JP4308725B2 - 微生物防除剤 - Google Patents

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Description

本発明は、微生物防除剤、詳しくは、細菌、かび、酵母、藻の防除剤として用いられる微生物防除剤に関する。
従来より、製紙パルプ工場、冷却水循環工程などの種々の産業用水や、切削油などの金属加工用油剤、カゼイン、澱粉糊、にかわ、塗工紙、紙用塗工液、表面サイズ剤、塗料、接着剤、合成ゴムラテックス、インキ、ポリビニルアルコールフィルム、塩化ビニルフィルム、樹脂製品、セメント混和剤、シーリング剤、目地剤などの各種工業製品には、細菌、かび、酵母、藻などの有害な微生物が繁殖しやすく、生産性や品質の低下、悪臭の発生などの原因となっている。そのため、このような有害微生物の繁殖を防除するために、抗菌、防かび、防腐、防藻効果を発現する種々の微生物防除剤が広く使用されている。
また、このような微生物防除剤として、近年、例えば、特開平9−110692号公報、特開平10−95773号公報、特開平10−287566号公報、特開2000−136185号公報、特開2000−95763号公報、特開2000−198879号公報などにおいて、それらに記載されるビス四級アンモニウム塩化合物が、広い抗菌スペクトルを有し、優れた防除効果を発現することが報告されている。
特開平9−110692号公報 特開平10−95773号公報 特開平10−287566号公報 特開2000−136185号公報 特開2000−95763号公報 特開2000−198879号公報
しかし、上記したビス四級アンモニウム塩化合物を単独で使用しても、その防除効果が十分でない場合もあり、十分な防除効果を発現し得る新規な微生物防除剤の開発が望まれている。
そこで、本発明はこのような事情に鑑みなされたもので、その目的とするところは、細菌、かび、酵母、藻などに対して優れた防除効果を発現することのできる、微生物防除剤を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明者らは、ビス四級アンモニウム塩化合物と併用して優れた相乗効果を発現し得る化合物および配合割合について鋭意検討したところ、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)に、下記一般式(2)または(3)で示される化合物を、特定の配合割合で併用することにより、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)と相乗的な防除効果を発現し得る知見を見い出し、さらに研究を進めた結果、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
(1) N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)と、下記一般式(2)で示されるニトロアルコールとが、前記N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)1重量部に対して、前記ニトロアルコールが0.2〜19重量部の割合で含有されていることを特徴とする、微生物防除剤、
一般式(2)
Figure 0004308725
(式中、X1およびX2は、同一または相異なって、ハロゲン原子または水素原子を、R2は、炭素数1〜4のアルキル基または水素原子を示す。)
(2) 前記ニトロアルコールが、2,2−ジブロモ−2−ニトロ−1−エタノールであることを特徴とする、前記(1)に記載の微生物防除剤、
(3) N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)と、下記一般式(3)で示されるチオフェンとが、前記N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)1重量部に対して、前記チオフェンが0.3〜21重量部の割合で含有されていることを特徴とする、微生物防除剤、
一般式(3)
Figure 0004308725
(式中、X3、X4、X5およびX6は、同一または相異なって、ハロゲン原子または水素原子を示す。)
(4) 前記チオフェンが、3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドであることを特徴とする、前記(3)に記載の微生物防除剤
を提供するものである。
本発明の微生物防除剤は、有効成分として、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)と、ニトロアルコールとを、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)1重量部に対して、ニトロアルコールを0.17〜20重量部、好ましくは、0.2〜19重量部の割合で含有させることにより、調製することができる。
N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)のピリジニウム塩に用いられる塩(アニオン)としては、例えば、無機アニオン、有機アニオンが挙げられる。
無機アニオンとしては、例えば、ハロゲンイオン(例えば、F、Cl、Br、Iなど)、ヨウ素酸イオン(IO )、臭素酸イオン(BrO )、塩素酸イオン(ClO )、過ヨウ素酸イオン(IO )、過塩素酸イオン(ClO )、硫酸イオン(SO 2−)、硝酸イオン(NO )、リン酸イオン(PO 3−)、亜硫酸イオン(SO 2−)、亜硝酸イオン(NO )などが挙げられる。
有機アニオンとしては、例えば、遊離の有機カルボン酸や遊離の有機スルホン酸などの遊離の有機酸などが挙げられる。遊離の有機酸としては、炭素数1〜20、好ましくは、炭素数1〜10の遊離の有機酸が挙げられる。
遊離の有機カルボン酸としては、例えば、1価の飽和カルボン酸イオン、2価の飽和カルボン酸イオン、1価の不飽和カルボン酸イオン、2価の不飽和カルボン酸イオン、ヒドロキシカルボン酸イオン、オキソカルボン酸イオン、芳香族カルボン酸イオンなどが挙げられる。
1価の飽和カルボン酸イオンとしては、例えば、蟻酸イオン(HCOO)、酢酸イオン(CHCOO)、プロピオン酸イオン(CCOO)、酪酸イオン(CCOO)、イソ酪酸イオン((CHCHCOO)、吉草酸イオン(CH(CHCOO)、イソ吉草酸イオン((CHCHCHCOO)、ピバル酸イオン((CHCCOO)、オクタン酸イオン(CH(CHCOO)、デカン酸イオン(CH(CHCOO)、ラウリン酸イオン(CH(CH10COO)、ミリスチン酸イオン(CH(CH12COO)、パルミチン酸イオン(CH(CH14COO)、ステアリン酸イオン(CH(CH16COO)などの炭素数1〜18の1価の飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
