JP2004064083A - 自己整列した接合領域コンタクトホールを有する半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この方法は、半導体基板上に形成された複数のトレンチマスクをエッチングマスクとして使用して半導体基板に活性領域を限定するトレンチを形成した後に、トレンチ及びトレンチマスクからなるギャップ領域を満たす埋め立て絶縁膜を形成する段階を含む。次に、トレンチマスク及び埋め立て絶縁膜をパターニングして活性領域を横切り、露出させるスリット型開口部を定義するトレンチマスクパターン及び埋め立て絶縁膜パターンを形成する。スリット型開口部内にゲートパターンを形成した後に、トレンチマスクパターンを除去して活性領域を露出させる接合領域開口部を形成する。以後、接合領域開口部を満たすコンタクトプラグを形成する。
【選択図】図18
Description
35 埋め立て絶縁膜パターン
40 スリット型開口部
50 ゲートスペーサ
60 ゲートパターン
65 キャッピングパターン
70 開口部スペーサ
77 接合領域開口部
80 コンタクトプラグ
Claims (42)
- 半導体基板上に複数のトレンチマスクを形成する段階と、
前記トレンチマスクをエッチングマスクとして使って前記半導体基板をエッチングすることによって、活性領域を限定するトレンチを形成する段階と、
前記トレンチマスクの上部面を露出させ、前記トレンチ及び前記トレンチマスクからなるギャップ領域を満たす埋め立て絶縁膜を形成する段階と、
前記活性領域の上部面が露出するまで前記トレンチマスク及び前記埋め立て絶縁膜をパターニングし、前記活性領域を横切るスリット型開口部を定義するトレンチマスクパターン及び埋め立て絶縁膜パターンを形成する段階と、
前記スリット型開口部内にゲートパターンを形成する段階と
前記トレンチマスクパターンを除去して前記活性領域を露出させる接合領域開口部を形成する段階と、
前記接合領域開口部を満たすコンタクトプラグを形成する段階と、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記トレンチマスクは前記埋め立て絶縁膜に対してエッチング選択性を有する物質で形成することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記トレンチマスクはシリコン窒化膜で形成することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記トレンチを形成するためのエッチング工程は異方性エッチングの方法で実施することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記埋め立て絶縁膜を形成する前に、
前記トレンチの内壁を覆うトレンチ酸化膜を形成する段階と、
前記トレンチ酸化膜を含む半導体基板の全面にライナ膜を形成する段階と、をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記トレンチ酸化膜は熱酸化工程を通じて形成することを特徴とする請求項5に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ライナはシリコン窒化膜で形成することを特徴とする請求項5に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記埋め立て絶縁膜を形成する段階は、
前記トレンチが形成された半導体基板の全面に、前記トレンチ及び前記トレンチマスクからなるギャップ領域を満たす絶縁膜を形成する段階と、
前記トレンチマスクが露出するまで、前記絶縁膜を平坦化エッチングする段階と、を含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記絶縁膜は複数番の積層及びエッチング工程を通じて形成される多層膜であることを特徴とする請求項8に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記埋め立て絶縁膜は化学気相蒸着またはスピンコーティングの方法を通じて形成したシリコン酸化膜、及び化学気相蒸着またはエピタキシャル方法を通じて形成したシリコン膜のうちから選択された少なくとも一つの物質であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記スリット型開口部を形成する段階は、前記活性領域の上部面が露出するまで前記埋め立て絶縁膜及び前記トレンチマスクを異方性エッチングの方法でエッチングすることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 記スリット型開口部を形成する段階は、前記トレンチの上部に形成された前記埋め立て絶縁膜パターンの上部面が前記露出した活性領域の上部面と同一の高さを有するように実施することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記スリット型開口部を形成する前に、前記半導体基板にウェルを形成するためのイオン注入工程をさらに実施することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記コンタクトプラグを形成する前に、前記接合領域開口部を通じて露出する前記活性領域にソース/ドレイン形成のためのイオン注入工程をさらに実施することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ゲートパターンを形成する前に、前記スリット型開口部の内部の側壁にゲートスペーサを形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ゲートスペーサは前記トレンチマスクパターンに対してエッチング選択性を有する物質で形成することを特徴とする請求項15に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記コンタクトプラグを形成する前に、前記接合領域開口部の内部の側壁に開口部スペーサを形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記開口部スペーサを形成する前に、前記接合領域開口部の幅を増加させるための等方性エッチング工程をさらに実施することを特徴とする請求項17に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記コンタクトプラグを形成する段階は、エピタキシャル成長技術を使用して、シリコン原子を含む導電性物質層を形成することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 記コンタクトプラグを形成する段階は、
