JPH08139007A - 洗浄方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 大径のウエハであっても全体にわたって確実
に洗浄する。 【構成】 スピンヘッド２でウエハ７を保持して回転さ
せながらウエハ裏面に洗浄液２０を吹き付けて洗浄する
洗浄装置において、ウエハ裏面の微粒子９Ａの除去を主
目的とする第１ノズル１１と、ウエハ外周縁部の異物９
の除去を主目的とする第２ノズル１２とを装備し、第２
ノズル１２を位置調整可能に構成する。 【効果】 第１ノズル１１と第２ノズル１２とにより洗
浄液２０をウエハ７の裏面に作用させるため、大径のウ
エハでも裏面の微粒子９Ａおよび外周縁部の異物９を確
実に除去できる。第２ノズル１２を変位させることで、
吹き付け位置Ｐ₂の最適値を実験や経験で容易に求める
ことができるため、ウエハ外径の変更に迅速に対応でき
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、洗浄技術、特に、被処
理物に形成された塗膜の一部が不必要な場所に異物とし
て付着している場合に、この付着物を洗浄により除去す
るする技術に関し、例えば、半導体装置の製造工程にお
いて、半導体ウエハ（以下、ウエハという。）の裏面を
洗浄するとともに、ウエハの表面に塗布されたフォトレ
ジスト膜が裏面に廻り込んで異物として付着した場合に
この異物を除去するのに利用して有効な技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置の製造工程において、ウエハ
上にフォトレジストを塗布する塗布装置として、処理容
器の内部に設けた水平面内で回転可能なスピンヘッド上
にウエハを載せた状態で真空吸着保持せしめた後、この
スピンヘッドによりウエハを回転させながらフォトレジ
ストの溶液をウエハの表面上に滴下して塗布するように
構成されているものがある。

【０００３】このような塗布装置においては、ウエハの
表面に供給されて回転により拡散されたフォトレジスト
の溶液が回転に伴ってウエハの裏面に回り込むため、フ
ォトレジスト膜の一部がウエハ裏面の外周縁部に異物と
して付着することがある。また、フォトレジストの溶液
が遠心力によって周囲に飛散してフォトレジストの微粒
子になり、気流に乗ってウエハ裏面に付着することがあ
る。このようにフォトレジストがウエハの外周縁部や裏
面に付着していると、塗布終了後のウエハ搬送等におい
て、ウエハ外周縁部のフォトレジスト膜が剥がれたり、
ウエハ裏面のフォトレジストの微粒子が離脱して異物と
なり、当該ウエハや、その他のウエハに付着して製品歩
留りを低下させてしまうことがある。

【０００４】そこで、特開昭５８−５８７３１号公報に
は、次のようなレジスト除去方法が提案されている。す
なわち、ウエハを回転させながら、フォトレジスト溶液
の溶剤をウエハ裏面から外周縁部に向けて吹き付けて外
周縁部に付着したフォトレジスト膜を溶融させるととも
に、遠心力によって溶融されたフォトレジスト溶液およ
び溶剤を除去する。この際、溶剤がウエハ裏面に接触す
ると、ウエハ裏面に付着したフォトレジストの微粒子も
溶融されて除去されることになる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ウエハ
が大径になると、ウエハ裏面に付着したフォトレジスト
の微粒子とウエハ裏面の外周縁部に付着したフォトレジ
スト膜とを同時には除去することができないという問題
点があることが本発明者によって明らかにされた。

【０００６】本発明の目的は、大径の被洗浄面であって
も全体にわたって確実に洗浄することができる洗浄技術
を提供することにある。

【０００７】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。

【０００９】すなわち、スピンヘッドによって被処理物
を保持して回転させながら、被処理物の被洗浄面に洗浄
液を吹き付けて洗浄する洗浄装置において、洗浄液を吹
き出すノズルが複数本配設されており、各ノズルはその
吹き出した洗浄液の被洗浄面との接触位置が径方向に互
いにずれるようにそれぞれ構成されていることを特徴と
する。

