JP2003332294A - 基板乾燥方法およびその装置 - Google Patents
基板乾燥方法およびその装置Info
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Abstract
めるとともに、基板と洗浄液との浸漬界面に十分な量の
乾燥用流体を供給する。 【解決手段】 基板処理槽1と、基板処理槽1の内部に
複数枚の基板2を起立状態で整列させて支承する基板支
承部と、基板処理槽1の上部寄り所定位置に設けた乾燥
用流体貯留部3と、乾燥用流体貯留部3に貯留された乾
燥用流体6に対して不活性ガスを吹き付けて乾燥用流体
の液滴を発生させ、この液滴を基板処理槽1の中心に向
かって案内する第1不活性ガス供給部4と、発生した乾
燥用流体の液滴を基板2に向かって供給すべく不活性ガ
スを垂直下向きに供給する第2不活性ガス供給部5とを
有している。
Description
びその装置に関し、さらに詳細にいえば、洗浄液を用い
て洗浄された基板を迅速に乾燥させるための方法および
その装置に関する。なお、この明細書において、「洗浄
液を用いて洗浄する」とは、洗浄液を用いて洗浄するこ
とのみならず、純水によりリンスすることをも含む(純
水によるリンスのみを行うことをも含む)概念として使
用される。
ば、半導体ウエハーなど)の大径化が進んでおり、8イ
ンチウエハーから12インチウエハーへの移行が行われ
ている。そして、ウエハーの大径化に伴ってウエハーピ
ッチのハーフピッチ化も進められている。
分な量の乾燥用流体を供給することができなくなり、良
好なマランゴニ乾燥を達成することが著しく困難になっ
てしまう。
から、(1)不活性ガスで乾燥用流体にバブリングなど
を行い、不活性ガスと乾燥用流体との混合ガスを基板処
理槽に導入する方法、および(2)超音波などを用いて
乾燥用流体の液滴を形成した後、不活性ガスをキャリア
ガスとして基板処理槽に導入する方法(特開平10−3
35299号公報参照)が提案されている。
ルコール(以下、IPAと略称する)を用いること、フ
ロンを用いることも提案されている(特開昭63−30
1528号公報参照)。
用して基板と洗浄液との浸漬界面に十分な量の乾燥用流
体を供給するためには、不活性ガスや乾燥用流体を高温
にすることが必要になるので、基板乾燥系の安全性を確
保することが困難になるとともに、コストが嵩んでしま
うという不都合がある。特に、乾燥用流体としてIPA
を採用する場合には、引火性が高いので、安全性を確保
するためのおおがかりな装置を付加することが必要にな
る。
音波発生装置などが必要になるので、コストアップを招
いてしまうのみならず、信頼性が低下してしまうことに
なる。
たものであり、特別な安全装置を設けることなく安全性
を高めることができるとともに、基板と洗浄液との浸漬
界面に十分な量の乾燥用流体を供給することができる基
板乾燥方法およびその装置を提供することを目的として
いる。
は、処理槽内に複数枚の基板を整列状態で収容し、かつ
処理槽内における洗浄液の液面を基板に対して相対的に
下降させながら基板の表面に乾燥用流体を供給すること
により基板の表面を乾燥させるに当たって、処理槽内の
上部に乾燥用流体を貯留し、貯留した乾燥用流体に対し
て不活性ガスを吹き付けることにより処理槽内において
乾燥用流体の液滴を発生させて互いに接近する方向に導
き、発生され、互いに接近する方向に導かれた乾燥用流
体の液滴を各基板の表面に導くべく不活性ガスを供給す
る方法である。
体としてイソプロピルアルコールを採用する方法であ
る。
スとして窒素ガスを採用する方法である。
数枚の基板を整列状態で収容し、かつ処理槽内における
洗浄液の液面を基板に対して相対的に下降させながら基
板の表面に乾燥用流体を供給することにより基板の表面
を乾燥させるものであって、処理槽内の上部に乾燥用流
体を貯留する乾燥用流体貯留手段と、貯留した乾燥用流
体に対して不活性ガスを吹き付けることにより処理槽内
において乾燥用流体の液滴を発生させて互いに接近する
