JP2003136024A

JP2003136024A - 基板処理装置

Info

Publication number: JP2003136024A
Application number: JP2001336289A
Authority: JP
Inventors: Tatsuya Hoshi; 辰也星; Tomoki Kondo; 友喜近藤
Original assignee: Sumitomo Precision Products Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Precision Products Co Ltd
Priority date: 2001-11-01
Filing date: 2001-11-01
Publication date: 2003-05-13
Anticipated expiration: 2021-11-01
Also published as: JP4005335B2

Abstract

(57)【要約】【課題】基板裏面の洗浄を確実に行える基板処理装置
の提供。【解決手段】基板を処理槽内でほぼ水平に支持して回
転させるロータ４と、このロータ４によって回転する基
板の裏面に洗浄液および不活性ガスを吹き付ける基板洗
浄ノズル６と、この基板洗浄ノズル６を固定する固定軸
とを有する基板処理装置であって、上記の基板洗浄ノズ
ル６が、その中心部に不活性ガス噴射手段７を有し、不
活性ガス噴射手段７の周囲に、それぞれ傾斜角度を変化
させた複数の洗浄液噴射手段８を有し、上記の固定軸
が、ロータ４と基板洗浄ノズル６との隙間から気体を吸
引する機構を有することを特徴とする基板処理装置であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶パネルのＴＦ
Ｔ基板等の基板を回転駆動しつつ、処理液の塗布、洗
浄、乾燥する、いわゆる回転式基板処理装置に係り、特
に、基板の裏面を洗浄、乾燥する機構を有する回転式基
板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＴＦＴ基板等のガラス基板の製造におい
ては、レジストの塗布、エッチング液の塗布、レジスト
の剥離等の処理が繰り返し施されるが、作業効率の向上
や設備の小規模化の観点から、この処理を実施する装置
として回転式の基板処理装置が使用されている。

【０００３】図１は、従来の回転式基板処理装置を示す
模式図である。図１に示すように、従来の回転式基板処
理装置は、長方形の基板１を受け台２の上に保持した状
態で、モータ（図示せず）によって回転軸３を回転させ
ながら、上方に設置したスプレーユニット（図示せず）
によってエッチング液等の処理液を基板１の表面に供給
する。基板１の表面に供給された処理液は、遠心力によ
って基板１の表面上を外方に向かって拡散する。このよ
うな作用により、処理液は、基板１の表面全体にほぼ均
一な膜厚に塗布され、余分な処理液は、基板１のエッジ
部分から外方に飛散する。

【０００４】処理液の塗布が終了した後には、別のスプ
レーユニット（図示しない）によって、処理液の塗布と
同様に、基板１を回転させた状態で、基板１の表面に純
水等の洗浄液を吹きつけ、基板１の表面の洗浄を行い、
さらに、基板１を高速で回転させて乾燥させる。

【０００５】しかし、余分な処理液や洗浄液が基板の裏
面に回り込んだり、または、ミスト状になった処理液が
裏面に付着したりすると、ガラス基板の製品欠陥とな
る。このような事態に対応すべく、近年では、基板裏面
の洗浄機構を有する回転式基板処理装置が主流となって
いる。

【０００６】図２は、従来の基板裏面の洗浄機構を有す
る回転式基板処理装置の一例を示す模式図であり、
（ａ）は当該装置の全体概略図を示し、（ｂ）は基板裏
面の洗浄手段の拡大図を示す。図２に示すように、この
基板処理装置では、基板１は、支持ピン５を介して、ロ
ータ４にほぼ水平に支持されている。

【０００７】このロータ４は、基板１の回転円の最大径
（対角寸法）よりも若干大きな円板であって、回転駆動
機構（図示しない）によって、高速回転し、基板１の表
面に遠心力の作用を持たせるとともに、処理液や洗浄液
を回収する際の液ガイドとしても機能する。このロータ
４の中心部に、基板洗浄ノズル６が設置されている。こ
の基板洗浄ノズル６は、ロータ４とは独立に、回転しな
い固定軸に設置されており、通常、その中心部に不活性
ガス噴射手段７を有し、更にその周囲に複数の洗浄液噴
射手段８を有する構造となっている。

