JP2003504750A - 可変ゲイン比例積分(pi)制御器のためのシステムおよび方法 - Google Patents
可変ゲイン比例積分(pi)制御器のためのシステムおよび方法Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012356 Product development Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000009118 appropriate response Effects 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000012886 linear function Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N methamphetamine Chemical compound CN[C@@H](C)CC1=CC=CC=C1 MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
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- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
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Abstract
Description
マスフローコントローラにおける比例積分制御方法に関する。
密に制御されることを要求する。これらのタイプのプロセスは、気体の流量を制
御するために、マスフローコントローラ(MFC)を使用し得る。マスフローコ
ントローラは、プロセス気体のプロセスチャンバ内への質量のフローを設定し、
測定し、制御する閉ループデバイスである。半導体アプリケーションが、マスフ
ローコントローラ技術における製品開発の背景となる駆動力であったし、また、
駆動力であり続ける。とはいえ、マスフロー制御は、製薬産業および食品産業等
の他の産業においても有用である。
含む後半部とから構成されている。フローセンサは、しばしば、毛細管に巻き付
けられた対の測温抵抗体から構成される。気体がセンサを通って流れる場合、熱
が下流へ運ばれ、温度差は気体の質量流量に比例する。温度差は、センサ素子の
差動抵抗の変化を引き起こす。制御バルブは、電子回路を介して、気体フローを
調整するための信号をフローセンサから受け取る。ソレノイドによりアクティブ
化されるバルブが、その単純さ、素早い応答、ロバスト性、および低コスト性か
ら、しばしば、制御バルブとして使用される。
ける気体のフローを制御するために使用される。マスフローコントローラでは、
システムは、マスフローコントローラの中の気体の所望のフローを表す設定点と
、マスフローコントローラの中の実際の流量を感知するセンサと、コントローラ
と、プラントとを含む。コントローラは、プラントの動作を制御する電子回路部
からなる。マスフローコントローラの場合、プラントは、ソレノイドによりアク
ティブ化され、プロセスチャンバ内への気体の実際の流量を直接的に制御するバ
ルブであり得る。コントローラの中の電子回路部は、誤差信号に基づいて制御信
号(バルブ駆動信号)を生成し得る。誤差信号は、設定点信号とフィードバック
信号との間の差である。マスフローコントローラの場合、設定点信号は、所望の
流量の関数であり、フィードバック信号は実際の流量の関数である。
び微分制御である。比例制御では、制御信号は誤差信号に比例する。コントロー
ラゲインは、制御信号が、設定点信号とフィードバック信号との間の小さなずれ
に敏感になるように調節され得る。コントローラゲインの設計はまた、制御信号
が、設定点信号とフィードバック信号との間のずれが増加または減少するにつれ
て、増加または減少するように選択され得る。比例のみの制御の固有の欠点は、
定常状態誤差を取り除くことができないことである。
られる。積分制御では、制御信号は、誤差信号の時間にわたる積分に依存する。
システムの定常状態動作の間では、制御誤差が一定である場合、誤差の積分は時
刻とともに変化し、最終的に誤差をゼロにするようなプラントでの動作を生み出
す。積分コントローラは、誤差信号がいくらかの時間持続するまではプラントに
おける制御動作がほとんど起こらないので、単独で使用されることは多くない。
しかしながら、比例制御は、誤差信号を直ちに増幅する。従って、積分制御はし
ばしば、いわゆる比例積分(PI)コントローラにおいて、比例制御とともに使
用され、バルブ駆動信号(制御信号)を生成する。
信号は誤差信号の変化の速度に依存する。微分制御はまた、プロセスが定常状態
に達するのに要する時間を低減する傾向がある。微分制御は、比例制御または比
例積分制御のいずれとも使用される。