2価の飽和カルボン酸イオンとしては、例えば、シュウ酸イオン((COO)、マロン酸イオン(CH(COO)、コハク酸イオン((OOC)(CH(COO))、グルタル酸イオン((OOC)(CH(COO))、アジピン酸イオン((OOC)(CH(COO))、ピメリン酸イオン((OOC)(CH(COO))、スベリン酸イオン((OOC)(CH(COO))、アゼライン酸イオン((OOC)(CH(COO))、セバシン酸イオン((OOC)(CH(COO))などの炭素数2〜10の2価の飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
1価の不飽和カルボン酸イオンとしては、例えば、アクリル酸イオン(CH=CHCOO)、メタクリル酸イオン(CH=C(CH)COO)、クロトン酸イオン(CHCH=CHCOO)、cis−クロトン酸イオン(CHCH=CHCOO)、ソルビン酸イオン(CHCH=CHCH=CHCOO)、オレイン酸イオン(CH(CHCH=CH(CHCOO)、trans−9−オクタデセン酸イオン(CH(CHCH=CH(CHCOO)、フランカルボン酸イオン(COCOO)などの炭素数3〜18の1価の不飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
2価の不飽和カルボン酸イオンとしては、例えば、マレイン酸イオン(CH(COO)=CHCOO)、シトラコン酸イオン((CH)C(COO)=CHCOO)、メサコン酸イオン((COO)C(CH)=CHCOO)などの炭素数4〜5の2価の不飽和カルボン酸イオンなどが挙げられる。
ヒドロキシカルボン酸イオンとしては、例えば、乳酸イオン(CHCH(OH)COO)、リンゴ酸イオン(CH(OH)(COO)CHCOO)、クエン酸イオン(CH(COO)C(OH)(COO)CHCOO)、グリコン酸イオン(CH(OH)CH(OH)CH(OH)CH(OH)CH(OH)COO)などの炭素数3〜6のヒドロキシカルボン酸イオンなどが挙げられる。
オキソカルボン酸イオンとしては、例えば、ピルビン酸イオン(CHCOCOO)、アセト酢酸イオン(CHCOCHCOO)などの炭素数3〜4のオキソカルボン酸イオンなどが挙げられる。
芳香族カルボン酸イオンとしては、例えば、安息香酸イオン(CCOO)、フタル酸イオン(C(COO)、ナフタレンカルボン酸イオン(C10COO)、ピリジンカルボン酸イオン(CNCOO)などの炭素数5〜11の芳香族カルボン酸イオンなどが挙げられる。
また、遊離の有機スルホン酸としては、例えば、メチル硫酸イオン((CH)SO )、エチル硫酸イオン((C)SO )、メチルベンゼンスルホン酸イオン(CHSO )などの炭素数1〜7の有機スルホン酸イオンが挙げられる。
また、有機アニオンとしては、その他に、アミノ酸、エリソルビン酸、アスコルビン酸、デヒドロ酢酸、アルコラート、フェノラートおよび水酸基に起因する有機アニオンなどが挙げられる。
これらアニオンは、単独または2種以上併用してもよい。好ましくは、有機アニオン、さらに好ましくは、遊離の有機酸、より好ましくは、遊離の有機カルボン酸が挙げられる。
そして、上記したN,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)のピリジニウム塩としては、上記したアニオンとの塩であれば特に制限されないが、好ましくは、ブロマイド(ピリジニウムブロマイド)、アイオダイド(ピリジニウムアイオダイド)、アセテート(ピリジニウムアセテート)などが挙げられる。
このようなN,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)は、以下に示す具体的な化合物に準じて公知の方法により製造することができ、その具体例としては、例えば、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムブロマイド)、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムアイオダイド)、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムアセテート)が挙げられる。
これらのうち、好ましくは、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムブロマイド)(ダイマー38、イヌイ社製)、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムアセテート)(ダイマー38A、イヌイ社製)が挙げられる。これらN,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)は、単独または2種以上併用してもよい。
ニトロアルコールは、下記一般式(2)で示される。
一般式(2)
Figure 0004308725
(式中、X1およびX2は、同一または相異なって、ハロゲン原子または水素原子を、R2は、炭素数1〜4のアルキル基または水素原子を示す。)
一般式(2)の式中、X1およびX2で示されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられる。好ましくは、臭素、塩素が挙げられ、さらに好ましくは、臭素が挙げられる。
一般式(2)の式中、R2で示される炭素数1〜4のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチルなどの炭素数1〜4のアルキル基が挙げられる。好ましくは、メチル、エチルが挙げられ、さらに好ましくは、メチルが挙げられる。
一般式(2)の好ましい態様としては、X1およびX2が、両方ともにハロゲン原子、または、いずれか一方がハロゲン原子で他方が水素原子であり、R2が、メチルまたは水素原子である態様が挙げられる。
このようなニトロアルコールは、以下に示す具体的な化合物に準じて公知の方法により製造することができ、その具体例としては、例えば、2,2−ジブロモ−2−ニトロ−1−エタノール、3,3−ジブロモ−3−ニトロ−2−プロパノール、2−クロロ−2−ニトロエタノール、3−クロロ−3−ニトロ−2−プロパノールなどが挙げられる。これらのうち、好ましくは、2,2−ジブロモ−2−ニトロ−1−エタノールが挙げられる。これらニトロアルコールは、単独または2種以上併用してもよい。