【０００８】図３は、従来の基板洗浄ノズルによる基板
裏面への洗浄液の噴射状態を示す模式図である。図３に
示すように、基板洗浄ノズル６の中心部に設置された不
活性ガス噴射手段７は、基板１裏面の回転中心部にＮ２
等の不活性ガスを吹き付けるためのものであり、これに
より、遠心力が小さい基板の回転中心部における乾燥を
促進させて、基板全体をむらなく乾燥できる。一方、不
活性ガス噴射手段７の周囲に設置された複数の洗浄液噴
射手段８は、基板裏面に純水等の洗浄液を吹き付けるた
めのものである。この洗浄液噴射手段８は、純水等を洗
浄液として基板裏面に吹き付け、これによって基板裏面
の洗浄を行うためのものである。このような基板裏面の
洗浄機構によって、余剰な処理液等が基板裏面に付着す
ることによるガラス基板の欠陥は、一応、解消されてい
た。

【０００９】しかし、最近、ガラス基板の大型化の要請
が強くなってきており、従来の基板裏面の洗浄機構では
対処しきれない事態が生じてきた。即ち、上記の図３に
示した洗浄機構では、精々、幅６００ｍｍ、長さ７２０
ｍｍの基板の洗浄を対象とされていたため、基板裏面に
むらなく洗浄液を塗布することで、基板裏面に付着した
余剰処理液等を取り除くことができた。従って、洗浄液
は、同じ傾斜角度を有する複数の洗浄液噴射手段から広
角に拡散するように噴射されるような機構となってい
た。しかし、このような機構では、最近、主流となって
きている幅７３０ｍｍ、長さ９２０ｍｍという寸法また
はこれより大きい寸法の基板洗浄を行う場合には、基板
の回転中心部付近への洗浄液の塗布を重視すれば、基板
の回転外周部付近への洗浄液の塗布が困難となり、逆
に、基板の回転外周部付近への洗浄液の塗布を重視すれ
ば、基板の回転中心部付近への洗浄液の塗布が困難とな
る。

【００１０】これに対応すべく、洗浄液噴射手段の拡散
角度をあまりに広角にして洗浄液を噴射しても、基板裏
面における単位面積当たりの洗浄液の圧力が弱すぎて、
十分な洗浄が行えない。このように、ガラス基板の大型
化に伴って、従来の小型のガラス基板の裏面洗浄におい
ては、全く考慮する必要がなかった問題が発生するよう
になった。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ＴＦＴ基板
等のガラス基板裏面の洗浄を欠陥を発生させることな
く、確実に行える回転式基板処理装置を提供することを
目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明は、下記の基板処
理装置を要旨とする。

【００１３】即ち、基板を処理槽内でほぼ水平に支持し
て回転させるロータと、このロータによって回転する基
板の裏面に洗浄液および不活性ガスを吹き付ける基板洗
浄ノズルと、この基板洗浄ノズルを固定する固定軸とを
有する基板処理装置であって、上記の基板洗浄ノズル
が、その中心部に不活性ガス噴射手段を有し、不活性ガ
ス噴射手段の周囲に、それぞれ傾斜角度を変化させた複
数の洗浄液噴射手段を有し、上記の固定軸が、ロータと
基板洗浄ノズルとの隙間から気体を吸引する機構を有す
ることを特徴とする基板処理装置である。

【００１４】なお、上記の洗浄液噴射手段のうち、不活
性ガス噴射手段の直近部に設置された２つの洗浄液噴射
手段の傾斜角度が、不活性ガス噴射手段の傾斜角度と同
じであるのが望ましい。また、上記の噴射手段は、孔で
構成されているのが望ましい。さらに、上記の基板洗浄
ノズルは、その上面部が複数の曲率半径を有する曲面か
ら構成されているのが望ましい。

【００１５】

【発明の実施の形態】まず、本発明の基板処理装置にお
いて、回転する基板裏面に洗浄液および不活性ガスを吹
き付ける基板洗浄ノズルの実施形態を説明する。以下の
説明において、請求項１〜４に記載されるそれぞれの基
板洗浄ノズルを「第１の基板洗浄ノズル」〜「第４の基
板洗浄ノズル」と表記し、合わせて、本発明の基板洗浄
ノズルと表記する。

