安定化方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、各種の工業製品には、細菌、
かび、酵母、藻などの有害な微生物が繁殖しやすく、生
産性や品質の低下、悪臭の発生などの原因となってい
る。そのため、このような有害微生物の繁殖を防除する
ために、抗菌、防かび、防腐、防藻効果を発現する種々
の微生物防除剤が広く使用されている。
かび、酵母、藻などの有害な微生物が繁殖しやすく、生
産性や品質の低下、悪臭の発生などの原因となってい
る。そのため、このような有害微生物の繁殖を防除する
ために、抗菌、防かび、防腐、防藻効果を発現する種々
の微生物防除剤が広く使用されている。
【０００３】また、このような微生物防除剤の有効成分
として、近年、ビス四級アンモニウム塩化合物が広い抗
菌スペクトルを有し、優れた防除効果を発現すること
が、報告されている（例えば、特許文献１〜８参
照。）。
として、近年、ビス四級アンモニウム塩化合物が広い抗
菌スペクトルを有し、優れた防除効果を発現すること
が、報告されている（例えば、特許文献１〜８参
照。）。
【０００４】
【特許文献１】特開平９−１１０６９２号公報
【特許文献２】特開平１０−９５７７３号公報
【特許文献３】特開平１０−２８７５６６号公報
【特許文献４】特開２０００−９５７６３号公報
【特許文献５】特開２０００−１３６１８５号公報
【特許文献６】特開２０００−１９８８７９号公報
【特許文献７】特開２０００−１５９６０７号公報
【特許文献８】特開２００１−３１０１９１号公報
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記したビス
四級アンモニウム塩化合物、とりわけ、ビス四級アンモ
ニウムの無機塩の化合物は、製剤中において、経時的に
分解を生じて有効成分濃度が減少し、その結果、微生物
に対する防除効果が経時的に減少するという不具合があ
る。
四級アンモニウム塩化合物、とりわけ、ビス四級アンモ
ニウムの無機塩の化合物は、製剤中において、経時的に
分解を生じて有効成分濃度が減少し、その結果、微生物
に対する防除効果が経時的に減少するという不具合があ
る。
【０００５】そこで、本発明は、このような不具合に鑑
みなされたもので、その目的とするところは、有効成分
であるビス四級アンモニウム塩化合物を安定化させ、優
れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保する
ことのできる、微生物防除剤、および、その微生物防除
剤の有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合物の安
定化方法を提供することにある。
みなされたもので、その目的とするところは、有効成分
であるビス四級アンモニウム塩化合物を安定化させ、優
れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保する
ことのできる、微生物防除剤、および、その微生物防除
剤の有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合物の安
定化方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明者らは、ビス四級アンモニウム塩化合物を安
定化させるために鋭意検討したところ、ビス四級アンモ
ニウム塩化合物に、特定の割合で非プロトン性極性溶媒
およびプロトン性極性溶媒を配合することにより、ビス
四級アンモニウム塩化合物の分解を抑制して安定化させ
ることができる知見を見い出し、さらに研究を進めた結
果、本発明を完成するに至った。
に、本発明者らは、ビス四級アンモニウム塩化合物を安
定化させるために鋭意検討したところ、ビス四級アンモ
ニウム塩化合物に、特定の割合で非プロトン性極性溶媒
およびプロトン性極性溶媒を配合することにより、ビス
四級アンモニウム塩化合物の分解を抑制して安定化させ
ることができる知見を見い出し、さらに研究を進めた結
果、本発明を完成するに至った。
【０００７】 すなわち、本発明は、
（１） ビス四級アンモニウム塩化合物と、ピロリドン
系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ニトリル
系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の非プロ
トン性極性溶媒と、水、アルコール系溶媒、グリコール
系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種のプロト
ン性極性溶媒とを含有し（ただし、アセトニトリル／エ
タノール／水の混合溶媒を除く。）、非プロトン性極性
溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極
性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４
０〜８０重量部であることを特徴とする、微生物防除
剤、 （２） ビス四級アンモニウム塩化合物が、下記一般式
（１）で示されることを特徴とする、前記（１）に記載
の微生物防除剤、 一般式（１）
系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ニトリル
系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の非プロ
トン性極性溶媒と、水、アルコール系溶媒、グリコール
系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種のプロト
ン性極性溶媒とを含有し（ただし、アセトニトリル／エ
タノール／水の混合溶媒を除く。）、非プロトン性極性
溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極
性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４
０〜８０重量部であることを特徴とする、微生物防除
剤、 （２） ビス四級アンモニウム塩化合物が、下記一般式
（１）で示されることを特徴とする、前記（１）に記載
の微生物防除剤、 一般式（１）
【０００８】
【化３】
（式中、Ｒ１およびＲ２は、同一または相異なって、置
換基を有していてもよい炭化水素基を、Ｒ３およびＲ４
は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい
炭化水素基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、
ヒドロキシル基、アミノ基または水素原子を、Ｒ５は、
置換基を有していてもよい炭化水素基または炭素−炭素
間単結合を、Ｙ１は、−ＮＲｎＣＯ−、−ＣＯＮＲｎ
−、−ＮＲｎＣＳ−（前記Ｒｎは、置換基を有していて
もよい炭化水素基または水素原子を示す。）、−ＣＯＯ
−、−ＣＯＳ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単
結合を、Ｙ２は、−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＯ−、−
ＣＳＮＲｎ−（前記Ｒｎは、置換基を有していてもよい
炭化水素基または水素原子を示す。）、−ＯＯＣ−、−
ＳＯＣ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合
を、Ｚはアニオンを、ａは１または２の整数を示す。） （３） 一般式（１）において、Ｚが無機アニオンであ
ることを特徴とする、前記（２）に記載の微生物防除
剤、 （４） 非プロトン性極性溶媒が、ピロリドン系溶媒で
あることを特徴とする、前記（１）〜（３）のいずれか
に記載の微生物防除剤、 （５） プロトン性極性溶媒が、グリコール系溶媒であ
ることを特徴とする、前記（１）〜（４）のいずれかに
記載の微生物防除剤。
換基を有していてもよい炭化水素基を、Ｒ３およびＲ４
は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい
炭化水素基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、
ヒドロキシル基、アミノ基または水素原子を、Ｒ５は、
置換基を有していてもよい炭化水素基または炭素−炭素
間単結合を、Ｙ１は、−ＮＲｎＣＯ−、−ＣＯＮＲｎ
−、−ＮＲｎＣＳ−（前記Ｒｎは、置換基を有していて
もよい炭化水素基または水素原子を示す。）、−ＣＯＯ
−、−ＣＯＳ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単
結合を、Ｙ２は、−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＯ−、−
ＣＳＮＲｎ−（前記Ｒｎは、置換基を有していてもよい
炭化水素基または水素原子を示す。）、−ＯＯＣ−、−
ＳＯＣ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合
を、Ｚはアニオンを、ａは１または２の整数を示す。） （３） 一般式（１）において、Ｚが無機アニオンであ
ることを特徴とする、前記（２）に記載の微生物防除
剤、 （４） 非プロトン性極性溶媒が、ピロリドン系溶媒で
あることを特徴とする、前記（１）〜（３）のいずれか
に記載の微生物防除剤、 （５） プロトン性極性溶媒が、グリコール系溶媒であ
ることを特徴とする、前記（１）〜（４）のいずれかに
記載の微生物防除剤。
【０００９】（６） さらに、下記一般式（２）で示さ
れるベンズイソチアゾリン系化合物を含有することを特
徴とする、前記（１）〜（５）のいずれかに記載の微生
物防除剤、一般式（２）
れるベンズイソチアゾリン系化合物を含有することを特
徴とする、前記（１）〜（５）のいずれかに記載の微生
物防除剤、一般式（２）
【００１０】
【化学式４】
（式中、Ｒ６は、置換基を有していてもよい炭化水素基
または水素原子を、Ａ環は置換基を有していてもよいベ
ンゼン環を示す。） （７） ビス四級アンモニウム塩化合物と、ピロリドン
系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ニトリル
系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の非プロ
トン性極性溶媒と、水、アルコール系溶媒、グリコール
系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種のプロト
ン性極性溶媒と（ただし、アセトニトリル／エタノール
／水の混合溶媒を除く。）を、非プロトン性極性溶媒と
プロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極性溶媒
２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８
０重量部となるように配合することを特徴とする、ビス
四級アンモニウム塩化合物の安定化方法を提供するもの
である。
または水素原子を、Ａ環は置換基を有していてもよいベ
ンゼン環を示す。） （７） ビス四級アンモニウム塩化合物と、ピロリドン
系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ニトリル
系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の非プロ
トン性極性溶媒と、水、アルコール系溶媒、グリコール
系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種のプロト
ン性極性溶媒と（ただし、アセトニトリル／エタノール
／水の混合溶媒を除く。）を、非プロトン性極性溶媒と
プロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極性溶媒
２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８
０重量部となるように配合することを特徴とする、ビス
四級アンモニウム塩化合物の安定化方法を提供するもの
である。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の微生物防除剤は、有効成
分として、ビス四級アンモニウム塩化合物を含有してい
る。
分として、ビス四級アンモニウム塩化合物を含有してい
る。
【００１２】本発明に用いられるビス四級アンモニウム
塩化合物は、例えば、下記一般式（１）で示される。
塩化合物は、例えば、下記一般式（１）で示される。
【００１３】一般式（１）
【００１４】
【化５】
（式中、Ｒ１およびＲ２は、同一または相異なって、置
換基を有していてもよい炭化水素基を、Ｒ３およびＲ４
は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい
炭化水素基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、
ヒドロキシル基、アミノ基または水素原子を、Ｒ５は、
置換基を有していてもよい炭化水素基または炭素−炭素
間単結合を、Ｙ１は、−ＮＲｎＣＯ−、−ＣＯＮＲｎ
−、−ＮＲｎＣＳ−（前記Ｒｎは、置換基を有していて
もよい炭化水素基または水素原子を示す。）、−ＣＯＯ
−、−ＣＯＳ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単
結合を、Ｙ２は、−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＯ−、−
ＣＳＮＲｎ−（前記Ｒｎは、置換基を有していてもよい
炭化水素基または水素原子を示す。）、−ＯＯＣ−、−
ＳＯＣ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合
を、Ｚはアニオンを、ａは１または２の整数を示す。） 一般式（１）の式中、Ｒ１およびＲ２で示される置換基
を有していてもよい炭化水素基の炭化水素基としては、
例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シ
クロアルキル基、アリール基およびアラルキル基などが
挙げられる。
換基を有していてもよい炭化水素基を、Ｒ３およびＲ４
は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい
炭化水素基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、
ヒドロキシル基、アミノ基または水素原子を、Ｒ５は、
置換基を有していてもよい炭化水素基または炭素−炭素
間単結合を、Ｙ１は、−ＮＲｎＣＯ−、−ＣＯＮＲｎ
−、−ＮＲｎＣＳ−（前記Ｒｎは、置換基を有していて
もよい炭化水素基または水素原子を示す。）、−ＣＯＯ
−、−ＣＯＳ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単
結合を、Ｙ２は、−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＯ−、−
ＣＳＮＲｎ−（前記Ｒｎは、置換基を有していてもよい
炭化水素基または水素原子を示す。）、−ＯＯＣ−、−
ＳＯＣ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合
を、Ｚはアニオンを、ａは１または２の整数を示す。） 一般式（１）の式中、Ｒ１およびＲ２で示される置換基
を有していてもよい炭化水素基の炭化水素基としては、
例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シ
クロアルキル基、アリール基およびアラルキル基などが
挙げられる。
【００１５】アルキル基としては、例えば、メチル、エ
チル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓ
ｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペン
チル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、２−エチ
ルヘキシル、ノニル、デシル、イソデシル、ドデシル、
テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素
数１〜１８のアルキル基が挙げられる。
チル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓ
ｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペン
チル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、２−エチ
ルヘキシル、ノニル、デシル、イソデシル、ドデシル、
テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素
数１〜１８のアルキル基が挙げられる。
【００１６】アルケニル基としては、例えば、ビニル、
アリル、メタリル、イソプロペニル、１−プロペニル、
２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、ブテニ
ル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプチニル、オクテニ
ル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、
テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニルなど
の炭素数２〜１８のアルケニル基が挙げられる。
アリル、メタリル、イソプロペニル、１−プロペニル、
２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、ブテニ
ル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプチニル、オクテニ
