JPH10189517A

JPH10189517A - 基板洗浄方法及びその装置

Info

Publication number: JPH10189517A
Application number: JP34029496A
Authority: JP
Inventors: Noriaki Uenosono; 憲明上之薗
Original assignee: Oki Electric Industry Co Ltd
Current assignee: Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date: 1996-12-20
Filing date: 1996-12-20
Publication date: 1998-07-21

Abstract

(57)【要約】【課題】基板の面を均一に、しかも異物が再付着する
ことなく除去することができる基板洗浄方法及びその装
置を提供する。【解決手段】洗浄しようとする基板１を薬液に対して
最も異物の除去率の高い角度θで設定する。この角度θ
は角度調整装置４により可変にできる。このように設定
された基板１にノズル２より薬液３をノズル２に接続さ
れる配管に設置されるＯＮ，ＯＦＦバルブ５を制御器６
からの制御信号によりＯＮ，ＯＦＦすることにより、基
板１の表面上に薬液３が波状になり落下することによ
り、表面張力で異物を確実に除去することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板（マスクや半
導体ウエハ）の洗浄方法及びその装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に、従来の基板の洗浄装置は、以下
のように構成されていた。（１）基板を１枚ずつ回転させて薬液をかける。（２）
基板を垂直に立てて薬液に浸して（ディップ）引き上げ
を行う。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の基板の洗浄装置において、上記（１）の回転方
式では、基板の中心と外側では異物の除去率が相違す
る。また、上記（２）のディップする方式では、異物が
再付着するといった問題点があった。

【０００４】本発明は、上記問題点を除去し、基板の面
を均一に、しかも異物が再付着することなく除去するこ
とができる基板洗浄方法及びその装置を提供することを
目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、（１）基板洗浄方法において、基板を傾斜させて設定す
る工程と、ノズルから薬液を前記基板面に間欠的に吐出
する工程とを施すようにしたものである。（２）上記（１）記載の基板洗浄方法において、前記基
板の角度を薬液の種類に対応させて変更するようにした
ものである。

【０００６】（３）上記（１）記載の基板洗浄方法にお
いて、前記ノズルからの薬液の供給を連続的にＯＮ，Ｏ
ＦＦするようにしたものである。（４）基板洗浄方法において、基板を傾斜させて設定す
る工程と、ノズルから薬液を前記基板面に吐出するとと
もに、前記基板をスライドさせる工程とを施すようにし
たものである。

【０００７】（５）基板洗浄方法において、基板を傾斜
させて設定する工程と、ノズルから薬液を前記基板面に
吐出するとともに、前記ノズルをスライドさせる工程と
を施すようにしたものである。（６）基板洗浄装置において、基板を傾斜させて設定す
る基板設定手段と、前記基板面に薬液を供給するノズル
と、前記ノズルからの薬液を前記基板面に間欠的に吐出
する薬液吐出手段とを具備するようにしたものである。

【０００８】（７）上記（６）記載の基板洗浄装置にお
いて、前記基板設定手段は前記基板の角度の変更手段を
具備するようにしたものである。（８）上記（６）記載の基板洗浄装置において、前記薬
液吐出手段は前記ノズルからの薬液の供給を連続的にＯ
Ｎ，ＯＦＦする制御手段を具備するようにしたものであ
る。

【０００９】（９）基板洗浄装置において、基板を傾斜
させて設定する基板設定手段と、前記基板面に薬液を供
給するノズルと、前記基板設定手段をスライドさせる手
段とを具備するようにしたものである。（１０）基板洗浄装置において、基板を傾斜させて設定
する基板設定手段と、前記基板面に薬液を供給するノズ
ルと、前記ノズルをスライドさせる手段とを具備するよ
うにしたものである。

【００１０】このように構成したので、（Ａ）ノズルからの薬液を傾斜した基板面に間欠的に吐
出することにより、薬液を基板表面に波状に落下させる
ことができ、表面張力で異物を確実に除去することがで
きる。（Ｂ）基板の角度を薬液の種類によって調整することに
より、最適な異物の除去を行うことができる。

