JP2017059809A - 基板処理装置および処理チャンバ洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
Description
まず、洗浄流体ノズル81から洗浄液としてのDIWのミストをチャンバ20内に噴噴射する。DIWの噴射は、予め定められた時間だけ継続的に行われ、その後、停止される。このときも、FFU21からチャンバ20内に前述した流量FL1で清浄空気が供給される。また、液受けカップ50の排気口52を介した排気流量、並びにチャンバ20の側壁20aの排気口59を介した排気流量も、それぞれ前述したFL2,FL3に設定される。チャンバ20の内部空間がDIWのミストで満たされると、チャンバ20の内部空間に面した壁体(例えば側壁20a、床板53)およびチャンバ20内の機器(例えばノズルアーム42など)等の部材(以下、「洗浄対象部」と呼ぶ)の表面にDIWのミストが付着する。チャンバ20の内部空間をDIWのミストで満たすことにより、ノズルアーム42の下面等の下向きの面にもDIWのミストを付着させることができる。
洗浄流体ノズル81からのDIWの噴射を停止した後、側壁20a、床板53、ノズルアーム52等のチャンバ20内機器の表面にはDIWが付着した状態で残される。このDIWの乾燥を促進させるため、チャンバ内溶剤供給工程が行われる。チャンバ内溶剤供給工程を行うに先立ち、ウエハ搬出入口20bが開かれ、洗浄用治具90がチャンバ20内に搬入され、保持部31により保持される。
洗浄対象部の表面に付着したIPAは、自然乾燥により乾燥させることができる。IPAの揮発性は、DIWよりも大幅に高いため、表面に付着しているIPAを短時間で乾燥させることができる。
4 制御部(制御装置)
19 記憶部
20 処理チャンバ
20a、53 処理チャンバの壁体(側壁、床板)
17 搬送機構(基板搬送装置)
28 低湿度ガス供給部
28e 低湿度ガスを加熱するヒータ
31 基板保持部
33 回転駆動部
41 処理液ノズル
42 ノズルアーム
43 アーム駆動部
50 液受けカップ
81,83,84 洗浄流体噴射部
81 洗浄流体ノズル
83 洗浄水供給部
83d 洗浄水を加熱するヒータ
84 溶剤供給部
84d 溶剤を加熱するヒータ
90 洗浄用治具
93 治具収納部
95 壁体を加熱するヒータ
100 ミストガード
Claims (22)
- 処理チャンバと、
前記処理チャンバ内に設けられた基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部により保持された基板に処理液を供給する処理液ノズルと、
前記処理チャンバ内の洗浄対象部を洗浄するための水と、前記水よりも揮発性が高い溶剤とを、前記チャンバの内部空間に噴射する洗浄流体噴射部と、
を備えた基板処理装置。 - 前記洗浄流体噴射部は、前記水をミスト状に噴射することができ、かつ、前記溶剤をミスト状に噴射することができる、請求項1記載の基板処理装置。
- 前記洗浄流体噴射部は洗浄流体ノズルを有し、前記洗浄流体ノズルに洗浄水供給部と溶剤供給部が接続され、前記洗浄流体ノズルから前記水および前記溶剤のいずれをも単独で噴射することができる、請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記洗浄流体噴射部は前記溶剤を加熱するヒータを有する、請求項1から3のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記処理チャンバ内に低湿度ガスを供給する低湿度ガス供給部をさらに備え、前記低湿度ガス供給部は、前記低湿度ガスとしてドライエアと窒素ガスとを選択的に供給することができるように構成され、前記処理チャンバ内で前記基板保持部により保持された基板が処理される場合に前記処理チャンバ内にドライエアを供給し、前記処理チャンバ内の前記洗浄対象部を洗浄する場合に処理チャンバ内に窒素ガスを供給するように、前記低湿度ガス供給部を制御する制御部をさらに備えた、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記低湿度ガス供給部は前記窒素ガスを加熱するヒータを有する、請求項5記載の基板処理装置。