ル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、
テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニルなど
の炭素数２〜１８のアルケニル基が挙げられる。
【００１７】アルキニル基としては、例えば、エチニ
ル、１−プロピニル、２−プロピニル、ブチニル、ペン
チニル、オクテニルなどの炭素数２〜８のアルキニル基
が挙げられる。
ル、１−プロピニル、２−プロピニル、ブチニル、ペン
チニル、オクテニルなどの炭素数２〜８のアルキニル基
が挙げられる。
【００１８】シクロアルキル基としては、例えば、シク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどの炭素数
３〜８のシクロアルキル基が挙げられる。
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどの炭素数
３〜８のシクロアルキル基が挙げられる。
【００１９】アリール基としては、例えば、フェニル、
トリル、キシリル、ビフェニル、ナフチル、アントリ
ル、フェナントリル、アズレニルなどの炭素数６〜１４
のアリール基が挙げられる。
トリル、キシリル、ビフェニル、ナフチル、アントリ
ル、フェナントリル、アズレニルなどの炭素数６〜１４
のアリール基が挙げられる。
【００２０】アラルキル基としては、例えば、ベンジ
ル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、１−フ
ェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニル
プロピル、ジフェニルメチル、ｏ、ｍまたはｐ−メチル
ベンジル、ｏ、ｍまたはｐ−エチルベンジル、ｏ、ｍま
たはｐ−イソプロピルベンジル、ｏ、ｍまたはｐ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルベンジル、２，３−、２，４−、２，５
−、２，６−、３，４−または３，５−ジメチルベンジ
ル、２，３，４−、３，４，５−または２，４，６−ト
リメチルベンジル、５−イソプロピル−２−メチルベン
ジル、２−イソプロピル−５−メチルベンジル、２−メ
チル−５−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、２，４−、２，
５−または３，５−ジイソプロピルベンジル、３，５−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、１−（２−メチルフェ
ニル）エチル、１−（３−メチルフェニル）エチル、１
−（４−メチルフェニル）エチル、１−（２−イソプロ
ピルフェニル）エチル、１−（３−イソプロピルフェニ
ル）エチル、１−（４−イソプロピルフェニル）エチ
ル、１−（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エチル、１
−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エチル、１−（２
−イソプロピル−４−メチルフェニル）エチル、１−
（４−イソプロピル−２−メチルフェニル）エチル、１
−（２，４−ジメチルフェニル）エチル、１−（２，５
−ジメチルフェニル）エチル、１−（３，５−ジメチル
フェニル）エチル、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェニル）エチルなどの炭素数７〜１６のアラルキル
基が挙げられる。
ル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、１−フ
ェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニル
プロピル、ジフェニルメチル、ｏ、ｍまたはｐ−メチル
ベンジル、ｏ、ｍまたはｐ−エチルベンジル、ｏ、ｍま
たはｐ−イソプロピルベンジル、ｏ、ｍまたはｐ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルベンジル、２，３−、２，４−、２，５
−、２，６−、３，４−または３，５−ジメチルベンジ
ル、２，３，４−、３，４，５−または２，４，６−ト
リメチルベンジル、５−イソプロピル−２−メチルベン
ジル、２−イソプロピル−５−メチルベンジル、２−メ
チル−５−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、２，４−、２，
５−または３，５−ジイソプロピルベンジル、３，５−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、１−（２−メチルフェ
ニル）エチル、１−（３−メチルフェニル）エチル、１
−（４−メチルフェニル）エチル、１−（２−イソプロ
ピルフェニル）エチル、１−（３−イソプロピルフェニ
ル）エチル、１−（４−イソプロピルフェニル）エチ
ル、１−（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エチル、１
−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エチル、１−（２
−イソプロピル−４−メチルフェニル）エチル、１−
（４−イソプロピル−２−メチルフェニル）エチル、１
−（２，４−ジメチルフェニル）エチル、１−（２，５
−ジメチルフェニル）エチル、１−（３，５−ジメチル
フェニル）エチル、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェニル）エチルなどの炭素数７〜１６のアラルキル
基が挙げられる。
【００２１】Ｒ１およびＲ２で示される置換基を有して
いてもよい炭化水素基の置換基としては、例えば、ヒド
ロキシル基、ハロゲン原子（例えば、塩素、フッ素、臭
素およびヨウ素など）、シアノ基、アミノ基、カルボキ
シル基、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキ
シ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチル
オキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘ
キシルオキシなどの炭素数１〜６のアルコキシ基な
ど）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基な
ど）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、
イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソ
ブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニ
ル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキ
シカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなどの炭素数
１〜６のアルコキシカルボニル基など）、アルキルチオ
基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、
ブチルチオなどの炭素数１〜４のアルキルチオ基など）
およびアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基など）
などが挙げられる。これらの置換基は同一または相異な
って１〜５個、好ましくは１〜３個置換していてもよ
い。
いてもよい炭化水素基の置換基としては、例えば、ヒド
ロキシル基、ハロゲン原子（例えば、塩素、フッ素、臭
素およびヨウ素など）、シアノ基、アミノ基、カルボキ
シル基、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキ
シ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチル
オキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘ
キシルオキシなどの炭素数１〜６のアルコキシ基な
ど）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基な
ど）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、
イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソ
ブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニ
ル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキ
シカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなどの炭素数
１〜６のアルコキシカルボニル基など）、アルキルチオ
基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、
ブチルチオなどの炭素数１〜４のアルキルチオ基など）
およびアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基など）
などが挙げられる。これらの置換基は同一または相異な
って１〜５個、好ましくは１〜３個置換していてもよ
い。
【００２２】上記したＲ１およびＲ２で示される置換基
を有していてもよい炭化水素基としては、置換基を有し
ていない炭化水素基、または、ヒドロキシル基を有する
炭化水素基が好ましく、その中でも、アルキル基または
ヒドロキシアルキル基が好ましい。
を有していてもよい炭化水素基としては、置換基を有し
ていない炭化水素基、または、ヒドロキシル基を有する
炭化水素基が好ましく、その中でも、アルキル基または
ヒドロキシアルキル基が好ましい。
【００２３】アルキル基としては、好ましくは、炭素数
が１〜１８のアルキル基、より好ましくは、炭素数が７
以上である、ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、
２−エチルヘキシル、ノニル、デシル、イソデシル、ド
デシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルな
どの炭素数７〜１８のアルキル基が挙げられる。
が１〜１８のアルキル基、より好ましくは、炭素数が７
以上である、ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、
２−エチルヘキシル、ノニル、デシル、イソデシル、ド
デシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルな
どの炭素数７〜１８のアルキル基が挙げられる。
【００２４】ヒドロキシアルキル基としては、好ましく
は、炭素数が１〜１８のヒドロキシアルキル基、より好
ましくは、炭素数が３〜１２である、ヒドロキシトリメ
チレン、ヒドロキシテトラメチレン、ヒドロキシペンタ
メチレン、ヒドロキシヘキサメチレン、ヒドロキシヘプ
タメチレン、ヒドロキシオクタメチレン、ヒドロキシノ
ナメチレン、ヒドロキシデカメチレン、ヒドロキシドデ
カメチレンなどの炭素数３〜１２のヒドロキシアルキル
基が挙げられる。
は、炭素数が１〜１８のヒドロキシアルキル基、より好
ましくは、炭素数が３〜１２である、ヒドロキシトリメ
チレン、ヒドロキシテトラメチレン、ヒドロキシペンタ
メチレン、ヒドロキシヘキサメチレン、ヒドロキシヘプ
タメチレン、ヒドロキシオクタメチレン、ヒドロキシノ
ナメチレン、ヒドロキシデカメチレン、ヒドロキシドデ
カメチレンなどの炭素数３〜１２のヒドロキシアルキル
基が挙げられる。
【００２５】Ｒ１およびＲ２は、同一または相異なっ
て、ともに炭素数１〜１８のアルキル基であるか、一方
が炭素数１〜１８のアルキル基で、他方が炭素数３〜１
２のヒドロキシアルキル基であることが好ましい。
て、ともに炭素数１〜１８のアルキル基であるか、一方
が炭素数１〜１８のアルキル基で、他方が炭素数３〜１
２のヒドロキシアルキル基であることが好ましい。
【００２６】一般式（１）の式中、Ｒ３およびＲ４で示
される置換基を有していてもよい炭化水素基としては、
Ｒ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭
化水素基と同様のものが挙げられ、好ましくは、アルキ
ル基、より好ましくは、例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓ
ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ｉｓｏ−
ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ヘキシルなどの炭素数１
〜６のアルキル基が挙げられる。
される置換基を有していてもよい炭化水素基としては、
Ｒ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭
化水素基と同様のものが挙げられ、好ましくは、アルキ
ル基、より好ましくは、例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓ
ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ｉｓｏ−
ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ヘキシルなどの炭素数１
〜６のアルキル基が挙げられる。
【００２７】また、Ｒ３およびＲ４で示される置換基を
有していてもよいアルコキシ基のアルコキシ基として
は、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ
ロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキ
シ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチ
ルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、オク
チルオキシなどの炭素数１〜８のアルコキシ基が挙げら
れる。
有していてもよいアルコキシ基のアルコキシ基として
は、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ
ロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキ
シ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチ
ルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、オク
チルオキシなどの炭素数１〜８のアルコキシ基が挙げら
れる。
【００２８】また、Ｒ３およびＲ４で示される置換基を
有していてもよいアルコキシ基の置換基としては、Ｒ１
およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水
素基の置換基と同様のものが挙げられる。
有していてもよいアルコキシ基の置換基としては、Ｒ１
およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水
素基の置換基と同様のものが挙げられる。
【００２９】上記したＲ３およびＲ４で示される置換基
を有していてもよいアルコキシ基としては、置換基を有
していないアルコキシ基が好ましく、その中でも、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシなどの炭
素数１〜３のアルコキシ基が挙げられる。
を有していてもよいアルコキシ基としては、置換基を有
していないアルコキシ基が好ましく、その中でも、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシなどの炭
素数１〜３のアルコキシ基が挙げられる。
【００３０】Ｒ３およびＲ４は、同一または相異なっ
て、それぞれ炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜３
のアルコキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基または水素
原子であることが好ましく、その中でも、ともに水素原
子であることが好ましい。
て、それぞれ炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜３
のアルコキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基または水素
原子であることが好ましく、その中でも、ともに水素原
子であることが好ましい。
【００３１】一般式（１）の式中、Ｒ５で示される置換
基を有していてもよい炭化水素基の炭化水素基として
は、好ましくは、アルキレン基、アルケニレン基、アル
キニレン基、シクロアルキレン基、アリレン基などの２
価の炭化水素基が挙げられる。
基を有していてもよい炭化水素基の炭化水素基として
は、好ましくは、アルキレン基、アルケニレン基、アル
キニレン基、シクロアルキレン基、アリレン基などの２
価の炭化水素基が挙げられる。
【００３２】アルキレン基としては、例えば、メチレ
ン、エチレン、プロピレン、ｉｓｏ−プロピレン、ブチ
レン、ｉｓｏ−ブチレン、ｓｅｃ−ブチレン、ペンチレ
ン、ｉｓｏ−ペンチレン、ｓｅｃ−ペンチレン、ヘキシ
レン、ヘプチレン、オクチレン、２−エチルヘキシレ
ン、ノニレン、デシレン、イソデシレン、ドデシレン、
テトラデシレン、ヘキサデシレン、オクタデシレンなど
の炭素数１〜１８のアルキレン基が挙げられる。