【００１１】（Ｃ）ノズルからの薬液の供給を連続的に
ＯＮ，ＯＦＦすることにより、簡単な構成で、異物の除
去効果を向上させることができる。（Ｄ）基板をスライドさせることにより、ノズル側の構
成を簡便化して、異物の除去を行うことができる。（Ｅ）ノズルをスライドさせることにより、基板側の構
成を簡便化して、異物の除去を行うことができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。図１は本発明の
第１実施例を示す基板洗浄装置の概略構成図であり、基
板の側面を示している。図２はその基板洗浄装置の正面
図である。これらの図に示すように、洗浄しようとする
基板１を薬液３（例えば、硫酸や過酸化水素水などに対
して最も異物の除去率の高い角度θ（例えば、１５〜６
０度）に設定する。この角度θは角度調整装置４により
可変にすることができる。また、この角度θは、薬液の
種類（例えば、薬液が硫酸の場合、４５〜６０度、薬液
が過酸化水素水の場合、１５〜４５度）によって、角度
調整装置４により調整することができる。

【００１３】このように設定された基板１に、ノズル２
より薬液３をノズル２に接続される配管に設置されるＯ
Ｎ，ＯＦＦバルブ５を、制御器６からの制御信号により
ＯＮ，ＯＦＦ（例えば、２〜３秒ＯＮ、５秒ＯＦＦ）す
ることにより、基板１の表面上に薬液３が波状になり落
下し（図３参照）、表面張力で異物を確実に除去するこ
とができる。

【００１４】図３は本発明の第１実施例を示す基板洗浄
装置の部分側面図、図４はその基板洗浄装置の部分正面
図であり、基板の表面上の薬液の様子を示している。こ
れらの図に示すように、基板１を角度調整装置４（例え
ば、基板受け８を円弧状のガイド溝９にそって移動させ
ることによって、基板１のセット角度を調整する）によ
り、異物の除去率の高い角度θにセットする。

【００１５】次に、薬液の吐出をＯＮ，ＯＦＦバルブ５
（図１参照）の動作により、ＯＮ，ＯＦＦし、波状の薬
液３′が基板１の表面にかかるようにする。なお、７は
基板１の上部に配置される薬液３のガイドである。この
ように、第１実施例によれば、基板に薬液を波状に吐出
させることにより、波の先端の表面張力によって異物を
確実に除去できる。これを繰り返すことによってより効
果が得られる。

【００１６】次に、本発明の第２実施例について説明す
る。図５は本発明の第２実施例を示す基板洗浄装置の概
略構成図であり、基板の側面を示している。この実施例
においては、基板１１をセットした水平移動可能な治具
１２を設けて、この治具１２を駆動装置１３により水平
方向に往復移動させ、固定された一個のノズル１４から
薬液１５を吐出することにより、上記第１実施例で示し
た薬液のＯＮ，ＯＦＦと同じ効果を得ることができる。

【００１７】すなわち、基板１１を治具１２にセット
し、ノズル１４より薬液１５を吐出させ、治具１２を駆
動装置１３により、往復動作させてスライドさせる。次
に、本発明の第３実施例について説明する。図６は本発
明の第３実施例を示す基板洗浄装置の概略構成図であ
り、基板の側面を示している。

【００１８】この実施例においては、基板２１をセット
した治具２２を固定しておき、駆動装置２５により水平
方向にノズル２３を往復移動する、一個のノズル２３か
ら薬液２４を吐出することにより、上記第１実施例で示
した薬液のＯＮ，ＯＦＦと同じ効果を得ることができ
る。すなわち、基板２１を治具２２にセットして固定し
ておき、ノズル２３より薬液２４を吐出させるととも
に、駆動装置２５により、ノズル２３を往復移動させて
スライドさせる。

