JP2004193629A - 半導体装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 半導体基板11の主表面側に少なくともシリコン膜16と金属膜18とを形成する工程と、シリコン膜と金属膜とが形成された半導体基板をシリコンは酸化するが金属膜は酸化しないガス雰囲気中で処理することによりシリコン膜の表面に選択的に酸化膜21を形成する工程とを有する。
【選択図】 図5
Description
15、35…ゲート酸化膜(ゲート絶縁膜)
16、36…ポリシリコン膜
18、38、56…タングステン膜(金属膜)
19、39…アモルファス層(反応防止層)
20…シリコン窒化膜(保護膜)
21…選択的に形成された酸化膜
23…シリコン窒化膜(保護膜)
40、47、57、61…タングステン酸化膜(金属酸化膜)
41、45、58、62…シリコン窒化膜(第1の保護膜)
42、46、59、63…シリコン窒化膜(第2の保護膜)
Claims (17)
- 半導体基板の主表面側に少なくともシリコン膜と金属膜とを形成する工程と、
前記シリコン膜と前記金属膜とが形成された半導体基板をシリコンは酸化するが前記金属膜は酸化しないガス雰囲気中で処理することにより前記シリコン膜の表面に選択的に酸化膜を形成する工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体基板の主表面側に少なくともシリコン膜と金属膜とを形成する工程と、
前記金属膜を該金属膜が酸化されやすい雰囲気にさらす工程と、
前記金属膜を酸化されやすい雰囲気にさらす工程で前記金属膜の表面に形成された酸化膜を還元性雰囲気中で還元する工程と、
前記還元工程の後に前記シリコン膜と前記金属膜とが形成された半導体基板をシリコンは酸化するが前記金属膜は酸化しないガス雰囲気中で処理することにより前記シリコン膜の表面に選択的に酸化膜を形成する工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記半導体基板の主表面側に少なくともシリコン膜と金属膜とを形成する工程は、半導体基板上のゲート酸化膜上に少なくともシリコン膜とこのシリコン膜よりも上層側の金属膜とが積層されたゲート配線構成用の積層膜を形成する工程であり、前記シリコン膜の表面に選択的に酸化膜を形成する工程で前記半導体基板の表面にもさらに酸化膜を形成することを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記金属膜はタングステン膜であることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置の製造方法。
- 半導体基板上にゲート酸化膜を形成する工程と、
前記ゲート酸化膜上に少なくともシリコン膜とこのシリコン膜よりも上層側の金属膜とが積層された積層膜を形成する工程と、
前記積層膜をパターニングしてゲート配線を形成する工程と、
前記ゲート配線を構成する前記金属膜を該金属膜が酸化されやすい雰囲気にさらす工程と、
前記金属膜を酸化されやすい雰囲気にさらす工程で前記ゲート配線を構成する前記金属膜の表面に形成された酸化膜を還元性雰囲気中で還元する工程と、
前記還元工程の後に前記積層膜が形成された半導体基板をシリコンは酸化するが前記金属膜は酸化しないガス雰囲気中で処理することにより前記シリコン膜及び前記半導体基板の表面に選択的に酸化膜を形成する工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体基板の主表面側に形成された金属膜を該金属膜が酸化されやすい雰囲気にさらす工程と、
前記金属膜を酸化されやすい雰囲気にさらす工程で前記金属膜の表面に形成された酸化膜の表面に前記金属膜を構成する金属が相転移を起こす温度よりも低い温度で第1の保護膜を形成する工程と、
前記第1の保護膜が形成された半導体基板を前記金属膜を構成する金属が相転移を起こす温度よりも高い温度下にさらす工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体基板の主表面側に形成された金属膜を該金属膜が酸化されやすい雰囲気にさらす工程と、
前記金属膜を酸化されやすい雰囲気にさらす工程で前記金属膜の表面に形成された酸化膜の表面に前記金属膜を構成する金属が相転移を起こす温度よりも低い温度で第1の保護膜を形成する工程と、
前記第1の保護膜の表面に前記金属膜を構成する金属が相転移を起こす温度よりも高い温度で第2の保護膜を形成する工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記金属膜はタングステン膜であることを特徴とする請求項6又は7に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記金属膜はゲート配線構成用又はゲート配線以外の配線構成用の膜の少なくとも一部を構成する膜であることを特徴とする請求項6又は7に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の保護膜はシリコン窒化膜であることを特徴とする請求項6又は7に記載の半導体装置の製造方法。
- 半導体基板上にゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記ゲート絶縁膜上に少なくとも金属膜を有するゲート配線構成用の配線膜を形成する工程と、
前記金属膜を該金属膜が酸化されやすい雰囲気にさらす工程と、
前記金属膜を酸化されやすい雰囲気にさらす工程で前記金属膜の表面に形成された酸化膜の表面に前記金属膜を構成する金属が相転移を起こす温度よりも低い温度で第1の保護膜を形成する工程と、
前記第1の保護膜の表面に前記金属膜を構成する金属が相転移を起こす温度よりも高い温度で第2の保護膜を形成する工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体基板上にゲート絶縁膜を形成する工程と、
前記ゲート絶縁膜上に少なくとも金属膜を有するゲート配線構成用の配線膜を形成する工程と、
前記配線膜をパターニングしてゲート配線を形成する工程と、
前記ゲート配線を構成する前記金属膜を該金属膜が酸化されやすい雰囲気にさらす工程と、
前記金属膜を酸化されやすい雰囲気にさらす工程で前記金属膜の表面に形成された酸化膜を有するゲート配線の周囲に前記金属膜を構成する金属が相転移を起こす温度よりも低い温度で第1の保護膜を形成する工程と、
前記第1の保護膜の表面に前記金属膜を構成する金属が相転移を起こす温度よりも高い温度で第2の保護膜を形成する工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体基板の主面側に少なくとも金属膜を有するゲート配線以外の配線構成用の配線膜を形成する工程と、
前記金属膜を該金属膜が酸化されやすい雰囲気にさらす工程と、
前記金属膜を酸化されやすい雰囲気にさらす工程で前記金属膜の表面に形成された酸化膜の表面に前記金属膜を構成する金属が相転移を起こす温度よりも低い温度で第1の保護膜を形成する工程と、
前記第1の保護膜の表面に前記金属膜を構成する金属が相転移を起こす温度よりも高い温度で第2の保護膜を形成する工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体基板の主面側に少なくとも金属膜を有するゲート配線以外の配線構成用の配線膜を形成する工程と、
前記配線膜をパターニングしてゲート配線以外の配線を形成する工程と、
前記ゲート配線以外の配線を構成する前記金属膜を該金属膜が酸化されやすい雰囲気にさらす工程と、
前記金属膜を酸化されやすい雰囲気にさらす工程で前記金属膜の表面に形成された酸化膜を有するゲート配線以外の配線の周囲に前記金属膜を構成する金属が相転移を起こす温度よりも低い温度で第1の保護膜を形成する工程と、
前記第1の保護膜の表面に前記金属膜を構成する金属が相転移を起こす温度よりも高い温度で第2の保護膜を形成する工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体基板の主表面側に形成された金属膜と、この金属膜の表面に形成され該金属膜を構成する金属の酸化物からなる酸化膜と、この酸化膜の表面に形成された保護膜とを有することを特徴とする半導体装置。
- 前記金属膜はタングステン膜であることを特徴とする請求項15に記載の半導体装置。
- 前記保護膜はシリコン窒化膜であることを特徴とする請求項15に記載の半導体装置。
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