ン、エチレン、プロピレン、ｉｓｏ−プロピレン、ブチ
レン、ｉｓｏ−ブチレン、ｓｅｃ−ブチレン、ペンチレ
ン、ｉｓｏ−ペンチレン、ｓｅｃ−ペンチレン、ヘキシ
レン、ヘプチレン、オクチレン、２−エチルヘキシレ
ン、ノニレン、デシレン、イソデシレン、ドデシレン、
テトラデシレン、ヘキサデシレン、オクタデシレンなど
の炭素数１〜１８のアルキレン基が挙げられる。
【００３３】アルケニレン基としては、例えば、ビニレ
ン、プロペニレン、ブテニレン、ブタジエニレン、オク
テニレン、デセニレン、ウンデセニレン、ドデセニレ
ン、テトラデセニレン、ヘキサデセニレン、オクタデセ
ニレンなどの炭素数２〜１８のアルケニレン基が挙げら
れる。
ン、プロペニレン、ブテニレン、ブタジエニレン、オク
テニレン、デセニレン、ウンデセニレン、ドデセニレ
ン、テトラデセニレン、ヘキサデセニレン、オクタデセ
ニレンなどの炭素数２〜１８のアルケニレン基が挙げら
れる。
【００３４】アルキニレン基としては、例えば、エチニ
レン、プロピニレン、ブチニレン、ペンチニレン、オク
テニレンなどの炭素数２〜８のアルキニレン基が挙げら
れる。
レン、プロピニレン、ブチニレン、ペンチニレン、オク
テニレンなどの炭素数２〜８のアルキニレン基が挙げら
れる。
【００３５】シクロアルキレン基としては、例えば、シ
クロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、
シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレ
ンなどの炭素数３〜８のシクロアルキレン基が挙げられ
る。
クロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、
シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレ
ンなどの炭素数３〜８のシクロアルキレン基が挙げられ
る。
【００３６】アリレン基としては、例えば、フェニレ
ン、トリレン、キシリレン、ナフチレンなどの炭素数６
〜１０のアリレン基が挙げられ、好ましくは、フェニレ
ンおよびキシリレンが挙げられる。
ン、トリレン、キシリレン、ナフチレンなどの炭素数６
〜１０のアリレン基が挙げられ、好ましくは、フェニレ
ンおよびキシリレンが挙げられる。
【００３７】また、Ｒ５で示される置換基を有していて
もよい炭化水素基の置換基としては、Ｒ１およびＲ２で
示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基
と同様のものが挙げられ、好ましくは、例えば、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブト
キシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペン
チルオキシ、ヘキシルオキシなどの炭素数１〜６のアル
コキシ基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボ
ニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、
ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキ
シカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシ
ルオキシカルボニルなどの炭素数１〜６のアルコキシカ
ルボニル基などが挙げられる。
もよい炭化水素基の置換基としては、Ｒ１およびＲ２で
示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基
と同様のものが挙げられ、好ましくは、例えば、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブト
キシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペン
チルオキシ、ヘキシルオキシなどの炭素数１〜６のアル
コキシ基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボ
ニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、
ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキ
シカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシ
ルオキシカルボニルなどの炭素数１〜６のアルコキシカ
ルボニル基などが挙げられる。
【００３８】Ｒ５で示される置換基を有していてもよい
炭化水素基として、好ましくは、炭素数２〜１８のアル
キレン基、フェニレン基、キシリレン基または炭素−炭
素間単結合が挙げられる。
炭化水素基として、好ましくは、炭素数２〜１８のアル
キレン基、フェニレン基、キシリレン基または炭素−炭
素間単結合が挙げられる。
【００３９】また、一般式（１）の式中、Ｙ１で示され
る−ＮＲｎＣＯ−、−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＳ−、
および、Ｙ２で示される−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＯ
−、−ＣＳＮＲｎ−のＲｎとしては、置換基を有してい
てもよい炭化水素基または水素原子が挙げられ、置換基
を有していてもよい炭化水素基としては、Ｒ１およびＲ
２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基と同
様のものが挙げられる。好ましくは、アルキル基または
水素原子が挙げられ、アルキル基としては、例えば、メ
チル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、
ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ペンチル、ｉｓｏ−
ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、ｎ
−オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシルなどの
炭素数１〜８のアルキル基が挙げられる。
る−ＮＲｎＣＯ−、−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＳ−、
および、Ｙ２で示される−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＯ
−、−ＣＳＮＲｎ−のＲｎとしては、置換基を有してい
てもよい炭化水素基または水素原子が挙げられ、置換基
を有していてもよい炭化水素基としては、Ｒ１およびＲ
２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基と同
様のものが挙げられる。好ましくは、アルキル基または
水素原子が挙げられ、アルキル基としては、例えば、メ
チル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、
ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ペンチル、ｉｓｏ−
ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、ｎ
−オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシルなどの
炭素数１〜８のアルキル基が挙げられる。
【００４０】一般式（１）の式中、Ｙ１として、好まし
くは、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ
−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合が挙げられ、ま
た、Ｙ２として、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＯＯ
Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合が挙げ
られる。
くは、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ
−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合が挙げられ、ま
た、Ｙ２として、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＯＯ
Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合が挙げ
られる。
【００４１】一般式（１）の式中、Ｚで示されるアニオ
ンとしては、例えば、無機アニオン、有機アニオンが挙
げられる。
ンとしては、例えば、無機アニオン、有機アニオンが挙
げられる。
【００４２】無機アニオンとしては、例えば、ハロゲン
イオン（例えば、Ｆ-、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-など）、ヨウ
素酸イオン（ＩＯ３-）、臭素酸イオン（ＢｒＯ３-）、
塩素酸イオン（ＣｌＯ３-）、過ヨウ素酸イオン（ＩＯ
４-）、過塩素酸イオン（ＣｌＯ４-）、硫酸イオン（Ｓ
Ｏ４ ２-）、硝酸イオン（ＮＯ３-）、リン酸イオン（Ｐ
Ｏ４ ３-）、亜硫酸イオン（ＳＯ３ ２-）、亜硝酸イオン
（ＮＯ２-）などが挙げられる。
イオン（例えば、Ｆ-、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-など）、ヨウ
素酸イオン（ＩＯ３-）、臭素酸イオン（ＢｒＯ３-）、
塩素酸イオン（ＣｌＯ３-）、過ヨウ素酸イオン（ＩＯ
４-）、過塩素酸イオン（ＣｌＯ４-）、硫酸イオン（Ｓ
Ｏ４ ２-）、硝酸イオン（ＮＯ３-）、リン酸イオン（Ｐ
Ｏ４ ３-）、亜硫酸イオン（ＳＯ３ ２-）、亜硝酸イオン
（ＮＯ２-）などが挙げられる。
【００４３】有機アニオンとしては、例えば、遊離の有
機カルボン酸や遊離の有機スルホン酸などの遊離の有機
酸などが挙げられる。遊離の有機酸としては、炭素数１
〜２０、好ましくは、炭素数１〜１０の遊離の有機酸が
挙げられる。
機カルボン酸や遊離の有機スルホン酸などの遊離の有機
酸などが挙げられる。遊離の有機酸としては、炭素数１
〜２０、好ましくは、炭素数１〜１０の遊離の有機酸が
挙げられる。
【００４４】遊離の有機カルボン酸としては、例えば、
１価の飽和カルボン酸イオン、２価の飽和カルボン酸イ
オン、１価の不飽和カルボン酸イオン、２価の不飽和カ
ルボン酸イオン、ヒドロキシカルボン酸イオン、オキソ
カルボン酸イオン、芳香族カルボン酸イオンなどが挙げ
られる。
１価の飽和カルボン酸イオン、２価の飽和カルボン酸イ
オン、１価の不飽和カルボン酸イオン、２価の不飽和カ
ルボン酸イオン、ヒドロキシカルボン酸イオン、オキソ
カルボン酸イオン、芳香族カルボン酸イオンなどが挙げ
られる。
【００４５】１価の飽和カルボン酸イオンとしては、例
えば、蟻酸イオン（ＨＣＯＯ-）、酢酸イオン（ＣＨ３
ＣＯＯ-）、プロピオン酸イオン（Ｃ２Ｈ５ＣＯＯ-）、
酪酸イオン（Ｃ３Ｈ７ＣＯＯ-）、イソ酪酸イオン
（（ＣＨ３）２ＣＨＣＯＯ-）、吉草酸イオン（ＣＨ３
（ＣＨ２）３ＣＯＯ-）、イソ吉草酸イオン（（Ｃ
Ｈ３）２ＣＨＣＨ２ＣＯＯ-）、ピバル酸イオン（（Ｃ
Ｈ３）３ＣＣＯＯ-）、オクタン酸イオン（ＣＨ３（Ｃ
Ｈ２）６ＣＯＯ-）、デカン酸イオン（ＣＨ３（Ｃ
Ｈ２）８ＣＯＯ-）、ラウリン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ
２）１０ＣＯＯ-）、ミリスチン酸イオン（ＣＨ３（Ｃ
Ｈ２）１２ＣＯＯ-）、パルミチン酸イオン（ＣＨ
３（ＣＨ ２）１４ＣＯＯ-）、ステアリン酸イオン（Ｃ
Ｈ３（ＣＨ２）１６ＣＯＯ-）などの炭素数１〜１８の
１価の飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
えば、蟻酸イオン（ＨＣＯＯ-）、酢酸イオン（ＣＨ３
ＣＯＯ-）、プロピオン酸イオン（Ｃ２Ｈ５ＣＯＯ-）、
酪酸イオン（Ｃ３Ｈ７ＣＯＯ-）、イソ酪酸イオン
（（ＣＨ３）２ＣＨＣＯＯ-）、吉草酸イオン（ＣＨ３
（ＣＨ２）３ＣＯＯ-）、イソ吉草酸イオン（（Ｃ
Ｈ３）２ＣＨＣＨ２ＣＯＯ-）、ピバル酸イオン（（Ｃ
Ｈ３）３ＣＣＯＯ-）、オクタン酸イオン（ＣＨ３（Ｃ
Ｈ２）６ＣＯＯ-）、デカン酸イオン（ＣＨ３（Ｃ
Ｈ２）８ＣＯＯ-）、ラウリン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ
２）１０ＣＯＯ-）、ミリスチン酸イオン（ＣＨ３（Ｃ
Ｈ２）１２ＣＯＯ-）、パルミチン酸イオン（ＣＨ
３（ＣＨ ２）１４ＣＯＯ-）、ステアリン酸イオン（Ｃ
Ｈ３（ＣＨ２）１６ＣＯＯ-）などの炭素数１〜１８の
１価の飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００４６】２価の飽和カルボン酸イオンとしては、例
えば、シュウ酸イオン（（ＣＯＯ-）２）、マロン酸イ
オン（ＣＨ２（ＣＯＯ-）２）、コハク酸イオン（（-Ｏ
ＯＣ）（ＣＨ２）２（ＣＯＯ-））、グルタル酸イオン
（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）３（ＣＯＯ-））、アジピン酸
イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）４（ＣＯＯ-））、ピメ
リン酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）５（ＣＯＯ
-））、スベリン酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）
６（ＣＯＯ-））、アゼライン酸イオン（（-ＯＯＣ）
（ＣＨ２）７（ＣＯＯ-））、セバシン酸イオン（（-Ｏ
ＯＣ）（ＣＨ２）８（ＣＯＯ-））などの炭素数２〜１
０の２価の飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
えば、シュウ酸イオン（（ＣＯＯ-）２）、マロン酸イ
オン（ＣＨ２（ＣＯＯ-）２）、コハク酸イオン（（-Ｏ
ＯＣ）（ＣＨ２）２（ＣＯＯ-））、グルタル酸イオン
（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）３（ＣＯＯ-））、アジピン酸
イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）４（ＣＯＯ-））、ピメ
リン酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）５（ＣＯＯ
-））、スベリン酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）
６（ＣＯＯ-））、アゼライン酸イオン（（-ＯＯＣ）
（ＣＨ２）７（ＣＯＯ-））、セバシン酸イオン（（-Ｏ
ＯＣ）（ＣＨ２）８（ＣＯＯ-））などの炭素数２〜１
０の２価の飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００４７】１価の不飽和カルボン酸イオンとしては、
例えば、アクリル酸イオン（ＣＨ２=ＣＨＣＯＯ-）、メ
タクリル酸イオン（ＣＨ２=Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ-）、ク
ロトン酸イオン（ＣＨ３ＣＨ=ＣＨＣＯＯ-）、ｃｉｓ−
クロトン酸イオン（ＣＨ３ＣＨ=ＣＨＣＯＯ-）、ソルビ
ン酸イオン（ＣＨ３ＣＨ=ＣＨＣＨ=ＣＨＣＯＯ-）、オ
レイン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）７ＣＨ=ＣＨ（ＣＨ
２）７ＣＯＯ-）、ｔｒａｎｓ-９-オクタデセン酸イオ
ン（ＣＨ３（ＣＨ２）７ＣＨ=ＣＨ（ＣＨ２）７ＣＯＯ
-）、フランカルボン酸イオン（Ｃ４Ｈ３ＯＣＯＯ-）な
どの炭素数３〜１８の１価の不飽和カルボン酸イオンな
どが挙げられる。
例えば、アクリル酸イオン（ＣＨ２=ＣＨＣＯＯ-）、メ
タクリル酸イオン（ＣＨ２=Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ-）、ク
ロトン酸イオン（ＣＨ３ＣＨ=ＣＨＣＯＯ-）、ｃｉｓ−
クロトン酸イオン（ＣＨ３ＣＨ=ＣＨＣＯＯ-）、ソルビ
ン酸イオン（ＣＨ３ＣＨ=ＣＨＣＨ=ＣＨＣＯＯ-）、オ
レイン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）７ＣＨ=ＣＨ（ＣＨ
２）７ＣＯＯ-）、ｔｒａｎｓ-９-オクタデセン酸イオ
ン（ＣＨ３（ＣＨ２）７ＣＨ=ＣＨ（ＣＨ２）７ＣＯＯ
-）、フランカルボン酸イオン（Ｃ４Ｈ３ＯＣＯＯ-）な
どの炭素数３〜１８の１価の不飽和カルボン酸イオンな
どが挙げられる。
【００４８】２価の不飽和カルボン酸イオンとしては、
例えば、マレイン酸イオン（ＣＨ（ＣＯＯ-）=ＣＨＣＯ
Ｏ-）、シトラコン酸イオン（（ＣＨ３）Ｃ（ＣＯＯ-）
=ＣＨＣＯＯ-）、メサコン酸イオン（（ＣＯＯ-）Ｃ
（ＣＨ３）=ＣＨＣＯＯ-）などの炭素数４〜５の２価の
不飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
例えば、マレイン酸イオン（ＣＨ（ＣＯＯ-）=ＣＨＣＯ
Ｏ-）、シトラコン酸イオン（（ＣＨ３）Ｃ（ＣＯＯ-）
=ＣＨＣＯＯ-）、メサコン酸イオン（（ＣＯＯ-）Ｃ
（ＣＨ３）=ＣＨＣＯＯ-）などの炭素数４〜５の２価の
不飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００４９】ヒドロキシカルボン酸イオンとしては、例
えば、乳酸イオン（ＣＨ３ＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯ-）、リ