【００１６】なお、本発明の基板処理装置は、基板洗浄
ノズルの形状に特徴を有するとともに、基板洗浄ノズル
を固定する固定軸が、ロータと基板洗浄ノズルとの隙間
から気体を吸引する機構を有することをも特徴とする
が、この機構については後述する。

【００１７】図４は、本発明の基板洗浄ノズル上面部の
配置の一例を模式的に表した平面図である。図４に示す
とおり、第１の基板洗浄ノズルは、その中心部に不活性
ガス噴射手段７を有するとともに、その周囲にそれぞれ
傾斜角度を変化させた複数の洗浄液噴射手段８を有す
る。洗浄液噴射手段８の傾斜角度は、例えば、図４に示
すように、不活性ガス噴射手段７を中心として対角に位
置するものが同一の角度となるように設定してもよく、
また、全てが異なる角度となるように設定してもよい。
第１の基板洗浄ノズルは、このような構成を有するの
で、大型の基板の裏面洗浄においては、基板裏面の全体
に、ほぼ均一の圧力で、且つ、むらなく洗浄液を吹き付
けることができる。なお、不活性ガス噴射手段から噴射
される不活性ガスの流量は、５０〜７０Ｌ／ｍｉｎであ
ればよく、洗浄液噴射手段から噴射される洗浄液の流量
は、合計で７Ｌ／ｍｉｎであればよい。また、ノズルの
上端部と基板裏面との距離は１０〜２５ｍｍの範囲であ
ればよい。

【００１８】本発明における洗浄液噴射手段の個数は、
特に限定しないが、例えば、幅７３０ｍｍ、長さ９２０
ｍｍといった大型の基板裏面を洗浄する場合には、６個
以上設置するのが望ましいが、この個数があまりに多い
と、それぞれの洗浄液噴射手段から噴射される洗浄液の
圧力が不十分となるため、その上限は、２０個とするの
が望ましい。また、洗浄液噴射手段の傾斜角度は、例え
ば、図４に示した例のように、０°、９．５°、１６°
および１８°の４パターンで構成されていてもよく、基
板裏面の全面に洗浄液が噴射させるため、０〜２２°の
範囲で、且つ４パターン以上に設定すればよい。

【００１９】それぞれの洗浄液噴射手段の設置位置は、
不活性ガス噴射手段から１０ｍｍ以上離れた位置であれ
ばよく、また、互いの洗浄液の噴射を妨げない程度に、
相互に離れている必要がある。特に、不活性ガス噴射手
段を中心とした複数の同心円を想定し、それぞれの同心
円上に複数の洗浄液噴射手段を等間隔で配置するのが望
ましい。また、洗浄液噴射手段から噴射される洗浄液の
拡散角度は、基板裏面の全面に洗浄液が噴射されるとと
もに、洗浄液に所定の圧力を持たせるため、０〜２°程
度が望ましい。

【００２０】なお、「傾斜角度」とは、各噴射手段から
噴射される不活性ガスまたは洗浄液が噴出される方向の
軸とガラス基板に垂直な方向の軸とがなす角度をいう。
たとえば、洗浄液噴出手段による洗浄液の噴出方向がガ
ラス基板の垂直方向と同一の場合には、これを０°とす
る。

【００２１】第２の基板洗浄ノズルは、上記の構成要件
に加え、洗浄液噴射手段のうち、不活性ガス噴射手段の
直近部に設置された２つの洗浄液噴射手段の傾斜角度
が、不活性ガス噴射手段の傾斜角度と同じであることを
特徴とする基板洗浄ノズルである。このような構成を有
する基板洗浄ノズルであれば、洗浄液が不活性ガスの流
れに沿って、基板裏面の回転中心部に一文字状に噴射さ
れることになるため、この部分の洗浄を確実に行うこと
ができる。

【００２２】なお、「不活性ガス噴射手段の直近部に設
置された２つの洗浄液噴射手段の傾斜角度が、不活性ガ
スの傾斜角度と同じ」とは、例えば、図４に示すよう
に、洗浄液噴射手段のうちの２つ（図中の８ａおよび８
ｂ）が傾斜角度が０°であることをいう。ただし、この
傾斜角度は、洗浄液が基板裏面の回転中心部に一文字状
に噴射されるように設定すればよいので、必ずしも０°
である必要はなく、不活性ガス噴射手段の傾斜角度と実
質的に同一の角度であればよい。