方向に導く第1不活性ガス供給手段と、発生され、互い
に接近する方向に導かれた乾燥用流体の液滴を各基板の
表面に導くべく不活性ガスを供給する第2不活性ガス供
給手段とを含むものである。
体としてイソプロピルアルコールを採用するものであ
る。
体貯留手段として、複数枚の基板の並び方向と平行に延
び、かつ上部が開放された乾燥用流体貯留凹所を有する
ものを採用するものである。
性ガス供給手段として、不活性ガスを垂直下向きに吐出
する不活性ガス吐出孔を有するものを採用するものであ
る。
ス吐出孔として、長さが直径以上のものを採用するもの
である。
性ガス供給手段として、不活性ガス供給口と不活性ガス
吐出部との間に所定の助走区間を有しているものを採用
するものである。
活性ガス供給手段として、不活性ガス導入空間と、不活
性ガス吐出部と、不活性ガス導入空間と不活性ガス吐出
部との間に位置する多孔体とを有するものを採用するも
のである。
と不活性ガス吐出部との間に不活性ガス吐出用空間をさ
らに有するものである。
ガス導入空間として、全ての不活性ガス吐出部と平行に
延びる1対の第1空間を採用し、前記不活性ガス吐出用
空間として、不活性ガス吐出部の内端部と連通される第
2空間を採用し、前記多孔体として、各第1空間と第2
空間との間に設けられるものを採用するものである。
として、ポリテトラフルオロエチレンシートを採用する
ものである。
ガス吐出孔同士の間隔を乾燥対象である基板同士の間隔
の整数倍に設定し、しかも、最も端部に位置する基板の
外側に対応させて不活性ガス吐出孔を設けて前記不活性
ガス吐出孔との間隔を基板同士の間隔と等しく設定した
ものである。
複数枚の基板を整列状態で収容し、かつ処理槽内におけ
る洗浄液の液面を基板に対して相対的に下降させながら
基板の表面に乾燥用流体を供給することにより基板の表
面を乾燥させるに当たって、処理槽内の上部に乾燥用流
体を貯留し、貯留した乾燥用流体に対して不活性ガスを
吹き付けることにより処理槽内において乾燥用流体の液
滴を発生させて互いに接近する方向に導き、発生され、
互いに接近する方向に導かれた乾燥用流体の液滴を各基
板の表面に導くべく不活性ガスを供給するのであるか
ら、不活性ガス、乾燥用流体の何れも高温にする必要が
なく、安全性を高めることができるとともに、基板と洗
浄液との浸漬界面に十分な量の乾燥用流体を供給して迅
速かつ高品質な乾燥を達成することができる。また、超
音波発生装置などが不要であるから信頼性、耐久性を高
めることができる。
燥用流体としてイソプロピルアルコールを採用するので
あるから、安価で高品質なマランゴニ乾燥を達成するこ
とができ、ひいては請求項1と同様の作用を達成するこ
とができる。
活性ガスとして窒素ガスを採用するのであるから、請求
項1または請求項2と同様の作用を達成することができ
る。
内に複数枚の基板を整列状態で収容し、かつ処理槽内に
おける洗浄液の液面を基板に対して相対的に下降させな
がら基板の表面に乾燥用流体を供給することにより基板
の表面を乾燥させるに当たって、乾燥用流体貯留手段に
よって、処理槽内の上部に乾燥用流体を貯留し、第1不
活性ガス供給手段によって、貯留した乾燥用流体に対し
て不活性ガスを吹き付けることにより処理槽内において
乾燥用流体の液滴を発生させて互いに接近する方向に導
き、第2不活性ガス供給手段によって、発生され、互い
に接近する方向に導かれた乾燥用流体の液滴を各基板の
表面に導くべく不活性ガスを供給することができる。
れも高温にする必要がなく、安全性を高めることができ
るとともに、基板と洗浄液との浸漬界面に十分な量の乾
燥用流体を供給して迅速かつ高品質な乾燥を達成するこ
とができる。また、超音波発生装置などが不要であるか
ら信頼性、耐久性を高めることができる。
燥用流体としてイソプロピルアルコールを採用するので
あるから、安価で高品質なマランゴニ乾燥を達成するこ
とができ、ひいては請求項4と同様の作用を達成するこ
とができる。
燥用流体貯留手段として、複数枚の基板の並び方向と平