ンゴ酸イオン（ＣＨ（ＯＨ）（ＣＯＯ-）ＣＨ２ＣＯＯ
-）、クエン酸イオン（ＣＨ２（ＣＯＯ-）Ｃ（ＯＨ）
（ＣＯＯ-）ＣＨ２ＣＯＯ-）、グリコン酸イオン（ＣＨ
２（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ
（ＯＨ）ＣＯＯ-）などの炭素数３〜６のヒドロキシカ
ルボン酸イオンなどが挙げられる。
えば、乳酸イオン（ＣＨ３ＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯ-）、リ
ンゴ酸イオン（ＣＨ（ＯＨ）（ＣＯＯ-）ＣＨ２ＣＯＯ
-）、クエン酸イオン（ＣＨ２（ＣＯＯ-）Ｃ（ＯＨ）
（ＣＯＯ-）ＣＨ２ＣＯＯ-）、グリコン酸イオン（ＣＨ
２（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ
（ＯＨ）ＣＯＯ-）などの炭素数３〜６のヒドロキシカ
ルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００５０】オキソカルボン酸イオンとしては、例え
ば、ピルビン酸イオン（ＣＨ３ＣＯＣＯＯ-）、アセト
酢酸イオン（ＣＨ３ＣＯＣＨ２ＣＯＯ-）などの炭素数
３〜４のオキソカルボン酸イオンなどが挙げられる。
ば、ピルビン酸イオン（ＣＨ３ＣＯＣＯＯ-）、アセト
酢酸イオン（ＣＨ３ＣＯＣＨ２ＣＯＯ-）などの炭素数
３〜４のオキソカルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００５１】芳香族カルボン酸イオンとしては、例え
ば、安息香酸イオン（Ｃ６Ｈ５ＣＯＯ-）、フタル酸イ
オン（Ｃ６Ｈ４（ＣＯＯ-）２）、ナフタレンカルボン
酸イオン（Ｃ１０Ｈ７ＣＯＯ-）、ピリジンカルボン酸
イオン（Ｃ５Ｈ５ＮＣＯＯ-）などの炭素数５〜１１の
芳香族カルボン酸イオンなどが挙げられる。
ば、安息香酸イオン（Ｃ６Ｈ５ＣＯＯ-）、フタル酸イ
オン（Ｃ６Ｈ４（ＣＯＯ-）２）、ナフタレンカルボン
酸イオン（Ｃ１０Ｈ７ＣＯＯ-）、ピリジンカルボン酸
イオン（Ｃ５Ｈ５ＮＣＯＯ-）などの炭素数５〜１１の
芳香族カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００５２】また、遊離の有機スルホン酸としては、例
えば、メチル硫酸イオン（（ＣＨ３）ＳＯ４-）、エチ
ル硫酸イオン（（Ｃ２Ｈ５）ＳＯ４-）、メチルベンゼ
ンスルホン酸イオン（ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３-）などの
炭素数１〜７の有機スルホン酸イオンが挙げられる。
えば、メチル硫酸イオン（（ＣＨ３）ＳＯ４-）、エチ
ル硫酸イオン（（Ｃ２Ｈ５）ＳＯ４-）、メチルベンゼ
ンスルホン酸イオン（ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３-）などの
炭素数１〜７の有機スルホン酸イオンが挙げられる。
【００５３】また、一般式（１）の式中、Ｚで示される
有機アニオンとしては、その他に、アミノ酸、エリソル
ビン酸、アスコルビン酸、デヒドロ酢酸、アルコラー
ト、フェノラートおよび水酸基に起因する有機アニオン
などが挙げられる。
有機アニオンとしては、その他に、アミノ酸、エリソル
ビン酸、アスコルビン酸、デヒドロ酢酸、アルコラー
ト、フェノラートおよび水酸基に起因する有機アニオン
などが挙げられる。
【００５４】これらアニオンは、単独または２種以上併
用してもよい。好ましくは、無機アニオン、さらに好ま
しくは、ハロゲンイオンが挙げられる。
用してもよい。好ましくは、無機アニオン、さらに好ま
しくは、ハロゲンイオンが挙げられる。
【００５５】また、ａは、１または２の整数を示し、具
体的には、ビス四級アンモニウム塩化合物およびアニオ
ンの種類に応じて、適宜決定される。ａは、１が特に好
ましい。
体的には、ビス四級アンモニウム塩化合物およびアニオ
ンの種類に応じて、適宜決定される。ａは、１が特に好
ましい。
【００５６】このようなビス四級アンモニウム塩化合物
は、以下に示す具体的な化合物に準じて公知の方法によ
り製造することができ、その具体例としては、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（４−カルバモイル−
１−オクチルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチ
レンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウム
塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（４−カルバモ
イル−１−ドデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキ
サメチレン−ビス（４−カルバモイル−１−テトラデシ
ルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス
（４−カルバモイル−１−ヘキサデシルピリジニウム
塩）などのＮ，Ｎ’−アルキレン−ビス（４−カルバモ
イル−１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、Ｎ，
Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモイル−１−
オクチルピリジニウム塩、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−
ビス（３−カルバモイル−１−デシルピリジニウム
塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモ
イル−１−ドデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキ
サメチレン−ビス（３−カルバモイル−１−テトラデシ
ルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス
（３−カルバモイル−１−ヘキサデシルピリジニウム
塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモ
イル−１−オクタデシルピリジニウム塩）などのＮ，
Ｎ’−アルキレン−ビス（３−カルバモイル−１−アル
キルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（テトラメ
チレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−オクチルピリ
ジニウム塩）、４，４’−（テトラメチレンジカルボニ
ルジアミノ）ビス（１−デシルピリジニウム塩）、４，
４’−（テトラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス
（１−ドデシルピリジニウム塩）、４，４’−（テトラ
メチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−テトラデシ
ルピリジニウム塩）、４，４’−（テトラメチレンジカ
ルボニルジアミノ）ビス（１−ヘキサデシルピリジニウ
ム塩）などの４，４’−（アルキレンジカルボニルジア
ミノ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、
４，４’−（ヘキサメチレンジチオ）ビス（１−オクチ
ルピリジニウム塩）などの４，４’−（アルキレンジチ
オ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、
４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−ブチルピ
リジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビ
ス（１−ヘキシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−
キシリルジチオ）ビス（１−オクチルピリジニウム
塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−デ
シルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチ
オ）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）、４，４’−
（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−テトラデシルピリジ
ニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス
（１−ヘキサデシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ
−キシリルジチオ）ビス（１−オクタデシルピリジニウ
ム塩）などの４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス
（（１−アルキル）ピリジニウム塩）、例えば、３，
３’−（ｍ−キシリルジチオ）ビス（１−テトラデシル
ピリジニウム塩）などの３，３’−（ｍ−キシリルジチ
オ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、
Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル
−１−ヘキシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フ
ェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−オクチルピリ
ジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４
−カルバモイル−１−デシルピリジニウム塩）、Ｎ，
Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１
−ドデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニ
レン）ビス（４−カルバモイル−１−テトラデシルピリ
ジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４
−カルバモイル−１−ヘキサデシルピリジニウム塩）、
Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル
−１−オクタデシルピリジニウム塩）などのＮ，Ｎ’−
（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−アル
キルピリジニウム塩）、例えば、Ｎ，Ｎ’−（ｍ−フェ
ニレン）ビス（３−カルバモイル−１−ドデシルピリジ
ニウム塩）などのＮ，Ｎ’−（ｍ−フェニレン）ビス
（３−カルバモイル−１−アルキルピリジニウム塩）、
例えば、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ブ
チルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミ
ド）ビス（１−ペンチルピリジニウム塩）、４，４’−
（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ヘキシルピリジニウム
塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ヘプ
チルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミ
ド）ビス（１−オクチルピリジニウム塩）、４，４’−
（ｐ−フタルアミド）ビス（１−デシルピリジニウム
塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ドデ
シルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミ
ド）ビス（１−テトラデシルピリジニウム塩）、４，
４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ヘキサデシルピ
リジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス
（１−オクタデシルピリジニウム塩）などの４，４’−
（ｐ−フタルアミド）ビス（１−アルキルピリジニウム
塩）、例えば、３，３’−（ｍ−フタルアミド）ビス
（１−オクタデシルピリジニウム塩）などの３，３’−
（ｍ−フタルアミド）ビス（１−アルキルピリジニウム
塩）、１，４−テトラメチレンビス（４−カルバモイル
−１−ヘキサデシルピリジニウム塩）、１，６−ヘキサ
メチレンビス（３−カルバモイル−１−ドデシルピリジ
ニウム塩）、１，６−オクタメチレンビス（３−カルバ
モイル−１−テトラデシルピリジニウム塩）、３，３’
−（１，３−トリメチレンジカルボニルジアミノ）ビス
（１−ドデシルピリジニウム塩）などの（アルキレンジ
カルボニルジアミノ）ビス（１−アルキルピリジニウム
塩）、例えば、４，４’−（１，８−オクタメチレンジ
オキシ）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）、３，
３’−（１，６−ヘキサメチレンジオキシ）ビス（１−
ヘキサドデシルピリジニウム塩）などの（アルキレンジ
オキシ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例え
ば、４，４’−（１，６−ヘキサメチレンジオキシジカ
ルボニル）ビス（１−オクチルピリジニウム塩）、３，
３’−（１，６−テトラメチレンジオキシジカルボニ
ル）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）などの（アル
キレンジオキシジカルボニル）ビス（１−アルキルピリ
ジニウム塩）、例えば、４，４’−（１，４−テトラメ
チレンジカルボニルジオキシ）ビス（１−オクチルピリ
ジニウム塩）などの（アルキレンジカルボニルジオキ
シ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、
４，４’−（１，８−オクタメチレンジカルボニルジチ
オキシ）ビス（１−オクタデシルピリジニウム塩）など
の（アルキレンジカルボニルジチオキシ）ビス（１−ア
ルキルピリジニウム塩）、例えば、３，３’−（ｐ−フ
タロイルジオキシ）ビス（１−デシルピリジニウム
塩）、３，３’−（ｍ−フタロイルジチオキシ）ビス
（１−デシルピリジニウム塩）などの（フタロイルジチ
オキシ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例え
ば、１−オクチル−１’−（３−ヒドロキシトリメチレ
ン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−オクチル−
１’−（６−ヒドロキシヘキサメチレン）−４，４’−
ジピリジニウム塩、１−オクチル−１’−（８−ヒドロ
キシオクタメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、
１−オクチル−１’−（１０−ヒドロキシデカメチレ
ン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−オクチル−
１’−（１２−ヒドロキシドデカメチレン）−４，４’
−ジピリジニウム塩、１−デシル−１’−（３−ヒドロ
キシトリメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１
−デシル−１’−（６−ヒドロキシヘキサメチレン）−
４，４’−ジピリジニウム塩、１−デシル−１’−（８
−ヒドロキシオクタメチレン）−４，４’−ジピリジニ
ウム塩、１−デシル−１’−（１０−ヒドロキシデカメ
チレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−デシル−
１’−（１２−ヒドロキシドデカメチレン）−４，４’
−ジピリジニウム塩、１−ドデシル−１’−（３−ヒド
ロキシトリメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、
１−ドデシル−１’−（６−ヒドロキシヘキサメチレ
ン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−ドデシル−
１’−（８−ヒドロキシオクタメチレン）−４，４’−
ジピリジニウム塩、１−ドデシル−１’−（１０−ヒド
ロキシデカメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、
１−ドデシル−１’−（１２−ヒドロキシドデカメチレ
ン）−４，４’−ジピリジニウム塩 などの１−アルキ
ル−１’−（１２−ヒドロキシアルキレン）−４，４’
−ジピリジニウム塩などが挙げられる。
は、以下に示す具体的な化合物に準じて公知の方法によ
り製造することができ、その具体例としては、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（４−カルバモイル−
１−オクチルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチ
レンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウム
塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（４−カルバモ
イル−１−ドデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキ
サメチレン−ビス（４−カルバモイル−１−テトラデシ
ルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス
（４−カルバモイル−１−ヘキサデシルピリジニウム
