JP2004203843A - 微生物防除剤および安定化方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合物を安定化させ、優れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保することのできる、微生物防除剤、および、その微生物防除剤の有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合物の安定化方法を提供すること。
【解決手段】微生物防除剤の有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合物に、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部およびプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部を配合して、ビス四級アンモニウム塩化合物を安定化させる。これによって、ビス四級アンモニウム塩化合物の製剤中における経時的な分解を抑制することができ、優れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保することができる。
【選択図】 なし
【解決手段】微生物防除剤の有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合物に、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部およびプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部を配合して、ビス四級アンモニウム塩化合物を安定化させる。これによって、ビス四級アンモニウム塩化合物の製剤中における経時的な分解を抑制することができ、優れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保することができる。
【選択図】 なし
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、微生物防除剤および安定化方法、詳しくは、細菌、かび、酵母、藻の防除剤として用いられる微生物防除剤、および、その微生物防除剤の有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合物の安定化方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、各種の工業製品には、細菌、かび、酵母、藻などの有害な微生物が繁殖しやすく、生産性や品質の低下、悪臭の発生などの原因となっている。そのため、このような有害微生物の繁殖を防除するために、抗菌、防かび、防腐、防藻効果を発現する種々の微生物防除剤が広く使用されている。
【０００３】
また、このような微生物防除剤の有効成分として、近年、ビス四級アンモニウム塩化合物が広い抗菌スペクトルを有し、優れた防除効果を発現することが、報告されている（例えば、特許文献１〜８参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平９−１１０６９２号公報
【特許文献２】
特開平１０−９５７７３号公報
【特許文献３】
特開平１０−２８７５６６号公報
【特許文献４】
特開２０００−９５７６３号公報
【特許文献５】
特開２０００−１３６１８５号公報
【特許文献６】
特開２０００−１９８８７９号公報
【特許文献７】
特開２０００−１５９６０７号公報
【特許文献８】
特開２００１−３１０１９１号公報
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記したビス四級アンモニウム塩化合物、とりわけ、ビス四級アンモニウムの無機塩の化合物は、製剤中において、経時的に分解を生じて有効成分濃度が減少し、その結果、微生物に対する防除効果が経時的に減少するという不具合がある。
【０００５】
そこで、本発明は、このような不具合に鑑みなされたもので、その目的とするところは、有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合物を安定化させ、優れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保することのできる、微生物防除剤、および、その微生物防除剤の有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合物の安定化方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明者らは、ビス四級アンモニウム塩化合物を安定化させるために鋭意検討したところ、ビス四級アンモニウム塩化合物に、特定の割合で非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒を配合することにより、ビス四級アンモニウム塩化合物の分解を抑制して安定化させることができる知見を見い出し、さらに研究を進めた結果、本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明は、
（１） ビス四級アンモニウム塩化合物と、非プロトン性極性溶媒と、プロトン性極性溶媒とを含有し、非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部であることを特徴とする、微生物防除剤、
（２） ビス四級アンモニウム塩化合物が、下記一般式（１）で示されることを特徴とする、前記（１）に記載の微生物防除剤、
一般式（１）
【０００８】
【化３】
（式中、Ｒ１およびＲ２は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を、Ｒ３およびＲ４は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基または水素原子を、Ｒ５は、置換基を有していてもよい炭化水素基または炭素−炭素間単結合を、Ｙ１は、−ＮＲｎＣＯ−、−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＳ−（前記Ｒｎは、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を示す。）、−ＣＯＯ−、−ＣＯＳ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合を、Ｙ２は、−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＯ−、−ＣＳＮＲｎ−（前記Ｒｎは、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を示す。）、−ＯＯＣ−、−ＳＯＣ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合を、Ｚはアニオンを、ａは１または２の整数を示す。）
（３） 一般式（１）において、Ｚが無機アニオンであることを特徴とする、前記（２）に記載の微生物防除剤、
（４） 非プロトン性極性溶媒が、ピロリドン系溶媒であることを特徴とする、前記（１）〜（３）のいずれかに記載の微生物防除剤、
（５） プロトン性極性溶媒が、グリコール系溶媒であることを特徴とする、前記（１）〜（４）のいずれかに記載の微生物防除剤。
【０００９】
（６） さらに、下記一般式（２）で示されるベンズイソチアゾリン系化合物を含有することを特徴とする、前記（１）〜（５）のいずれかに記載の微生物防除剤、
一般式（２）
【００１０】
【化４】
（式中、Ｒ６は、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を、Ａ環は置換基を有していてもよいベンゼン環を示す。）
（７） ビス四級アンモニウム塩化合物と、非プロトン性極性溶媒と、プロトン性極性溶媒とを、非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部となるように配合することを特徴とする、ビス四級アンモニウム塩化合物の安定化方法
を提供するものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の微生物防除剤は、有効成分として、ビス四級アンモニウム塩化合物を含有している。
【００１２】
本発明に用いられるビス四級アンモニウム塩化合物は、例えば、下記一般式（１）で示される。
【００１３】
一般式（１）
【００１４】
【化５】
（式中、Ｒ１およびＲ２は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を、Ｒ３およびＲ４は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基または水素原子を、Ｒ５は、置換基を有していてもよい炭化水素基または炭素−炭素間単結合を、Ｙ１は、−ＮＲｎＣＯ−、−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＳ−（前記Ｒｎは、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を示す。）、−ＣＯＯ−、−ＣＯＳ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合を、Ｙ２は、−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＯ−、−ＣＳＮＲｎ−（前記Ｒｎは、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を示す。）、−ＯＯＣ−、−ＳＯＣ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合を、Ｚはアニオンを、ａは１または２の整数を示す。）
一般式（１）の式中、Ｒ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基およびアラルキル基などが挙げられる。
【００１５】
アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デシル、イソデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素数１〜１８のアルキル基が挙げられる。
【００１６】
アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、メタリル、イソプロペニル、１−プロペニル、２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプチニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニルなどの炭素数２〜１８のアルケニル基が挙げられる。
【００１７】
アルキニル基としては、例えば、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、ブチニル、ペンチニル、オクテニルなどの炭素数２〜８のアルキニル基が挙げられる。
【００１８】
シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどの炭素数３〜８のシクロアルキル基が挙げられる。
【００１９】
アリール基としては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、ビフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、アズレニルなどの炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。
【００２０】
アラルキル基としては、例えば、ベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、ジフェニルメチル、ｏ、ｍまたはｐ−メチルベンジル、ｏ、ｍまたはｐ−エチルベンジル、ｏ、ｍまたはｐ−イソプロピルベンジル、ｏ、ｍまたはｐ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、２，３−、２，４−、２，５−、２，６−、３，４−または３，５−ジメチルベンジル、２，３，４−、３，４，５−または２，４，６−トリメチルベンジル、５−イソプロピル−２−メチルベンジル、２−イソプロピル−５−メチルベンジル、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、２，４−、２，５−または３，５−ジイソプロピルベンジル、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、１−（２−メチルフェニル）エチル、１−（３−メチルフェニル）エチル、１−（４−メチルフェニル）エチル、１−（２−イソプロピルフェニル）エチル、１−（３−イソプロピルフェニル）エチル、１−（４−イソプロピルフェニル）エチル、１−（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エチル、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エチル、１−（２−イソプロピル−４−メチルフェニル）エチル、１−（４−イソプロピル−２−メチルフェニル）エチル、１−（２，４−ジメチルフェニル）エチル、１−（２，５−ジメチルフェニル）エチル、１−（３，５−ジメチルフェニル）エチル、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エチルなどの炭素数７〜１６のアラルキル基が挙げられる。
【００２１】
Ｒ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基としては、例えば、ヒドロキシル基、ハロゲン原子（例えば、塩素、フッ素、臭素およびヨウ素など）、シアノ基、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどの炭素数１〜６のアルコキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなどの炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基など）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオなどの炭素数１〜４のアルキルチオ基など）およびアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基など）などが挙げられる。これらの置換基は同一または相異なって１〜５個、好ましくは１〜３個置換していてもよい。
【００２２】
上記したＲ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基としては、置換基を有していない炭化水素基、または、ヒドロキシル基を有する炭化水素基が好ましく、その中でも、アルキル基またはヒドロキシアルキル基が好ましい。
【００２３】
アルキル基としては、好ましくは、炭素数が１〜１８のアルキル基、より好ましくは、炭素数が７以上である、ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デシル、イソデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素数７〜１８のアルキル基が挙げられる。
【００２４】
ヒドロキシアルキル基としては、好ましくは、炭素数が１〜１８のヒドロキシアルキル基、より好ましくは、炭素数が３〜１２である、ヒドロキシトリメチレン、ヒドロキシテトラメチレン、ヒドロキシペンタメチレン、ヒドロキシヘキサメチレン、ヒドロキシヘプタメチレン、ヒドロキシオクタメチレン、ヒドロキシノナメチレン、ヒドロキシデカメチレン、ヒドロキシドデカメチレンなどの炭素数３〜１２のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
【００２５】
Ｒ１およびＲ２は、同一または相異なって、ともに炭素数１〜１８のアルキル基であるか、一方が炭素数１〜１８のアルキル基で、他方が炭素数３〜１２のヒドロキシアルキル基であることが好ましい。
【００２６】
一般式（１）の式中、Ｒ３およびＲ４で示される置換基を有していてもよい炭化水素基としては、Ｒ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基と同様のものが挙げられ、好ましくは、アルキル基、より好ましくは、例えば、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ヘキシルなどの炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。
【００２７】
また、Ｒ３およびＲ４で示される置換基を有していてもよいアルコキシ基のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシなどの炭素数１〜８のアルコキシ基が挙げられる。
【００２８】
また、Ｒ３およびＲ４で示される置換基を有していてもよいアルコキシ基の置換基としては、Ｒ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基と同様のものが挙げられる。
【００２９】
上記したＲ３およびＲ４で示される置換基を有していてもよいアルコキシ基としては、置換基を有していないアルコキシ基が好ましく、その中でも、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシなどの炭素数１〜３のアルコキシ基が挙げられる。
【００３０】
Ｒ３およびＲ４は、同一または相異なって、それぞれ炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基または水素原子であることが好ましく、その中でも、ともに水素原子であることが好ましい。