【００２３】第３の基板洗浄ノズルは、上記の構成要件
に加え、その噴射手段が孔で構成されていることを特徴
とする基板洗浄ノズルである。以下この理由を説明す
る。

【００２４】基板の裏面洗浄中には、噴射された洗浄液
が基板裏面から跳ね返って浮遊し、前記の図３中に点線
の円で示したイ部などに、水滴として残存する場合があ
る。通常、このような浮遊した洗浄液の水滴がロータ４
の上に付着した場合には、ロータ４は回転しているの
で、その遠心力によって水滴は排除されるが、基板洗浄
ノズル６は、固定軸に設置されているため、水滴が付着
しても排除されず、残存する。この水滴がミスト状でそ
れぞれの水滴の粒径が小さい場合には、特に問題とはな
らないが、長時間の使用などにより、粒径の大きな水滴
が基板洗浄ノズル６に残存すると問題となる。

【００２５】即ち、このような水滴は、基板洗浄ノズル
６上から、高速で回っているロータ４上に滑り落ち、ロ
ータ４上で破砕され、これが拡散して再び基板裏面に付
着する場合があり、このような洗浄液の水滴が再付着す
ると、基板裏面にすじ状の汚れを残し、製品としてのガ
ラス基板に重大な欠陥を残すこととなる。

【００２６】本発明者らの検討によれば、上記の図３に
示したような従来の基板洗浄ノズルの場合に、その上面
に水滴が付着しやすい理由は、上記の水滴が基板洗浄ノ
ズル上の不活性ガス噴射手段や洗浄液噴射手段等の突起
部周辺に定着することが多いからである。

【００２７】一方、従来の基板洗浄ノズルの場合、図３
に示すように、各噴射手段について一つずつヘッドを用
意して、それぞれのヘッドをねじ込み、更に、ヘッドか
ら噴射される洗浄液の角度を調整する必要があったた
め、基板洗浄ノズルの製造、および、この設置または段
取り替えに長時間を要し、また、基板洗浄ノズルを構成
する部材が多くなり、製造コストの高騰を招くという問
題があった。

【００２８】図５は、第３の基板洗浄ノズル上面部の配
置の一例を模式的に表した平面図である。図５に示すよ
うに、第３の基板洗浄ノズル６は、その不活性ガス噴射
手段７および洗浄液噴射手段８のいずれもが孔で構成さ
れている。このような構成にすることにより、その上面
に一切突起部が存在しないため、基板洗浄ノズル６の上
面に洗浄液の水滴が付着しにくくなる。また、第３の基
板洗浄ノズルは、各噴射手段に付きヘッド等の部材を一
切必要としないので、製造コストの低減および製造時間
等の短縮をすることができる。

【００２９】ここで、図５に示した例では、不活性ガス
噴射手段７の直近部に、これと同じ傾斜角度を有する２
つの洗浄液噴射手段８と、その外周部に、それぞれの傾
斜角度が異なる６つの洗浄液噴射手段８とが設置されて
いる。このように、第３の基板洗浄ノズルにおいても、
不活性ガス噴射手段の直近部に設置された２つの洗浄液
噴射手段の傾斜角度が不活性ガス噴射手段の傾斜角度と
実質的に同一の角度であるのが望ましいのは、前述のと
おりである。また、その他の洗浄液噴射手段について
も、個数、傾斜角度等の条件は、前述した範囲内にあれ
ばよい。特に、外周部にある６つの洗浄液噴射手段のそ
れぞれの傾斜角度は、１２°、１４°、１６°、１８
°、２０°および２２°（それぞれの傾斜角度は±０．
２５°の誤差を許容する）であり、且つ、ランダムに設
定されているのが望ましい。