【００１９】上記した第２，第３実施例において、ノズ
ルは一個でも多数個でも構わない。また、ノズルを、一
個配置し、各基板毎に、薬液のＯＮ，ＯＦＦを行い、基
板を一枚毎に仕上げて、一方向の移動で洗浄を終了する
ようにしてもよい。また、上記実施例では、洗浄装置に
適用した例を説明したが、現像機及びエッチング装置に
も適用可能である。

【００２０】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。

【００２１】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、以下のような効果を奏することができる。（１）請求項１又は６記載の発明によれば、ノズルから
の薬液を傾斜した基板面に間欠的に吐出することによ
り、薬液を基板表面に波状に落下させることができ、表
面張力で異物を確実に除去することができる。

【００２２】（２）請求項２又は７記載の発明によれ
ば、基板の角度を薬液の種類により調整することによ
り、最適な異物の除去を行うことができる。（３）請求項３又は８記載の発明によれば、ノズルから
の薬液の供給を連続的にＯＮ，ＯＦＦすることにより、
簡単な構成で、異物の除去効果を向上させることができ
る。

【００２３】（４）請求項４又は９記載の発明によれ
ば、基板をスライドさせることにより、ノズル側の構成
を簡便化して、異物の除去を行うことができる。（５）請求項５又は１０記載の発明によれば、ノズルを
スライドさせることにより、基板側の構成を簡便化し
て、異物の除去を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例を示す基板洗浄装置の概略
構成図である。

【図２】本発明の第１実施例を示す基板洗浄装置の正面
図である。

【図３】本発明の第１実施例を示す基板洗浄装置の部分
側面図である。

【図４】本発明の第１実施例を示す基板洗浄装置の部分
正面図である。

【図５】本発明の第２実施例を示す基板洗浄装置の概略
構成図である。

【図６】本発明の第３実施例を示す基板洗浄装置の概略
構成図である。

【符号の説明】

１，１１，２１基板２，１４，２３ノズル３，３′，１５，２４薬液４角度調整装置５ＯＮ，ＯＦＦバルブ６制御器７ガイド８基板受け９ガイド溝１２，２２治具１３，２５駆動装置

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（ａ）基板を傾斜させて設定する工程と、
（ｂ）ノズルから薬液を前記基板面に間欠的に吐出する
工程とを施すことを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項２】請求項１記載の基板洗浄方法において、
前記基板の角度を薬液の種類に対応させて変更すること
を特徴とする基板洗浄方法。
【請求項３】請求項１記載の基板洗浄方法において、
前記ノズルからの薬液の供給を連続的にＯＮ，ＯＦＦす
ることを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項４】（ａ）基板を傾斜させて設定する工程と、
（ｂ）ノズルから薬液を前記基板面に吐出するととも
に、前記基板をスライドさせる工程とを施すことを特徴
とする基板洗浄方法。
【請求項５】（ａ）基板を傾斜させて設定する工程と、
（ｂ）ノズルから薬液を前記基板面に吐出するととも
に、前記ノズルをスライドさせる工程とを施すことを特
徴とする基板洗浄方法。
【請求項６】（ａ）基板を傾斜させて設定する基板設定
手段と、（ｂ）前記基板面に薬液を供給するノズルと、
（ｃ）前記ノズルからの薬液を前記基板面に間欠的に吐
出する薬液吐出手段とを具備する基板洗浄装置。
【請求項７】請求項６記載の基板洗浄装置において、
前記基板設定手段は前記基板の角度の変更手段を具備す
る基板洗浄装置。
【請求項８】請求項６記載の基板洗浄装置において、
前記薬液吐出手段は前記ノズルからの薬液の供給を連続
的にＯＮ，ＯＦＦする制御手段を具備する基板洗浄装
置。
【請求項９】（ａ）基板を傾斜させて設定する基板設定
手段と、（ｂ）前記基板面に薬液を供給するノズルと、
（ｃ）前記基板設定手段をスライドさせる手段とを具備
する基板洗浄装置。
【請求項１０】（ａ）基板を傾斜させて設定する基板設
定手段と、（ｂ）前記基板面に薬液を供給するノズル
と、（ｃ）前記ノズルをスライドさせる手段とを具備す
る基板洗浄装置。