【００３１】
一般式（１）の式中、Ｒ５で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の炭化水素基としては、好ましくは、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリレン基などの２価の炭化水素基が挙げられる。
【００３２】
アルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ｉｓｏ−プロピレン、ブチレン、ｉｓｏ−ブチレン、ｓｅｃ−ブチレン、ペンチレン、ｉｓｏ−ペンチレン、ｓｅｃ−ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、２−エチルヘキシレン、ノニレン、デシレン、イソデシレン、ドデシレン、テトラデシレン、ヘキサデシレン、オクタデシレンなどの炭素数１〜１８のアルキレン基が挙げられる。
【００３３】
アルケニレン基としては、例えば、ビニレン、プロペニレン、ブテニレン、ブタジエニレン、オクテニレン、デセニレン、ウンデセニレン、ドデセニレン、テトラデセニレン、ヘキサデセニレン、オクタデセニレンなどの炭素数２〜１８のアルケニレン基が挙げられる。
【００３４】
アルキニレン基としては、例えば、エチニレン、プロピニレン、ブチニレン、ペンチニレン、オクテニレンなどの炭素数２〜８のアルキニレン基が挙げられる。
【００３５】
シクロアルキレン基としては、例えば、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレンなどの炭素数３〜８のシクロアルキレン基が挙げられる。
【００３６】
アリレン基としては、例えば、フェニレン、トリレン、キシリレン、ナフチレンなどの炭素数６〜１０のアリレン基が挙げられ、好ましくは、フェニレンおよびキシリレンが挙げられる。
【００３７】
また、Ｒ５で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基としては、Ｒ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基と同様のものが挙げられ、好ましくは、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどの炭素数１〜６のアルコキシ基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなどの炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基などが挙げられる。
【００３８】
Ｒ５で示される置換基を有していてもよい炭化水素基として、好ましくは、炭素数２〜１８のアルキレン基、フェニレン基、キシリレン基または炭素−炭素間単結合が挙げられる。
【００３９】
また、一般式（１）の式中、Ｙ１で示される−ＮＲｎＣＯ−、−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＳ−、および、Ｙ２で示される−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＯ−、−ＣＳＮＲｎ−のＲｎとしては、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子が挙げられ、置換基を有していてもよい炭化水素基としては、Ｒ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基と同様のものが挙げられる。好ましくは、アルキル基または水素原子が挙げられ、アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシルなどの炭素数１〜８のアルキル基が挙げられる。
【００４０】
一般式（１）の式中、Ｙ１として、好ましくは、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合が挙げられ、また、Ｙ２として、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＯＯＣ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合が挙げられる。
【００４１】
一般式（１）の式中、Ｚで示されるアニオンとしては、例えば、無機アニオン、有機アニオンが挙げられる。
【００４２】
無機アニオンとしては、例えば、ハロゲンイオン（例えば、Ｆ-、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-など）、ヨウ素酸イオン（ＩＯ３-）、臭素酸イオン（ＢｒＯ３-）、塩素酸イオン（ＣｌＯ３-）、過ヨウ素酸イオン（ＩＯ４-）、過塩素酸イオン（ＣｌＯ４-）、硫酸イオン（ＳＯ４ ２-）、硝酸イオン（ＮＯ３-）、リン酸イオン（ＰＯ４ ３-）、亜硫酸イオン（ＳＯ３ ２-）、亜硝酸イオン（ＮＯ２-）などが挙げられる。
【００４３】
有機アニオンとしては、例えば、遊離の有機カルボン酸や遊離の有機スルホン酸などの遊離の有機酸などが挙げられる。遊離の有機酸としては、炭素数１〜２０、好ましくは、炭素数１〜１０の遊離の有機酸が挙げられる。
【００４４】
遊離の有機カルボン酸としては、例えば、１価の飽和カルボン酸イオン、２価の飽和カルボン酸イオン、１価の不飽和カルボン酸イオン、２価の不飽和カルボン酸イオン、ヒドロキシカルボン酸イオン、オキソカルボン酸イオン、芳香族カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００４５】
１価の飽和カルボン酸イオンとしては、例えば、蟻酸イオン（ＨＣＯＯ-）、酢酸イオン（ＣＨ３ＣＯＯ-）、プロピオン酸イオン（Ｃ２Ｈ５ＣＯＯ-）、酪酸イオン（Ｃ３Ｈ７ＣＯＯ-）、イソ酪酸イオン（（ＣＨ３）２ＣＨＣＯＯ-）、吉草酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＯＯ-）、イソ吉草酸イオン（（ＣＨ３）２ＣＨＣＨ２ＣＯＯ-）、ピバル酸イオン（（ＣＨ３）３ＣＣＯＯ-）、オクタン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）６ＣＯＯ-）、デカン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）８ＣＯＯ-）、ラウリン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）１０ＣＯＯ-）、ミリスチン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）１２ＣＯＯ-）、パルミチン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）１４ＣＯＯ-）、ステアリン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）１６ＣＯＯ-）などの炭素数１〜１８の１価の飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００４６】
２価の飽和カルボン酸イオンとしては、例えば、シュウ酸イオン（（ＣＯＯ-）２）、マロン酸イオン（ＣＨ２（ＣＯＯ-）２）、コハク酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）２（ＣＯＯ-））、グルタル酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）３（ＣＯＯ-））、アジピン酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）４（ＣＯＯ-））、ピメリン酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）５（ＣＯＯ-））、スベリン酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）６（ＣＯＯ-））、アゼライン酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）７（ＣＯＯ-））、セバシン酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）８（ＣＯＯ-））などの炭素数２〜１０の２価の飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００４７】
１価の不飽和カルボン酸イオンとしては、例えば、アクリル酸イオン（ＣＨ２=ＣＨＣＯＯ-）、メタクリル酸イオン（ＣＨ２=Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ-）、クロトン酸イオン（ＣＨ３ＣＨ=ＣＨＣＯＯ-）、ｃｉｓ−クロトン酸イオン（ＣＨ３ＣＨ=ＣＨＣＯＯ-）、ソルビン酸イオン（ＣＨ３ＣＨ=ＣＨＣＨ=ＣＨＣＯＯ-）、オレイン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）７ＣＨ=ＣＨ（ＣＨ２）７ＣＯＯ-）、ｔｒａｎｓ-９-オクタデセン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）７ＣＨ=ＣＨ（ＣＨ２）７ＣＯＯ-）、フランカルボン酸イオン（Ｃ４Ｈ３ＯＣＯＯ-）などの炭素数３〜１８の１価の不飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００４８】
２価の不飽和カルボン酸イオンとしては、例えば、マレイン酸イオン（ＣＨ（ＣＯＯ-）=ＣＨＣＯＯ-）、シトラコン酸イオン（（ＣＨ３）Ｃ（ＣＯＯ-）=ＣＨＣＯＯ-）、メサコン酸イオン（（ＣＯＯ-）Ｃ（ＣＨ３）=ＣＨＣＯＯ-）などの炭素数４〜５の２価の不飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００４９】
ヒドロキシカルボン酸イオンとしては、例えば、乳酸イオン（ＣＨ３ＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯ-）、リンゴ酸イオン（ＣＨ（ＯＨ）（ＣＯＯ-）ＣＨ２ＣＯＯ-）、クエン酸イオン（ＣＨ２（ＣＯＯ-）Ｃ（ＯＨ）（ＣＯＯ-）ＣＨ２ＣＯＯ-）、グリコン酸イオン（ＣＨ２（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯ-）などの炭素数３〜６のヒドロキシカルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００５０】
オキソカルボン酸イオンとしては、例えば、ピルビン酸イオン（ＣＨ３ＣＯＣＯＯ-）、アセト酢酸イオン（ＣＨ３ＣＯＣＨ２ＣＯＯ-）などの炭素数３〜４のオキソカルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００５１】
芳香族カルボン酸イオンとしては、例えば、安息香酸イオン（Ｃ６Ｈ５ＣＯＯ-）、フタル酸イオン（Ｃ６Ｈ４（ＣＯＯ-）２）、ナフタレンカルボン酸イオン（Ｃ１０Ｈ７ＣＯＯ-）、ピリジンカルボン酸イオン（Ｃ５Ｈ５ＮＣＯＯ-）などの炭素数５〜１１の芳香族カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００５２】
また、遊離の有機スルホン酸としては、例えば、メチル硫酸イオン（（ＣＨ３）ＳＯ４-）、エチル硫酸イオン（（Ｃ２Ｈ５）ＳＯ４-）、メチルベンゼンスルホン酸イオン（ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３-）などの炭素数１〜７の有機スルホン酸イオンが挙げられる。
【００５３】
また、一般式（１）の式中、Ｚで示される有機アニオンとしては、その他に、アミノ酸、エリソルビン酸、アスコルビン酸、デヒドロ酢酸、アルコラート、フェノラートおよび水酸基に起因する有機アニオンなどが挙げられる。
【００５４】
これらアニオンは、単独または２種以上併用してもよい。好ましくは、無機アニオン、さらに好ましくは、ハロゲンイオンが挙げられる。
【００５５】
また、ａは、１または２の整数を示し、具体的には、ビス四級アンモニウム塩化合物およびアニオンの種類に応じて、適宜決定される。ａは、１が特に好ましい。
【００５６】
このようなビス四級アンモニウム塩化合物は、以下に示す具体的な化合物に準じて公知の方法により製造することができ、その具体例としては、例えば、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（４−カルバモイル−１−オクチルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（４−カルバモイル−１−ドデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（４−カルバモイル−１−テトラデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（４−カルバモイル−１−ヘキサデシルピリジニウム塩）などのＮ，Ｎ’−アルキレン−ビス（４−カルバモイル−１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモイル−１−オクチルピリジニウム塩、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモイル−１−デシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモイル−１−ドデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモイル−１−テトラデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモイル−１−ヘキサデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモイル−１−オクタデシルピリジニウム塩）などのＮ，Ｎ’−アルキレン−ビス（３−カルバモイル−１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（テトラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−オクチルピリジニウム塩）、４，４’−（テトラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−デシルピリジニウム塩）、４，４’−（テトラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）、４，４’−（テトラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−テトラデシルピリジニウム塩）、４，４’−（テトラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−ヘキサデシルピリジニウム塩）などの４，４’−（アルキレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（ヘキサメチレンジチオ）ビス（１−オクチルピリジニウム塩）などの４，４’−（アルキレンジチオ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−ブチルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−ヘキシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−オクチルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−デシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−テトラデシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−ヘキサデシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−オクタデシルピリジニウム塩）などの４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（（１−アルキル）ピリジニウム塩）、例えば、３，３’−（ｍ−キシリルジチオ）ビス（１−テトラデシルピリジニウム塩）などの３，３’−（ｍ−キシリルジチオ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−ヘキシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−オクチルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−ドデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−テトラデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−ヘキサデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−オクタデシルピリジニウム塩）などのＮ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、Ｎ，Ｎ’−（ｍ−フェニレン）ビス（３−カルバモイル−１−ドデシルピリジニウム塩）などのＮ，Ｎ’−（ｍ−フェニレン）ビス（３−カルバモイル−１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ブチルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ペンチルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ヘキシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ヘプチルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−オクチルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−デシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−テトラデシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ヘキサデシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−オクタデシルピリジニウム塩）などの４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、３，３’−（ｍ−フタルアミド）ビス（１−オクタデシルピリジニウム塩）などの３，３’−（ｍ−フタルアミド）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、１，４−テトラメチレンビス（４−カルバモイル−１−ヘキサデシルピリジニウム塩）、１，６−ヘキサメチレンビス（３−カルバモイル−１−ドデシルピリジニウム塩）、１，６−オクタメチレンビス（３−カルバモイル−１−テトラデシルピリジニウム塩）、３，３’−（１，３−トリメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）などの（アルキレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（１，８−オクタメチレンジオキシ）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）、３，３’−（１，６−ヘキサメチレンジオキシ）ビス（１−ヘキサドデシルピリジニウム塩）などの（アルキレンジオキシ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（１，６−ヘキサメチレンジオキシジカルボニル）ビス（１−オクチルピリジニウム塩）、３，３’−（１，６−テトラメチレンジオキシジカルボニル）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）などの（アルキレンジオキシジカルボニル）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（１，４−テトラメチレンジカルボニルジオキシ）ビス（１−オクチルピリジニウム塩）などの（アルキレンジカルボニルジオキシ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（１，８−オクタメチレンジカルボニルジチオキシ）ビス（１−オクタデシルピリジニウム塩）などの（アルキレンジカルボニルジチオキシ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、３，３’−（ｐ−フタロイルジオキシ）ビス（１−デシルピリジニウム塩）、３，３’−（ｍ−フタロイルジチオキシ）ビス（１−デシルピリジニウム塩）などの（フタロイルジチオキシ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、１−オクチル−１’−（３−ヒドロキシトリメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−オクチル−１’−（６−ヒドロキシヘキサメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−オクチル−１’−（８−ヒドロキシオクタメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−オクチル−１’−（１０−ヒドロキシデカメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−オクチル−１’−（１２−ヒドロキシドデカメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−デシル−１’−（３−ヒドロキシトリメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−デシル−１’−（６−ヒドロキシヘキサメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−デシル−１’−（８−ヒドロキシオクタメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−デシル−１’−（１０−ヒドロキシデカメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−デシル−１’−（１２−ヒドロキシドデカメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−ドデシル−１’−（３−ヒドロキシトリメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−ドデシル−１’−（６−ヒドロキシヘキサメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−ドデシル−１’−（８−ヒドロキシオクタメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−ドデシル−１’−（１０−ヒドロキシデカメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−ドデシル−１’−（１２−ヒドロキシドデカメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩 などの１−アルキル−１’−（１２−ヒドロキシアルキレン）−４，４’−ジピリジニウム塩などが挙げられる。
【００５７】
なお、上記したビス四級アンモニウム塩化合物のピリジニウム塩としては、上記したＺで示されるアニオンとの塩であれば特に制限されないが、例えば、ブロマイド（ピリジニウムブロマイド）、アイオダイド（ピリジニウムアイオダイド）、アセテート（ピリジニウムアセテート）などが挙げられる。
【００５８】
これらのうち、好ましくは、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウムブロマイド）（ダイマー３８、イヌイ社製）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウムアセテート）（ダイマー３８Ａ、イヌイ社製）、４，４’−（テトラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−デシルピリジニウムブロマイド）（ダイマー１３６、イヌイ社製）、４，４’−（テトラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−デシルピリジニウムアセテート）（ダイマー１３６Ａ、イヌイ社製）が挙げられ、さらに好ましくは、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウムブロマイド）（ダイマー３８、イヌイ社製）が挙げられる。これらビス四級アンモニウム塩化合物は、単独または２種以上併用してもよい。
【００５９】
また、本発明の微生物防除剤では、さらに、有効成分として、下記一般式（２）で示されるベンズイソチアゾリン系化合物を含有していることが好ましい。
【００６０】
一般式（２）
【００６１】
【化６】
（式中、Ｒ６は、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を、Ａ環は置換基を有していてもよいベンゼン環を示す。）
一般式（２）の式中、Ｒ６で示される置換基を有していてもよい炭化水素基としては、上記したＲ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基と同様のものが挙げられ、置換基を有していない炭化水素基が好ましく、その中でも、アルキル基が好ましい。アルキル基としては、好ましくは、炭素数が１〜４のアルキル基、より好ましくは、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどが挙げられる。
【００６２】
また、Ｒ６の好ましい例としては、炭素数が１〜４のアルキル基および水素原子が挙げられる。
【００６３】
Ａ環で示されるベンゼン環の置換基としては、上記したＲ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基と同様のものが挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどの炭素数１〜４のアルキル基など）が挙げられる。これらの置換基は、同一または相異なって１〜４個、好ましくは、１または２個置換していてもよい。Ａ環で示される置換基を有していてもよいベンゼン環の好ましい態様としては、置換基を有していないベンゼン環が挙げられる。
【００６４】
このようなベンズイソチアゾリン系化合物は、以下に示す具体的な化合物に準じて公知の方法により製造することができ、その具体例としては、例えば、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、Ｎ−ｎ−ブチル−１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オンなどが挙げられる。
【００６５】
これらのうち、好ましくは、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オンが挙げられる。これらベンズイソチアゾリン系化合物は、単独または２種以上併用してもよい。
【００６６】
ベンズイソチアゾリン系化合物を含有させる割合は、ビス四級アンモニウム塩化合物１重量部に対して、例えば、０．００５〜１００重量部、好ましくは、０．０１〜５０重量部である。このような範囲においてベンズイソチアゾリン系化合物を含有させれば、ビス四級アンモニウム塩化合物の安定化をより一層図ることができるとともに、微生物に対する防除効果を相乗的に発現させることができる。また、ベンズイソチアゾリン系化合物も、後述する溶媒によって安定化されるので、微生物に対する相乗的な防除効果を、長期にわたって確保することができる。
【００６７】
より具体的には、ビス四級アンモニウム塩化合物１重量部に対して、例えば、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オンを含有させる割合は、０．０１〜５０重量部、さらには、０．１〜１０重量部であることが好ましい。
【００６８】
そして、本発明の微生物防除剤は、上記した有効成分（つまり、ビス四級アンモニウム塩化合物の単独成分、または、ビス四級アンモニウム塩化合物およびベンズイソチアゾリン系化合物の併用成分）を安定化させるために、溶媒として、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒を含有している。
【００６９】
非プロトン性極性溶媒としては、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、２−ピロリドンおよびその塩、Ｎ−メチル−３−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶媒、例えば、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、例えば、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒などが挙げられる。
【００７０】
これら非プロトン性極性溶媒のうち、好ましくは、ピロリドン系溶媒、さらに好ましくは、Ｎ−メチル−２−ピロリドンが挙げられる。これら非プロトン性極性溶媒は、単独または２種以上併用してもよい。
【００７１】
プロトン性極性溶媒としては、例えば、水、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノールなどのアルコール系溶媒、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコール系溶媒などが挙げられる。
【００７２】
これらプロトン性極性溶媒のうち、好ましくは、グリコール系溶媒、さらに好ましくは、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテルが挙げられる。これらプロトン性極性溶媒は、単独または２種以上併用してもよい。
【００７３】
また、溶媒において、これら非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合は、例えば、これら溶媒の合計１００重量部に対して、非プロトン性極性溶媒が２０〜６０重量部、好ましくは、２５〜５０重量部、プロトン性極性溶媒が４０〜８０重量部、好ましくは、５０〜７５重量部である。
【００７４】
非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒の割合が、上記した範囲において、上記した有効成分の分解を抑制して、上記した有効成分を安定化させることができ、優れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保することができる。
【００７５】
また、これら溶媒の合計（つまり、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒の合計）に対する有効成分の割合は、例えば、これら溶媒の合計１００重量部に対して、有効成分（つまり、ビス四級アンモニウム塩化合物、ベンズイソチアゾリン系化合物および後述する他の防藻剤および／または防かび剤の合計）が、０．１〜１００重量部、好ましくは、０．５〜７５重量部である。より具体的には、これら溶媒の合計１００重量部に対して、例えば、ビス四級アンモニウム塩化合物が、０．１〜４０重量部、好ましくは、１〜２５重量部であり、ベンズイソチアゾリン系化合物が、０．２〜６０重量部、好ましくは、１〜５０重量部である。
【００７６】
上記した有効成分（後述する他の防藻剤および／または防かび剤を除く）の割合が、上記した範囲において、その有効成分の分解を抑制して、有効成分を安定化させることができ、優れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保することができる。
【００７７】
そして、本発明の微生物防除剤は、特に制限されず、上記した有効成分および溶媒を配合することにより、調製することができる。
【００７８】
より具体的には、例えば、ビス四級アンモニウム塩化合物、必要によりベンズイソチアゾリン系化合物を、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒に加えて、混合すればよい。
【００７９】
このような調製において、各成分を配合する順序は、特に制限されず、例えば、予め非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒を混合して溶媒を調製し、その溶媒に、ビス四級アンモニウム塩化合物、必要によりベンズイソチアゾリン系化合物を混合してもよく、また、例えば、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒を、ビス四級アンモニウム塩化合物、必要によりベンズイソチアゾリン系化合物と同時に混合してもよく、さらには、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒のうち、いずれか一方の溶媒に、ビス四級アンモニウム塩化合物、必要によりベンズイソチアゾリン系化合物を混合した後、その一方の溶媒に他方の溶媒を混合してもよい。
【００８０】
また、このような調製においては、本発明の効果を阻害しない範囲において、溶媒には、例えば、有効成分を市販品として入手した場合に含まれている他の有機溶媒などが含まれてもよい。
【００８１】
なお、本発明の微生物防除剤は、通常、上記した調製により、液剤として製剤化されるが、ビス四級アンモニウム塩化合物、必要によりベンズイソチアゾリン系化合物、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒を含有すれば、特に制限されることなく、懸濁剤、ペースト剤、粉剤、粒剤、マイクロカプセルなどの種々の剤型に製剤化することもできる。また、包接化合物として調製してもよく、さらに、層状ケイ酸塩などのモンモリロナイト（スメクタイト類など）などに担持させ、あるいは、クレー、シリカ、ホワイトカーボン、タルクなどに吸着させることにより、製剤化することもできる。
【００８２】
また、本発明の微生物防除剤は、その目的および用途によって、公知の添加剤、例えば、他の防藻剤および／または防かび剤、界面活性剤、酸化防止剤、光安定剤などを添加してもよい。
【００８３】
他の防藻剤および／または防かび剤としては、例えば、ニトロアルコール系化合物、ジチオール系化合物、チオフェン系化合物、ハロアセチレン系化合物、フタルイミド系化合物、ハロアルキルチオ系化合物、ピリチオン系化合物、フェニルウレア系化合物、トリアジン系化合物、グアニジン系化合物、トリアゾール系化合物、ベンズイミダゾール系化合物、四級アンモニウム塩系化合物が挙げられる。
【００８４】
ニトロアルコール系化合物としては、例えば、２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオール、２，２−ジブロモ−２−ニトロ−１−エタノールなどが挙げられる。
【００８５】
ジチオール系化合物としては、例えば、４，５−ジクロロ−１，２−ジチオール−３−オンがなど挙げられる。
【００８６】