【００３０】なお、「洗浄液噴射手段のそれぞれの傾斜
角度がランダムに設定されている」とは、隣り合う洗浄
液噴射手段の傾斜角度が順番に大きくなるような構成で
はないことをいう。たとえば、上記の６つの洗浄液噴射
手段のそれぞれの傾斜角度を、時計回りの順番にみたと
きに、１２°→１４°→１６°→１８°→２０°→２２
°のような配置ではなく、２２°→１８°→１４°→１
２°→１６°→２０°のように配置されていることをい
う。

【００３１】図６は、本発明の基板洗浄ノズルによる基
板裏面への洗浄液の噴射状態の一例を示す模式図であ
る。図６に示すように、基板洗浄ノズル６から噴射され
た洗浄液は、回転している基板の裏面に、楕円形に塗布
される。即ち、このような構成を有する基板洗浄ノズル
であれば、隣り合う洗浄液噴射手段から噴射される洗浄
液が基板裏面に到達する際に、相互に重なり合った状態
で塗布できる。

【００３２】これは、隣り合う洗浄液噴射手段から噴射
される洗浄液が基板裏面に到達する際に、相互に重なり
合わない状態で塗布されると、基板裏面に塗布された洗
浄液が基板の回転による遠心力を受けて、基板裏面を伝
って外方に排出される際に、むらが発生して基板裏面に
すじ状の汚れを残すからである。

【００３３】第４の基板洗浄ノズルは、上記の構成要件
に加え、その上面部が複数の曲率半径を有する曲面から
構成されていることを特徴とする基板洗浄ノズルであ
る。以下、この理由を説明する。

【００３４】図７は、本発明の基板洗浄ノズルの一例を
模式的に表した断面図である。図６に示すように、第４
の基板洗浄ノズルは、その上面部が複数の曲率半径を有
する曲面から構成されている。このような構成を有する
基板洗浄ノズルであれば、技術的な根拠は定かではない
が、ミスト状の洗浄液が当該基板洗浄ノズルの上面部に
付着しにくく、また、仮に付着しても、その水滴が大き
くなる前に上面部を滑り落ちていくため、前述したよう
な、基板裏面に再付着するという事態が発生しない。

【００３５】ここで、構成される曲面の数および曲率半
径は、特に限定しないが、不活性ガス噴射手段を含む部
分が平面であり、その外周部に曲率半径４０ｍｍ（許容
誤差：±５ｍｍ）の曲面、１２ｍｍ（許容誤差：±２．
５ｍｍ）の曲面および２．５ｍｍ（許容誤差：±１ｍ
ｍ）の曲面で構成されているのが望ましい。

【００３６】なお、第４の基板洗浄ノズルは、特に、第
３の基板洗浄ノズルの構成をも有するのが望ましい。こ
れは、上述した第３の基板洗浄ノズルの作用効果と第４
の基板洗浄ノズルの作用効果がともに発揮されるという
だけでなく、基板洗浄ノズルの径を４０ｍｍ以下と小さ
くできるという複合効果を有するからである。

【００３７】従来のような噴射手段としてヘッドの使用
を前提とした基板洗浄ノズルでは、洗浄ノズルの上面部
にヘッドを取り付けるための、ねじ加工をする必要があ
り、その径を小さくするのには限界があった。しかし、
その径が４０ｍｍ以下である小さな基板洗浄ノズルであ
れば、浮遊した洗浄液が付着しにくくなるため、上述し
た基板裏面への再付着という問題が発生しにくくなる。

【００３８】次に、基板洗浄ノズルを固定する固定軸に
ついて説明する。本発明の基板処理装置は、上記の第１
〜第４の基板洗浄ノズルを特徴とするとともに、基板洗
浄ノズルを固定する固定軸が、ロータと基板洗浄ノズル
との隙間から気体を吸引する機構を有することをも特徴
とする。

【００３９】図８および図９は、本発明の固定軸の主た
る構成部材を示す断面であり、図８は各構成部材の分断
図であり、図９はこれらの構成部材を組み立て状態を示
す図である。図８に示すように、本発明の基板処理装置
における固定部は、たとえば、同心管１１に液漏れスト
ッパ１０、ノズルホルダ９、ロータ４、基板洗浄ノズル
６の順で組み立てられる。また、図９に示すとおり、同
心管１１は、その中心部に不活性ガス流動管１２が配置
され、不活性ガス流動管１２の外側に同心円状に洗浄液
流動管１３が配置され、更に、洗浄液流動管１３の外側
に同心円状に気体流動管１４が配置されている。