行に延び、かつ上部が開放された乾燥用流体貯留凹所を
有するものを採用するのであるから、請求項4または請
求項5と同様の作用を達成することができる。
2不活性ガス供給手段として、不活性ガスを垂直下向き
に吐出する不活性ガス吐出孔を有するものを採用するの
であるから、各基板の面内における乾燥むらを大幅に抑
制でき、ひいては請求項4から請求項6の何れかと同様
の作用を達成することができる。
活性ガス吐出孔として、長さが直径以上のものを採用す
るのであるから、不活性ガスの直進性を向上させること
ができるほか、請求項7と同様の作用を達成することが
できる。
2不活性ガス供給手段として、不活性ガス供給口と不活
性ガス吐出部との間に所定の助走区間を有しているもの
を採用するのであるから、複数枚の基板間の乾燥むらを
大幅に抑制でき、ひいては請求項4と同様の作用を達成
することができる。
第2不活性ガス供給手段として、不活性ガス導入空間
と、不活性ガス吐出部と、不活性ガス導入空間と不活性
ガス吐出部との間に位置する多孔体とを有するものを採
用するのであるから、複数枚の基板間の乾燥むらを大幅
に抑制でき、ひいては請求項4と同様の作用を達成する
ことができる。
多孔体と不活性ガス吐出部との間に不活性ガス吐出用空
間をさらに有するのであるから、複数枚の基板間の乾燥
むらを大幅に抑制できるほか、請求項10と同様の作用
を達成することができる。
不活性ガス導入空間として、全ての不活性ガス吐出部と
平行に延びる1対の第1空間を採用し、前記不活性ガス
吐出用空間として、不活性ガス吐出部の内端部と連通さ
れる第2空間を採用し、前記多孔体として、各第1空間
と第2空間との間に設けられるものを採用するのである
から、第2不活性ガス供給手段を小型化できるほか、請
求項11と同様の作用を達成することができる。
多孔体として、ポリテトラフルオロエチレンシートを採
用するのであるから、請求項10から請求項12の何れ
かと同様の作用を達成することができる。
不活性ガス吐出孔同士の間隔を乾燥対象である基板同士
の間隔の整数倍に設定し、しかも、最も端部に位置する
基板の外側に対応させて不活性ガス吐出孔を設けて前記
不活性ガス吐出孔との間隔を基板同士の間隔と等しく設
定したのであるから、複数枚の基板間の乾燥むらを大幅
に抑制でき、ひいては請求項4と同様の作用を達成する
ことができる。
発明の基板乾燥方法およびその装置の実施の態様を詳細
に説明する。
様を示す概略正面図、図2は概略側面図である。
板処理槽1の内部に複数枚の基板(例えば、半導体ウエ
ハーなど)2を起立状態で整列させて支承する基板支承
部(図示せず)と、基板処理槽1の上部寄り所定位置に
設けた乾燥用流体貯留部3と、乾燥用流体貯留部3に貯
留された乾燥用流体6に対して不活性ガス(例えば、窒
素ガス)を吹き付けて乾燥用流体の液滴を発生させ、こ
の液滴を基板処理槽1の中心に向かって案内する第1不
活性ガス供給部4と、発生した乾燥用流体の液滴を基板
2に向かって供給すべく不活性ガスを垂直下向きに供給
する第2不活性ガス供給部5とを有している。なお、7
は乾燥用流体供給流路、8は第1不活性ガス供給部4お
よび第2不活性ガス供給部5に不活性ガスを供給するた
めの不活性ガス供給流路、9は純水である。
給部により洗浄液が供給されることにより全ての基板2
を洗浄液に浸漬させて各基板2の全表面を洗浄し、洗浄
液を純水9で置換して純水9によるリンスを行い、その
後、図示しない洗浄液排出部から純水9を排出するもの
である。
部所定位置と係合して複数枚の基板2を起立状態で、か
つ所定間隔ごとに整列させるものである。
2の中心どうしを結ぶ仮想中心軸と平行に延びる本体部
材3aと、本体部材3aのほぼ全長範囲に延びる乾燥用
流体収容用の第1凹所3bと、基板処理槽1の中心より
において第1凹所3bと平行な第2凹所3cとを有して
いる。そして、乾燥用流体貯留部3は、複数枚の基板2
の斜め上方に配置されている。また、乾燥用流体として
は従来公知の種々のものが採用可能であるが、IPAを