【００１０】

【作用】前記した手段において、少なくとも１本のノズ
ルから吹き出された洗浄液が被洗浄面における外周縁部
の近傍位置に吹き付けられると、その洗浄液によって被
洗浄面の外周縁部に付着した異物は、被処理物のスピン
ヘッドによる回転に伴ってきわめて効果的に除去され
る。他のノズルから吹き出された洗浄液が被洗浄面の径
方向中間位置に吹き付けられると、その洗浄液によって
被洗浄面における中間部領域に付着した異物は、被処理
物のスピンヘッドによる回転に伴ってきわめて効果的に
除去される。

【００１１】このようにして前記した手段によれば、各
ノズルの被処理物の被洗浄面に対する洗浄領域を個々に
分担させることができるため、大径の被洗浄面であって
も全体にわたって確実に洗浄することができる。

【００１２】

【実施例】図１は本発明の一実施例である洗浄装置が組
み込まれているフォトレジスト塗布装置を示しており、
（ａ）は一部省略正面断面図、（ｂ）はその主要部の斜
視図である。図２はその作用を説明するための模式図で
あり、（ａ）は底面図、（ｂ）は拡大部分正面断面図で
ある。

【００１３】本実施例において、この塗布装置はフォト
レジストをウエハの一主面（以下、表面とする。）に塗
布するものとして構成されており、この塗布装置には本
発明の一実施例である洗浄装置がウエハ裏面に付着した
フォトレジストの異物を除去するものとして、一体的に
組み込まれている。

【００１４】この塗布装置は処理容器１を備えており、
この容器１の内部にはスピンヘッド２が適当な駆動手段
（図示せず）により回転されるように設けられている。
スピンヘッド２は被処理物としてのウエハ７を真空吸着
等により保持し得るように構成されている。そして、こ
のスピンヘッド２は塗布作業と洗浄作業とに兼用される
ようになっている。処理容器１の上面における略中央部
には給気口３が開設されており、処理容器１の底壁にお
けるスピンヘッド２の外方位置には排気口４が開設され
ている。処理容器１内におけるスピンヘッド２の中心の
真上には、フォトレジストの溶液が使用された塗布材５
を滴下するための滴下管６が挿入されており、滴下管６
と処理容器１とは適当な手段（図示せず）によって相対
的に昇降されるようになっている。

【００１５】洗浄装置１０はいずれも洗浄液を被洗浄面
としてのウエハ裏面に吹き付ける第１ノズル１１と第２
ノズル１２とを備えており、両ノズル１１、１２は処理
容器１の下側部分におけるスピンヘッド２の外側におい
て径方向内外にそれぞれ配置されている。図示しない
が、両ノズル１１、１２は洗浄液供給装置にそれぞれ流
体的に接続されている。例えば、洗浄液供給装置は洗浄
液が貯留されたタンク、タンクから洗浄液を汲み上げて
圧送するポンプ、ポンプとノズルとを流体的に連結する
通路、通路の途中に介設されて洗浄液の供給時期や流量
および圧力等を制御する制御弁群を備えた制御ユニット
から構成されている。

【００１６】径方向内側に配置された第１ノズル１１と
径方向外側に配置された第２ノズル１２との関係は、第
１ノズル１１の吹き出した洗浄液のウエハ裏面との接触
位置Ｐ₁ が、第２ノズル１２の吹き出した洗浄液のウエ
ハ裏面との接触位置Ｐ₂ よりも内側になるように設定さ
れている。本実施例において、第１ノズル１１の当該接
触位置Ｐ₁ はスピンヘッド２に洗浄液が吹きかからない
範囲内で、ウエハ裏面の中心点に可及的に近い位置に設
定されている。また、第１ノズル１１および第２ノズル
１２は、その洗浄液の吹き出し方向が鉛直線に対して径
方向外側に適度に傾斜するように構成されている。