【００４０】なお、図８および図９において点線で示し
た部分は回転体であり、本発明ではこの全ての点線部分
をロータ４と呼ぶこととし、このロータ４は、一つの部
材で構成されていてもよく、複数の部材で構成されてい
てもよい。例えば、図８では、ロータ４として示される
部材は、実際には洗浄液等が装置内部に侵入するのを防
ぐための防水カバーであるが、この防水カバーも回転体
に取り付けられてロータ４と同調して回転する部材であ
る。従って、本発明においては、このような防水カバー
も含めた回転体をロータ４と呼ぶこととする。

【００４１】不活性ガス流動管１２は、ノズルホルダ９
の上端部に設けられた孔および基板洗浄ノズル６の上端
部に設けられた不活性ガス噴射手段７を貫通している。
ノズルホルダ９の上端部と基板洗浄ノズル６との間、お
よび、不活性ガス流動管１２の外側とノズルホルダ９の
内側との間には、図示しないゴムパッキンがはめ込まれ
ているので、不活性ガスが後述するノズルホルダ９と基
板洗浄ノズル６との間の空間部に侵入することはなく、
逆に、洗浄液が不活性ガス噴射手段７から不活性ガスと
ともに噴射されることはない。

【００４２】洗浄液流動管１３の上端部は、ノズルホル
ダ９の上端付近に水平方向に設けられた孔に対応する位
置に設置されており、洗浄液は、洗浄液流動管１３内を
上昇して、このノズルホルダ９に設けられた孔を通過
し、ノズルホルダ９と基板洗浄ノズル６との間の空間部
にバッファとして保持され、その後、基板洗浄ノズル６
の上面部に設けられた各洗浄液噴射手段８から、所定の
圧力で噴射される。洗浄液流動管１３の外側とノズルホ
ルダ９の内側との間には、図示しないゴムパッキンがは
め込まれているため、洗浄液が後述する気体流動管へ吸
い込まれることはない。

【００４３】気体流動管１４は、図９に示されるよう
に、２つの同心管によって構成されている。これらの同
心管のうち、外側に位置する気体流動管１４では、その
下端部から気体が吸入され、内側に位置する気体流動管
１４では、その下端部から気体が放出される構成となっ
ている。従って、吸入された気体は、図９の矢印で示す
ように装置内部の空間を流れて、ロータ４の下部とノズ
ルホルダ９との隙間を通り、基板洗浄ノズル６の下端部
に設けられた気体孔およびノズルホルダ９の雄ねじ下部
のくびれた部分に設けられた気体孔を流れて、気体吸入
側の気体流動管１４の上端部に流れ込み、この管内を下
方に向かって流れて、気体放出口から放出される。

【００４４】この際、ロータ４と基板洗浄ノズル６との
隙間から気体を吸引する機構を固定軸に持たせるために
は、気体流動管１４の気体吸入口から吸入される気体の
流量を気体放出口から放出される気体の流量よりも少な
い量に設定する必要がある。例えば、気体吸入口から吸
入される気体の流量を２Ｌ／ｍｉｎ程度（圧力：０．１
ＭＰａ）とし、気体放出口から放出される気体の流量を
３Ｌ／ｍｉｎ程度（圧力：０．１ＭＰａ）とするのが望
ましい。

【００４５】図１０は、上記の図９中に示すロ部の拡大
図である。図１０に示すとおり、本発明の基板処理装置
においては、基板洗浄ノズル６とロータ４との隙間に気
体を吸引する機構、即ち、気体が図中の矢印で示す流れ
に沿って、吸引される機構となっている。このような機
構により、基板洗浄ノズル６の上面部に付着し、その端
部に流れ落ちた水滴は、図中の矢印で示す気体の流れに
沿って、基板洗浄ノズル６とロータ４の隙間に吸引さ
れ、更に、基板洗浄ノズルの下端部に設置された気体孔
およびノズルホルダ９に設置された気体孔を通り抜け、
気体流動管１４を下向きに流れて、気体放出口から気体
とともに放出される。