動作が、バルブ駆動信号(制御信号)の1次関数ではないことである。ソレノイ
ドバルブの場合、バルブ駆動信号と、マスフローコントローラを通る実際のフロ
ーとの間の関係は、ヒステリシスを伴う。図1は、バルブ駆動信号の、マスフロ
ーコントローラを通る実際のフローに対する関係をグラフで示す。バルブのゲイ
ンは、フローとともに増加する。バルブ駆動信号は、x軸に沿ってグラフ化され
、マスフローコントローラを通る実際のフローは、y軸に沿ってグラフ化されて
いる。バルブ駆動信号が増加する際に、マスフローコントローラを通る実際のフ
ローは、バルブ駆動信号がX3の値に達するまでは増加し始めない。バルブ駆動
信号がX3まで達するのにかかるこの時間が、不感時間として示されている。い
ったんバルブ駆動信号がX3の値に達すると、実際のフローは、バルブ駆動信号
の関数として、相応して(ただし、非線形に)増加し始める。いったんバルブ駆
動信号がX4の最大値に達すると、バルブ駆動信号を減少させても、マスフロー
コントローラを通る実際のフローは、直ちには減少しない。実際のフローがバル
ブ駆動信号の関数として相応して(ただし、非線形に)減少し始めるまでには、
バルブ駆動信号は、X2のレベルにまで減少しなければらならい。いったんバル
ブ駆動信号がX1のレベルに達すると、実際のフローは、途絶え得る。図1から
、バルブ駆動信号が弱い場合には、バルブの応答は無視できるが、バルブ駆動信
号がある「しきい値」(X3)を通過すると、バルブの応答は非常に増加するこ
とが理解され得る。バルブのゲインは、フローとともに増加する。ソレノイドバ
ルブに関連するこのタイプの非線形特性は、制御するのが非常に困難であり、完
全に補償することはできない。
際のフローとの間の非線形な関係によって引き起こされる、マスフローコントロ
ーラの中の実際のフローの非線形な挙動を補償する必要がある。
テムおよび方法は、これまで開発されたバルブ駆動信号を生成するシステムおよ
び方法に関連する欠点および問題点を実質的に取り除くか、または低減する。
ントローラを使用して、バルブ駆動信号を生成するシステムおよび方法を提供す
る。その方法は、誤差信号を比例ゲイン係数によって乗算し、比例信号を生成す
ることを含む。その方法はまた、誤差信号上で積分関数を実行することを含む。
積分関数は、PIコントローラにおける可変ゲインとして機能する積分ゲイン係
数を含む。設定点信号が、最大の設定点の正規化された所定の割合pよりも小さ
い場合、積分ゲイン係数は
り、max(x)は、正規化された設定点信号の最大値である。そうでない場合
、積分ゲイン係数は、
り、xは正規化された設定点信号である。積分関数の実行により、積分信号が生
み出される。最後に、積分信号と比例信号とが合計され、バルブ駆動信号が生成
される。誤差信号は、設定点信号とフィードバック信号との間の差の関数である
。設定点信号は、マスフローコントローラの中の所望の流量の関数であり、一方
、フィードバック信号は、マスフローコントローラを通る実際の流量の関数であ
る。
を可能ならしめるという点で、重要な技術的利点を提供する。積分ゲイン係数は
、設定点信号の関数である。従って、設定点信号が低い場合、より低いバルブゲ
インの効果は、より高い積分ゲインによって補償され得る。このメカニズムによ
り、動作点にかかわらず、同じ制御システムフィードバックループゲインが維持
され、応答速度と、外乱排除特性とにおいてシステム応答を均一にさせることが
可能になり、低い設定点(または動作点)で動作している間の、遅延したステッ
プ応答と取り込み口の圧力外乱からの緩慢な回復とを効果的に覆い隠す。
不感時間を低減し、マスフローコントローラが最大フローの100%に向けて立
ち上がっていようが、最大フローの5%に向けて立ち上がっていようが同じ効率
で、制御信号がバルブ不感時間を通じて立ち上がることを可能にすることである
。
することによって獲得され得る。図面では、同じ参照番号は、同じ特徴を示す。
じ、対応する部分を参照するために使用されている。
用して、バルブ駆動信号を生成するシステムおよび方法を提供する。その方法は
、バルブ駆動信号を出力する可変ゲインPIコントローラに、誤差信号を入力す
ることを含む。可変ゲインPIコントローラの積分ゲイン係数は、設定点の関数
である。誤差信号は、設定点信号とフィードバック信号との間の差の関数である
。設定点信号は、マスフローコントローラの中の所望の流量の関数であり、一方
、フィードバック信号は、マスフローコントローラを通る実際の流量の関数であ
る。
インPIコントローラ10は、比例ゲイン段14と、積分ゲイン段16と、積分
器18と、加算段24とからなる。誤差信号12は、比例ゲイン段14において
、比例ゲイン定数KPによって乗算され、比例信号20が生み出される。誤差信
号12はまた、積分ゲイン段16において、積分ゲイン係数KIによって乗算さ