チオフェン系化合物としては、例えば、３，３，４−トリクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド、３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドなどが挙げられる。
【００８７】
ハロアセチレン系化合物としては、例えば、Ｎ−ブチル−３−ヨードプロピオール酸アミド、３−ヨード−２−プロピニルブチルカーバメートなどが挙げられる。
【００８８】
フタルイミド系化合物としては、例えば、Ｎ−１，１，２，２−テトラクロロエチルチオ−テトラヒドロフタルイミド（Ｃａｐｔａｆｏｌ）、Ｎ−トリクロロメチルチオ−テトラヒドロフタルイミド（Ｃａｐｔａｎ）、Ｎ−ジクロロフルオロメチルチオフタルイミド（Ｆｌｕｏｒｆｏｌｐｅｔ）、Ｎ−トリクロロメチルチオフタルイミド（Ｆｏｌｐｅｔ）などが挙げられる。
【００８９】
ハロアルキルチオ系化合物としては、例えば、Ｎ−ジメチルアミノスルホニル−Ｎ−トリル−ジクロロフルオロメタンスルファミド（Ｔｏｌｙｌｆｌｕａｎｉｄｅ）、Ｎ−ジメチルアミノスルホニル−Ｎ−フェニル−ジクロロフルオロメタンスルファミド（Ｄｉｃｈｌｏｆｌｕａｎｉｄｅ）などが挙げられる。
【００９０】
ピリチオン系化合物としては、例えば、ナトリウムピリチオン、ジンクピリチオンなどが挙げられる。
【００９１】
フェニルウレア系化合物としては、例えば、３−（３，４−ジクロロフェニル）−１，１−ジメチルウレアなどが挙げられる。
【００９２】
トリアジン系化合物としては、例えば、２−メチルチオ−４−ｔ−ブチルアミノ−６−シクロプロピルアミノ−s−トリアジンなどが挙げられる。
【００９３】
グアニジン系化合物としては、例えば、１，６−ジ−（４’−クロロフェニルジグアニド）−ヘキサン、ポリヘキサメチレンビグアニジン塩酸塩などが挙げられる。
【００９４】
トリアゾール系化合物としては、例えば、α−［２−（４−クロロフェニル）エチル］−α−（１，１−ジメチルエチル）−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−エタノール（慣用名：テブコナゾール）、１−［［２−（２，４−ジクロロフェニル）−４−ｎ−プロピル−１，３−ジオキソラン−２−イル］メチル］−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール（慣用名：プロピコナゾール）、１−［［２−（２，４−ジクロロフェニル）−１，３−ジオキソラン−２−イル］メチル］−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール（慣用名：アザコナゾール）、α−（４−クロロフェニル）−α−（１−シクロプロピルエチル）−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−エタノール（慣用名：シプロコナゾール）などが挙げられる。
【００９５】
ベンズイミダゾール系化合物としては、例えば、メチル ２−ベンズイミダゾールカルバメート、エチル ２−ベンズイミダゾールカルバメート、２−（４−チアゾリル）ベンズイミダゾールなどが挙げられる。
【００９６】
四級アンモニウム塩系化合物としては、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド、塩化ベンザルコニウム、ジ−ｎ−デシル−ジメチルアンモニウムクロライド、１−ヘキサデシルピリジニウムクロライドなどが挙げられる。
【００９７】
また、他の防藻剤および／または防かび剤として、その他に、例えば、ジヨードメチル−ｐ−トルイルスルホン、ｐ−クロロフェニル−３−ヨードプロパルギルフォルマールなどの有機ヨウ素系化合物、例えば、テトラメチルチウラムジスルフィドなどのチオカーバメート系化合物、例えば、２，４，５，６−テトラクロロイソフタロニトリルなどのニトリル系化合物、例えば、２，３，５，６−テトラクロロ−４−（メチルスルフォニル）ピリジンなどのピリジン系化合物、例えば、２−（４−チオシアノメチルチオ）ベンゾチアゾールなどのベンゾチアゾール系化合物、例えば、３−ベンゾ［ｂ］チエン−２−イル−５，６−ジヒドロ−１，４，２−オキサチアジン−４−オキサイドなどのオキサチアジン系化合物などが挙げられる。
【００９８】
これらの他の防藻剤および／または防かび剤は、単独または２種以上併用してもよい。また、他の防藻剤および／または防かび剤の配合割合は、その目的および用途によって適宜決定されるが、例えば、ビス四級アンモニウム塩化合物１００重量部に対して、１〜９０００重量部、好ましくは、３〜８０００重量部である。
【００９９】
また、界面活性剤としては、例えば、石鹸類、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両イオン界面活性剤、高分子界面活性剤など、公知の界面活性剤が挙げられ、好ましくは、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤が挙げられる。
【０１００】
また、酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール］などのフェノール系酸化防止剤、例えば、アルキルジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなどのアミン系酸化防止剤などが挙げられる。
【０１０１】
これら、界面活性剤および酸化防止剤は、例えば、液剤の場合には、液剤１００重量部に対して０．１〜５重量部添加される。
【０１０２】
また、光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートなどのヒンダードアミン系光安定剤などが挙げられる。
【０１０３】
このような光安定剤は、例えば、液剤の場合には、液剤１００重量部に対して０．１〜１０重量部添加される。
【０１０４】
このようにして得られる本発明の微生物防除剤は、優れた、抗菌、防かび、防腐、防藻作用などを発現し、細菌、かび、酵母、藻などに対する防除剤として用いることができ、しかも、非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒とが、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部の割合で含有されているので、ビス四級アンモニウム塩化合物の安定化を図ることができる。その結果、ビス四級アンモニウム塩化合物の製剤中における経時的な分解を抑制することができ、優れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保することができる。
【０１０５】
そのため、本発明の微生物防除剤は、例えば、製紙パルプ工場、冷却水循環工程などの種々の産業用水や、切削油などの金属加工用油剤、カゼイン、澱粉糊、にかわ、塗工紙、紙用塗工液、表面サイズ剤、塗料、接着剤、合成ゴムラテックス、インキ、ポリビニルアルコールフィルム、塩化ビニルフィルム、樹脂製品、セメント混和剤、シーリング剤、目地剤などの各種工業製品などの有害微生物の防除の用途において有効に用いることができる。
【０１０６】
より具体的には、例えば、製紙パルプ工場などのスライムコントロール剤、金属加工用油剤の防腐剤、塗料の防腐防かび剤、樹脂エマルションの防腐防かび剤、セメント混和剤の防腐剤、インキの防腐防かび剤、湿し水の防腐防かび剤、セメント減水剤の防腐防かび剤、植物の延命剤などの工業用の有害微生物防除剤として好適に用いられる。
【０１０７】
なお、本発明の微生物防除剤は、その適用対象に応じて添加量を適宜決定すればよいが、例えば、１〜１０００ｍｇ（全有効成分）／ｋｇ（製品）、好ましくは、５〜５００ｍｇ（全有効成分）／ｋｇ（製品）の濃度として用いることができる。
【０１０８】
また、本発明の微生物防除剤は、ｐＨが、３〜１３、好ましくは、４〜１２の適用対象に用いることができ、さらには、例えば、ＳＯ２ ２−、ＳＯ３ ２−、ＨＳＯ２ −、ＨＳＯ３ −、Ｓ２Ｏ３ ２−、好ましくは、ＳＯ３ ２−、ＨＳＯ３ −、Ｓ２Ｏ３ ２−などの還元剤の存在下においても、その効力を有効に発現することができる。なお、この場合の還元剤の濃度は、例えば、製品中１〜１００００ｐｐｍであることが好ましい。
【０１０９】
【実施例】
以下に実施例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。なお、以下の実施例に用いる有効成分の略号を下記に示す。
【０１１０】
ＨＭＤＰ−Ｂｒ：Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウムブロマイド）
ＨＭＤＰ−Ａｃ：Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウムアセテート）
ＢＩＴ：１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン
実施例１
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４０．０ｇおよびプロピレングリコール５７．０ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１１】
実施例２
ダイマー３８Ａ（ＨＭＤＰ−Ａｃ：１０重量％プロピレングリコール溶液、イヌイ社製）３０．０ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４０．０ｇおよびプロピレングリコール３０．０ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１２】
実施例３
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン３７．１ｇおよびプロピレングリコール５５．７ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１３】
実施例４
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン２３．２ｇおよびプロピレングリコール６９．６ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１４】
実施例５
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン５１．０ｇおよびプロピレングリコール４１．８ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１５】
実施例６
ダイマー３８Ａ（ＨＭＤＰ−Ａｃ：１０重量％プロピレングリコール溶液、イヌイ社製）３０．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン３７．１ｇおよびプロピレングリコール２８．７ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１６】
実施例７
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４６．４ｇおよびジエチレングリコール４６．４ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１７】
比較例１
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン９２．８に混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１８】
比較例２
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、プロピレングリコール９２．８に混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１９】
比較例３
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン１３．９ｇおよびプロピレングリコール７８．９ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１２０】
比較例４
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン７０．０ｇおよびプロピレングリコール２２．８ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１２１】
安定性試験
上記で得られた各実施例および各比較例を、６０℃で４週間密封後、液剤中の各有効成分の残存率％［（残存した有効成分の含有量／初期の有効成分の含有量）×１００］を液体クロマトグラフィーにて測定した。その結果を表１に示す。
【０１２２】
【表１】
最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）
実施例３および比較例４について、ｐＨ９に調整されたグルコース−ブイヨン寒天培地を用いた倍数希釈法で、表２に示す供試菌を用い、細菌は３３℃で１８時間培養、かびおよび酵母は２８℃で３日間培養し、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ：μｇ／ｍＬ）を求めた。その結果を表２に示す。
【０１２３】
【表２】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明のビス四級アンモニウム塩化合物の安定化方法では、ビス四級アンモニウム塩化合物に、非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒とを、その割合が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部となるように配合することにより、ビス四級アンモニウム塩化合物を安定化させることができる。
【０１２４】
そのため、このようにして安定化されたビス四級アンモニウム塩化合物を有効成分として含む本発明の微生物防除剤は、優れた、抗菌、防かび、防腐、防藻作用などを発現し、細菌、かび、酵母、藻などに対する防除剤として用いることができ、しかも、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部およびプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部の配合により、ビス四級アンモニウム塩化合物の安定化を図ることができる。その結果、ビス四級アンモニウム塩化合物の製剤中における経時的な分解を抑制することができ、優れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保することができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、微生物防除剤および安定化方法、詳しくは、細菌、かび、酵母、藻の防除剤として用いられる微生物防除剤、および、その微生物防除剤の有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合物の安定化方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、各種の工業製品には、細菌、かび、酵母、藻などの有害な微生物が繁殖しやすく、生産性や品質の低下、悪臭の発生などの原因となっている。そのため、このような有害微生物の繁殖を防除するために、抗菌、防かび、防腐、防藻効果を発現する種々の微生物防除剤が広く使用されている。
【０００３】
また、このような微生物防除剤の有効成分として、近年、ビス四級アンモニウム塩化合物が広い抗菌スペクトルを有し、優れた防除効果を発現することが、報告されている（例えば、特許文献１〜８参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平９−１１０６９２号公報
【特許文献２】
特開平１０−９５７７３号公報
【特許文献３】
特開平１０−２８７５６６号公報
【特許文献４】
特開２０００−９５７６３号公報
【特許文献５】
特開２０００−１３６１８５号公報
【特許文献６】
特開２０００−１９８８７９号公報
【特許文献７】
特開２０００−１５９６０７号公報
【特許文献８】
特開２００１−３１０１９１号公報
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記したビス四級アンモニウム塩化合物、とりわけ、ビス四級アンモニウムの無機塩の化合物は、製剤中において、経時的に分解を生じて有効成分濃度が減少し、その結果、微生物に対する防除効果が経時的に減少するという不具合がある。
【０００５】
そこで、本発明は、このような不具合に鑑みなされたもので、その目的とするところは、有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合物を安定化させ、優れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保することのできる、微生物防除剤、および、その微生物防除剤の有効成分であるビス四級アンモニウム塩化合物の安定化方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明者らは、ビス四級アンモニウム塩化合物を安定化させるために鋭意検討したところ、ビス四級アンモニウム塩化合物に、特定の割合で非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒を配合することにより、ビス四級アンモニウム塩化合物の分解を抑制して安定化させることができる知見を見い出し、さらに研究を進めた結果、本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明は、
（１） ビス四級アンモニウム塩化合物と、非プロトン性極性溶媒と、プロトン性極性溶媒とを含有し、非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部であることを特徴とする、微生物防除剤、