【００１７】本実施例において、第２ノズル１２はその
吹き出した洗浄液のウエハ裏面との接触位置Ｐ₂ を変更
調整し得るように構成されている。すなわち、処理容器
１の下方位置には両端をブラケット１３、１３に支持さ
れたガイドレール１４が一対、水平面内において径方向
内外に敷設されており、両ガイドレール１４、１４には
スライダー１５が摺動自在に跨設されている。スライダ
ー１５には止めねじ１６が進退自在に螺着されており、
スライダー１５はガイドレール１４を摺動されて径方向
の所望の位置を定められた後に、この止めねじ１６をね
じ込まれることによってその位置に固定されるようにな
っている。スライダー１５には第２ノズル１２が立脚さ
れて固定されており、このノズル１２の入口側端部（図
示せず）には洗浄液供給装置（図示せず）に接続された
可撓性のホース１７が接続されている。そして、第２ノ
ズル１２の吐出側端部は処理容器１の下面壁に開設され
た挿通孔１８を挿通されて、処理容器１の内部に突き出
されている。挿通孔１８にはゴム等の弾性体が使用され
て蛇腹形状に形成されたシール膜１９が張設されてお
り、このシール膜１９は第２ノズル１２の挿通端部に固
定されることにより、挿通孔１８のシール状態を確保し
つつ第２ノズル１２の径方向への移動を実現するように
なっている。

【００１８】次に、前記構成に係る塗布装置を備えた洗
浄装置の使用方法、並びに作用をウエハ上にフォトレジ
スト溶液を塗布するとともに、異物としてのフォトレジ
ストを洗浄によって除去する場合につき説明する。

【００１９】ここで、塗布材５として使用されるフォト
レジスト溶液は、フォトレジスト（樹脂と感光剤）にノ
ーマル・メチル・ピロリジオン（ＮＭＰ）等のフォトレ
ジスト用の有機溶剤を溶媒として使用して得られた溶液
であり、スピン塗布するのに好適な粘度を有する塗布材
に調製されている。

【００２０】まず、図１に示されているように、被塗布
物および被洗浄物としてのウエハ７がスピンヘッド２上
に載せられて真空吸着等の手段により保持されると、ウ
エハ７が回転される。この回転が安定したところで、滴
下管６から塗布材５がウエハ７の中心上に滴下される
と、塗布材５は遠心力によって放射方向に拡散され、ウ
エハ７の表面に塗布膜８が形成されることになる。この
とき、図１に実線矢印で示されているように、給気口３
から排気口４の方向に気流が形成されることにより、塗
布材５の飛沫がウエハ７の表面に付着することを防止さ
れる。

【００２１】しかし、ウエハ７の裏面には塗布材５から
発生した微粒子９Ａがウエハ裏面側に廻り込む気流に乗
って付着することがある。塗布材５の微粒子９Ａは、滴
下管６から滴下された塗布材５がウエハ７の表面で跳ね
た時の飛沫から発生したり、ウエハ７の表面における外
周縁で振り切られた塗布材５の飛沫が処理容器１の内周
面に衝突して破砕されることにより発生したりする。

【００２２】また、拡散されてウエハ７の表面の外周縁
に至ったフォトレジスト溶液は、その殆どが遠心力によ
って振り切られるが、一部はその溶液の表面張力および
粘性と遠心力との釣り合い関係によってウエハ７の裏面
側に廻り込んで、ウエハ裏面の外周縁部に異物９として
付着する状態になる。

【００２３】このようにして裏面に塗布材５の微粒子９
Ａが付着したり裏面の外周縁部に異物９が付着したまま
のウエハ７が次工程へ送られると、微粒子９Ａや異物９
がウエハ７から不慮に脱落することにより、そのウエハ
７や、他のウエハの表面が汚染される。また、微粒子や
異物が付着したままのウエハがヒータの加熱等によって
ベーキングやキュアされる場合には、そのヒータが汚染
される。さらに、ウエハが弗酸を使用されるウエットエ
ッチングによりその裏面を削除される場合には、ウエハ
裏面における微粒子や異物が付着した領域がエッチング
されないため、エッチング残りが発生する。