れ、積分器18に入力され、積分信号22が生み出される。積分ゲイン段16と
積分器18との順序は、積分信号22を変えることなく逆にし得る。加算段24
において、積分信号22と比例信号20とは組み合わされて、駆動信号26が形
成される。積分ゲイン係数KIおよび誤差信号12の両方は、所望の設定点の関
数である。
中で使用されている本発明の1つの実施形態を示す。図3において、設定点信号
30は、加算段34においてフィードバック信号32と比較され得、誤差信号1
2が生み出される。誤差信号12は、PIコントローラ10に入力され得る。P
Iコントローラ10は、比例ゲイン段14と、積分ゲイン段16と、積分器18
と、加算段24とからなる。誤差信号12は、比例ゲイン段14において比例ゲ
イン定数KPによって乗算され、比例信号20が生み出される。誤差信号12は
また、積分ゲイン段16において積分ゲイン係数KIによって乗算され、積分器
18に入力され得、積分信号22が生み出される。比例信号20および積分信号
22は、加算段24に入力され、駆動信号26が生成される。駆動信号26は、
バルブ駆動回路部38およびバルブ40を制御するために使用され得る。バルブ
40は、マスフローコントローラ28の中の実際の流量42を生み出す。実際の
流量42は、フローセンサ44によって測定され得る。フローセンサ44は、感
知流量信号46を出力する。感知流量信号46は、微分コントローラ48に入力
され得る。微分コントローラ48は、フィードバック信号32を生み出し得る。
)が、ステップ入力に等しい設定点信号30に対する所望の応答であるように、
実験的に決定され得る。
る。積分ゲイン段16は、設定点信号30が低い場合に、バルブ40の応答の遅
延を補償するように設計される。
る。設定点信号30(正規化されている)は、x軸に沿ってグラフ化され、一方
、積分ゲイン係数KIはy軸に沿ってグラフ化されている。積分ゲイン係数KIと
設定点信号30との間の関係は、
(x)は設定点信号30の最大値(max(x)=1)であり、Aは第1の定数
であり、Bは第2の定数である。設定点信号30が設定点信号30の最大値の1
0%よりも低い場合には、積分ゲイン係数KIは飽和し、積分ゲイン係数KIが無
限大に増大することが防止されることに注意されたい。
0からの最適応答を得るための観測によって調節される。第2の定数Bを計算す
るために、設定点信号30が、最大の設定点信号の0→100%におけるステッ
プ入力であるように設定される。駆動信号26は、データ取得ソフトウェアを使
用して観測され得る。第2の定数Bは、0→100%のステップ入力についての
所望のステップ応答を達成するためのソフトウェア中の変数として調節される。
この設定のみでは、設定点信号30のより低い値に対するバルブ40の応答は、
遅すぎることがある。従って、第1の定数Aが、観測の同じ方法を使用して、設
定点信号30のより低い値(0→10%)に向かうステップ応答の同じ品質を得
るように、調節される。第1の定数Aおよび第2の定数Bを用いて、適切な応答
が、設定点信号30の全ての要求にわたって均一になる。
プロセッサ(DSP)コントローラにおける差分方程式を使用して、デジタル的
に実施され得る。設定点信号30または感知流量信号46がアナログ信号である
場合、これらの信号は、設定点信号30をPIコントローラ10に入力する前に
、または感知流量信号46を微分コントローラ48に入力する前にA/Dコンバ
ータを実施することにより、容易にデジタル信号に変換され得る。A/Dコンバ
ータは、DSPコントローラの外部であってもよいし、DSPコントローラの内
部であってもよい。DSPコントローラを使用する場合、誤差信号12、駆動信
号26、およびフィードバック信号32は、デジタル信号である。
通信するように動作可能であってもよい。コンピュータは、大量の数学的計算で
DSPコントローラを補助し得る。コンピュータは、コンピュータとDSPコン
トローラとの間の接続を介して、実行された計算の結果をDSPコントローラに
ダウンロードし得る。DSPコントローラは、コンピュータからダウンロードさ
れた計算結果を格納するために、EEPROM等の格納デバイスを有し得るか、
またはそのような格納デバイスとインタフェースし得る。
ションを使用して実施され得る。あるいは、実際の流量42のより正確な近似を
得、フローセンサ44により導入された遅延を補償するために、微分コントロー
ラ48は、1999年7月9日にE.Vyersらによって出願され、「A S
ystem and Method For A Digital Mass
Flow Controller」と題する米国特許出願シリアル番号第09/
351,120号に開示される方法を使用して実施され得る。
する前に、感知流量信号46の線形化を実施し得る。線形化のためには、最小自
乗法および他の回帰技術等の多くの方法が存在する。1999年7月9日にT.