そして、本発明の微生物防除剤は、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)とニトロアルコールとを、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)1重量部に対して、ニトロアルコールが0.2〜19重量部、好ましくは、1〜15重量部、さらに好ましくは、4〜15重量部の割合で配合することにより、得ることができる。
N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)とニトロアルコールとの好ましい組み合わせとして、例えば、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムブロマイド)、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムアセテート)からなる群から選ばれる少なくとも1種のN,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)と、2,2−ジブロモ−2−ニトロ−1−エタノール、3,3−ジブロモ−3−ニトロ−2−プロパノール、2−クロロ−2−ニトロエタノール、3−クロロ−3−ニトロ−2−プロパノールからなる群から選ばれる少なくとも1種のニトロアルコールとの組み合わせが挙げられる。さらに好ましくは、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムブロマイド)と2,2−ジブロモ−2−ニトロ−1−エタノールとの組み合わせ、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムアセテート)と2,2−ジブロモ−2−ニトロ−1−エタノールとの組み合わせが挙げられる。
N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)とニトロアルコールとの配合は、特に制限されず、これらを互いに配合して混合攪拌すればよく、後述するように、種々の剤型に製剤化して用いることができる。
そして、このようにして得られる本発明の微生物防除剤は、細菌、かび、酵母、藻の少なくとも1つに対して優れた防除効果を発現するため、これらの防除剤として好適に用いられる。
なお、本発明の微生物防除剤は、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)とニトロアルコールとを、予め配合して製剤化したものを適用対象中に添加してもよく、また、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)とニトロアルコールとを、別々に製剤化し、使用直前に配合して適用対象中に添加してもよく、あるいは、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)とニトロアルコールとを、別々に製剤化し、別々に添加して適用対象中において作用させてもよい。
また、本発明の微生物防除剤は、有効成分として、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)と、チオフェンとを、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)1重量部に対して、チオフェンを0.25〜21重量部、好ましくは0.3〜21重量部の割合で含有させることにより、調製することもできる。
N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)およびその具体的な化合物は、上記と同様のものが挙げられる。
好ましくは、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムブロマイド)、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムアセテート)が挙げられる。また、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)は、単独または2種以上併用してもよい。
チオフェンは、下記一般式(3)で示される。
一般式(3)
Figure 0004308725
(式中、X3、X4、X5およびX6は、同一または相異なって、ハロゲン原子または水素原子を示す。)
一般式(3)の式中、X3、X4、X5およびX6で示されるハロゲン原子としては、上記したX1で示されるハロゲン原子と同様のものが挙げられ、好ましくは、臭素、塩素が挙げられ、さらに好ましくは、塩素が挙げられる。
一般式(3)の好ましい態様としては、X3、X4、X5およびX6のすべてがハロゲン原子、X3、X4、X5がハロゲン原子でX6が水素原子、X3およびX4がハロゲン原子でX5およびX6が水素原子である態様が挙げられる。このうち、X3、X4、X5およびX6のすべてがハロゲン原子、とりわけ、X3、X4、X5およびX6のすべてが塩素原子である態様が好ましい。
このようなチオフェンは、以下に示す具体的な化合物に準じて公知の方法により製造することができ、その具体例としては、例えば、3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド、3,3,4,4−テトラブロモテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド、3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド、3,3,4−トリクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド、3,3,4−トリブロモテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドなどが挙げられる。これらのうち、好ましくは、3,3,4−トリクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド、3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド、さらに好ましくは、3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドが挙げられる。これらチオフェンは、単独または2種以上併用してもよい。
そして、本発明の微生物防除剤は、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)とチオフェンとを、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)1重量部に対して、チオフェンが0.3〜21重量部、好ましくは、0.8〜7.2重量部の割合で配合することにより、得ることができる。