【００２４】そこで、本実施例においては、塗布作業と
同時に洗浄作業が実施されることにより、ウエハ裏面に
付着した微粒子および異物が完全に除去される。すなわ
ち、ウエハ７が回転されながらウエハ７の表面に塗布材
５が滴下されるとともに、第１ノズル１１および第２ノ
ズル１２から洗浄液２０がウエハ７の裏面に吹き付けら
れる。この洗浄液２０としては、塗布材５のフォトレジ
スト溶液に用いられた有機溶剤が使用される。洗浄液２
０は塗布膜８を形成するフォトレジスト溶液の溶剤であ
るため、同質の微粒子９Ａおよび異物９は溶融される。
この溶融されたフォトレジスト溶液は洗浄液２０および
塗布膜８を形成して余分となった塗布材５と一緒に、遠
心力によりウエハ７の裏面から飛散される。

【００２５】ところで、洗浄液をウエハの裏面に吹き付
けるノズルの径方向の吹き付け位置がウエハ間で一定に
設定されている従来例の場合には、ウエハが大径になる
と、ウエハ外周縁部の異物を除去することができないこ
とがある。これは次のような理由によると、考えられ
る。ノズルによる洗浄液の流量、流速および吐出圧がウ
エハの外径とスピンヘッドの外径との比率によって変更
調整されても、大径のウエハでは洗浄面積が大きくなっ
て洗浄液が大量に必要になり、また、洗浄液がウエハの
外周縁まで達する迄に重力によって剥がれ落ちる量が増
加し、さらに、ウエハの外周縁においてウエハの表面側
に廻り込む洗浄液の量が減少するため、ウエハ外周縁の
異物が充分に溶融されなくなり、除去が不充分になる。

【００２６】そこで、本実施例においては、ウエハ裏面
の微粒子９Ａを除去するのを主な目的とする第１ノズル
１１と、ウエハ７の外周縁部の異物９を除去するのを主
な役目とする第２ノズル１２とを装備した洗浄装置１０
を設備して、第１ノズル１１および第２ノズル１２の両
方から有機溶剤である洗浄液２０をウエハ７の裏面に作
用させることにより、ウエハ７の裏面の微粒子９Ａおよ
び外周縁部の異物９を同時に確実に除去するようにし
た。

【００２７】すなわち、図２に示されているように、第
１ノズル１１からウエハ７の裏面における中間部に吹き
付けらた洗浄液２０は、その粘性および表面張力によっ
てウエハ裏面に粘着し、遠心力によって周方向および径
方向外側に拡散して行く。拡散した洗浄液２０の大部分
は、粘着力、表面張力、遠心力、水平方向への移動力、
自重の釣り合いが崩れた場所でウエハ裏面から剥離して
落下して行く。このようにして洗浄液２０がウエハ裏面
全体に拡散した後に剥離して行くことにより、ウエハ裏
面に付着したフォトレジストの微粒子９Ａが溶融されて
除去される。

【００２８】そして、第１ノズル１１による洗浄液２０
のウエハ裏面への吹き付け方は、一方において、吹き付
けられた洗浄液２０がスピンヘッド２の真空吸引力によ
って吸引されないように配慮すべきである。また、他方
において、吹き付けられた洗浄液２０がウエハ裏面で可
及的に反射せずにウエハ裏面に効率的に粘着し、ウエハ
７の回転に伴って周方向および径方向に拡散し、ウエハ
裏面の微粒子９Ａを効果的に溶融しかつ洗い流すことが
できるように配慮すべきである。これらの点を配慮した
上で、第１ノズル１１による洗浄液２０の吹き付け流
量、流速、吐出圧、吹き出し形態、吹き付け傾斜角度等
が、ウエハ７の外径、スピンヘッド２の回転速度等に対
応して最適値に設定される。この最適値は、実験やコン
ピューターによる模擬実験によって経験的に設定するこ
とが効率的である。