（２） ビス四級アンモニウム塩化合物が、下記一般式（１）で示されることを特徴とする、前記（１）に記載の微生物防除剤、
一般式（１）
【０００８】
【化３】
（３） 一般式（１）において、Ｚが無機アニオンであることを特徴とする、前記（２）に記載の微生物防除剤、
（４） 非プロトン性極性溶媒が、ピロリドン系溶媒であることを特徴とする、前記（１）〜（３）のいずれかに記載の微生物防除剤、
（５） プロトン性極性溶媒が、グリコール系溶媒であることを特徴とする、前記（１）〜（４）のいずれかに記載の微生物防除剤。
【０００９】
（６） さらに、下記一般式（２）で示されるベンズイソチアゾリン系化合物を含有することを特徴とする、前記（１）〜（５）のいずれかに記載の微生物防除剤、
一般式（２）
【００１０】
【化４】
（７） ビス四級アンモニウム塩化合物と、非プロトン性極性溶媒と、プロトン性極性溶媒とを、非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部となるように配合することを特徴とする、ビス四級アンモニウム塩化合物の安定化方法
を提供するものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明の微生物防除剤は、有効成分として、ビス四級アンモニウム塩化合物を含有している。
【００１２】
本発明に用いられるビス四級アンモニウム塩化合物は、例えば、下記一般式（１）で示される。
【００１３】
一般式（１）
【００１４】
【化５】
一般式（１）の式中、Ｒ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の炭化水素基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基およびアラルキル基などが挙げられる。
【００１５】
アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デシル、イソデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素数１〜１８のアルキル基が挙げられる。
【００１６】
アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、メタリル、イソプロペニル、１−プロペニル、２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプチニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニルなどの炭素数２〜１８のアルケニル基が挙げられる。
【００１７】
アルキニル基としては、例えば、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、ブチニル、ペンチニル、オクテニルなどの炭素数２〜８のアルキニル基が挙げられる。
【００１８】
シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどの炭素数３〜８のシクロアルキル基が挙げられる。
【００１９】
アリール基としては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、ビフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、アズレニルなどの炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。
【００２０】
アラルキル基としては、例えば、ベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、ジフェニルメチル、ｏ、ｍまたはｐ−メチルベンジル、ｏ、ｍまたはｐ−エチルベンジル、ｏ、ｍまたはｐ−イソプロピルベンジル、ｏ、ｍまたはｐ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、２，３−、２，４−、２，５−、２，６−、３，４−または３，５−ジメチルベンジル、２，３，４−、３，４，５−または２，４，６−トリメチルベンジル、５−イソプロピル−２−メチルベンジル、２−イソプロピル−５−メチルベンジル、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、２，４−、２，５−または３，５−ジイソプロピルベンジル、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、１−（２−メチルフェニル）エチル、１−（３−メチルフェニル）エチル、１−（４−メチルフェニル）エチル、１−（２−イソプロピルフェニル）エチル、１−（３−イソプロピルフェニル）エチル、１−（４−イソプロピルフェニル）エチル、１−（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エチル、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エチル、１−（２−イソプロピル−４−メチルフェニル）エチル、１−（４−イソプロピル−２−メチルフェニル）エチル、１−（２，４−ジメチルフェニル）エチル、１−（２，５−ジメチルフェニル）エチル、１−（３，５−ジメチルフェニル）エチル、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エチルなどの炭素数７〜１６のアラルキル基が挙げられる。
【００２１】
Ｒ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基としては、例えば、ヒドロキシル基、ハロゲン原子（例えば、塩素、フッ素、臭素およびヨウ素など）、シアノ基、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどの炭素数１〜６のアルコキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなどの炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基など）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオなどの炭素数１〜４のアルキルチオ基など）およびアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基など）などが挙げられる。これらの置換基は同一または相異なって１〜５個、好ましくは１〜３個置換していてもよい。
【００２２】
上記したＲ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基としては、置換基を有していない炭化水素基、または、ヒドロキシル基を有する炭化水素基が好ましく、その中でも、アルキル基またはヒドロキシアルキル基が好ましい。
【００２３】
アルキル基としては、好ましくは、炭素数が１〜１８のアルキル基、より好ましくは、炭素数が７以上である、ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デシル、イソデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素数７〜１８のアルキル基が挙げられる。
【００２４】
ヒドロキシアルキル基としては、好ましくは、炭素数が１〜１８のヒドロキシアルキル基、より好ましくは、炭素数が３〜１２である、ヒドロキシトリメチレン、ヒドロキシテトラメチレン、ヒドロキシペンタメチレン、ヒドロキシヘキサメチレン、ヒドロキシヘプタメチレン、ヒドロキシオクタメチレン、ヒドロキシノナメチレン、ヒドロキシデカメチレン、ヒドロキシドデカメチレンなどの炭素数３〜１２のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
【００２５】
Ｒ１およびＲ２は、同一または相異なって、ともに炭素数１〜１８のアルキル基であるか、一方が炭素数１〜１８のアルキル基で、他方が炭素数３〜１２のヒドロキシアルキル基であることが好ましい。
【００２６】
一般式（１）の式中、Ｒ３およびＲ４で示される置換基を有していてもよい炭化水素基としては、Ｒ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基と同様のものが挙げられ、好ましくは、アルキル基、より好ましくは、例えば、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ヘキシルなどの炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。
【００２７】
また、Ｒ３およびＲ４で示される置換基を有していてもよいアルコキシ基のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシなどの炭素数１〜８のアルコキシ基が挙げられる。
【００２８】
また、Ｒ３およびＲ４で示される置換基を有していてもよいアルコキシ基の置換基としては、Ｒ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基と同様のものが挙げられる。
【００２９】
上記したＲ３およびＲ４で示される置換基を有していてもよいアルコキシ基としては、置換基を有していないアルコキシ基が好ましく、その中でも、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシなどの炭素数１〜３のアルコキシ基が挙げられる。
【００３０】
Ｒ３およびＲ４は、同一または相異なって、それぞれ炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、ヒドロキシル基、アミノ基または水素原子であることが好ましく、その中でも、ともに水素原子であることが好ましい。
【００３１】
一般式（１）の式中、Ｒ５で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の炭化水素基としては、好ましくは、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、シクロアルキレン基、アリレン基などの２価の炭化水素基が挙げられる。
【００３２】
アルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ｉｓｏ−プロピレン、ブチレン、ｉｓｏ−ブチレン、ｓｅｃ−ブチレン、ペンチレン、ｉｓｏ−ペンチレン、ｓｅｃ−ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、２−エチルヘキシレン、ノニレン、デシレン、イソデシレン、ドデシレン、テトラデシレン、ヘキサデシレン、オクタデシレンなどの炭素数１〜１８のアルキレン基が挙げられる。
【００３３】
アルケニレン基としては、例えば、ビニレン、プロペニレン、ブテニレン、ブタジエニレン、オクテニレン、デセニレン、ウンデセニレン、ドデセニレン、テトラデセニレン、ヘキサデセニレン、オクタデセニレンなどの炭素数２〜１８のアルケニレン基が挙げられる。
【００３４】
アルキニレン基としては、例えば、エチニレン、プロピニレン、ブチニレン、ペンチニレン、オクテニレンなどの炭素数２〜８のアルキニレン基が挙げられる。
【００３５】
シクロアルキレン基としては、例えば、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレンなどの炭素数３〜８のシクロアルキレン基が挙げられる。
【００３６】
アリレン基としては、例えば、フェニレン、トリレン、キシリレン、ナフチレンなどの炭素数６〜１０のアリレン基が挙げられ、好ましくは、フェニレンおよびキシリレンが挙げられる。
【００３７】
また、Ｒ５で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基としては、Ｒ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基と同様のものが挙げられ、好ましくは、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどの炭素数１〜６のアルコキシ基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなどの炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基などが挙げられる。
【００３８】
Ｒ５で示される置換基を有していてもよい炭化水素基として、好ましくは、炭素数２〜１８のアルキレン基、フェニレン基、キシリレン基または炭素−炭素間単結合が挙げられる。
【００３９】
また、一般式（１）の式中、Ｙ１で示される−ＮＲｎＣＯ−、−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＳ−、および、Ｙ２で示される−ＣＯＮＲｎ−、−ＮＲｎＣＯ−、−ＣＳＮＲｎ−のＲｎとしては、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子が挙げられ、置換基を有していてもよい炭化水素基としては、Ｒ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基と同様のものが挙げられる。好ましくは、アルキル基または水素原子が挙げられ、アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ペンチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｓｅｃ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシルなどの炭素数１〜８のアルキル基が挙げられる。
【００４０】
一般式（１）の式中、Ｙ１として、好ましくは、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合が挙げられ、また、Ｙ２として、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＯＯＣ−、−Ｏ−、−Ｓ−または炭素−炭素間単結合が挙げられる。
【００４１】
一般式（１）の式中、Ｚで示されるアニオンとしては、例えば、無機アニオン、有機アニオンが挙げられる。
【００４２】
無機アニオンとしては、例えば、ハロゲンイオン（例えば、Ｆ-、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-など）、ヨウ素酸イオン（ＩＯ３-）、臭素酸イオン（ＢｒＯ３-）、塩素酸イオン（ＣｌＯ３-）、過ヨウ素酸イオン（ＩＯ４-）、過塩素酸イオン（ＣｌＯ４-）、硫酸イオン（ＳＯ４ ２-）、硝酸イオン（ＮＯ３-）、リン酸イオン（ＰＯ４ ３-）、亜硫酸イオン（ＳＯ３ ２-）、亜硝酸イオン（ＮＯ２-）などが挙げられる。
【００４３】
有機アニオンとしては、例えば、遊離の有機カルボン酸や遊離の有機スルホン酸などの遊離の有機酸などが挙げられる。遊離の有機酸としては、炭素数１〜２０、好ましくは、炭素数１〜１０の遊離の有機酸が挙げられる。
【００４４】
遊離の有機カルボン酸としては、例えば、１価の飽和カルボン酸イオン、２価の飽和カルボン酸イオン、１価の不飽和カルボン酸イオン、２価の不飽和カルボン酸イオン、ヒドロキシカルボン酸イオン、オキソカルボン酸イオン、芳香族カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００４５】
１価の飽和カルボン酸イオンとしては、例えば、蟻酸イオン（ＨＣＯＯ-）、酢酸イオン（ＣＨ３ＣＯＯ-）、プロピオン酸イオン（Ｃ２Ｈ５ＣＯＯ-）、酪酸イオン（Ｃ３Ｈ７ＣＯＯ-）、イソ酪酸イオン（（ＣＨ３）２ＣＨＣＯＯ-）、吉草酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）３ＣＯＯ-）、イソ吉草酸イオン（（ＣＨ３）２ＣＨＣＨ２ＣＯＯ-）、ピバル酸イオン（（ＣＨ３）３ＣＣＯＯ-）、オクタン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）６ＣＯＯ-）、デカン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）８ＣＯＯ-）、ラウリン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）１０ＣＯＯ-）、ミリスチン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）１２ＣＯＯ-）、パルミチン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）１４ＣＯＯ-）、ステアリン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）１６ＣＯＯ-）などの炭素数１〜１８の１価の飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００４６】
２価の飽和カルボン酸イオンとしては、例えば、シュウ酸イオン（（ＣＯＯ-）２）、マロン酸イオン（ＣＨ２（ＣＯＯ-）２）、コハク酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）２（ＣＯＯ-））、グルタル酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）３（ＣＯＯ-））、アジピン酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）４（ＣＯＯ-））、ピメリン酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）５（ＣＯＯ-））、スベリン酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）６（ＣＯＯ-））、アゼライン酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）７（ＣＯＯ-））、セバシン酸イオン（（-ＯＯＣ）（ＣＨ２）８（ＣＯＯ-））などの炭素数２〜１０の２価の飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００４７】