N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)とチオフェンとの好ましい組み合わせとして、例えば、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムブロマイド)、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムアセテート)からなる群から選ばれる少なくとも1種のN,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)と、3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド、3,3,4,4−テトラブロモテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド、3,4−ジクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド、3,3,4−トリクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド、3,3,4−トリブロモテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドからなる群から選ばれる少なくとも1種のチオフェンとの組み合わせが挙げられる。さらに好ましくは、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムブロマイド)と3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドとの組み合わせ、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムアセテート)と3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドとの組み合わせが挙げられる。
N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)とチオフェンとの配合は、特に制限されず、これらを互いに配合して混合攪拌すればよく、後述するように、種々の剤型に製剤化して用いることができる。
そして、このようにして得られる本発明の微生物防除剤は、細菌、かび、酵母、藻の少なくとも1つに対して優れた防除効果を発現するため、これらの防除剤として好適に用いられる。
なお、本発明の微生物防除剤は、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)とチオフェンとを、予め配合して製剤化したものを適用対象中に添加してもよく、また、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)とチオフェンとを、別々に製剤化し、使用直前に配合して適用対象中に添加してもよく、あるいは、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)とチオフェンとを、別々に製剤化し、別々に添加して適用対象中において作用させてもよい。
そして、上記した本発明の微生物防除剤を製剤化する場合には、特に限定されることなく、公知の方法を用いることができ、その目的および用途に応じて、例えば、液剤(水懸濁剤および油剤を含む。)、ペースト剤、粉剤、粒剤、マイクロカプセルなどの公知の種々の剤型に製剤化すればよい。また、包接化合物として調製してもよく、さらに、層状ケイ酸塩などのモンモリロナイト(スメクタイト類など)などに担持させ、あるいは、クレー、シリカ、ホワイトカーボン、タルクなどに吸着させることにより調製してもよい。
これらのうち、例えば、液剤として製剤化する場合には、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)と、ニトロアルコール、チオフェンのいずれか(以下、併用有効成分とする。)とを、上記した配合割合で、適宜溶剤に溶解または分散すればよい。より具体的には、例えば、液剤100重量%中に、溶剤が1〜99.8重量%、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)が0.1〜95重量%、各併用有効成分が0.1〜95重量%となる範囲でぞれぞれ配合し、溶解または分散させればよい。用いられる溶剤としては、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)および各併用有効成分を溶解しまたは分散し得る溶剤であれば特に制限されない。
このような溶剤としては、例えば、水、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、tert−ブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノールなどのアルコール系溶剤、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコール系溶剤、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピレンカーボネートなどのケトン系溶剤、例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチルエーテルなどのエーテル系溶剤、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、γ−ブチロラクトン、アジピン酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、コハク酸ジメチルなどのエステル系溶剤、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、イソプロピルナフタレン、ジイソプロピルナフタレン、エチルビフェニル、ジエチルビフェニル、ソルベントナフサなどの芳香族系溶剤、例えば、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素系溶剤、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、N−メチルピロリドンなどの極性溶剤などが挙げられる。