I.PattantyusおよびF.Tariqによって出願され、「Meth
od and System for Sensor Response Li
nearization」と題する米国特許出願シリアル番号第09/350,
747号に開示される方法が参照される。
の測温抵抗体は、その2個の測温抵抗体によって生み出された信号を調整するた
めのインタフェース回路部と結合し得る。1999年7月9日にT.I.Pat
tantyusらによって出願され、「Improved Mass Flow Sensor Interface Circuit」と題する米国特許出願
シリアル番号第09/350,746号に開示されるインタフェース回路が具体
的に参照される。
ブ駆動回路部38に使用され得る多くの回路構成がある。これらの構成は、駆動
信号26をバルブ40を駆動するソレノイドのための駆動電流に変換し得る。駆
動信号26は、デジタル信号であり得る。バルブ駆動回路部38のために使用さ
れ得る回路のほとんどは、トランジスタ等の制御素子を含む。制御素子は、ソレ
ノイドにかかる電圧を連続的にスイッチングする。スイッチングは、駆動信号2
6の関数である。今度はソレノイドにかかる電圧のスイッチング速度の関数であ
る平均ソレノイド電流が、ソレノイド中に生成され得る。ソレノイド電流は、バ
ルブ40をアクティブ化する。1999年7月9日にT.I.Pattanty
usによって出願され、「Method and System for Dr
iving a Solenoid」と題する米国特許出願シリアル番号第09
/351,111号に開示されるバルブ駆動回路が具体的に参照される。
9年7月9日にK.Tinsleyによって出願され、「System and
Method of Operation of a Digital Ma
ss Flow Controller」と題する米国特許出願シリアル番号第
09/350,744号に開示される先進的なデジタル制御アルゴリズムが参照
される。
の使用に限定されないことに留意することが重要である。
とを可能ならしめるという点で、重要な技術的利点を提供する。積分ゲイン係数
KIは、設定点信号30の関数である。従って、設定点信号30が低い場合、シ
ステムの応答が高速化され得る。
である。バルブ40の不感時間は、マスフローコントローラ28がコントローラ
を通る可能な最大フローの100%に向けて立ち上がっていようが、コントロー
ラを通る可能な最大フローの5%に向けて立ち上がっていようが、同じ効率で低
減される。
ず、バルブ40の反応の速度が均一であることである。換言すると、設定点信号
30が、マスフローコントローラ28を通る可能な最大フローの100%または
マスフローコントローラ28を通る可能な最大フローの5%に設定されている場
合に、バルブ40は、同じ速度で応答する。積分ゲイン係数KIに可変ゲインを
使用することによって、バルブ40は均一な応答の速度を有する。積分ゲイン係
数KIは、バルブ40に固有の非線形な挙動を補償する。
。PIコントローラ10の閉ループの全体のゲインは、定数である。
である。積分ゲイン係数KIについてのゲインが調整可能であることに起因して
、バルブ40についての不感時間は、ゲインを増加させ、バルブ40の応答を速
めることによって低減される。
説明はもっぱら例示のためであり、限定的な意味に解釈されるべきでないことが
理解されるべきである。従って、本発明の実施形態の詳細の変更および本発明の
追加の実施形態は、この説明を参照した当業者にとって明らかであり、また、そ
のような当業者によってなされ得ることが、さらに理解されるべきである。すべ
てのそのような変更および追加の実施形態は、特許請求の範囲によって請求され
る本発明の精神および真の範囲内であることが意図される。
る。
Claims (21)
- 【請求項1】 マスフローコントローラにおいて可変ゲインPIコントロー
ラを使用してバルブ駆動信号を生成する方法であって、 誤差信号を比例ゲイン係数によって乗算し、比例信号を生成する工程と、 該誤差信号上で、積分ゲイン係数を含む積分関数を実施し、積分信号を生成す
る工程であって、該積分ゲイン係数は、 正規化された設定点信号が最大の正規化された設定点信号の所定の割合よりも
小さい場合には、第1のゲイン関数に等しく、 該正規化された設定点信号が該最大の正規化された設定点信号の所定の割合よ
りも大きい場合には、第2のゲイン関数に等しい、工程と、 該積分信号と該比例信号とを合計し、該バルブ駆動信号を生成する工程と を包含する、方法。 - 【請求項2】 前記所定の割合は、10%である、請求項1に記載の方法。
- 【請求項3】 前記第1のゲイン関数は、 【数1】 に等しく、ここで、Aは第1のゲイン定数であり、Bは第2のゲイン定数である
、請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 前記第2のゲイン関数は、 【数2】 に等しく、ここで、Aは前記第1のゲイン定数であり、Bは前記第2のゲイン定
数であり、xは前記正規化された設定点信号である、請求項3に記載の方法。 - 【請求項5】 前記第2のゲイン定数は、前記可変ゲインPIコントローラ
への、前記最大の正規化された設定点信号の0%から100%へのステップ入力
に対する所望の応答を達成するように、実験的に求められる、請求項4に記載の
方法。 - 【請求項6】 前記第1のゲイン定数は、前記可変ゲインPIコントローラ