【００４６】従って、本発明の基板処理装置では、基板
洗浄ノズルの上面部に付着し、流れ落ちた水滴が、高速
回転しているロータ上に落下することがなく、前述した
基板裏面への洗浄液の再付着という事態が生じない。

【００４７】なお、上記の図９に示した液漏れストッパ
１０は、基板洗浄ノズル６とロータ４との隙間に吸引さ
れた水滴が基板洗浄ノズル６の下端に設置された気体孔
に到達した際に、ロータ４とノズルホルダ９との隙間を
軸中心から外側に向かって通り、装置内部の空間に入り
込むのを防ぐ役割をする。

【００４８】

【発明の効果】本発明の基板洗浄装置によれば、基板裏
面のほぼ全面に同等の圧力で洗浄液を噴射することがで
きるので、大型のガラス基板であっても、その裏面の洗
浄を欠陥を発生させることなく、確実に行うことができ
る。また、固定軸に設置された基板洗浄ノズルの上面部
に付着、残存する洗浄液の水滴を最小限に抑えることが
できるとともに、製造コストの低減、段取り替え時間の
短縮等を図ることができる。さらに、仮に、基板洗浄ノ
ズルの上面部に洗浄液の水滴が付着し、これが基板洗浄
ノズルの端部から流れ落ちても、基板洗浄ノズルとロー
タとの間から気体とともに吸引されるので、洗浄液が基
板裏面に再付着するという事態が生じない。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の回転式基板処理装置を示す模式図であ
る。

【図２】従来の基板裏面の洗浄機構を有する回転式基板
処理装置の一例を示す模式図であり、（ａ）は当該装置
の全体概略図を示し、（ｂ）は基板裏面の洗浄手段の拡
大図を示す。

【図３】従来の基板洗浄ノズルによる基板裏面への洗浄
液の噴射状態を示す模式図である。

【図４】本発明の基板洗浄ノズル上面部の配置の一例を
模式的に表した平面図である。

【図５】第３の基板洗浄ノズル上面部の配置の一例を模
式的に表した平面図である。

【図６】第３の基板洗浄ノズルによる基板裏面への洗浄
液の噴射状態の一例を示す模式図である。

【図７】第４の基板洗浄ノズルの一例を模式的に表した
断面図である。

【図８】本発明の固定軸の主たる構成部材の断面を示す
分断図である。

【図９】本発明の固定軸の主たる構成部材の組み立て状
態を示す断面図である。

【図１０】図９中に示すロ部の拡大図である。

【符号の説明】

１基板２受け台３回転軸４ロータ５支持ピン６基板洗浄ノズル７不活性ガス噴射手段８洗浄液噴射手段９ノズルホルダ１０液漏れストッパ１１同心管１２不活性ガス流動管１３洗浄液流動管１４気体流動管

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４５Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４５ＡＦターム(参考） 2H088 FA21 FA24 FA30 HA01 MA20 2H090 JB02 JC19 3B201 AA02 AB34 BB23 BB32 BB72 BB88 BB92

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を処理槽内でほぼ水平に支持して回
転させるロータと、このロータによって回転する基板の
裏面に洗浄液および不活性ガスを吹き付ける基板洗浄ノ
ズルと、この基板洗浄ノズルを固定する固定軸とを有す
る基板処理装置であって、上記の基板洗浄ノズルが、そ
の中心部に不活性ガス噴射手段を有し、不活性ガス噴射
手段の周囲に、それぞれ傾斜角度を変化させた複数の洗
浄液噴射手段を有し、上記の固定軸が、ロータと基板洗
浄ノズルとの隙間から気体を吸引する機構を有すること
を特徴とする基板処理装置。
【請求項２】上記の洗浄液噴射手段のうち、不活性ガ
ス噴射手段の直近部に設置された２つの洗浄液噴射手段
の傾斜角度が、不活性ガス噴射手段の傾斜角度と同じで
あることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】上記のいずれの噴射手段も孔で構成され
ていることを特徴とする請求項１または２のいずれかに
記載の基板処理装置。
【請求項４】上記の基板洗浄ノズル上面部が複数の曲
率半径を有する曲面から構成されることを特徴とする請
求項１〜３のいずれかに記載の基板処理装置。