また、工業的に使用されている脂肪族系石油溶剤や芳香族系石油溶剤を用いてもよい。脂肪族系石油溶剤としては、例えば、ミネラルスピリットなどが挙げられる。また、芳香族系石油溶剤としては、市販品として、例えば、MSP(蒸留範囲(℃)90〜120、比重(15/4℃)0.820以上、混合アニリン点(℃)26以下、芳香族含量(容量%)70以上)、スーパーゾール100(蒸留範囲(℃)95〜111、比重(15/4℃)0.825、混合アニリン点(℃)26.0、芳香族含量(容量%)75以上)、ペガゾールARO−80(蒸留範囲(℃)104〜123、比重(15/4℃)0.832、混合アニリン点(℃)26、芳香族含量(容量%)75.9)、スワゾール100(蒸留範囲(℃)106〜116、比重(15/4℃)0.835、混合アニリン点(℃)24.6、芳香族含量(容量%)76.4)、スワゾール200(蒸留範囲(℃)132〜144、比重(15/4℃)0.844、混合アニリン点(℃)23.8、芳香族含量(容量%)80.9)、MHS(蒸留範囲(℃)140〜170、比重(15/4℃)0.86〜0.88、混合アニリン点(℃)11〜12、芳香族含量(容量%)98以上)、ハイアロム2S(蒸留範囲(℃)152〜187、比重(15/4℃)0.816、混合アニリン点(℃)47以下、芳香族含量(容量%)45〜55)、スワゾール310(蒸留範囲(℃)153〜177、比重(15/4℃)0.817、混合アニリン点(℃)43.6、芳香族含量(容量%)51.0)、スーパーゾール150(蒸留範囲(℃)153〜197、比重(15/4℃)0.815、混合アニリン点(℃)21.5、芳香族含量(容量%)50以上)、昭石ハイゾール(蒸留範囲(℃)153〜198、比重(15.6/15.6℃)0.818、芳香族含量(容量%)55)、HAWS(蒸留範囲(℃)154〜190、比重(15/4℃)0.822、芳香族含量(容量%)50)、スーパーゾール1500(蒸留範囲(℃)155〜171、比重(15/4℃)0.869、混合アニリン点(℃)14.6、芳香族含量(容量%)98以上)、日石ハイゾール100(蒸留範囲(℃)155〜180、比重(15/4℃)0.870〜0.880、混合アニリン点(℃)15以下、芳香族含量(容量%)99.0以上)、ベガゾールR120(蒸留範囲(℃)156〜174、比重(15/4℃)0.874、混合アニリン点(℃)14、芳香族含量(容量%)96.4)、ソルベッソ100(蒸留範囲(℃)158〜177、比重(15/4℃)0.870、混合アニリン点(℃)14、芳香族含量(容量%)98.0)、MSS(蒸留範囲(℃)158〜180、比重(15.6/15.6℃)0.86〜0.89、混合アニリン点(℃)13〜14、芳香族含量(容量%)98以上)、SHELLSOL A(蒸留範囲(℃)160〜182、比重(15/4℃)0.873、芳香族含量(容量%)98)、スワゾール1000(蒸留範囲(℃)162〜176、比重(15/4℃)0.878、混合アニリン点(℃)12.7、芳香族含量(容量%)99.7)、出光イプゾール100(蒸留範囲(℃)162〜179、比重(15/4℃)0.875、混合アニリン点(℃)13.5、芳香族含量(容量%)99.5以上)、昭石特ハイゾール(蒸留範囲(℃)162〜180、比重(15/4℃)0.881、混合アニリン点(℃)12.6、芳香族含量(容量%)99.99)、スワゾール1500(蒸留範囲(℃)180〜207比重(15/4℃)0.886、混合アニリン点(℃)16.5、芳香族含量(容量%)98.8)、日石ハイゾール150(蒸留範囲(℃)182〜216、比重(15/4℃)0.887〜0.904、混合アニリン点(℃)17以下、芳香族含量(容量%)99.0以上)、スーパーゾール1800(蒸留範囲(℃)183〜208、比重(15/4℃)0.889、混合アリニン点(℃)15.7、芳香族含量(容量%)99以上)、ソルベッソ150(蒸留範囲(℃)185〜211、比重(15/4℃)0.896、混合アニリン点(℃)18.3、芳香族含量(容量%)97.3)、出光イプゾール150(蒸留範囲(℃)186〜205、比重(15.6/15.6℃)0.895、混合アニリン点(℃)15.2、芳香族含量(容量%)99.5以上)、SHELLSOL AB(蒸留範囲(℃)187〜213、比重(15/4℃)0.894、芳香族含量(容量%)99.5)、ペガゾールR160(蒸留範囲(℃)191〜212、比重(15/4℃)0.890、混合アニリン点(℃)18、芳香族含量(容量%)97.2)、スワゾール1800(蒸留範囲(℃)197〜237、比重(15/4℃)0.940、混合アニリン点(℃)14.0、芳香族含量(容量%)99.6)が挙げられる。
これらのうち、好ましくは、水、アルコール系溶剤、グリコール系溶剤、極性溶剤などが挙げられる。これら溶剤は、単独または2種以上併用してもよい。
さらに、本発明の微生物防除剤は、その目的および用途によって、公知の添加剤、例えば、他の防藻剤および/または防かび剤、界面活性剤、酸化防止剤、光安定剤などを添加してもよい。
他の防藻剤および/または防かび剤としては、例えば、ジチオール系化合物、ハロアセチレン系化合物、フタルイミド系化合物、ハロアルキルチオ系化合物、ピリチオン系化合物、フェニルウレア系化合物、トリアジン系化合物、グアニジン系化合物、トリアゾール系化合物、ベンズイミダゾール系化合物、四級アンモニウム塩系化合物が挙げられる。
ジチオール系化合物としては、例えば、4,5−ジクロロ−1,2−ジチオール−3−オンがなど挙げられる。
ハロアセチレン系化合物としては、例えば、N−ブチル−3−ヨードプロピオール酸アミド、3−ヨード−2−プロピニルブチルカーバメートなどが挙げられる。
フタルイミド系化合物としては、例えば、N−1,1,2,2−テトラクロロエチルチオ−テトラヒドロフタルイミド(Captafol)、N−トリクロロメチルチオ−テトラヒドロフタルイミド(Captan)、N−ジクロロフルオロメチルチオフタルイミド(Fluorfolpet)、N−トリクロロメチルチオフタルイミド(Folpet)などが挙げられる。
ハロアルキルチオ系化合物としては、例えば、N−ジメチルアミノスルホニル−N−トリル−ジクロロフルオロメタンスルファミド(Tolylfluanide)、N−ジメチルアミノスルホニル−N−フェニル−ジクロロフルオロメタンスルファミド(Dichlofluanide)などが挙げられる。
ピリチオン系化合物としては、例えば、ナトリウムピリチオン、ジンクピリチオンなどが挙げられる。
フェニルウレア系化合物としては、例えば、3−(3,4−ジクロロフェニル)−1,1−ジメチルウレアなどが挙げられる。
トリアジン系化合物としては、例えば、2−メチルチオ−4−t−ブチルアミノ−6−シクロプロピルアミノ−s−トリアジンなどが挙げられる。
グアニジン系化合物としては、例えば、1,6−ジ−(4’−クロロフェニルジグアニド)−ヘキサン、ポリヘキサメチレンビグアニジン塩酸塩などが挙げられる。