【００２９】他方、第２ノズル１２からウエハ７の裏面
における外周縁部付近に吹き付けらた洗浄液２０は、そ
の粘性および表面張力によってウエハ裏面に粘着し遠心
力によって周方向および径方向外側に拡散して行く。拡
散した洗浄液２０の大部分は、粘着力、表面張力、遠心
力、水平方向への移動力、自重の釣り合いによってウエ
ハ裏面外周縁部の異物９に達して接触し、その接触後に
当該釣り合いが崩れるため、外周縁部でウエハ裏面から
剥離して振り切られて行く。洗浄液２０が外周縁部の異
物９に接触すると、洗浄液２０として有機溶剤が使用さ
れているため、フォトレジスト溶液からなる異物９は溶
融されるとともに、遠心力によって振り切られる。ま
た、ウエハ裏面の外周縁部に達した洗浄液２０の一部は
その粘着力および表面張力によってウエハ７の表面側に
廻り込み、ウエハ表面側の外周縁部に塗布された塗布膜
８の一部を環状に均一に溶融させる。この表面側の塗布
膜８の外周縁の溶融によって、裏面側の異物９の遠心力
による振り切りがウエハ間で一定の状態で常に繰り返さ
れることになる。すなわち、ウエハ裏面に付着した異物
９はウエハ７の表面側に塗布された塗布膜８の外周縁か
ら綺麗に切断された状態で、常に除去される。

【００３０】そして、図２に示されているように、第２
ノズル１２による洗浄液２０のウエハ裏面への径方向の
吹き付け位置（以下、吹き付け位置という。）Ｐ₂ は、
まず、ウエハ７のオリエンテーションフラット７ａを配
慮する必要がある。すなわち、ウエハ７の中心Ｏから吹
き付け位置Ｐ₂ 迄の距離をＢ、ウエハ７の中心Ｏからオ
リエンテーションフラット７ａ迄の距離をＬとすると、
Ｂ＜Ｌ、である必要がある。なぜならば、Ｂ＞Ｌである
と、第２ノズル１２からウエハ裏面に向けて吹き出され
た洗浄液２０がオリエンテーションフラット７ａの位置
においてウエハ７の表面側に飛び出してしまうためであ
る。

【００３１】さらに、第２ノズル１２の吹き付け位置Ｐ
₂ はウエハ７の中心Ｏから最も近い外周縁から５ｍｍ以
上離れている必要がある。すなわち、ウエハ７の中心Ｏ
から吹き付け位置Ｐ₂ 迄の距離をＢｍｍ、ウエハ７の半
径をＲｍｍとすると、Ｂ≦Ｒ−５、である必要がある。
また、オリエンテーションフラット７ａがある場合に
は、Ｂ≦Ｌ−５である必要がある。これは、第２ノズル
１２の吹き付け位置Ｐ₂がウエハ７の外周縁から５ｍｍ
未満の範囲内に設定されていると、第２ノズル１２から
ウエハ裏面に向けて吹き出された洗浄液２０がウエハ７
の表面側に飛び出して処理容器１の内周面等で跳ね返
り、ウエハ表面側に塗布された塗布膜８に付着してしま
うことが、実験や経験則によって確認されているためで
ある。