採用することが好ましく、マランゴニ乾燥を達成するこ
とができる。
体貯留部3の上部に位置する本体部材4aと、第1凹所
3bと生体する位置に形成されて不活性ガスを下向きに
吐出する不活性ガス吐出孔(図示せず)と、飛散される
乾燥用流体の微細な液滴を案内すべく基板処理槽1の中
心に向かう案内路4cを形成する案内路形成部4bとを
有している。そして、不活性ガス吐出孔は、第1凹所3
bに収容されている乾燥用流体の表面に不活性ガスを高
速に吐出し、乾燥用流体の表面から乾燥用流体を微細な
液滴として飛散させることができるように、口径、ピッ
チ、吐出方向が設定されているとともに、不活性ガスの
吐出初速が設定されている。また、不活性ガスの吐出方
向は、直下に向く方向に限定されるものではなく、斜め
下方に向く方向に設定してもよい。
中心軸を基準として複数枚の基板2の直上に配置された
管体であるとともに、基板2に向かう方向(垂直下向き
方向)に不活性ガスを吐出する不活性ガス吐出孔(図示
せず)が形成されている。そして、不活性ガス吐出孔の
ピッチを基板2のピッチと等しく設定し、もしくは基板
2のピッチの整数分の1に設定することが好ましく、不
活性ガス吐出孔を基板2どうしの間隙に正対させること
が好ましい。また、不活性ガス吐出孔の口径は1〜5m
mに設定することが好ましい。さらにまた、不活性ガス
吐出部から吐出される不活性ガスの初速を1〜50m/
sに設定することが好ましい。ただし、前記管体として
は、円筒状、角筒状など、種々の形状のものを採用する
ことが可能である。
おりである。
れた複数枚の基板2の表面を洗浄液により洗浄した後、
洗浄液を純水9で置換して純水9によるリンスを行い、
その後、純水9を排出しながら以下のようにして基板2
の表面を乾燥させる。ただし、洗浄液による洗浄を行う
ことなく、純水9によるリンスのみを行う場合もある。
給され、乾燥用流体貯留部3の第1凹所3bに貯留され
た乾燥用流体6の液面に対して、不活性ガス供給流路8
から第1不活性ガス供給部4を通して不活性ガスを吹き
付けることによって、乾燥用流体6の微細な液滴を発生
させ、この液滴を不活性ガスと共に案内路4cを通して
基板処理槽1の中心に向かって吐出する。
活性ガス供給部5を通して不活性ガスを基板2どうしの
間隙に吐出することによって、案内路4cから吐出され
る乾燥用流体の液滴を引き込んで基板2どうしの間隙に
導き、基板2と純水9との浸漬界面に十分な量の乾燥用
流体を供給することができる。この結果、供給された乾
燥用流体によって基板乾燥を達成し、基板2の表面を迅
速、かつ高品質に乾燥させることができる。
られる基板2の表面に残留する水膜の厚みh0は、液の
粘性をη、引き上げ速度をV0、表面張力をν、液の密
度をρ、重力加速度をgとすれば、 h0=0.944[(ηV0)2/3/ν1/6(ρ
g)1/2] で表され、乾燥状態がよければこの残留水膜量h0が小
さくなり、残留水膜量h0が0になると完全に乾燥した
と考えられるのであるから、上述のように基板2の表面
を迅速、かつ高品質に乾燥させることができることが分
かる。
口流速と残留水膜量との関係を示す図であり、ノズル出
口流速の増加に伴って残留水膜量が減少することが分か
る。
カセットに収容された状態における間隔の1/2に設定
した場合であっても、乾燥用流体の液滴を用い、高速に
導入するのであるから、十分な量の乾燥用流体の供給を
達成することができる。
用流体6を昇温させる必要が全くないのであるから、安
全性を高めることができるとともに、コストを低減する
ことができる。さらに、超音波発生装置などが不要であ
るから、信頼性、耐久性を高めることができる。さらに
また、乾燥用流体の液滴を採用するので、乾燥用流体の
蒸気を採用する場合と比較して、乾燥用流体の消費量を
低減することができる。
場合には、それ自体が可燃性を有しているが、昇温させ
る必要が全くないこと、および使用量を低減できること
に起因して、安全性を高めることができ、防爆などの設
備を不要にすることができる。
の液だれが第2凹所3cに収容されるので、液だれが基