トリアゾール系化合物としては、例えば、α−[2−(4−クロロフェニル)エチル]−α−(1,1−ジメチルエチル)−1H−1,2,4−トリアゾール−1−エタノール(慣用名:テブコナゾール)、1−[[2−(2,4−ジクロロフェニル)−4−n−プロピル−1,3−ジオキソラン−2−イル]メチル]−1H−1,2,4−トリアゾール(慣用名:プロピコナゾール)、1−[[2−(2,4−ジクロロフェニル)−1,3−ジオキソラン−2−イル]メチル]−1H−1,2,4−トリアゾール(慣用名:アザコナゾール)、α−(4−クロロフェニル)−α−(1−シクロプロピルエチル)−1H−1,2,4−トリアゾール−1−エタノール(慣用名:シプロコナゾール)などが挙げられる。
ベンズイミダゾール系化合物としては、例えば、メチル 2−ベンズイミダゾールカルバメート、エチル 2−ベンズイミダゾールカルバメート、2−(4−チアゾリル)ベンズイミダゾールなどが挙げられる。
四級アンモニウム塩系化合物としては、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド、塩化ベンザルコニウム、ジ−n−デシル−ジメチルアンモニウムクロライド、1−ヘキサデシルピリジニウムクロライドなどが挙げられる。
また、他の防藻剤および/または防かび剤として、その他に、例えば、ジヨードメチル−p−トルイルスルホン、p−クロロフェニル−3−ヨードプロパルギルフォルマールなどの有機ヨウ素系化合物、例えば、テトラメチルチウラムジスルフィドなどのチオカーバメート系化合物、例えば、2,4,5,6−テトラクロロイソフタロニトリルなどのニトリル系化合物、例えば、2,3,5,6−テトラクロロ−4−(メチルスルフォニル)ピリジンなどのピジリン系化合物、例えば、2−(4−チオシアノメチルチオ)ベンゾチアゾールなどのベンゾチアゾール系化合物、例えば、3−ベンゾ[b]チエン−2−イル−5,6−ジヒドロ−1,4,2−オキサチアジン−4−オキサイドなどのオキサチアジン系化合物などが挙げられる。
これらの他の防藻剤および/または防かび剤は、単独または2種以上併用してもよい。また、他の防藻剤および/または防かび剤の配合割合は、その剤型および目的ならびに用途によって適宜決定されるが、例えば、ビス四級アンモニウム塩化合物100重量部に対して、1〜9000重量部、好ましくは、3〜8000重量部である。
さらに、例えば、N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)といずれかの併用有効成分とを含む製剤に、他の併用有効成分を上記した割合で添加してもよい。
また、界面活性剤としては、例えば、石鹸類、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両イオン界面活性剤、高分子界面活性剤など、公知の界面活性剤が挙げられ、好ましくは、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤が挙げられる。
ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアルカノールアミド、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステルなどが挙げられる。
より具体的には、ポリオキシエチレンアルキルエーテルおよびポリオキシエチレンアルキルアリルエーテルとして、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル(エマルゲン(花王社製、以下同じ)104P、エマルゲン105、エマルゲン106、エマルゲン108、エマルゲン109P、エマルゲン120、エマルゲン123P、エマルゲン147、エマルゲン130K)、例えば、ポリオキシエチレンセチルエーテル(エマルゲン210P、エマルゲン220)、例えば、ポリオキシエチレンステアリルエーテル(エマルゲン306P、エマルゲン320P)、例えば、ポリオキシエチレンオレイルエーテル(エマルゲン404、エマルゲン408、エマルゲン409P、エマルゲン420、エマルゲン430)、例えば、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル(エマルゲン705、エマルゲン707、エマルゲン709)、例えば、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル(エマルゲン810、エマルゲン840S)、例えば、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル(エマルゲン903、エマルゲン904、エマルゲン905、エマルゲン906、エマルゲン909、エマルゲン910、エマルゲンPI−20T、エマルゲン911、エマルゲン913、エマルゲン920、エマルゲン930、エマルゲン931、エマルゲン935、エマルゲン950、エマルゲン985)などが挙げられる。
また、ポリオキシエチレン誘導体およびソルビタン脂肪酸エステルとして、例えば、ポリオキシエチレン誘導体(エマルゲンA−60、エマルゲンA−90、エマルゲンA−500、エマルゲンB−66、エマルゲンL−40)、例えば、ソルビタンモノラウレート(レオドール(花王社製、以下同じ)SP−L10)、例えば、ソルビタンモノパルミテート(レオドールSP−P10)、例えば、ソルビタンモノステアレート(レオドールSP−S10)、例えば、ソルビタントリステアレート(レオドールSP−S30)、例えば、ソルビタンモノオレエート(レオドールSP−O10)、例えば、ソルビタントリオレエート(レオドールSP−O30)、例えば、ソルビタンモノラウレート(レオドールスーパーSP−L10)、例えば、ソルビタンモノステアレート(レオドールスーパーSP−S10)、例えば、ソルビタンモノステアレート(レオドールAS−10)、例えば、ソルビタンモノオレエート(レオドールAO−10)、例えば、ソルビタンセスキオレエート(レオドールAO−15)、例えば、ソルビタンモノラウレート(エマゾール(花王社製、以下同じ)L−10(F))、例えば、ソルビタンモノパルミテート(エマゾールP−10(F))、例えば、ソルビタンモノステアレート(エマゾールS−10(F))、例えば、ソルビタンモノオレエート(エマゾールO−10(F))、例えば、ソルビタンモノラウレート(エマゾールスーパーL−10(F))、例えば、ソルビタンモノステアレート(エマゾールスーパーS−10(F))、例えば、ソルビタンセスキオレエート(エマゾールO−15R)、例えば、ソルビタンジステアレート(エマゾールS−20)などが挙げられる。