１価の不飽和カルボン酸イオンとしては、例えば、アクリル酸イオン（ＣＨ２=ＣＨＣＯＯ-）、メタクリル酸イオン（ＣＨ２=Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯ-）、クロトン酸イオン（ＣＨ３ＣＨ=ＣＨＣＯＯ-）、ｃｉｓ−クロトン酸イオン（ＣＨ３ＣＨ=ＣＨＣＯＯ-）、ソルビン酸イオン（ＣＨ３ＣＨ=ＣＨＣＨ=ＣＨＣＯＯ-）、オレイン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）７ＣＨ=ＣＨ（ＣＨ２）７ＣＯＯ-）、ｔｒａｎｓ-９-オクタデセン酸イオン（ＣＨ３（ＣＨ２）７ＣＨ=ＣＨ（ＣＨ２）７ＣＯＯ-）、フランカルボン酸イオン（Ｃ４Ｈ３ＯＣＯＯ-）などの炭素数３〜１８の１価の不飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００４８】
２価の不飽和カルボン酸イオンとしては、例えば、マレイン酸イオン（ＣＨ（ＣＯＯ-）=ＣＨＣＯＯ-）、シトラコン酸イオン（（ＣＨ３）Ｃ（ＣＯＯ-）=ＣＨＣＯＯ-）、メサコン酸イオン（（ＣＯＯ-）Ｃ（ＣＨ３）=ＣＨＣＯＯ-）などの炭素数４〜５の２価の不飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００４９】
ヒドロキシカルボン酸イオンとしては、例えば、乳酸イオン（ＣＨ３ＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯ-）、リンゴ酸イオン（ＣＨ（ＯＨ）（ＣＯＯ-）ＣＨ２ＣＯＯ-）、クエン酸イオン（ＣＨ２（ＣＯＯ-）Ｃ（ＯＨ）（ＣＯＯ-）ＣＨ２ＣＯＯ-）、グリコン酸イオン（ＣＨ２（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯ-）などの炭素数３〜６のヒドロキシカルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００５０】
オキソカルボン酸イオンとしては、例えば、ピルビン酸イオン（ＣＨ３ＣＯＣＯＯ-）、アセト酢酸イオン（ＣＨ３ＣＯＣＨ２ＣＯＯ-）などの炭素数３〜４のオキソカルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００５１】
芳香族カルボン酸イオンとしては、例えば、安息香酸イオン（Ｃ６Ｈ５ＣＯＯ-）、フタル酸イオン（Ｃ６Ｈ４（ＣＯＯ-）２）、ナフタレンカルボン酸イオン（Ｃ１０Ｈ７ＣＯＯ-）、ピリジンカルボン酸イオン（Ｃ５Ｈ５ＮＣＯＯ-）などの炭素数５〜１１の芳香族カルボン酸イオンなどが挙げられる。
【００５２】
また、遊離の有機スルホン酸としては、例えば、メチル硫酸イオン（（ＣＨ３）ＳＯ４-）、エチル硫酸イオン（（Ｃ２Ｈ５）ＳＯ４-）、メチルベンゼンスルホン酸イオン（ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３-）などの炭素数１〜７の有機スルホン酸イオンが挙げられる。
【００５３】
また、一般式（１）の式中、Ｚで示される有機アニオンとしては、その他に、アミノ酸、エリソルビン酸、アスコルビン酸、デヒドロ酢酸、アルコラート、フェノラートおよび水酸基に起因する有機アニオンなどが挙げられる。
【００５４】
これらアニオンは、単独または２種以上併用してもよい。好ましくは、無機アニオン、さらに好ましくは、ハロゲンイオンが挙げられる。
【００５５】
また、ａは、１または２の整数を示し、具体的には、ビス四級アンモニウム塩化合物およびアニオンの種類に応じて、適宜決定される。ａは、１が特に好ましい。
【００５６】
このようなビス四級アンモニウム塩化合物は、以下に示す具体的な化合物に準じて公知の方法により製造することができ、その具体例としては、例えば、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（４−カルバモイル−１−オクチルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（４−カルバモイル−１−ドデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（４−カルバモイル−１−テトラデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（４−カルバモイル−１−ヘキサデシルピリジニウム塩）などのＮ，Ｎ’−アルキレン−ビス（４−カルバモイル−１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモイル−１−オクチルピリジニウム塩、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモイル−１−デシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモイル−１−ドデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモイル−１−テトラデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモイル−１−ヘキサデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３−カルバモイル−１−オクタデシルピリジニウム塩）などのＮ，Ｎ’−アルキレン−ビス（３−カルバモイル−１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（テトラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−オクチルピリジニウム塩）、４，４’−（テトラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−デシルピリジニウム塩）、４，４’−（テトラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）、４，４’−（テトラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−テトラデシルピリジニウム塩）、４，４’−（テトラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−ヘキサデシルピリジニウム塩）などの４，４’−（アルキレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（ヘキサメチレンジチオ）ビス（１−オクチルピリジニウム塩）などの４，４’−（アルキレンジチオ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−ブチルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−ヘキシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−オクチルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−デシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−テトラデシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−ヘキサデシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（１−オクタデシルピリジニウム塩）などの４，４’−（ｐ−キシリルジチオ）ビス（（１−アルキル）ピリジニウム塩）、例えば、３，３’−（ｍ−キシリルジチオ）ビス（１−テトラデシルピリジニウム塩）などの３，３’−（ｍ−キシリルジチオ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−ヘキシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−オクチルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−ドデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−テトラデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−ヘキサデシルピリジニウム塩）、Ｎ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−オクタデシルピリジニウム塩）などのＮ，Ｎ’−（ｐ−フェニレン）ビス（４−カルバモイル−１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、Ｎ，Ｎ’−（ｍ−フェニレン）ビス（３−カルバモイル−１−ドデシルピリジニウム塩）などのＮ，Ｎ’−（ｍ−フェニレン）ビス（３−カルバモイル−１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ブチルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ペンチルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ヘキシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ヘプチルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−オクチルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−デシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−テトラデシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−ヘキサデシルピリジニウム塩）、４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−オクタデシルピリジニウム塩）などの４，４’−（ｐ−フタルアミド）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、３，３’−（ｍ−フタルアミド）ビス（１−オクタデシルピリジニウム塩）などの３，３’−（ｍ−フタルアミド）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、１，４−テトラメチレンビス（４−カルバモイル−１−ヘキサデシルピリジニウム塩）、１，６−ヘキサメチレンビス（３−カルバモイル−１−ドデシルピリジニウム塩）、１，６−オクタメチレンビス（３−カルバモイル−１−テトラデシルピリジニウム塩）、３，３’−（１，３−トリメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）などの（アルキレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（１，８−オクタメチレンジオキシ）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）、３，３’−（１，６−ヘキサメチレンジオキシ）ビス（１−ヘキサドデシルピリジニウム塩）などの（アルキレンジオキシ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（１，６−ヘキサメチレンジオキシジカルボニル）ビス（１−オクチルピリジニウム塩）、３，３’−（１，６−テトラメチレンジオキシジカルボニル）ビス（１−ドデシルピリジニウム塩）などの（アルキレンジオキシジカルボニル）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（１，４−テトラメチレンジカルボニルジオキシ）ビス（１−オクチルピリジニウム塩）などの（アルキレンジカルボニルジオキシ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、４，４’−（１，８−オクタメチレンジカルボニルジチオキシ）ビス（１−オクタデシルピリジニウム塩）などの（アルキレンジカルボニルジチオキシ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、３，３’−（ｐ−フタロイルジオキシ）ビス（１−デシルピリジニウム塩）、３，３’−（ｍ−フタロイルジチオキシ）ビス（１−デシルピリジニウム塩）などの（フタロイルジチオキシ）ビス（１−アルキルピリジニウム塩）、例えば、１−オクチル−１’−（３−ヒドロキシトリメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−オクチル−１’−（６−ヒドロキシヘキサメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−オクチル−１’−（８−ヒドロキシオクタメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−オクチル−１’−（１０−ヒドロキシデカメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−オクチル−１’−（１２−ヒドロキシドデカメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−デシル−１’−（３−ヒドロキシトリメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−デシル−１’−（６−ヒドロキシヘキサメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−デシル−１’−（８−ヒドロキシオクタメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−デシル−１’−（１０−ヒドロキシデカメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−デシル−１’−（１２−ヒドロキシドデカメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−ドデシル−１’−（３−ヒドロキシトリメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−ドデシル−１’−（６−ヒドロキシヘキサメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−ドデシル−１’−（８−ヒドロキシオクタメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−ドデシル−１’−（１０−ヒドロキシデカメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩、１−ドデシル−１’−（１２−ヒドロキシドデカメチレン）−４，４’−ジピリジニウム塩 などの１−アルキル−１’−（１２−ヒドロキシアルキレン）−４，４’−ジピリジニウム塩などが挙げられる。
【００５７】
なお、上記したビス四級アンモニウム塩化合物のピリジニウム塩としては、上記したＺで示されるアニオンとの塩であれば特に制限されないが、例えば、ブロマイド（ピリジニウムブロマイド）、アイオダイド（ピリジニウムアイオダイド）、アセテート（ピリジニウムアセテート）などが挙げられる。
【００５８】
これらのうち、好ましくは、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウムブロマイド）（ダイマー３８、イヌイ社製）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウムアセテート）（ダイマー３８Ａ、イヌイ社製）、４，４’−（テトラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−デシルピリジニウムブロマイド）（ダイマー１３６、イヌイ社製）、４，４’−（テトラメチレンジカルボニルジアミノ）ビス（１−デシルピリジニウムアセテート）（ダイマー１３６Ａ、イヌイ社製）が挙げられ、さらに好ましくは、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウムブロマイド）（ダイマー３８、イヌイ社製）が挙げられる。これらビス四級アンモニウム塩化合物は、単独または２種以上併用してもよい。
【００５９】
また、本発明の微生物防除剤では、さらに、有効成分として、下記一般式（２）で示されるベンズイソチアゾリン系化合物を含有していることが好ましい。
【００６０】
一般式（２）
【００６１】
【化６】
一般式（２）の式中、Ｒ６で示される置換基を有していてもよい炭化水素基としては、上記したＲ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基と同様のものが挙げられ、置換基を有していない炭化水素基が好ましく、その中でも、アルキル基が好ましい。アルキル基としては、好ましくは、炭素数が１〜４のアルキル基、より好ましくは、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどが挙げられる。
【００６２】
また、Ｒ６の好ましい例としては、炭素数が１〜４のアルキル基および水素原子が挙げられる。
【００６３】