【００３２】そして、第２ノズル１２の吹き付け位置Ｐ
₂ の最適値の設定には多種多様のパラメーターが関係す
るため、第２ノズル１２の吹き付け位置Ｐ₂ の最適値は
実験および経験則によって求めることが最良である。本
実施例においては、第２ノズル１２は径方向内外に変位
可能であるため、吹き付け位置Ｐ₂ の最適値は実験や経
験によって容易に求めることができる。例えば、大径の
ウエハ７に変更されて外周縁部の異物９が除去し切れな
い事態が発生した場合に、第２ノズル１２がガイドレー
ル１４に沿って径方向外側に若干移動されて止めねじ１
６によって固定される。その吹き出し位置で、大径のウ
エハ７に対する塗布作業および洗浄作業が実行されて、
外周縁部の異物９の除去状態が観測される。その観測結
果、外周縁部の異物９の除去状態が良好である場合に
は、当該吹き付け位置が一応の最適値として設定され
る。不良である場合には、第２ノズル１２の位置の変更
作業ないし観測作業が繰り返される。

【００３３】ちなみに、第２ノズル１２の吹き付け位置
Ｐ₂ の最適値の設定ためのパラメーターとしては、次の
ような事項が考えられる。洗浄液の粘性や温度。洗浄液
の吹き出し流量、流速、吐出圧力、吹き出し形態（束
状、シャワー状、霧状等）。ウエハの外径。スピンヘッ
ドの回転速度、ウエハ外周縁部等の周速度。洗浄時間。
第１ノズル１１から吹き出された洗浄液の影響。

【００３４】前記実施例によれば次の効果が得られる。 （１） ウエハ裏面の微粒子９Ａを除去するのを主な目
的とする第１ノズル１１と、ウエハ７の外周縁部の異物
９を除去するのを主な役目とする第２ノズル１２とを装
備した洗浄装置１０を設備することにより、第１ノズル
１１および第２ノズル１２の両方から有機溶剤である洗
浄液２０をウエハ７の裏面に作用させることができるた
め、大径のウエハ７であっても、ウエハ７の裏面の微粒
子９Ａおよび外周縁部の異物９を同時に確実に除去する
ことができる。

【００３５】（２） 第２ノズル１２の径方向の吹き付
け位置Ｐ₂ を変更調整可能に構成することにより、ウエ
ハの外径の変更に対応して外周縁部の異物９に対する洗
浄作用程度を適宜変更調整することができるため、ウエ
ハが大径になった場合であっても外周縁部の異物９を確
実に除去することができる。

【００３６】（３） 第２ノズル１２の径方向の吹き付
け位置を変更調整可能に構成することにより、吹き付け
位置Ｐ₂ の最適値を実験や経験によって容易に求めるこ
とができるため、ウエハ７の外径の変更に迅速に対応す
ることができる。

【００３７】（４）フォトレジスト膜をウエハに塗布す
る工程において、ウエハの裏面に付着したフォトレジス
トの微粒子および異物を完全に洗浄することにより、フ
ォトレジスト膜の品質および信頼性を高めることができ
るため、リソグラフィー工程しいては半導体装置の製造
歩留りを高めることができる。

【００３８】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。

【００３９】例えば、前記実施例では洗浄装置をフォト
レジスト塗布装置に一体的に組み込んだ場合について説
明したが、洗浄装置はフォトレジスト塗布装置と別の洗
浄専用装置として構成してもよい。

【００４０】ノズルによる洗浄液の吹き付け位置を径方
向に変更調整可能にする構成は、前記実施例の構造を使
用するに限らず、他の構造を使用することができ、送り
ねじ軸装置やシリンダ装置等によって自動的に変更調整
し得るように構成してもよい。また、ノズルの吹き出し
傾斜角度を変更調整し得るように構成することにより、
ノズルによる洗浄液の吹き付け位置を径方向に変更調整
可能に構成することもできる。

【００４１】第１ノズルおよび第２ノズルの本数は、１
本宛に限らず、複数本宛であっもよい。また、第１ノズ
ルおよび第２ノズルはウエハの回転中心の法線上に並設
するに限らず、周方向に位相をずらして配設してもよ
い。さらに、第１ノズルおよび第２ノズルの２種類を設
けるに限らず、洗浄液のウエハへの吹き付け位置が互い
に異なるノズルを３種類以上（第３ノズル、第４ノズル
・・・）設けてもよい。ノズルによる洗浄液のウエハへ
の吹き付け位置が変更調整可能である場合には、変位可
能なノズルのみでもよい。