また、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミンおよびアルキルアルカノールアミドとして、例えば、ポリエチレングリコールモノラウレート(エマノーン(花王社製、以下同じ)1112)、例えば、ポリエチレングリコールモノステアレート(エマノーン3199)、例えば、ポリエチレングリコールジステアレート(エマノーン3299)、例えば、ポリエチレングリコールジステアレート(エマノーン3299R)、例えば、ポリエチレングリコールモノオレエート(エマノーン4110)、例えば、ポリオキシエチレンアルキルアミン(アミート(花王社製、以下同じ)105、アミート320)、例えば、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油(エマノーンCH−25、エマノーンCH−40、エマノーンCH−60(K)、エマノーンCH−80)、例えば、アルキルアルカノールアミド(アミノーン(花王社製、以下同じ)PK−02S、アミノーンL−02)などが挙げられる。
また、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステルとして、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート(レオドールTW−L120)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート(レオドールTW−L106)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート(レオドールTW−P120)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート(レオドールTW−S120)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート(レオドールTW−S106)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート(レオドールTW−S320)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート(レオドールTW−O120)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート(レオドールTW−O106)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート(レオドールTW−O320)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート(レオドールスーパーTW−L120)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート(レオドールスーパーTW−S120)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート(レオドールスーパーTW−O120)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート(エマゾールO−105R)、例えば、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット(レオドール430、レオドール440、レオドール460)、例えば、グリセロールモノステアレート(レオドールMS−50)、例えば、グリセロールモノステアレート(レオドールMS−60)、例えば、グリセロールモノオレエート(レオドールMO−60)、例えば、自己乳化型グリセロールモノステアレート(レオドールMS−165)、例えば、グリセロールモノオレエート(エマゾールMO−50)、例えば、分子蒸留モノグリセライドステアリン系(エキセル(花王社製、以下同じ)T−95)、例えば、分子蒸留モノグリセライド植物性ステアリン系(エキセルVS−95)、例えば、分子蒸留モノグリセライド植物性オレイン系(エキセルO−95R)、例えば、中純度モノグリセライドステアリン系(エキセル150)、例えば、中純度モノグリセライドステアリン・オレイン系(エキセル200)、例えば、中純度モノグリセライドオレイン系(エキセル300)、例えば、中純度モノグリセライドステアリン系(エキセル84)、例えば、中純度モノグリセライドオレイン・ステアリン系(エキセル122)、例えば、中純度モノグリセライド自己乳化型ステアリン系(エキセルP−40S)、例えば、中純度モノグリセライドオレイン・ステアリン系(エキセルP−40)などが挙げられる。
アニオン系界面活性剤としては、例えば、アルキルベンゼンスルホン酸金属塩、アルキルナフタレンスルホン酸金属塩、ポリカルボン酸型界面活性剤、ジアルキルスルホコハク酸エステル金属塩、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテルサルフェートアンモニウム塩、リグニンスルホン酸金属塩などが挙げられる。また、これらの金属塩としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩などが挙げられる。
また、酸化防止剤としては、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2’−メチレンビス[4−メチル−6−t−ブチルフェノール]などのフェノール系酸化防止剤、例えば、アルキルジフェニルアミン、N,N’−ジ−s−ブチル−p−フェニレンジアミンなどのアミン系酸化防止剤などが挙げられる。
これら、界面活性剤および酸化防止剤は、例えば、液剤の場合には、液剤100重量部に対して0.1〜5重量部添加される。
また、光安定剤としては、例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケートなどのヒンダードアミン系光安定剤などが挙げられる。
このような光安定剤は、例えば、液剤の場合には、液剤100重量部に対して0.1〜10重量部添加される。
このようにして得られる本発明の微生物防除剤は、優れた、抗菌、防かび、防腐、防藻作用など、細菌、かび、酵母、藻などに対する防除剤として、ビス四級アンモニウム塩化合物と併用有効成分との相乗効果を発現することができる。
そのため、例えば、製紙パルプ工場、冷却水循環工程などの種々の産業用水や、切削油などの金属加工用油剤、カゼイン、澱粉糊、にかわ、塗工紙、紙用塗工液、表面サイズ剤、塗料、接着剤、合成ゴムラテックス、インキ、ポリビニルアルコールフィルム、塩化ビニルフィルム、樹脂製品、セメント混和剤、シーリング剤、目地剤などの各種工業製品などの有害微生物の防除の用途において有効に用いることができる。
より具体的には、例えば、製紙パルプ工場などのスライムコントロール剤、金属加工用油剤の防腐剤、塗料の防腐防かび剤、樹脂エマルションの防腐防かび剤、セメント混和剤の防腐剤、インキの防腐防かび剤、湿し水の防腐防かび剤、セメント減水剤の防腐防かび剤、植物の延命剤などの工業用の有害微生物防除剤として好適に用いられる。