前記接合領域開口部を満たすコンタクトプラグ導電膜を形成する段階と、
前記埋め立て絶縁膜パターンの上部面が露出するまで前記コンタクトプラグ導電膜を平坦化エッチングする段階と、を含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記ゲートパターンを形成する段階は、
前記スリット型開口部を通じて露出した前記活性領域にゲート絶縁膜を形成する段階と、
前記ゲート絶縁膜が形成された前記スリット型開口部の下部領域を満たすゲート導電膜パターンを形成する段階と、
前記ゲート導電膜パターンが形成された前記スリット型開口部の上部領域を満たすキャッピング絶縁膜パターンを形成する段階と、を含み、
前記ゲート導電膜パターンは、前記トレンチマスクパターン及び前記埋め立て絶縁膜パターンよりも低い上部面を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記ゲート絶縁膜は熱酸化工程を通じて形成するシリコン酸化膜であることを特徴とする請求項21に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ゲート導電膜パターンは多結晶シリコン膜及び金属膜のうちの少なくとも一つで形成することを特徴とする請求項21に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記キャッピング絶縁膜パターンは前記トレンチマスクパターンに対してエッチング選択性を有する物質で形成することを特徴とする請求項21に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記キャッピング絶縁膜パターンを形成する前に、
前記ゲート導電膜パターンが形成された前記スリット型開口部の内壁をコンフォマルに覆うゲート層間絶縁膜を形成する段階と、
前記ゲート層間絶縁膜を含む半導体基板の全面に、前記スリット型開口部を満たすゲート上部導電膜を形成する段階と、
前記ゲート上部導電膜を全面エッチングして、前記トレンチマスクパターン及び前記埋め立て絶縁膜パターンよりも低い上部面を有するゲート上部導電パターンを形成する段階と、
をさらに含む半導体装置の製造方法。 - 前記ゲート層間絶縁膜は酸化膜−窒化膜−酸化膜ONOであることを特徴とする請求項25に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ゲート上部導電膜は順次に積層された多結晶シリコン及びシリサイドで形成することを特徴とする請求項25に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記ゲート導電膜パターンを形成する段階は、
前記ゲート絶縁膜を含む半導体基板の全面に、前記スリット型開口部を満たすゲート導電膜を形成する段階と、
前記ゲート導電膜の上部面が前記スリット型開口部よりも低くなるまで、前記ゲート導電膜を全面エッチングする段階と、を含むことを特徴とする請求項21に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記ゲートパターンは前記トレンチマスクパターンに対してエッチング選択性を有する物質で覆われることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 活性領域を限定するトレンチが形成された半導体基板と、
前記トレンチを満たし、前記半導体基板上に配置され、前記活性領域を露出させる接合領域開口部を具備する埋め立て絶縁膜パターンと、
前記接合領域開口部を通じて前記活性領域に接続するコンタクトプラグと、を含み、
前記接合領域開口部は直方体形の空間であることを特徴とする半導体装置。 - 前記埋め立て絶縁膜パターンはシリコン酸化膜、SOG膜及びシリコン膜のうちから選択された少なくとも一つであることを特徴とする請求項30に記載の半導体装置。
- 前記活性領域及び前記トレンチを横切るスリット型開口部内に配置されるゲートパターンをさらに含み、前記スリット型開口部は前記埋め立て絶縁膜パターン及び前記コンタクトプラグの側壁により定義されることを特徴とする請求項30に記載の半導体装置。
- 前記ゲートパターンの上部面は前記埋め立て絶縁膜パターンの最上部と高さが同一であることを特徴とする請求項32に記載の半導体装置。
- 前記ゲートパターンは順次に積層されたゲート絶縁膜、ゲート導電膜パターン及びキャッピングパターンであることを特徴とする請求項32に記載の半導体装置。
- 前記キャッピングパターンは前記埋め立て絶縁膜パターンと化学的組成が同一であることを特徴とする請求項34に記載の半導体装置。
- 前記ゲートパターンの側壁には前記ゲートパターンを前記コンタクトプラグ及び前記埋め立て絶縁膜パターンから離隔させるゲートスペーサがさらに配置されていることを特徴とする請求項32に記載の半導体装置。
- 前記ゲート導電膜パターンと前記キャッピングパターンとの間には順次に積層されたゲート層間絶縁膜及びゲート上部導電パターンがさらに配置されていることを特徴とする請求項34に記載の半導体装置。
- 前記ゲート層間絶縁膜は酸化膜−窒化膜−酸化膜であることを特徴とする請求項37に記載の半導体装置。
- 前記ゲート層間絶縁膜は前記ゲート上部導電パターンの側壁を覆う側壁延長部を具備することを特徴とする請求項37に記載の半導体装置。
- 前記ゲート導電膜パターンは多結晶シリコン及び金属膜のうちから選択された少なくとも一つであることを特徴とする請求項34に記載の半導体装置。
- 前記コンタクトプラグは不純物を含むエピタキシャルシリコン層または多結晶シリコン層であることを特徴とする請求項30に記載の半導体装置。
- 前記接合領域開口部と前記コンタクトプラグとの間に配置された開口部スペーサをさらに含むことを特徴とする請求項30に記載の半導体装置。
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