【００４２】各ノズルは異なる系統の洗浄液供給装置に
接続してもよいし、同一系統の洗浄液供給装置に接続し
てもよい。

【００４３】洗浄液としては溶融力や粘性等の特性が同
一の有機溶剤を使用するに限らず、各ノズル相互間で異
なる特性の有機溶剤をそれぞれ使用してもよい。また、
洗浄液としては有機溶剤を使用するに限らず、その他の
溶媒、純水や現像液、希硫酸等を使用してもよいし、各
ノズル相互で異なる種類の洗浄液をそれぞれ使用しても
よい。

【００４４】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるウエハ
に付着したフォトレジストの異物を除去する技術に適用
した場合について説明したが、それに限定されるもので
はなく、フォトマスクや液晶パネルに付着したフォトレ
ジストの異物を除去する技術、さらには、ウエハやフォ
トマスク、液晶パネル等の被処理物に現像液を供給して
被膜を形成する際に異物を除去する洗浄技術に適用する
ことができる。すなわち、本発明は、スピンヘッドによ
って被処理物を保持して回転させながら、被処理物の被
洗浄面に洗浄液を吹き付けて洗浄する洗浄技術全般に適
用することができる。

【００４５】

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。

【００４６】洗浄液を吹き出すノズルを複数本配設し、
各ノズルはその吹き出した洗浄液の被処理物との接触位
置が径方向に互いにずれるようにそれぞれ構成すること
により、各ノズルに洗浄する領域をそれぞれ分担させる
ことができるため、大径の被洗浄面であっても被洗浄面
を全体にわたって確実に洗浄することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例である洗浄装置が組み込まれ
ているフォトレジスト塗布装置を示しており、（ａ）は
一部省略正面断面図、（ｂ）はその主要部の斜視図であ
る。

【図２】その作用を説明するための模式図であり、
（ａ）は底面図、（ｂ）は拡大部分正面断面図である。

【符号の説明】

１…処理容器、２…スピンヘッド、３…給気口、４…排
気口、５…塗布材（フォトレジスト）、６…滴下管、７
…ウエハ（被処理物）、７ａ…オリエンテーションフラ
ット、８…塗布膜（フォトレジスト膜）、９…異物、９
Ａ…ウエハ裏面の微粒子、１０…洗浄装置、１１…第１
ノズル、１２…第２ノズル、１３…ブラケット、１４…
ガイドレール、１５…スライダー、１６…止めねじ、１
７…可撓性ホース、１８…挿通孔、１９…シール膜、２
０…洗浄液（有機溶剤）。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１ Ｍ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 スピンヘッドによって被処理物を保持し
   て回転させながら、被処理物の被洗浄面に洗浄液を吹き
   付けて洗浄する洗浄方法において、 前記被洗浄面の外径に対応して前記洗浄液の被洗浄面と
   の接触位置が設定されることを特徴とする洗浄方法。
2. 【請求項２】 スピンヘッドによって被処理物を保持し
   て回転させながら、被処理物の被洗浄面に洗浄液を吹き
   付けて洗浄する洗浄装置において、 前記洗浄液を吹き出すノズルが複数本配設されており、
   各ノズルはその吹き出した洗浄液の被洗浄面との接触位
   置が径方向に互いにずれるようにそれぞれ構成されてい
   ることを特徴とする洗浄装置。
3. 【請求項３】 少なくとも１本のノズルは、その吹き出
   した洗浄液の被洗浄面との接触位置を変更調整し得るよ
   うに構成されていることを特徴とする請求項２に記載の
   洗浄装置。
4. 【請求項４】 各ノズルから吹き出した洗浄液の被洗浄
   面との接触位置は、被洗浄面の最小外径よりも５ｍｍ以
   上内側に設定されていることを特徴とする請求項２また
   は３に記載の洗浄装置。