Ａ環で示されるベンゼン環の置換基としては、上記したＲ１およびＲ２で示される置換基を有していてもよい炭化水素基の置換基と同様のものが挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどの炭素数１〜４のアルキル基など）が挙げられる。これらの置換基は、同一または相異なって１〜４個、好ましくは、１または２個置換していてもよい。Ａ環で示される置換基を有していてもよいベンゼン環の好ましい態様としては、置換基を有していないベンゼン環が挙げられる。
【００６４】
このようなベンズイソチアゾリン系化合物は、以下に示す具体的な化合物に準じて公知の方法により製造することができ、その具体例としては、例えば、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、Ｎ−ｎ−ブチル−１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オンなどが挙げられる。
【００６５】
これらのうち、好ましくは、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オンが挙げられる。これらベンズイソチアゾリン系化合物は、単独または２種以上併用してもよい。
【００６６】
ベンズイソチアゾリン系化合物を含有させる割合は、ビス四級アンモニウム塩化合物１重量部に対して、例えば、０．００５〜１００重量部、好ましくは、０．０１〜５０重量部である。このような範囲においてベンズイソチアゾリン系化合物を含有させれば、ビス四級アンモニウム塩化合物の安定化をより一層図ることができるとともに、微生物に対する防除効果を相乗的に発現させることができる。また、ベンズイソチアゾリン系化合物も、後述する溶媒によって安定化されるので、微生物に対する相乗的な防除効果を、長期にわたって確保することができる。
【００６７】
より具体的には、ビス四級アンモニウム塩化合物１重量部に対して、例えば、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オンを含有させる割合は、０．０１〜５０重量部、さらには、０．１〜１０重量部であることが好ましい。
【００６８】
そして、本発明の微生物防除剤は、上記した有効成分（つまり、ビス四級アンモニウム塩化合物の単独成分、または、ビス四級アンモニウム塩化合物およびベンズイソチアゾリン系化合物の併用成分）を安定化させるために、溶媒として、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒を含有している。
【００６９】
非プロトン性極性溶媒としては、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、２−ピロリドンおよびその塩、Ｎ−メチル−３−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶媒、例えば、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、例えば、アセトニトリルなどのニトリル系溶媒などが挙げられる。
【００７０】
これら非プロトン性極性溶媒のうち、好ましくは、ピロリドン系溶媒、さらに好ましくは、Ｎ−メチル−２−ピロリドンが挙げられる。これら非プロトン性極性溶媒は、単独または２種以上併用してもよい。
【００７１】
プロトン性極性溶媒としては、例えば、水、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノールなどのアルコール系溶媒、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコール系溶媒などが挙げられる。
【００７２】
これらプロトン性極性溶媒のうち、好ましくは、グリコール系溶媒、さらに好ましくは、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテルが挙げられる。これらプロトン性極性溶媒は、単独または２種以上併用してもよい。
【００７３】
また、溶媒において、これら非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合は、例えば、これら溶媒の合計１００重量部に対して、非プロトン性極性溶媒が２０〜６０重量部、好ましくは、２５〜５０重量部、プロトン性極性溶媒が４０〜８０重量部、好ましくは、５０〜７５重量部である。
【００７４】
非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒の割合が、上記した範囲において、上記した有効成分の分解を抑制して、上記した有効成分を安定化させることができ、優れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保することができる。
【００７５】
また、これら溶媒の合計（つまり、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒の合計）に対する有効成分の割合は、例えば、これら溶媒の合計１００重量部に対して、有効成分（つまり、ビス四級アンモニウム塩化合物、ベンズイソチアゾリン系化合物および後述する他の防藻剤および／または防かび剤の合計）が、０．１〜１００重量部、好ましくは、０．５〜７５重量部である。より具体的には、これら溶媒の合計１００重量部に対して、例えば、ビス四級アンモニウム塩化合物が、０．１〜４０重量部、好ましくは、１〜２５重量部であり、ベンズイソチアゾリン系化合物が、０．２〜６０重量部、好ましくは、１〜５０重量部である。
【００７６】
上記した有効成分（後述する他の防藻剤および／または防かび剤を除く）の割合が、上記した範囲において、その有効成分の分解を抑制して、有効成分を安定化させることができ、優れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保することができる。
【００７７】
そして、本発明の微生物防除剤は、特に制限されず、上記した有効成分および溶媒を配合することにより、調製することができる。
【００７８】
より具体的には、例えば、ビス四級アンモニウム塩化合物、必要によりベンズイソチアゾリン系化合物を、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒に加えて、混合すればよい。
【００７９】
このような調製において、各成分を配合する順序は、特に制限されず、例えば、予め非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒を混合して溶媒を調製し、その溶媒に、ビス四級アンモニウム塩化合物、必要によりベンズイソチアゾリン系化合物を混合してもよく、また、例えば、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒を、ビス四級アンモニウム塩化合物、必要によりベンズイソチアゾリン系化合物と同時に混合してもよく、さらには、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒のうち、いずれか一方の溶媒に、ビス四級アンモニウム塩化合物、必要によりベンズイソチアゾリン系化合物を混合した後、その一方の溶媒に他方の溶媒を混合してもよい。
【００８０】
また、このような調製においては、本発明の効果を阻害しない範囲において、溶媒には、例えば、有効成分を市販品として入手した場合に含まれている他の有機溶媒などが含まれてもよい。
【００８１】
なお、本発明の微生物防除剤は、通常、上記した調製により、液剤として製剤化されるが、ビス四級アンモニウム塩化合物、必要によりベンズイソチアゾリン系化合物、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒を含有すれば、特に制限されることなく、懸濁剤、ペースト剤、粉剤、粒剤、マイクロカプセルなどの種々の剤型に製剤化することもできる。また、包接化合物として調製してもよく、さらに、層状ケイ酸塩などのモンモリロナイト（スメクタイト類など）などに担持させ、あるいは、クレー、シリカ、ホワイトカーボン、タルクなどに吸着させることにより、製剤化することもできる。
【００８２】
また、本発明の微生物防除剤は、その目的および用途によって、公知の添加剤、例えば、他の防藻剤および／または防かび剤、界面活性剤、酸化防止剤、光安定剤などを添加してもよい。
【００８３】
他の防藻剤および／または防かび剤としては、例えば、ニトロアルコール系化合物、ジチオール系化合物、チオフェン系化合物、ハロアセチレン系化合物、フタルイミド系化合物、ハロアルキルチオ系化合物、ピリチオン系化合物、フェニルウレア系化合物、トリアジン系化合物、グアニジン系化合物、トリアゾール系化合物、ベンズイミダゾール系化合物、四級アンモニウム塩系化合物が挙げられる。
【００８４】
ニトロアルコール系化合物としては、例えば、２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオール、２，２−ジブロモ−２−ニトロ−１−エタノールなどが挙げられる。
【００８５】
ジチオール系化合物としては、例えば、４，５−ジクロロ−１，２−ジチオール−３−オンがなど挙げられる。
【００８６】
チオフェン系化合物としては、例えば、３，３，４−トリクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシド、３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドなどが挙げられる。
【００８７】
ハロアセチレン系化合物としては、例えば、Ｎ−ブチル−３−ヨードプロピオール酸アミド、３−ヨード−２−プロピニルブチルカーバメートなどが挙げられる。
【００８８】
フタルイミド系化合物としては、例えば、Ｎ−１，１，２，２−テトラクロロエチルチオ−テトラヒドロフタルイミド（Ｃａｐｔａｆｏｌ）、Ｎ−トリクロロメチルチオ−テトラヒドロフタルイミド（Ｃａｐｔａｎ）、Ｎ−ジクロロフルオロメチルチオフタルイミド（Ｆｌｕｏｒｆｏｌｐｅｔ）、Ｎ−トリクロロメチルチオフタルイミド（Ｆｏｌｐｅｔ）などが挙げられる。
【００８９】
ハロアルキルチオ系化合物としては、例えば、Ｎ−ジメチルアミノスルホニル−Ｎ−トリル−ジクロロフルオロメタンスルファミド（Ｔｏｌｙｌｆｌｕａｎｉｄｅ）、Ｎ−ジメチルアミノスルホニル−Ｎ−フェニル−ジクロロフルオロメタンスルファミド（Ｄｉｃｈｌｏｆｌｕａｎｉｄｅ）などが挙げられる。
【００９０】
ピリチオン系化合物としては、例えば、ナトリウムピリチオン、ジンクピリチオンなどが挙げられる。
【００９１】
フェニルウレア系化合物としては、例えば、３−（３，４−ジクロロフェニル）−１，１−ジメチルウレアなどが挙げられる。
【００９２】
トリアジン系化合物としては、例えば、２−メチルチオ−４−ｔ−ブチルアミノ−６−シクロプロピルアミノ−s−トリアジンなどが挙げられる。
【００９３】
グアニジン系化合物としては、例えば、１，６−ジ−（４’−クロロフェニルジグアニド）−ヘキサン、ポリヘキサメチレンビグアニジン塩酸塩などが挙げられる。
【００９４】
トリアゾール系化合物としては、例えば、α−［２−（４−クロロフェニル）エチル］−α−（１，１−ジメチルエチル）−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−エタノール（慣用名：テブコナゾール）、１−［［２−（２，４−ジクロロフェニル）−４−ｎ−プロピル−１，３−ジオキソラン−２−イル］メチル］−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール（慣用名：プロピコナゾール）、１−［［２−（２，４−ジクロロフェニル）−１，３−ジオキソラン−２−イル］メチル］−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール（慣用名：アザコナゾール）、α−（４−クロロフェニル）−α−（１−シクロプロピルエチル）−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−エタノール（慣用名：シプロコナゾール）などが挙げられる。
【００９５】
ベンズイミダゾール系化合物としては、例えば、メチル ２−ベンズイミダゾールカルバメート、エチル ２−ベンズイミダゾールカルバメート、２−（４−チアゾリル）ベンズイミダゾールなどが挙げられる。
【００９６】
四級アンモニウム塩系化合物としては、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド、塩化ベンザルコニウム、ジ−ｎ−デシル−ジメチルアンモニウムクロライド、１−ヘキサデシルピリジニウムクロライドなどが挙げられる。
【００９７】
また、他の防藻剤および／または防かび剤として、その他に、例えば、ジヨードメチル−ｐ−トルイルスルホン、ｐ−クロロフェニル−３−ヨードプロパルギルフォルマールなどの有機ヨウ素系化合物、例えば、テトラメチルチウラムジスルフィドなどのチオカーバメート系化合物、例えば、２，４，５，６−テトラクロロイソフタロニトリルなどのニトリル系化合物、例えば、２，３，５，６−テトラクロロ−４−（メチルスルフォニル）ピリジンなどのピリジン系化合物、例えば、２−（４−チオシアノメチルチオ）ベンゾチアゾールなどのベンゾチアゾール系化合物、例えば、３−ベンゾ［ｂ］チエン−２−イル−５，６−ジヒドロ−１，４，２−オキサチアジン−４−オキサイドなどのオキサチアジン系化合物などが挙げられる。
【００９８】
これらの他の防藻剤および／または防かび剤は、単独または２種以上併用してもよい。また、他の防藻剤および／または防かび剤の配合割合は、その目的および用途によって適宜決定されるが、例えば、ビス四級アンモニウム塩化合物１００重量部に対して、１〜９０００重量部、好ましくは、３〜８０００重量部である。
【００９９】
また、界面活性剤としては、例えば、石鹸類、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両イオン界面活性剤、高分子界面活性剤など、公知の界面活性剤が挙げられ、好ましくは、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤が挙げられる。
【０１００】
また、酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール］などのフェノール系酸化防止剤、例えば、アルキルジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなどのアミン系酸化防止剤などが挙げられる。
【０１０１】
これら、界面活性剤および酸化防止剤は、例えば、液剤の場合には、液剤１００重量部に対して０．１〜５重量部添加される。
【０１０２】
また、光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートなどのヒンダードアミン系光安定剤などが挙げられる。
【０１０３】
このような光安定剤は、例えば、液剤の場合には、液剤１００重量部に対して０．１〜１０重量部添加される。
【０１０４】
このようにして得られる本発明の微生物防除剤は、優れた、抗菌、防かび、防腐、防藻作用などを発現し、細菌、かび、酵母、藻などに対する防除剤として用いることができ、しかも、非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒とが、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部の割合で含有されているので、ビス四級アンモニウム塩化合物の安定化を図ることができる。その結果、ビス四級アンモニウム塩化合物の製剤中における経時的な分解を抑制することができ、優れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保することができる。
【０１０５】
そのため、本発明の微生物防除剤は、例えば、製紙パルプ工場、冷却水循環工程などの種々の産業用水や、切削油などの金属加工用油剤、カゼイン、澱粉糊、にかわ、塗工紙、紙用塗工液、表面サイズ剤、塗料、接着剤、合成ゴムラテックス、インキ、ポリビニルアルコールフィルム、塩化ビニルフィルム、樹脂製品、セメント混和剤、シーリング剤、目地剤などの各種工業製品などの有害微生物の防除の用途において有効に用いることができる。
【０１０６】
より具体的には、例えば、製紙パルプ工場などのスライムコントロール剤、金属加工用油剤の防腐剤、塗料の防腐防かび剤、樹脂エマルションの防腐防かび剤、セメント混和剤の防腐剤、インキの防腐防かび剤、湿し水の防腐防かび剤、セメント減水剤の防腐防かび剤、植物の延命剤などの工業用の有害微生物防除剤として好適に用いられる。
【０１０７】
なお、本発明の微生物防除剤は、その適用対象に応じて添加量を適宜決定すればよいが、例えば、１〜１０００ｍｇ（全有効成分）／ｋｇ（製品）、好ましくは、５〜５００ｍｇ（全有効成分）／ｋｇ（製品）の濃度として用いることができる。
【０１０８】
また、本発明の微生物防除剤は、ｐＨが、３〜１３、好ましくは、４〜１２の適用対象に用いることができ、さらには、例えば、ＳＯ２ ２−、ＳＯ３ ２−、ＨＳＯ２ −、ＨＳＯ３ −、Ｓ２Ｏ３ ２−、好ましくは、ＳＯ３ ２−、ＨＳＯ３ −、Ｓ２Ｏ３ ２−などの還元剤の存在下においても、その効力を有効に発現することができる。なお、この場合の還元剤の濃度は、例えば、製品中１〜１００００ｐｐｍであることが好ましい。
【０１０９】
【実施例】
以下に実施例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。なお、以下の実施例に用いる有効成分の略号を下記に示す。
【０１１０】
ＨＭＤＰ−Ｂｒ：Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウムブロマイド）
ＨＭＤＰ−Ａｃ：Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（４−カルバモイル−１−デシルピリジニウムアセテート）