板2に付着して金属や有機物を析出させてしまうという
不都合の発生を未然に防止することができる。
例を示す横断平面図である。
ス導入部から所定距離(例えば、不活性ガス吐出孔ピッ
チ以上の所定距離)にわたる助走区間を有し、助走区間
を越えた範囲においてのみ不活性ガス吐出孔を有してい
る。
孔の出口流速、および助走区間を有していない不活性ガ
ス供給部における各吐出孔の出口流速を示す図であり、
助走区間を設けることによって出口流速のばらつきを小
さくできることが分かる。
むらを大幅に抑制することができる。
の構成例を示す縦断面図である。
形状の流体導入空間5aを有しているとともに、流体導
入空間5aの底部に多孔体層5bを有し、多孔体層5b
を介して流体導入空間5aと吐出孔5cとを連通してい
る。なお、多孔体としては、種々のものが採用可能であ
るが、ポリテトラフルオロエチレンシートを採用するこ
とが好ましい。
ない場合における各吐出孔の出口流速を示す図であり、
多孔体層を設けることによって出口流速のばらつきを小
さくできることが分かる。
むらを大幅に抑制することができる。
の構成例を示す縦断面図である。
不活性ガス供給部5と異なる点は、矩形断面形状の流体
導入空間5aの中央部に多孔体層5bを設けて流体導入
空間と吐出空間とを形成し、吐出空間と吐出孔5cとを
直接連通した点のみである。
ばらつきをより小さくすることができ、複数枚の基板2
間における乾燥むらをさらに抑制することができる。
の構成例を示す縦断面図である。
不活性ガス供給部5と異なる点は、吐出孔5cを第2不
活性ガス供給部本体の内奥部まで形成した点、全ての吐
出孔5cを結ぶ仮想面と平行に延びる流体導入空間5a
を形成した点、第2不活性ガス供給部本体の内奥部にお
いて吐出孔5cと連通され、かつ仮想面と直交する吐出
空間を形成した点、および各流体導入空間5aと吐出空
間とを多孔体層5bを介して連通した点のみである。
空間、多孔体層5b、流体導入空間5aを形成する場合
と比較して、第2不活性ガス供給部5を小型化できる。
ピッチを基板2と共に示す図である。
正対されているとともに、吐出孔ピッチが基板ピッチの
2倍に設定されている。そして、最も端部の基板の外側
に対応させて、基板ピッチと等しいピッチで吐出孔が形
成されている。
列されている場合に好適であり、十分な乾燥性能を達成
することができる。
流体の何れも高温にする必要がなく、安全性を高めるこ
とができるとともに、基板と洗浄液との浸漬界面に十分
な量の乾燥用流体を供給して迅速かつ高品質な乾燥を達
成することができ、また、超音波発生装置などが不要で
あるから信頼性、耐久性を高めることができるという特
有の効果を奏する。
ゴニ乾燥を達成することができ、ひいては請求項1と同
様の効果を奏する。
2と同様の効果を奏する。
体の何れも高温にする必要がなく、安全性を高めること
ができるとともに、基板と洗浄液との浸漬界面に十分な
量の乾燥用流体を供給して迅速かつ高品質な乾燥を達成
することができ、また、超音波発生装置などが不要であ
るから信頼性、耐久性を高めることができるという特有
の効果を奏する。
ゴニ乾燥を達成することができ、ひいては請求項4と同
様の効果を奏する。
5と同様の効果を奏する。
乾燥むらを大幅に抑制でき、ひいては請求項4から請求
項6の何れかと同様の効果を奏する。
向上させることができるほか、請求項7と同様の効果を
奏する。
むらを大幅に抑制でき、ひいては請求項4と同様の効果
を奏する。
燥むらを大幅に抑制でき、ひいては請求項4と同様の効
果を奏する。
燥むらを大幅に抑制できるほか、請求項10と同様の効
果を奏する。
手段を小型化できるほか、請求項11と同様の効果を奏
する。
項12の何れかと同様の効果を奏する。
燥むらを大幅に抑制でき、ひいては請求項4と同様の効
果を奏する。
略正面図である。
水膜量との関係を示す図である。
平面図である。
速、および助走区間を有していない不活性ガス供給部に
おける各吐出孔の出口流速を示すである。
す縦断面図である。