への、前記最大の正規化された設定点信号の0%から10%へのステップ入力に
対する所望の応答を達成するように、実験的に求められる、請求項5に記載の方
法。 - 【請求項7】 前記誤差信号は、前記マスフローコントローラの中の所望の
流量信号の関数である設定点信号と、該マスフローコントローラの中の実際の流
量の関数であるフィードバック信号との間の差である、請求項1に記載の方法。 - 【請求項8】 前記設定点信号と、前記フィードバック信号とは、デジタル
信号である、請求項7に記載の方法。 - 【請求項9】 誤差信号を比例ゲイン係数で重み付けし、比例信号を生成す
る比例関数と、 積分ゲイン係数を含み、積分信号を生成する積分関数であって、該積分ゲイン
係数は、 正規化された設定点信号が最大の正規化された設定点信号の所定の割合よりも
小さい場合には、第1のゲイン関数に等しく、 該正規化された設定点信号が該最大の正規化された設定点信号の所定の割合よ
りも大きい場合には、第2のゲイン関数に等しい、積分関数と、 該比例信号と該積分信号とを合計し、制御信号を生成する加算器と を含む、可変ゲインPIコントローラ。 - 【請求項10】 前記所定の割合は、10%である、請求項9に記載のシス
テム。 - 【請求項11】 前記第1のゲイン関数は、 【数3】 に等しく、ここで、Aは第1のゲイン定数であり、Bは第2のゲイン定数である
、請求項9に記載のシステム。 - 【請求項12】 前記第2のゲイン関数は、 【数4】 に等しく、ここで、Aは前記第1のゲイン定数であり、Bは前記第2のゲイン定
数であり、xは前記正規化された設定点信号である、請求項11に記載のシステ
ム。 - 【請求項13】 前記第2のゲイン定数は、前記可変ゲインPIコントロー
ラへの、前記最大の正規化された設定点信号の0%から100%へのステップ入
力に対する所望の応答を達成するように、実験的に求められる、請求項12に記
載のシステム。 - 【請求項14】 前記第1のゲイン定数は、前記可変ゲインPIコントロー
ラへの、前記最大の正規化された設定点信号の0%から10%へのステップ入力
に対する所望の応答を達成するように、実験的に求められる、請求項13に記載
のシステム。 - 【請求項15】 前記誤差信号は、前記マスフローコントローラの中の所望
の流量信号の関数である設定点信号と、該マスフローコントローラの中の実際の
流量の関数であるフィードバック信号との間の差である、請求項9に記載のシス
テム。 - 【請求項16】 前記設定点信号と、前記フィードバック信号とは、デジタ
ル信号である、請求項15に記載のシステム。 - 【請求項17】 製造プロセスにおける液体または気体のフローを制御する
マスフローコントローラであって、該マスフローコントローラは、 該製造プロセスにおける該液体または気体の実際の流量を制御する、ソレノイ
ドによりアクティブ化されるバルブを制御する該バルブ駆動回路部と、 該物質の該実際の流量を測定し、感知流量信号を出力するフローセンサと、 該感知流量信号を、該感知流量信号よりも正確に該実際の流量を近似するフィ
ードバック信号に変換する微分コントローラと、 設定点信号と該フィードバック信号との間の誤差信号を該バルブ駆動信号に変
換する可変ゲインPIコントローラと を備え、 該可変ゲインPIコントローラは、 誤差信号を比例ゲイン係数で重み付けし、比例信号を生成する比例関数と、 該誤差信号の積分ゲイン係数での重み付け積分を実施し、積分信号を生成する
積分関数であって、該積分ゲイン係数は、 正規化された設定点信号が最大の正規化された設定点信号の所定の割合よりも
小さい場合には、第1のゲイン関数に等しく、 該正規化された設定点信号が該最大の正規化された設定点信号の所定の割合よ
りも大きい場合には、第2のゲイン関数に等しい、積分関数と、 該比例信号と該積分信号とを合計し、該バルブ駆動回路部に入力されるバルブ
駆動信号を生成する加算器と を含む、マスフローコントローラ。 - 【請求項18】 前記第1のゲイン関数は、 【数5】 に等しく、ここで、Aは第1のゲイン定数であり、Bは第2のゲイン定数である
、請求項17に記載のマスフローコントローラ。 - 【請求項19】 前記第2のゲイン関数は、 【数6】 に等しく、ここで、Aは前記第1のゲイン定数であり、Bは前記第2のゲイン定
数であり、xは前記正規化された設定点信号である、請求項18に記載のマスフ
ローコントローラ。 - 【請求項20】 前記第2のゲイン定数は、前記可変ゲインPIコントロー
ラへの、前記最大の正規化された設定点信号の0%から100%へのステップ入
力に対する所望の応答を達成するように、実験的に求められる、請求項19に記
載のマスフローコントローラ。 - 【請求項21】 前記第1のゲイン定数は、前記可変ゲインPIコントロー
ラへの、前記最大の正規化された設定点信号の0%から10%へのステップ入力
に対する所望の応答を達成するように、実験的に求められる、請求項20に記載
のマスフローコントローラ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/351,098 US6445980B1 (en) | 1999-07-10 | 1999-07-10 | System and method for a variable gain proportional-integral (PI) controller |
US09/351,098 | 1999-07-10 | ||