塩）などのＮ，Ｎ’−アルキレン−ビス（４−カルバモ
イル−１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、Ｎ，
Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモイル−１−
オクチルピリジニウム塩、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−
ビス（３−カルバモイル−１−デシルピリジニウム
塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモ
イル−１−ドデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキ
サメチレン−ビス（３−カルバモイル−１−テトラデシ
ルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス
（３−カルバモイル−１−ヘキサデシルピリジニウム
塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモ
イル−１−オクタデシルピリジニウム塩）などのＮ，
Ｎ’−アルキレン−ビス（３−カルバモイル−１−アル
キルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（テトラメ
チレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−オクチルピリ
ジニウム塩）、４，４’−（テトラメチレンジカルボニ
ルジアミノ）ビス（１−デシルピリジニウム塩）、４，
４’−（テトラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス
（１−ドデシルピリジニウム塩）、４，４’−（テトラ
メチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−テトラデシ
ルピリジニウム塩）、４，４’−（テトラメチレンジカ
ルボニルジアミノ）ビス（１−ヘキサデシルピリジニウ
ム塩）などの４，４’−（アルキレンジカルボニルジア
ミノ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、
４，４’−（ヘキサメチレンジチオ）ビス（１−オクチ
ルピリジニウム塩）などの４，４’−（アルキレンジチ
オ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、
４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−ブチルピ
リジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビ
ス（１−ヘキシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−
キシリルジチオ）ビス（１−オクチルピリジニウム
塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−デ
シルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチ
オ）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）、４，４’−
（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−テトラデシルピリジ
ニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス
（１−ヘキサデシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ
−キシリルジチオ）ビス（１−オクタデシルピリジニウ
ム塩）などの４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス
（（１−アルキル）ピリジニウム塩）、例えば、３，
３’−（ｍ−キシリルジチオ）ビス（１−テトラデシル
ピリジニウム塩）などの３，３’−（ｍ−キシリルジチ
オ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、
Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル
−１−ヘキシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フ
ェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−オクチルピリ
ジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４
−カルバモイル−１−デシルピリジニウム塩）、Ｎ，
Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１
−ドデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニ
レン）ビス（４−カルバモイル−１−テトラデシルピリ
ジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４
−カルバモイル−１−ヘキサデシルピリジニウム塩）、
Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル
−１−オクタデシルピリジニウム塩）などのＮ，Ｎ’−
（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−アル
キルピリジニウム塩）、例えば、Ｎ，Ｎ’−（ｍ−フェ
ニレン）ビス（３−カルバモイル−１−ドデシルピリジ
ニウム塩）などのＮ，Ｎ’−（ｍ−フェニレン）ビス
（３−カルバモイル−１−アルキルピリジニウム塩）、
例えば、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ブ
チルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミ
ド）ビス（１−ペンチルピリジニウム塩）、４，４’−
（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ヘキシルピリジニウム
塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ヘプ
チルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミ
ド）ビス（１−オクチルピリジニウム塩）、４，４’−
（ｐ−フタルアミド）ビス（１−デシルピリジニウム
塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ドデ
シルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミ
ド）ビス（１−テトラデシルピリジニウム塩）、４，
４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ヘキサデシルピ
リジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス
（１−オクタデシルピリジニウム塩）などの４，４’−
（ｐ−フタルアミド）ビス（１−アルキルピリジニウム
塩）、例えば、３，３’−（ｍ−フタルアミド）ビス
（１−オクタデシルピリジニウム塩）などの３，３’−
（ｍ−フタルアミド）ビス（１−アルキルピリジニウム
塩）、１，４−テトラメチレンビス（４−カルバモイル
−１−ヘキサデシルピリジニウム塩）、１，６−ヘキサ
メチレンビス（３−カルバモイル−１−ドデシルピリジ
ニウム塩）、１，６−オクタメチレンビス（３−カルバ
モイル−１−テトラデシルピリジニウム塩）、３，３’
−（１，３−トリメチレンジカルボニルジアミノ）ビス
（１−ドデシルピリジニウム塩）などの（アルキレンジ
カルボニルジアミノ）ビス（１−アルキルピリジニウム
塩）、例えば、４，４’−（１，８−オクタメチレンジ
オキシ）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）、３，
３’−（１，６−ヘキサメチレンジオキシ）ビス（１−
ヘキサドデシルピリジニウム塩）などの（アルキレンジ
オキシ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例え
ば、４，４’−（１，６−ヘキサメチレンジオキシジカ
ルボニル）ビス（１−オクチルピリジニウム塩）、３，
３’−（１，６−テトラメチレンジオキシジカルボニ
ル）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）などの（アル
キレンジオキシジカルボニル）ビス（１−アルキルピリ
ジニウム塩）、例えば、４，４’−（１，４−テトラメ
チレンジカルボニルジオキシ）ビス（１−オクチルピリ
ジニウム塩）などの（アルキレンジカルボニルジオキ
シ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、
４，４’−（１，８−オクタメチレンジカルボニルジチ
オキシ）ビス（１−オクタデシルピリジニウム塩）など
の（アルキレンジカルボニルジチオキシ）ビス（１−ア
ルキルピリジニウム塩）、例えば、３，３’−（ｐ−フ
タロイルジオキシ）ビス（１−デシルピリジニウム
塩）、３，３’−（ｍ−フタロイルジチオキシ）ビス
（１−デシルピリジニウム塩）などの（フタロイルジチ
オキシ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例え
ば、１−オクチル−１’−（３−ヒドロキシトリメチレ
ン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−オクチル−
１’−（６−ヒドロキシヘキサメチレン）−４，４’−
ジピリジニウム塩、１−オクチル−１’−（８−ヒドロ
キシオクタメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、
１−オクチル−１’−（１０−ヒドロキシデカメチレ
ン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−オクチル−
１’−（１２−ヒドロキシドデカメチレン）−４，４’
−ジピリジニウム塩、１−デシル−１’−（３−ヒドロ
キシトリメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１
−デシル−１’−（６−ヒドロキシヘキサメチレン）−
４，４’−ジピリジニウム塩、１−デシル−１’−（８
−ヒドロキシオクタメチレン）−４，４’−ジピリジニ
ウム塩、１−デシル−１’−（１０−ヒドロキシデカメ
チレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−デシル−
１’−（１２−ヒドロキシドデカメチレン）−４，４’
−ジピリジニウム塩、１−ドデシル−１’−（３−ヒド
ロキシトリメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、
１−ドデシル−１’−（６−ヒドロキシヘキサメチレ
ン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−ドデシル−
１’−（８−ヒドロキシオクタメチレン）−４，４’−
ジピリジニウム塩、１−ドデシル−１’−（１０−ヒド
ロキシデカメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、
１−ドデシル−１’−（１２−ヒドロキシドデカメチレ
ン）−４，４’−ジピリジニウム塩 などの１−アルキ
ル−１’−（１２−ヒドロキシアルキレン）−４，４’
−ジピリジニウム塩などが挙げられる。
【００５７】なお、上記したビス四級アンモニウム塩化
合物のピリジニウム塩としては、上記したＺで示される
アニオンとの塩であれば特に制限されないが、例えば、
ブロマイド（ピリジニウムブロマイド）、アイオダイド
（ピリジニウムアイオダイド）、アセテート（ピリジニ
ウムアセテート）などが挙げられる。
合物のピリジニウム塩としては、上記したＺで示される
アニオンとの塩であれば特に制限されないが、例えば、
ブロマイド（ピリジニウムブロマイド）、アイオダイド
（ピリジニウムアイオダイド）、アセテート（ピリジニ
ウムアセテート）などが挙げられる。
【００５８】これらのうち、好ましくは、Ｎ，Ｎ’−ヘ
キサメチレンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリ
ジニウムブロマイド）（ダイマー３８、イヌイ社製）、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（４−カルバモイル−１
−デシルピリジニウムアセテート）（ダイマー３８Ａ、
イヌイ社製）、４，４’−（テトラメチレンジカルボニ
ルジアミノ）ビス（１−デシルピリジニウムブロマイ
ド）（ダイマー１３６、イヌイ社製）、４，４’−（テ
トラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−デシル
ピリジニウムアセテート）（ダイマー１３６Ａ、イヌイ
社製）が挙げられ、さらに好ましくは、Ｎ，Ｎ’−ヘキ
サメチレンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジ
ニウムブロマイド）（ダイマー３８、イヌイ社製）が挙
げられる。これらビス四級アンモニウム塩化合物は、単
独または２種以上併用してもよい。
キサメチレンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリ
ジニウムブロマイド）（ダイマー３８、イヌイ社製）、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（４−カルバモイル−１
−デシルピリジニウムアセテート）（ダイマー３８Ａ、
イヌイ社製）、４，４’−（テトラメチレンジカルボニ
ルジアミノ）ビス（１−デシルピリジニウムブロマイ
ド）（ダイマー１３６、イヌイ社製）、４，４’−（テ
トラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−デシル
ピリジニウムアセテート）（ダイマー１３６Ａ、イヌイ
社製）が挙げられ、さらに好ましくは、Ｎ，Ｎ’−ヘキ
サメチレンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジ
ニウムブロマイド）（ダイマー３８、イヌイ社製）が挙
げられる。これらビス四級アンモニウム塩化合物は、単
独または２種以上併用してもよい。
【００５９】また、本発明の微生物防除剤では、さら
に、有効成分として、下記一般式（２）で示されるベン
ズイソチアゾリン系化合物を含有していることが好まし
い。
に、有効成分として、下記一般式（２）で示されるベン
ズイソチアゾリン系化合物を含有していることが好まし
い。
【００６０】一般式（２）
【００６１】
【化６】
（式中、Ｒ６は、置換基を有していてもよい炭化水素基
または水素原子を、Ａ環は置換基を有していてもよいベ
ンゼン環を示す。） 一般式（２）の式中、Ｒ６で示される置換基を有してい
てもよい炭化水素基としては、上記したＲ１およびＲ２
で示される置換基を有していてもよい炭化水素基と同様
のものが挙げられ、置換基を有していない炭化水素基が
好ましく、その中でも、アルキル基が好ましい。アルキ
ル基としては、好ましくは、炭素数が１〜４のアルキル
基、より好ましくは、メチル、エチル、プロピル、ｉｓ
ｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−
ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどが挙げられる。
または水素原子を、Ａ環は置換基を有していてもよいベ
ンゼン環を示す。） 一般式（２）の式中、Ｒ６で示される置換基を有してい
てもよい炭化水素基としては、上記したＲ１およびＲ２
で示される置換基を有していてもよい炭化水素基と同様
のものが挙げられ、置換基を有していない炭化水素基が
好ましく、その中でも、アルキル基が好ましい。アルキ
ル基としては、好ましくは、炭素数が１〜４のアルキル
基、より好ましくは、メチル、エチル、プロピル、ｉｓ
ｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−
ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどが挙げられる。
【００６２】また、Ｒ６の好ましい例としては、炭素数
が１〜４のアルキル基および水素原子が挙げられる。
が１〜４のアルキル基および水素原子が挙げられる。
【００６３】Ａ環で示されるベンゼン環の置換基として
は、上記したＲ１およびＲ２で示される置換基を有して
いてもよい炭化水素基の置換基と同様のものが挙げられ
る。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基（例えば、
メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブ
チル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブ
チルなどの炭素数１〜４のアルキル基など）が挙げられ
る。これらの置換基は、同一または相異なって１〜４
個、好ましくは、１または２個置換していてもよい。Ａ
環で示される置換基を有していてもよいベンゼン環の好
ましい態様としては、置換基を有していないベンゼン環
が挙げられる。
は、上記したＲ１およびＲ２で示される置換基を有して
いてもよい炭化水素基の置換基と同様のものが挙げられ
る。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基（例えば、
メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブ
チル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブ
チルなどの炭素数１〜４のアルキル基など）が挙げられ
る。これらの置換基は、同一または相異なって１〜４
個、好ましくは、１または２個置換していてもよい。Ａ
環で示される置換基を有していてもよいベンゼン環の好
ましい態様としては、置換基を有していないベンゼン環
が挙げられる。
【００６４】このようなベンズイソチアゾリン系化合物
は、以下に示す具体的な化合物に準じて公知の方法によ
り製造することができ、その具体例としては、例えば、
１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、Ｎ−ｎ−ブ
チル−１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オンなどが
挙げられる。
は、以下に示す具体的な化合物に準じて公知の方法によ
り製造することができ、その具体例としては、例えば、
１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、Ｎ−ｎ−ブ
チル−１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オンなどが
挙げられる。
【００６５】これらのうち、好ましくは、１，２−ベン
ズイソチアゾリン−３−オンが挙げられる。これらベン
ズイソチアゾリン系化合物は、単独または２種以上併用
してもよい。
ズイソチアゾリン−３−オンが挙げられる。これらベン
ズイソチアゾリン系化合物は、単独または２種以上併用
してもよい。
【００６６】ベンズイソチアゾリン系化合物を含有させ
る割合は、ビス四級アンモニウム塩化合物１重量部に対
して、例えば、０．００５〜１００重量部、好ましく
は、０．０１〜５０重量部である。このような範囲にお
いてベンズイソチアゾリン系化合物を含有させれば、ビ
ス四級アンモニウム塩化合物の安定化をより一層図るこ
とができるとともに、微生物に対する防除効果を相乗的
に発現させることができる。また、ベンズイソチアゾリ
ン系化合物も、後述する溶媒によって安定化されるの
で、微生物に対する相乗的な防除効果を、長期にわたっ
て確保することができる。
る割合は、ビス四級アンモニウム塩化合物１重量部に対
して、例えば、０．００５〜１００重量部、好ましく
は、０．０１〜５０重量部である。このような範囲にお
いてベンズイソチアゾリン系化合物を含有させれば、ビ
ス四級アンモニウム塩化合物の安定化をより一層図るこ
とができるとともに、微生物に対する防除効果を相乗的
に発現させることができる。また、ベンズイソチアゾリ
ン系化合物も、後述する溶媒によって安定化されるの
で、微生物に対する相乗的な防除効果を、長期にわたっ
て確保することができる。
【００６７】より具体的には、ビス四級アンモニウム塩
化合物１重量部に対して、例えば、１，２−ベンズイソ
チアゾリン−３−オンを含有させる割合は、０．０１〜
５０重量部、さらには、０．１〜１０重量部であること
が好ましい。
化合物１重量部に対して、例えば、１，２−ベンズイソ
チアゾリン−３−オンを含有させる割合は、０．０１〜
５０重量部、さらには、０．１〜１０重量部であること
が好ましい。
【００６８】 そして、本発明の微生物防除剤は、上記
した有効成分（つまり、ビス四級アンモニウム塩化合物
の単独成分、または、ビス四級アンモニウム塩化合物お
よびベンズイソチアゾリン系化合物の併用成分）を安定
化させるために、溶媒として、非プロトン性極性溶媒お
よびプロトン性極性溶媒を含有している（ただし、アセ
トニトリル／エタノール／水の混合溶媒を除く）。
した有効成分（つまり、ビス四級アンモニウム塩化合物
の単独成分、または、ビス四級アンモニウム塩化合物お
よびベンズイソチアゾリン系化合物の併用成分）を安定
化させるために、溶媒として、非プロトン性極性溶媒お
よびプロトン性極性溶媒を含有している（ただし、アセ
トニトリル／エタノール／水の混合溶媒を除く）。
【００６９】非プロトン性極性溶媒としては、例えば、
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、２−ピロリドンおよびそ
の塩、Ｎ−メチル−３−ピロリドンなどのピロリドン系
溶媒、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドなどのアミド系溶媒、例えば、ジメチルスルホキ
シドなどのスルホキシド系溶媒、例えば、アセトニトリ
ルなどのニトリル系溶媒などが挙げられる。
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、２−ピロリドンおよびそ
の塩、Ｎ−メチル−３−ピロリドンなどのピロリドン系
溶媒、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドなどのアミド系溶媒、例えば、ジメチルスルホキ
シドなどのスルホキシド系溶媒、例えば、アセトニトリ
ルなどのニトリル系溶媒などが挙げられる。
【００７０】これら非プロトン性極性溶媒のうち、好ま
しくは、ピロリドン系溶媒、さらに好ましくは、Ｎ−メ
チル−２−ピロリドンが挙げられる。これら非プロトン
性極性溶媒は、単独または２種以上併用してもよい。
しくは、ピロリドン系溶媒、さらに好ましくは、Ｎ−メ
チル−２−ピロリドンが挙げられる。これら非プロトン
性極性溶媒は、単独または２種以上併用してもよい。
【００７１】プロトン性極性溶媒としては、例えば、
水、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノー
ル、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ
−ブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノールな
どのアルコール系溶媒、例えば、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロ
ピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４
−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレ
ングリコールモノメチルエーテルなどのグリコール系溶
媒などが挙げられる。
水、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノー
ル、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ
−ブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノールな
どのアルコール系溶媒、例えば、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロ
ピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４
−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレ
ングリコールモノメチルエーテルなどのグリコール系溶
媒などが挙げられる。
【００７２】これらプロトン性極性溶媒のうち、好まし
くは、グリコール系溶媒、さらに好ましくは、ジエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテルが挙げられる。これらプロト
ン性極性溶媒は、単独または２種以上併用してもよい。
くは、グリコール系溶媒、さらに好ましくは、ジエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテルが挙げられる。これらプロト
ン性極性溶媒は、単独または２種以上併用してもよい。
【００７３】また、溶媒において、これら非プロトン性
極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合は、例えば、こ
れら溶媒の合計１００重量部に対して、非プロトン性極
性溶媒が２０〜６０重量部、好ましくは、２５〜５０重
量部、プロトン性極性溶媒が４０〜８０重量部、好まし
くは、５０〜７５重量部である。
極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合は、例えば、こ
れら溶媒の合計１００重量部に対して、非プロトン性極
性溶媒が２０〜６０重量部、好ましくは、２５〜５０重
量部、プロトン性極性溶媒が４０〜８０重量部、好まし
くは、５０〜７５重量部である。
【００７４】非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極
性溶媒の割合が、上記した範囲において、上記した有効
成分の分解を抑制して、上記した有効成分を安定化させ
ることができ、優れた微生物に対する防除効果を長期に
わたって確保することができる。
性溶媒の割合が、上記した範囲において、上記した有効
成分の分解を抑制して、上記した有効成分を安定化させ
ることができ、優れた微生物に対する防除効果を長期に
わたって確保することができる。
【００７５】また、これら溶媒の合計（つまり、非プロ
トン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒の合計）に対
する有効成分の割合は、例えば、これら溶媒の合計１０
０重量部に対して、有効成分（つまり、ビス四級アンモ
ニウム塩化合物、ベンズイソチアゾリン系化合物および
後述する他の防藻剤および／または防かび剤の合計）
が、０．１〜１００重量部、好ましくは、０．５〜７５
重量部である。より具体的には、これら溶媒の合計１０
０重量部に対して、例えば、ビス四級アンモニウム塩化
合物が、０．１〜４０重量部、好ましくは、１〜２５重
量部であり、ベンズイソチアゾリン系化合物が、０．２
〜６０重量部、好ましくは、１〜５０重量部である。
トン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒の合計）に対
する有効成分の割合は、例えば、これら溶媒の合計１０
０重量部に対して、有効成分（つまり、ビス四級アンモ
ニウム塩化合物、ベンズイソチアゾリン系化合物および
後述する他の防藻剤および／または防かび剤の合計）
が、０．１〜１００重量部、好ましくは、０．５〜７５
重量部である。より具体的には、これら溶媒の合計１０
０重量部に対して、例えば、ビス四級アンモニウム塩化
合物が、０．１〜４０重量部、好ましくは、１〜２５重
量部であり、ベンズイソチアゾリン系化合物が、０．２
〜６０重量部、好ましくは、１〜５０重量部である。
【００７６】上記した有効成分（後述する他の防藻剤お
よび／または防かび剤を除く）の割合が、上記した範囲
において、その有効成分の分解を抑制して、有効成分を
安定化させることができ、優れた微生物に対する防除効
果を長期にわたって確保することができる。
よび／または防かび剤を除く）の割合が、上記した範囲
において、その有効成分の分解を抑制して、有効成分を
安定化させることができ、優れた微生物に対する防除効
果を長期にわたって確保することができる。
【００７７】そして、本発明の微生物防除剤は、特に制
限されず、上記した有効成分および溶媒を配合すること
により、調製することができる。
限されず、上記した有効成分および溶媒を配合すること
により、調製することができる。
【００７８】より具体的には、例えば、ビス四級アンモ
ニウム塩化合物、必要によりベンズイソチアゾリン系化
合物を、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶
媒に加えて、混合すればよい。
ニウム塩化合物、必要によりベンズイソチアゾリン系化
合物を、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶
媒に加えて、混合すればよい。
【００７９】このような調製において、各成分を配合す
る順序は、特に制限されず、例えば、予め非プロトン性
極性溶媒およびプロトン性極性溶媒を混合して溶媒を調
製し、その溶媒に、ビス四級アンモニウム塩化合物、必
要によりベンズイソチアゾリン系化合物を混合してもよ
く、また、例えば、非プロトン性極性溶媒およびプロト
ン性極性溶媒を、ビス四級アンモニウム塩化合物、必要
によりベンズイソチアゾリン系化合物と同時に混合して
もよく、さらには、非プロトン性極性溶媒およびプロト
ン性極性溶媒のうち、いずれか一方の溶媒に、ビス四級
アンモニウム塩化合物、必要によりベンズイソチアゾリ
ン系化合物を混合した後、その一方の溶媒に他方の溶媒
を混合してもよい。
る順序は、特に制限されず、例えば、予め非プロトン性
極性溶媒およびプロトン性極性溶媒を混合して溶媒を調
製し、その溶媒に、ビス四級アンモニウム塩化合物、必
要によりベンズイソチアゾリン系化合物を混合してもよ
く、また、例えば、非プロトン性極性溶媒およびプロト
ン性極性溶媒を、ビス四級アンモニウム塩化合物、必要
によりベンズイソチアゾリン系化合物と同時に混合して
もよく、さらには、非プロトン性極性溶媒およびプロト
ン性極性溶媒のうち、いずれか一方の溶媒に、ビス四級
アンモニウム塩化合物、必要によりベンズイソチアゾリ
ン系化合物を混合した後、その一方の溶媒に他方の溶媒
を混合してもよい。
【００８０】また、このような調製においては、本発明
の効果を阻害しない範囲において、溶媒には、例えば、
有効成分を市販品として入手した場合に含まれている他
の有機溶媒などが含まれてもよい。
の効果を阻害しない範囲において、溶媒には、例えば、
有効成分を市販品として入手した場合に含まれている他
の有機溶媒などが含まれてもよい。
【００８１】なお、本発明の微生物防除剤は、通常、上
記した調製により、液剤として製剤化されるが、ビス四
級アンモニウム塩化合物、必要によりベンズイソチアゾ
リン系化合物、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性
極性溶媒を含有すれば、特に制限されることなく、懸濁
剤、ペースト剤、粉剤、粒剤、マイクロカプセルなどの
種々の剤型に製剤化することもできる。また、包接化合
物として調製してもよく、さらに、層状ケイ酸塩などの
モンモリロナイト（スメクタイト類など）などに担持さ
せ、あるいは、クレー、シリカ、ホワイトカーボン、タ
ルクなどに吸着させることにより、製剤化することもで
きる。
記した調製により、液剤として製剤化されるが、ビス四
級アンモニウム塩化合物、必要によりベンズイソチアゾ
リン系化合物、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性
極性溶媒を含有すれば、特に制限されることなく、懸濁
剤、ペースト剤、粉剤、粒剤、マイクロカプセルなどの
種々の剤型に製剤化することもできる。また、包接化合
物として調製してもよく、さらに、層状ケイ酸塩などの
モンモリロナイト（スメクタイト類など）などに担持さ
せ、あるいは、クレー、シリカ、ホワイトカーボン、タ
ルクなどに吸着させることにより、製剤化することもで
きる。
【００８２】また、本発明の微生物防除剤は、その目的
および用途によって、公知の添加剤、例えば、他の防藻
剤および／または防かび剤、界面活性剤、酸化防止剤、
光安定剤などを添加してもよい。
および用途によって、公知の添加剤、例えば、他の防藻
剤および／または防かび剤、界面活性剤、酸化防止剤、
光安定剤などを添加してもよい。
【００８３】他の防藻剤および／または防かび剤として
は、例えば、ニトロアルコール系化合物、ジチオール系
化合物、チオフェン系化合物、ハロアセチレン系化合
物、フタルイミド系化合物、ハロアルキルチオ系化合
物、ピリチオン系化合物、フェニルウレア系化合物、ト
リアジン系化合物、グアニジン系化合物、トリアゾール
系化合物、ベンズイミダゾール系化合物、四級アンモニ
ウム塩系化合物が挙げられる。
は、例えば、ニトロアルコール系化合物、ジチオール系
化合物、チオフェン系化合物、ハロアセチレン系化合
物、フタルイミド系化合物、ハロアルキルチオ系化合
物、ピリチオン系化合物、フェニルウレア系化合物、ト
リアジン系化合物、グアニジン系化合物、トリアゾール
系化合物、ベンズイミダゾール系化合物、四級アンモニ
ウム塩系化合物が挙げられる。
【００８４】ニトロアルコール系化合物としては、例え
ば、２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオー
ル、２，２−ジブロモ−２−ニトロ−１−エタノールな
どが挙げられる。
ば、２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオー
ル、２，２−ジブロモ−２−ニトロ−１−エタノールな
どが挙げられる。
【００８５】ジチオール系化合物としては、例えば、
４，５−ジクロロ−１，２−ジチオール−３−オンがな
ど挙げられる。
４，５−ジクロロ−１，２−ジチオール−３−オンがな
ど挙げられる。
【００８６】チオフェン系化合物としては、例えば、
３，３，４−トリクロロテトラヒドロチオフェン−１，
１−ジオキシド、３，３，４，４−テトラクロロテトラ
ヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドなどが挙げられ
る。
３，３，４−トリクロロテトラヒドロチオフェン−１，
１−ジオキシド、３，３，４，４−テトラクロロテトラ
ヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドなどが挙げられ
る。
【００８７】ハロアセチレン系化合物としては、例え
ば、Ｎ−ブチル−３−ヨードプロピオール酸アミド、３
−ヨード−２−プロピニルブチルカーバメートなどが挙
げられる。
ば、Ｎ−ブチル−３−ヨードプロピオール酸アミド、３
−ヨード−２−プロピニルブチルカーバメートなどが挙
げられる。
【００８８】フタルイミド系化合物としては、例えば、