おける各吐出孔の出口流速を示す図である。
す縦断面図である。
す縦断面図である。
と共に示す図である。
部 6 乾燥用流体
Claims (14)
- 【請求項1】 処理槽(1)内に複数枚の基板(2)を
整列状態で収容し、かつ処理槽(1)内における洗浄液
の液面を基板(2)に対して相対的に下降させながら基
板(2)の表面に乾燥用流体を供給することにより基板
(2)の表面を乾燥させる方法であって、 処理槽(1)内の、基板(2)上部に乾燥用流体(6)
を貯留し、 貯留した乾燥用流体(6)に対して不活性ガスを吹き付
けることにより処理槽(1)内において乾燥用流体の液
滴を発生させて互いに接近する方向に導き、 発生され、互いに接近する方向に導かれた乾燥用流体の
液滴を各基板(2)の表面に導くべく不活性ガスを供給
することを特徴とする基板乾燥方法。 - 【請求項2】 前記乾燥用流体(6)はイソプロピルア
ルコールである請求項1に記載の基板乾燥方法。 - 【請求項3】 前記不活性ガスは窒素ガスである請求項
1または請求項2に記載の基板乾燥方法。 - 【請求項4】 処理槽(1)内に複数枚の基板(2)を
整列状態で収容し、かつ処理槽(1)内における洗浄液
の液面を基板(2)に対して相対的に下降させながら基
板(2)の表面に乾燥用流体を供給することにより基板
(2)の表面を乾燥させる装置であって、 処理槽(1)内の、基板(2)上部に乾燥用流体(6)
を貯留する乾燥用流体貯留手段(3)と、 貯留した乾燥用流体(6)に対して不活性ガスを吹き付
けることにより処理槽(1)内において乾燥用流体の液
滴を発生させて互いに接近する方向に導く第1不活性ガ
ス供給手段(4)と、 発生され、互いに接近する方向に導かれた乾燥用流体の
液滴を各基板(2)の表面に導くべく不活性ガスを供給
する第2不活性ガス供給手段(5)とを含むことを特徴
とする基板乾燥装置。 - 【請求項5】 前記乾燥用流体(6)はイソプロピルア
ルコールである請求項4に記載の基板乾燥装置。 - 【請求項6】 前記乾燥用流体貯留手段(3)は、複数
枚の基板(2)の並び方向と平行に延び、かつ上部が開
放された乾燥用流体貯留凹所(3b)を有するものであ
る請求項4または請求項5に記載の基板乾燥装置。 - 【請求項7】 前記第2不活性ガス供給手段(5)は、
不活性ガスを垂直下向きに吐出する不活性ガス吐出孔を
有するものである請求項4から請求項6の何れかに記載
の基板乾燥装置。 - 【請求項8】 前記不活性ガス吐出孔は、長さが直径以
上である請求項7に記載の基板乾燥装置。 - 【請求項9】 前記第2不活性ガス供給手段(5)は、
不活性ガス供給口と不活性ガス吐出部との間に所定の助
走区間を有している請求項4に記載の基板乾燥装置。 - 【請求項10】 前記第2不活性ガス供給手段(5)
は、不活性ガス導入空間と、不活性ガス吐出部と、不活
性ガス導入空間と不活性ガス吐出部との間に位置する多
孔体とを有している請求項4に記載の基板乾燥装置。 - 【請求項11】 前記多孔体と不活性ガス吐出部との間
に不活性ガス吐出用空間をさらに有する請求項10に記
載の基板乾燥装置。 - 【請求項12】 前記不活性ガス導入空間は、全ての不
活性ガス吐出部と平行に延びる1対の第1空間であり、
前記不活性ガス吐出用空間は、不活性ガス吐出部の内端
部と連通される第2空間であり、前記多孔体は、各第1
空間と第2空間との間に設けられるものである請求項1
1に記載の基板乾燥装置。 - 【請求項13】 前記多孔体は、ポリテトラフルオロエ
チレンシートである請求項10から請求項12の何れか
に記載の基板乾燥装置。 - 【請求項14】 前記不活性ガス吐出孔同士の間隔を乾
燥対象である基板同士の間隔の整数倍に設定し、しか
も、最も端部に位置する基板の外側に対応させて不活性
ガス吐出孔を設けて前記不活性ガス吐出孔との間隔を基
板同士の間隔と等しく設定してある請求項4に記載の基
板乾燥装置。
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