なお、本発明の微生物防除剤は、その適用対象に応じて添加量を適宜決定すればよいが、例えば、1〜8000mg(全有効成分)/kg(製品)、好ましくは、5〜5000mg(全有効成分)/kg(製品)の濃度として用いることができる。
また、本発明の微生物防除剤は、pHが、3〜13、好ましくは、4〜12の適用対象に用いることができ、さらには、例えば、SO 2−、SO 2−、HSO 、HSO 、S 2−、好ましくは、SO 2−、HSO 、S 2−などの還元剤の存在下においても、その効力を有効に発現することができる。なお、この場合の還元剤の濃度は、例えば、製品中1〜10000ppmであることが好ましい。
以下に実施例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。なお、以下の実施例に用いる有効成分の略号を下記に示す。
HMDP−Ac:N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムアセテート)
HMDP−Br:N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムブロマイド)
DBNE:2,2−ジブロモ−2−ニトロ−1−エタノール
TeCS:3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド
(1)FIC index
1)製剤例
製剤1(5重量%HMDP−Ac溶液)
ダイマー38A(HMDP−Ac:5重量%水溶液、イヌイ社製)をそのまま用いた。
製剤2(5重量%HMDP−Br溶液)
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)5.1gをメチルカルビトール(ジエチレングリコールモノメチルエーテル)94.9gに加え、室温で撹拌して溶解することにより、100gの製剤を得た。
製剤3(5重量%DBNE溶液)
ジブニロールA−75(DBNE:75重量%、ケイアイ化成社製)6.67gをメチルカルビトール93.33gに加え、室温で撹拌して溶解することにより、100gの製剤を得た。
製剤4(5重量%TeCS溶液)
スラカーブ(TeCS:20重量%、武田薬品工業社製)25gをメチルカルビトール75gに加え、室温で撹拌して溶解することにより、100gの製剤を得た。
2)FICの測定
グルコース−ブイヨン液体培地に、製剤1または製剤2を必須成分(A成分)、製剤3または製剤4を必須成分と組み合わせる併用成分(B成分)として、2元希釈法による有効成分濃度として所定濃度となるように添加した。さらに、前培養した菌体、すなわち、セラチア・マルセッセンス(Serratia marcescens:IFO 3735)、大腸菌(IFO 3544)、シュードモナス・エルギノーサ(Pseudomonas aeruginosa:IFO 3080)を、濁度計(OD 630nm)にて0.2に調整後、等量ずつ混ぜ、5倍希釈して調製した混合菌液を、液体培地の全体に対して10体積%となるように添加した。その後、37℃、24時間静置培養後に、濁度計(OD 630nm)による増殖の有無で、2元最小発育阻止濃度(TDMIC)を求め、相乗指標のFICindex(Fractional concentration index)を求めた。その結果を表1および表2に示す。
なお、FICindexは、下記式より求めた。
FICindex=a/a+b/b
:A成分の単独MIC、b:B成分の単独MIC
a:A成分+B成分の併用時のA成分のMIC
b:A成分+B成分の併用時のB成分のMIC
そして、算出されたFICindexは、下記の作用を示す。
FICindex>1 拮抗作用
FICindex=1 相加作用
FICindex<1 相乗作用
Figure 0004308725
Figure 0004308725
(2)配合剤の調製例
調製例1(1.5重量%HMDP−Br/15重量%DBNE溶液)
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)1.5g、ジブニロールA−75(DBNE:75重量%、ケイアイ化成社製)20gを、プロピレングリコール78.5gに加え、室温で撹拌して溶解することにより、100gの製剤を得た。
調製例2(2重量%HMDP−Br/3重量%DBNE溶液)
ダイマー38(HMDP−Br:99重量%、イヌイ社製)2.0g、スラカーブ(TeCS:20重量%、武田薬品工業社製)15gを、プロピレングリコール40gおよびメチルカルビトール43gに加え、室温で撹拌して溶解することにより、100gの製剤を得た。
以上述べたように、本発明の微生物防除剤は、優れた、抗菌、防かび、防腐、防藻作用など、細菌、かび、酵母、藻などに対する防除剤として、相乗効果を発現することができる。そのため、各種工業製品などの有害微生物の防除の用途において有効に用いることができる。

Claims (4)

  1. N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)と、下記一般式(2)で示されるニトロアルコールとが、前記N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)1重量部に対して、前記ニトロアルコールが0.2〜19重量部の割合で含有されていることを特徴とする、微生物防除剤。
    一般式(2)
    Figure 0004308725
    (式中、X1およびX2は、同一または相異なって、ハロゲン原子または水素原子を、R2は、炭素数1〜4のアルキル基または水素原子を示す。)
  2. 前記ニトロアルコールが、2,2−ジブロモ−2−ニトロ−1−エタノールであることを特徴とする、請求項1に記載の微生物防除剤。
  3. N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)と、下記一般式(3)で示されるチオフェンとが、前記N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウム塩)1重量部に対して、前記チオフェンが0.3〜21重量部の割合で含有されていることを特徴とする、微生物防除剤。
    一般式(3)
    Figure 0004308725
    (式中、X3、X4、X5およびX6は、同一または相異なって、ハロゲン原子または水素原子を示す。)
  4. 前記チオフェンが、3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドであることを特徴とする、請求項3に記載の微生物防除剤。
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