Ｎ−１，１，２，２−テトラクロロエチルチオ−テトラ
ヒドロフタルイミド（Ｃａｐｔａｆｏｌ）、Ｎ−トリク
ロロメチルチオ−テトラヒドロフタルイミド（Ｃａｐｔ
ａｎ）、Ｎ−ジクロロフルオロメチルチオフタルイミド
（Ｆｌｕｏｒｆｏｌｐｅｔ）、Ｎ−トリクロロメチルチ
オフタルイミド（Ｆｏｌｐｅｔ）などが挙げられる。
Ｎ−１，１，２，２−テトラクロロエチルチオ−テトラ
ヒドロフタルイミド（Ｃａｐｔａｆｏｌ）、Ｎ−トリク
ロロメチルチオ−テトラヒドロフタルイミド（Ｃａｐｔ
ａｎ）、Ｎ−ジクロロフルオロメチルチオフタルイミド
（Ｆｌｕｏｒｆｏｌｐｅｔ）、Ｎ−トリクロロメチルチ
オフタルイミド（Ｆｏｌｐｅｔ）などが挙げられる。
【００８９】ハロアルキルチオ系化合物としては、例え
ば、Ｎ−ジメチルアミノスルホニル−Ｎ−トリル−ジク
ロロフルオロメタンスルファミド（Ｔｏｌｙｌｆｌｕａ
ｎｉｄｅ）、Ｎ−ジメチルアミノスルホニル−Ｎ−フェ
ニル−ジクロロフルオロメタンスルファミド（Ｄｉｃｈ
ｌｏｆｌｕａｎｉｄｅ）などが挙げられる。
ば、Ｎ−ジメチルアミノスルホニル−Ｎ−トリル−ジク
ロロフルオロメタンスルファミド（Ｔｏｌｙｌｆｌｕａ
ｎｉｄｅ）、Ｎ−ジメチルアミノスルホニル−Ｎ−フェ
ニル−ジクロロフルオロメタンスルファミド（Ｄｉｃｈ
ｌｏｆｌｕａｎｉｄｅ）などが挙げられる。
【００９０】ピリチオン系化合物としては、例えば、ナ
トリウムピリチオン、ジンクピリチオンなどが挙げられ
る。
トリウムピリチオン、ジンクピリチオンなどが挙げられ
る。
【００９１】フェニルウレア系化合物としては、例え
ば、３−（３，４−ジクロロフェニル）−１，１−ジメ
チルウレアなどが挙げられる。
ば、３−（３，４−ジクロロフェニル）−１，１−ジメ
チルウレアなどが挙げられる。
【００９２】トリアジン系化合物としては、例えば、２
−メチルチオ−４−ｔ−ブチルアミノ−６−シクロプロ
ピルアミノ−s−トリアジンなどが挙げられる。
−メチルチオ−４−ｔ−ブチルアミノ−６−シクロプロ
ピルアミノ−s−トリアジンなどが挙げられる。
【００９３】グアニジン系化合物としては、例えば、
１，６−ジ−（４’−クロロフェニルジグアニド）−ヘ
キサン、ポリヘキサメチレンビグアニジン塩酸塩などが
挙げられる。
１，６−ジ−（４’−クロロフェニルジグアニド）−ヘ
キサン、ポリヘキサメチレンビグアニジン塩酸塩などが
挙げられる。
【００９４】トリアゾール系化合物としては、例えば、
α−［２−（４−クロロフェニル）エチル］−α−
（１，１−ジメチルエチル）−１Ｈ−１，２，４−トリ
アゾール−１−エタノール（慣用名：テブコナゾー
ル）、１−［［２−（２，４−ジクロロフェニル）−４
−ｎ−プロピル−１，３−ジオキソラン−２−イル］メ
チル］−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール（慣用名：プ
ロピコナゾール）、１−［［２−（２，４−ジクロロフ
ェニル）−１，３−ジオキソラン−２−イル］メチル］
−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール（慣用名：アザコナ
ゾール）、α−（４−クロロフェニル）−α−（１−シ
クロプロピルエチル）−１Ｈ−１，２，４−トリアゾー
ル−１−エタノール（慣用名：シプロコナゾール）など
が挙げられる。
α−［２−（４−クロロフェニル）エチル］−α−
（１，１−ジメチルエチル）−１Ｈ−１，２，４−トリ
アゾール−１−エタノール（慣用名：テブコナゾー
ル）、１−［［２−（２，４−ジクロロフェニル）−４
−ｎ−プロピル−１，３−ジオキソラン−２−イル］メ
チル］−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール（慣用名：プ
ロピコナゾール）、１−［［２−（２，４−ジクロロフ
ェニル）−１，３−ジオキソラン−２−イル］メチル］
−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール（慣用名：アザコナ
ゾール）、α−（４−クロロフェニル）−α−（１−シ
クロプロピルエチル）−１Ｈ−１，２，４−トリアゾー
ル−１−エタノール（慣用名：シプロコナゾール）など
が挙げられる。
【００９５】ベンズイミダゾール系化合物としては、例
えば、メチル ２−ベンズイミダゾールカルバメート、
エチル ２−ベンズイミダゾールカルバメート、２−
（４−チアゾリル）ベンズイミダゾールなどが挙げられ
る。
えば、メチル ２−ベンズイミダゾールカルバメート、
エチル ２−ベンズイミダゾールカルバメート、２−
（４−チアゾリル）ベンズイミダゾールなどが挙げられ
る。
【００９６】四級アンモニウム塩系化合物としては、ヘ
キサデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、ヘキサ
デシルトリメチルアンモニウムクロライド、塩化ベンザ
ルコニウム、ジ−ｎ−デシル−ジメチルアンモニウムク
ロライド、１−ヘキサデシルピリジニウムクロライドな
どが挙げられる。
キサデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、ヘキサ
デシルトリメチルアンモニウムクロライド、塩化ベンザ
ルコニウム、ジ−ｎ−デシル−ジメチルアンモニウムク
ロライド、１−ヘキサデシルピリジニウムクロライドな
どが挙げられる。
【００９７】また、他の防藻剤および／または防かび剤
として、その他に、例えば、ジヨードメチル−ｐ−トル
イルスルホン、ｐ−クロロフェニル−３−ヨードプロパ
ルギルフォルマールなどの有機ヨウ素系化合物、例え
ば、テトラメチルチウラムジスルフィドなどのチオカー
バメート系化合物、例えば、２，４，５，６−テトラク
ロロイソフタロニトリルなどのニトリル系化合物、例え
ば、２，３，５，６−テトラクロロ−４−（メチルスル
フォニル）ピリジンなどのピリジン系化合物、例えば、
２−（４−チオシアノメチルチオ）ベンゾチアゾールな
どのベンゾチアゾール系化合物、例えば、３−ベンゾ
［ｂ］チエン−２−イル−５，６−ジヒドロ−１，４，
２−オキサチアジン−４−オキサイドなどのオキサチア
ジン系化合物などが挙げられる。
として、その他に、例えば、ジヨードメチル−ｐ−トル
イルスルホン、ｐ−クロロフェニル−３−ヨードプロパ
ルギルフォルマールなどの有機ヨウ素系化合物、例え
ば、テトラメチルチウラムジスルフィドなどのチオカー
バメート系化合物、例えば、２，４，５，６−テトラク
ロロイソフタロニトリルなどのニトリル系化合物、例え
ば、２，３，５，６−テトラクロロ−４−（メチルスル
フォニル）ピリジンなどのピリジン系化合物、例えば、
２−（４−チオシアノメチルチオ）ベンゾチアゾールな
どのベンゾチアゾール系化合物、例えば、３−ベンゾ
［ｂ］チエン−２−イル−５，６−ジヒドロ−１，４，
２−オキサチアジン−４−オキサイドなどのオキサチア
ジン系化合物などが挙げられる。
【００９８】これらの他の防藻剤および／または防かび
剤は、単独または２種以上併用してもよい。また、他の
防藻剤および／または防かび剤の配合割合は、その目的
および用途によって適宜決定されるが、例えば、ビス四
級アンモニウム塩化合物１００重量部に対して、１〜９
０００重量部、好ましくは、３〜８０００重量部であ
る。
剤は、単独または２種以上併用してもよい。また、他の
防藻剤および／または防かび剤の配合割合は、その目的
および用途によって適宜決定されるが、例えば、ビス四
級アンモニウム塩化合物１００重量部に対して、１〜９
０００重量部、好ましくは、３〜８０００重量部であ
る。
【００９９】また、界面活性剤としては、例えば、石鹸
類、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カ
チオン系界面活性剤、両イオン界面活性剤、高分子界面
活性剤など、公知の界面活性剤が挙げられ、好ましく
は、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤が挙
げられる。
類、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カ
チオン系界面活性剤、両イオン界面活性剤、高分子界面
活性剤など、公知の界面活性剤が挙げられ、好ましく
は、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤が挙
げられる。
【０１００】また、酸化防止剤としては、例えば、２，
６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２’
−メチレンビス［４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル］などのフェノール系酸化防止剤、例えば、アルキル
ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓ−ブチル−ｐ−フ
ェニレンジアミンなどのアミン系酸化防止剤などが挙げ
られる。
６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２’
−メチレンビス［４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル］などのフェノール系酸化防止剤、例えば、アルキル
ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓ−ブチル−ｐ−フ
ェニレンジアミンなどのアミン系酸化防止剤などが挙げ
られる。
【０１０１】これら、界面活性剤および酸化防止剤は、
例えば、液剤の場合には、液剤１００重量部に対して
０．１〜５重量部添加される。
例えば、液剤の場合には、液剤１００重量部に対して
０．１〜５重量部添加される。
【０１０２】また、光安定剤としては、例えば、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケートなどのヒンダードアミン系光安定剤などが挙げ
られる。
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケートなどのヒンダードアミン系光安定剤などが挙げ
られる。
【０１０３】このような光安定剤は、例えば、液剤の場
合には、液剤１００重量部に対して０．１〜１０重量部
添加される。
合には、液剤１００重量部に対して０．１〜１０重量部
添加される。
【０１０４】このようにして得られる本発明の微生物防
除剤は、優れた、抗菌、防かび、防腐、防藻作用などを
発現し、細菌、かび、酵母、藻などに対する防除剤とし
て用いることができ、しかも、非プロトン性極性溶媒と
プロトン性極性溶媒とが、非プロトン性極性溶媒２０〜
６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量
部の割合で含有されているので、ビス四級アンモニウム
塩化合物の安定化を図ることができる。その結果、ビス
四級アンモニウム塩化合物の製剤中における経時的な分
解を抑制することができ、優れた微生物に対する防除効
果を長期にわたって確保することができる。
除剤は、優れた、抗菌、防かび、防腐、防藻作用などを
発現し、細菌、かび、酵母、藻などに対する防除剤とし
て用いることができ、しかも、非プロトン性極性溶媒と
プロトン性極性溶媒とが、非プロトン性極性溶媒２０〜
６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量
部の割合で含有されているので、ビス四級アンモニウム
塩化合物の安定化を図ることができる。その結果、ビス
四級アンモニウム塩化合物の製剤中における経時的な分
解を抑制することができ、優れた微生物に対する防除効
果を長期にわたって確保することができる。
【０１０５】そのため、本発明の微生物防除剤は、例え
ば、製紙パルプ工場、冷却水循環工程などの種々の産業
用水や、切削油などの金属加工用油剤、カゼイン、澱粉
糊、にかわ、塗工紙、紙用塗工液、表面サイズ剤、塗
料、接着剤、合成ゴムラテックス、インキ、ポリビニル
アルコールフィルム、塩化ビニルフィルム、樹脂製品、
セメント混和剤、シーリング剤、目地剤などの各種工業
製品などの有害微生物の防除の用途において有効に用い
ることができる。
ば、製紙パルプ工場、冷却水循環工程などの種々の産業
用水や、切削油などの金属加工用油剤、カゼイン、澱粉
糊、にかわ、塗工紙、紙用塗工液、表面サイズ剤、塗
料、接着剤、合成ゴムラテックス、インキ、ポリビニル
アルコールフィルム、塩化ビニルフィルム、樹脂製品、
セメント混和剤、シーリング剤、目地剤などの各種工業
製品などの有害微生物の防除の用途において有効に用い
ることができる。
【０１０６】より具体的には、例えば、製紙パルプ工場
などのスライムコントロール剤、金属加工用油剤の防腐
剤、塗料の防腐防かび剤、樹脂エマルションの防腐防か
び剤、セメント混和剤の防腐剤、インキの防腐防かび
剤、湿し水の防腐防かび剤、セメント減水剤の防腐防か
び剤、植物の延命剤などの工業用の有害微生物防除剤と
して好適に用いられる。
などのスライムコントロール剤、金属加工用油剤の防腐
剤、塗料の防腐防かび剤、樹脂エマルションの防腐防か
び剤、セメント混和剤の防腐剤、インキの防腐防かび
剤、湿し水の防腐防かび剤、セメント減水剤の防腐防か
び剤、植物の延命剤などの工業用の有害微生物防除剤と
して好適に用いられる。
【０１０７】なお、本発明の微生物防除剤は、その適用
対象に応じて添加量を適宜決定すればよいが、例えば、
１〜１０００ｍｇ（全有効成分）／ｋｇ（製品）、好ま
しくは、５〜５００ｍｇ（全有効成分）／ｋｇ（製品）
の濃度として用いることができる。
対象に応じて添加量を適宜決定すればよいが、例えば、
１〜１０００ｍｇ（全有効成分）／ｋｇ（製品）、好ま
しくは、５〜５００ｍｇ（全有効成分）／ｋｇ（製品）
の濃度として用いることができる。
【０１０８】また、本発明の微生物防除剤は、ｐＨが、
３〜１３、好ましくは、４〜１２の適用対象に用いるこ
とができ、さらには、例えば、ＳＯ２ ２−、Ｓ
Ｏ３ ２−、ＨＳＯ２ −、ＨＳＯ３ −、Ｓ２Ｏ３ ２−、好
ましくは、ＳＯ３ ２−、ＨＳＯ３ −、Ｓ２Ｏ３ ２−など
の還元剤の存在下においても、その効力を有効に発現す
ることができる。なお、この場合の還元剤の濃度は、例
えば、製品中１〜１００００ｐｐｍであることが好まし
い。
３〜１３、好ましくは、４〜１２の適用対象に用いるこ
とができ、さらには、例えば、ＳＯ２ ２−、Ｓ
Ｏ３ ２−、ＨＳＯ２ −、ＨＳＯ３ −、Ｓ２Ｏ３ ２−、好
ましくは、ＳＯ３ ２−、ＨＳＯ３ −、Ｓ２Ｏ３ ２−など
の還元剤の存在下においても、その効力を有効に発現す
ることができる。なお、この場合の還元剤の濃度は、例
えば、製品中１〜１００００ｐｐｍであることが好まし
い。
【０１０９】
【実施例】以下に実施例を挙げ、本発明をより具体的に
説明する。なお、以下の実施例に用いる有効成分の略号
を下記に示す。
説明する。なお、以下の実施例に用いる有効成分の略号
を下記に示す。
【０１１０】ＨＭＤＰ−Ｂｒ：Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレ
ンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウムブ
ロマイド） ＨＭＤＰ−Ａｃ：Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（４−
カルバモイル−１−デシルピリジニウムアセテート） ＢＩＴ：１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン 実施例１ ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社
製）３．０ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４０．０
ｇおよびプロピレングリコール５７．０ｇに混合し、室
温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得
た。
ンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウムブ
ロマイド） ＨＭＤＰ−Ａｃ：Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（４−
カルバモイル−１−デシルピリジニウムアセテート） ＢＩＴ：１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン 実施例１ ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社
製）３．０ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４０．０
ｇおよびプロピレングリコール５７．０ｇに混合し、室
温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得
た。
【０１１１】実施例２
ダイマー３８Ａ（ＨＭＤＰ−Ａｃ：１０重量％プロピレ
ングリコール溶液、イヌイ社製）３０．０ｇを、Ｎ−メ
チル−２−ピロリドン４０．０ｇおよびプロピレングリ
コール３０．０ｇに混合し、室温で撹拌して溶解するこ
とにより、１００ｇの液剤を得た。
ングリコール溶液、イヌイ社製）３０．０ｇを、Ｎ−メ
チル−２−ピロリドン４０．０ｇおよびプロピレングリ
コール３０．０ｇに混合し、室温で撹拌して溶解するこ
とにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１２】実施例３
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社
製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩ
Ｔ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン３７．１ｇおよびプロピレング
リコール５５．７ｇに混合し、室温で撹拌して溶解する