- 前記基板保持部を回転させる回転駆動部と、
洗浄用治具を前記基板保持部に渡す搬送機構と、
前記回転駆動部を介して前記基板保持部を回転させる制御部と、
をさらに備え、
前記洗浄用治具は、前記基板保持部により保持可能であり、前記洗浄流体噴射部が前記溶剤の噴射を終えた後に、前記基板保持部により保持された前記洗浄用治具を回転させることにより、前記溶剤または前記水が付着した前記洗浄対象部の乾燥を促進するための気流を前記洗浄用治具の周囲に形成することができるように構成されている、請求項1記載の基板処理装置。 - 洗浄用治具を収納する治具収納部をさらに備えた、請求項7記載の基板処理装置。
- 前記処理チャンバ内に設けられ、前記基板保持部に保持された基板に処理流体を吐出する処理流体ノズルと、前記処理流体ノズルを保持するノズルアームと、前記ノズルアームを移動させるアーム駆動部と、をさらに備え、
前記制御部は、前記洗浄流体噴射部が前記溶剤の噴射を終えた後に、前記アーム駆動部を駆動して前記ノズルアームを回転する前記洗浄用治具の上方に位置させ、前記洗浄用治具が形成する気流により、前記溶剤または前記水が付着した前記ノズルアームの下面の乾燥を促進する、請求項7記載の基板処理装置。 - 前記チャンバの壁体を加熱するヒータをさらに備えた、請求項1記載の基板処理装置。
- 前記洗浄流体噴射部の高さは前記処理液ノズルの高さよりも高い、請求項1記載の基板処理装置。
- 前記洗浄対象部は、前記処理チャンバの内部空間に面した前記処理チャンバの側壁を含む、請求項1記載の基板処理装置。
- 前記洗浄流体噴射部から噴射される溶剤が付着しうる洗浄対象部の表面にブラスト処理が施されている、請求項1記載の基板処理装置。
- 前記洗浄流体噴射部から噴射される溶剤が付着しうる前記チャンバ内の部材の上向きの面と別の面とが交わる稜に、曲率半径が2mm以上のR面取りが施されている、請求項1記載の基板処理装置。
- 前記R面取りが施される前記チャンバ内に存在する部材には、前記チャンバの側壁と前記カップとの間にある床板が含まれる、請求項14記載の基板処理装置。
- 基板処理装置の処理チャンバ内の洗浄対象部を洗浄する処理チャンバ洗浄方法において、
前記処理チャンバ内に水を噴射して前記洗浄対象部を水で濡らし、前記洗浄対象部の表面に付着した除去対象物を洗浄する洗浄工程と、
前記処理チャンバ内に水よりも揮発性の高い溶剤を噴射して、前記洗浄対象部の表面に付着した水に向けて前記溶剤を供給する溶剤供給工程と、
前記洗浄対象部の表面を乾燥させる乾燥工程と
を備えた処理チャンバ洗浄方法。 - 前記洗浄工程において前記水がミスト状に前記処理チャンバ内に噴射され、前記溶剤置換工程において前記溶剤がミスト状に前記処理チャンバ内に噴射される、請求項16記載の処理チャンバ洗浄方法。
- 前記溶剤置換工程において前記溶剤は加熱された状態で供給される、請求項16記載の処理チャンバ洗浄方法。
- 前記乾燥工程において前記処理チャンバ内に窒素ガスが供給される、請求項16記載の処理チャンバ洗浄方法。
- 前記乾燥工程において、前記処理チャンバ内に設けられた基板保持部に洗浄用治具が保持されて回転させられ、これにより前記洗浄用治具の上方の空間に気流が形成され、この気流により前記溶剤または前記水が付着した前記洗浄対象部の乾燥を促進させる、請求項16記載の処理チャンバ洗浄方法。
- 前記乾燥工程において、回転している前記洗浄用治具の上方に、基板に処理流体を供給する処理流体ノズルを保持するノズルアームを位置させ、これにより前記溶剤または前記水が付着した前記ノズルアームの下面の乾燥を促進させる、請求項20記載の処理チャンバ洗浄方法。
- 前記乾燥工程において、前記処理チャンバの壁体が、当該壁体に設けられたヒータにより加熱される、請求項16記載の処理チャンバ洗浄方法。
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