PCT/US2000/040275 WO2001004717A1 (en) | 1999-07-10 | 2000-06-21 | System and method for a variable gain proportional-integral (pi) controller |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003504750A true JP2003504750A (ja) | 2003-02-04 |
JP2003504750A5 JP2003504750A5 (ja) | 2007-09-27 |
Family
ID=23379559
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001510061A Withdrawn JP2003504750A (ja) | 1999-07-10 | 2000-06-21 | 可変ゲイン比例積分(pi)制御器のためのシステムおよび方法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6445980B1 (ja) |
EP (1) | EP1196833B1 (ja) |
JP (1) | JP2003504750A (ja) |
KR (1) | KR100621830B1 (ja) |
CN (1) | CN1235106C (ja) |
AT (1) | ATE248392T1 (ja) |
AU (1) | AU6802600A (ja) |
DE (1) | DE60004855T2 (ja) |
TW (1) | TW490605B (ja) |
WO (1) | WO2001004717A1 (ja) |
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- 2000-06-21 KR KR1020027000370A patent/KR100621830B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-06-21 WO PCT/US2000/040275 patent/WO2001004717A1/en active IP Right Grant
- 2000-06-21 AT AT00955906T patent/ATE248392T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-06-21 JP JP2001510061A patent/JP2003504750A/ja not_active Withdrawn
- 2000-06-21 CN CNB008101752A patent/CN1235106C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-06-21 AU AU68026/00A patent/AU6802600A/en not_active Abandoned
- 2000-06-21 EP EP00955906A patent/EP1196833B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-06-21 DE DE60004855T patent/DE60004855T2/de not_active Expired - Fee Related
- 2000-07-10 TW TW089113538A patent/TW490605B/zh not_active IP Right Cessation
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DE60004855D1 (de) | 2003-10-02 |
AU6802600A (en) | 2001-01-30 |
CN1371490A (zh) | 2002-09-25 |
KR100621830B1 (ko) | 2006-09-13 |
ATE248392T1 (de) | 2003-09-15 |
CN1235106C (zh) | 2006-01-04 |
DE60004855T2 (de) | 2004-08-19 |
WO2001004717A1 (en) | 2001-01-18 |
US6445980B1 (en) | 2002-09-03 |
TW490605B (en) | 2002-06-11 |
EP1196833B1 (en) | 2003-08-27 |
KR20020047089A (ko) | 2002-06-21 |
EP1196833A1 (en) | 2002-04-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20060509 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20070608 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070613 |
|
A621 | Written request for application examination |
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|
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