ことにより、１００ｇの液剤を得た。
製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩ
Ｔ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン３７．１ｇおよびプロピレング
リコール５５．７ｇに混合し、室温で撹拌して溶解する
ことにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１３】実施例４
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社
製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩ
Ｔ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン２３．２ｇおよびプロピレング
リコール６９．６ｇに混合し、室温で撹拌して溶解する
ことにより、１００ｇの液剤を得た。
製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩ
Ｔ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン２３．２ｇおよびプロピレング
リコール６９．６ｇに混合し、室温で撹拌して溶解する
ことにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１４】実施例５
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社
製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩ
Ｔ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン５１．０ｇおよびプロピレング
リコール４１．８ｇに混合し、室温で撹拌して溶解する
ことにより、１００ｇの液剤を得た。
製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩ
Ｔ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン５１．０ｇおよびプロピレング
リコール４１．８ｇに混合し、室温で撹拌して溶解する
ことにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１５】実施例６
ダイマー３８Ａ（ＨＭＤＰ−Ａｃ：１０重量％プロピレ
ングリコール溶液、イヌイ社製）３０．０ｇおよびプロ
クセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、ア
ビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
３７．１ｇおよびプロピレングリコール２８．７ｇに混
合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの
液剤を得た。
ングリコール溶液、イヌイ社製）３０．０ｇおよびプロ
クセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、ア
ビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
３７．１ｇおよびプロピレングリコール２８．７ｇに混
合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの
液剤を得た。
【０１１６】実施例７
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社
製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩ
Ｔ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン４６．４ｇおよびジエチレング
リコール４６．４ｇに混合し、室温で撹拌して溶解する
ことにより、１００ｇの液剤を得た。
製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩ
Ｔ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン４６．４ｇおよびジエチレング
リコール４６．４ｇに混合し、室温で撹拌して溶解する
ことにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１７】比較例１
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社
製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩ
Ｔ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン９２．８に混合し、室温で撹拌
して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩ
Ｔ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン９２．８に混合し、室温で撹拌
して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１８】比較例２
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社
製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩ
Ｔ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、プロ
ピレングリコール９２．８に混合し、室温で撹拌して溶
解することにより、１００ｇの液剤を得た。
製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩ
Ｔ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、プロ
ピレングリコール９２．８に混合し、室温で撹拌して溶
解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１９】比較例３
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社
製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩ
Ｔ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン１３．９ｇおよびプロピレング
リコール７８．９ｇに混合し、室温で撹拌して溶解する
ことにより、１００ｇの液剤を得た。
製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩ
Ｔ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン１３．９ｇおよびプロピレング
リコール７８．９ｇに混合し、室温で撹拌して溶解する
ことにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１２０】比較例４
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社
製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩ
Ｔ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン７０．０ｇおよびプロピレング
リコール２２．８ｇに混合し、室温で撹拌して溶解する
ことにより、１００ｇの液剤を得た。
製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩ
Ｔ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−
メチル−２−ピロリドン７０．０ｇおよびプロピレング
リコール２２．８ｇに混合し、室温で撹拌して溶解する
ことにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１２１】安定性試験
上記で得られた各実施例および各比較例を、６０℃で４
週間密封後、液剤中の各有効成分の残存率％［（残存し
た有効成分の含有量／初期の有効成分の含有量）×１０
０］を液体クロマトグラフィーにて測定した。その結果
を表１に示す。
週間密封後、液剤中の各有効成分の残存率％［（残存し
た有効成分の含有量／初期の有効成分の含有量）×１０
０］を液体クロマトグラフィーにて測定した。その結果
を表１に示す。
【０１２２】
【表１】
最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）
実施例３および比較例４について、ｐＨ９に調整された
グルコース−ブイヨン寒天培地を用いた倍数希釈法で、
表２に示す供試菌を用い、細菌は３３℃で１８時間培
養、かびおよび酵母は２８℃で３日間培養し、最小発育
阻止濃度（ＭＩＣ：μｇ／ｍＬ）を求めた。その結果を
表２に示す。
グルコース−ブイヨン寒天培地を用いた倍数希釈法で、
表２に示す供試菌を用い、細菌は３３℃で１８時間培
養、かびおよび酵母は２８℃で３日間培養し、最小発育
阻止濃度（ＭＩＣ：μｇ／ｍＬ）を求めた。その結果を
表２に示す。
【０１２３】
【表２】
【発明の効果】以上述べたように、本発明のビス四級ア
ンモニウム塩化合物の安定化方法では、ビス四級アンモ
ニウム塩化合物に、非プロトン性極性溶媒とプロトン性
極性溶媒とを、その割合が、非プロトン性極性溶媒２０
〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重
量部となるように配合することにより、ビス四級アンモ
ニウム塩化合物を安定化させることができる。
ンモニウム塩化合物の安定化方法では、ビス四級アンモ
ニウム塩化合物に、非プロトン性極性溶媒とプロトン性
極性溶媒とを、その割合が、非プロトン性極性溶媒２０
〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重
量部となるように配合することにより、ビス四級アンモ
ニウム塩化合物を安定化させることができる。
【０１２４】そのため、このようにして安定化されたビ
ス四級アンモニウム塩化合物を有効成分として含む本発
明の微生物防除剤は、優れた、抗菌、防かび、防腐、防
藻作用などを発現し、細菌、かび、酵母、藻などに対す
る防除剤として用いることができ、しかも、非プロトン
性極性溶媒２０〜６０重量部およびプロトン性極性溶媒
４０〜８０重量部の配合により、ビス四級アンモニウム
塩化合物の安定化を図ることができる。その結果、ビス
四級アンモニウム塩化合物の製剤中における経時的な分
解を抑制することができ、優れた微生物に対する防除効
果を長期にわたって確保することができる。
ス四級アンモニウム塩化合物を有効成分として含む本発
明の微生物防除剤は、優れた、抗菌、防かび、防腐、防
藻作用などを発現し、細菌、かび、酵母、藻などに対す
る防除剤として用いることができ、しかも、非プロトン
性極性溶媒２０〜６０重量部およびプロトン性極性溶媒
４０〜８０重量部の配合により、ビス四級アンモニウム
塩化合物の安定化を図ることができる。その結果、ビス
四級アンモニウム塩化合物の製剤中における経時的な分
解を抑制することができ、優れた微生物に対する防除効
果を長期にわたって確保することができる。
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(56)参考文献 特開2001−226354（ＪＰ，Ａ)
特開2002−284765（ＪＰ，Ａ)
特開2000−136185（ＪＰ，Ａ)
特開2000−95763（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−287566（ＪＰ，Ａ)
特開 平10−95773（ＪＰ，Ａ)
特開2002−47118（ＪＰ，Ａ)
特開2001−107082（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
A01N 33/12
A01N 43/40
A01N 25/02
A01N 25/22
C07D 213/00 - 213/90
Claims (7)
- 【請求項１】 ビス四級アンモニウム塩化合物と、ピロ
リドン系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ニ
トリル系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の
非プロトン性極性溶媒と、水、アルコール系溶媒、グリ
コール系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の
プロトン性極性溶媒とを含有し（ただし、アセトニトリ
ル／エタノール／水の混合溶媒を除く。）、 非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合
が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプ
ロトン性極性溶媒４０〜８０重量部であることを特徴と
する、微生物防除剤。 - 【請求項２】 ビス四級アンモニウム塩化合物が、下記
一般式（１）で示されることを特徴とする、請求項１に
記載の微生物防除剤。 一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ１およびＲ２は、同一または相異なって、置
換基を有していてもよい炭化水素基を、Ｒ３およびＲ４
は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい
炭化水素基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、
ヒドロキシル基、アミノ基または水素原子を、Ｒ５は、
置換基を有していてもよい炭化水素基または炭素−炭素
間単結合を、Ｙ１は、−ＮＲｎＣＯ−、−ＣＯＮＲｎ
−、−ＮＲｎＣＳ−（前記Ｒｎは、置換基を有していて
もよい炭化水素基または水素原子を示す。）、−ＣＯＯ
−、−ＣＯＳ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単
結合を、Ｙ２は、−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＯ−、−
ＣＳＮＲｎ−（前記Ｒｎは、置換基を有していてもよい
炭化水素基または水素原子を示す。）、−ＯＯＣ−、−
ＳＯＣ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合
を、Ｚはアニオンを、ａは１または２の整数を示す。） - 【請求項３】 一般式（１）において、Ｚが無機アニオ
ンであることを特徴とする、請求項２に記載の微生物防
除剤。 - 【請求項４】 非プロトン性極性溶媒が、ピロリドン系
溶媒であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか
に記載の微生物防除剤。 - 【請求項５】 プロトン性極性溶媒が、グリコール系溶
媒であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに
記載の微生物防除剤。 - 【請求項６】 さらに、下記一般式（２）で示されるベ
ンズイソチアゾリン系化合物を含有することを特徴とす
る、請求項１〜５のいずれかに記載の微生物防除剤。 一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ６は、置換基を有していてもよい炭化水素基
または水素原子を、Ａ環は置換基を有していてもよいベ
ンゼン環を示す。） - 【請求項７】 ビス四級アンモニウム塩化合物と、ピロ
リドン系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ニ
トリル系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の
非プロトン性極性溶媒と、水、アルコール系溶媒、グリ
コール系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の
プロトン性極性溶媒と（ただし、アセトニトリル／エタ
ノール／水の混合溶媒を除く。）を、非プロトン性極性
溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極
性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４
０〜８０重量部となるように配合することを特徴とす
る、ビス四級アンモニウム塩化合物の安定化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002377913A JP3502629B1 (ja) | 2002-12-26 | 2002-12-26 | 微生物防除剤および安定化方法 |
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|---|---|---|---|
| JP2002377913A JP3502629B1 (ja) | 2002-12-26 | 2002-12-26 | 微生物防除剤および安定化方法 |
Publications (2)
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|---|---|
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|---|---|---|---|
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