ＢＩＴ：１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン
実施例１
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４０．０ｇおよびプロピレングリコール５７．０ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１１】
実施例２
ダイマー３８Ａ（ＨＭＤＰ−Ａｃ：１０重量％プロピレングリコール溶液、イヌイ社製）３０．０ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４０．０ｇおよびプロピレングリコール３０．０ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１２】
実施例３
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン３７．１ｇおよびプロピレングリコール５５．７ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１３】
実施例４
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン２３．２ｇおよびプロピレングリコール６９．６ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１４】
実施例５
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン５１．０ｇおよびプロピレングリコール４１．８ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１５】
実施例６
ダイマー３８Ａ（ＨＭＤＰ−Ａｃ：１０重量％プロピレングリコール溶液、イヌイ社製）３０．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン３７．１ｇおよびプロピレングリコール２８．７ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１６】
実施例７
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４６．４ｇおよびジエチレングリコール４６．４ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１７】
比較例１
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン９２．８に混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１８】
比較例２
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、プロピレングリコール９２．８に混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１１９】
比較例３
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン１３．９ｇおよびプロピレングリコール７８．９ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１２０】
比較例４
ダイマー３８（ＨＭＤＰ−Ｂｒ：９９重量％、イヌイ社製）３．０ｇおよびプロクセルプレスペーストＤ（ＢＩＴ：８２．７重量％、アビシア社製）４．２ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン７０．０ｇおよびプロピレングリコール２２．８ｇに混合し、室温で撹拌して溶解することにより、１００ｇの液剤を得た。
【０１２１】
安定性試験
上記で得られた各実施例および各比較例を、６０℃で４週間密封後、液剤中の各有効成分の残存率％［（残存した有効成分の含有量／初期の有効成分の含有量）×１００］を液体クロマトグラフィーにて測定した。その結果を表１に示す。
【０１２２】
【表１】
実施例３および比較例４について、ｐＨ９に調整されたグルコース−ブイヨン寒天培地を用いた倍数希釈法で、表２に示す供試菌を用い、細菌は３３℃で１８時間培養、かびおよび酵母は２８℃で３日間培養し、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ：μｇ／ｍＬ）を求めた。その結果を表２に示す。
【０１２３】
【表２】
以上述べたように、本発明のビス四級アンモニウム塩化合物の安定化方法では、ビス四級アンモニウム塩化合物に、非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒とを、その割合が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部となるように配合することにより、ビス四級アンモニウム塩化合物を安定化させることができる。
【０１２４】
そのため、このようにして安定化されたビス四級アンモニウム塩化合物を有効成分として含む本発明の微生物防除剤は、優れた、抗菌、防かび、防腐、防藻作用などを発現し、細菌、かび、酵母、藻などに対する防除剤として用いることができ、しかも、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部およびプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部の配合により、ビス四級アンモニウム塩化合物の安定化を図ることができる。その結果、ビス四級アンモニウム塩化合物の製剤中における経時的な分解を抑制することができ、優れた微生物に対する防除効果を長期にわたって確保することができる。
【０００７】
すなわち、本発明は、
（１） ビス四級アンモニウム塩化合物と、ピロリドン系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ニトリル系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の非プロトン性極性溶媒と、水、アルコール系溶媒、グリコール系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種のプロトン性極性溶媒とを含有し、非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部であることを特徴とする、微生物防除剤、
（２） ビス四級アンモニウム塩化合物が、下記一般式（１）で示されることを特徴とする、前記（１）に記載の微生物防除剤、
一般式（１）
すなわち、本発明は、
（１） ビス四級アンモニウム塩化合物と、ピロリドン系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ニトリル系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の非プロトン性極性溶媒と、水、アルコール系溶媒、グリコール系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種のプロトン性極性溶媒とを含有し、非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部であることを特徴とする、微生物防除剤、
（２） ビス四級アンモニウム塩化合物が、下記一般式（１）で示されることを特徴とする、前記（１）に記載の微生物防除剤、
一般式（１）
【００１０】
【化４】
（式中、Ｒ６は、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を、Ａ環は置換基を有していてもよいベンゼン環を示す。）
（７） ビス四級アンモニウム塩化合物と、ピロリドン系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ニトリル系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の非プロトン性極性溶媒と、水、アルコール系溶媒、グリコール系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種のプロトン性極性溶媒とを、非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部となるように配合することを特徴とする、ビス四級アンモニウム塩化合物の安定化方法
を提供するものである。
【化４】
（７） ビス四級アンモニウム塩化合物と、ピロリドン系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ニトリル系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の非プロトン性極性溶媒と、水、アルコール系溶媒、グリコール系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種のプロトン性極性溶媒とを、非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部となるように配合することを特徴とする、ビス四級アンモニウム塩化合物の安定化方法
を提供するものである。
【０００７】
すなわち、本発明は、
（１） ビス四級アンモニウム塩化合物と、ピロリドン系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ニトリル系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の非プロトン性極性溶媒と、水、アルコール系溶媒、グリコール系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種のプロトン性極性溶媒とを含有し（ただし、アセトニトリル／エタノール／水の混合溶媒を除く。）、非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部であることを特徴とする、微生物防除剤、
（２） ビス四級アンモニウム塩化合物が、下記一般式（１）で示されることを特徴とする、前記（１）に記載の微生物防除剤、
一般式（１）
すなわち、本発明は、
（１） ビス四級アンモニウム塩化合物と、ピロリドン系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ニトリル系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の非プロトン性極性溶媒と、水、アルコール系溶媒、グリコール系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種のプロトン性極性溶媒とを含有し（ただし、アセトニトリル／エタノール／水の混合溶媒を除く。）、非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部であることを特徴とする、微生物防除剤、
（２） ビス四級アンモニウム塩化合物が、下記一般式（１）で示されることを特徴とする、前記（１）に記載の微生物防除剤、
一般式（１）
【００１０】
【化学式４】
（式中、Ｒ６は、置換基を有していてもよい炭化水素基または水素原子を、Ａ環は置換基を有していてもよいベンゼン環を示す。）
（７） ビス四級アンモニウム塩化合物と、ピロリドン系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ニトリル系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の非プロトン性極性溶媒と、水、アルコール系溶媒、グリコール系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種のプロトン性極性溶媒と（ただし、アセトニトリル／エタノール／水の混合溶媒を除く。）を、非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部となるように配合することを特徴とする、ビス四級アンモニウム塩化合物の安定化方法
を提供するものである。
【化学式４】
（７） ビス四級アンモニウム塩化合物と、ピロリドン系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、ニトリル系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種の非プロトン性極性溶媒と、水、アルコール系溶媒、グリコール系溶媒からなる群から選ばれる少なくとも１種のプロトン性極性溶媒と（ただし、アセトニトリル／エタノール／水の混合溶媒を除く。）を、非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部となるように配合することを特徴とする、ビス四級アンモニウム塩化合物の安定化方法
を提供するものである。
【００６８】
そして、本発明の微生物防除剤は、上記した有効成分（つまり、ビス四級アンモニウム塩化合物の単独成分、または、ビス四級アンモニウム塩化合物およびベンズイソチアゾリン系化合物の併用成分）を安定化させるために、溶媒として、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒を含有している（ただし、アセトニトリル／エタノール／水の混合溶媒を除く）。
そして、本発明の微生物防除剤は、上記した有効成分（つまり、ビス四級アンモニウム塩化合物の単独成分、または、ビス四級アンモニウム塩化合物およびベンズイソチアゾリン系化合物の併用成分）を安定化させるために、溶媒として、非プロトン性極性溶媒およびプロトン性極性溶媒を含有している（ただし、アセトニトリル／エタノール／水の混合溶媒を除く）。
Claims (7)
- ビス四級アンモニウム塩化合物と、非プロトン性極性溶媒と、プロトン性極性溶媒とを含有し、
非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部であることを特徴とする、微生物防除剤。 - ビス四級アンモニウム塩化合物が、下記一般式（１）で示されることを特徴とする、請求項１に記載の微生物防除剤。
一般式（１）
- 一般式（１）において、Ｚが無機アニオンであることを特徴とする、請求項２に記載の微生物防除剤。
- 非プロトン性極性溶媒が、ピロリドン系溶媒であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の微生物防除剤。
- プロトン性極性溶媒が、グリコール系溶媒であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の微生物防除剤。
- さらに、下記一般式（２）で示されるベンズイソチアゾリン系化合物を含有することを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の微生物防除剤。
一般式（２）
- ビス四級アンモニウム塩化合物と、非プロトン性極性溶媒と、プロトン性極性溶媒とを、
非プロトン性極性溶媒とプロトン性極性溶媒との割合が、非プロトン性極性溶媒２０〜６０重量部に対してプロトン性極性溶媒４０〜８０重量部となるように配合することを特徴とする、ビス四級アンモニウム塩化合物の安定化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002377913A JP3502629B1 (ja) | 2002-12-26 | 2002-12-26 | 微生物防除剤および安定化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002377913A JP3502629B1 (ja) | 2002-12-26 | 2002-12-26 | 微生物防除剤および安定化方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP3502629B1 JP3502629B1 (ja) | 2004-03-02 |
| JP2004203843A true JP2004203843A (ja) | 2004-07-22 |
Family
ID=32025615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002377913A Expired - Fee Related JP3502629B1 (ja) | 2002-12-26 | 2002-12-26 | 微生物防除剤および安定化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3502629B1 (ja) |
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| JP3502629B1 (ja) | 2004-03-02 |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
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| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071212 Year of fee payment: 4 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081212 Year of fee payment: 5 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081212 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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