JP4429231B2 - 基板洗浄方法および基板洗浄装置 - Google Patents
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Description
2 保持部
3 回転機構
4 吐出部
5 走査機構
6 制御部
9 基板
41 吐出口
91,91a,91b,91c 走査洗浄領域
93 領域
S11,S12〜S15,S17,S21〜S24 ステップ
J1 回転軸
Claims (9)
- 円板状の基板を洗浄する基板洗浄方法であって、
回転軸を中心に回転可能な保持部により基板の中心を前記回転軸に合わせつつ前記回転軸に垂直な姿勢にて前記基板を保持する基板保持工程と、
前記保持部の回転が停止している状態で、前記基板の主面上の直線状の吐出領域に向けて洗浄液を吐出部から吐出しつつ前記吐出部を移動することにより、前記吐出領域を前記主面内にて前記基板の外縁部の一方側から中央部を経由して他方側へと走査する走査洗浄工程と、
前記走査洗浄工程の後に、前記基板を前記保持部とともに所定角度だけ回転する基板回転工程と、
前記基板回転工程の後に、前記走査洗浄工程を繰り返す繰り返し工程と、
を備え、
前記基板回転工程の後の前記走査洗浄工程において前記吐出領域が前記主面上を走査する走査洗浄領域の一部が、前記基板回転工程の前の前記走査洗浄工程における走査洗浄領域の外に存在することを特徴とする基板洗浄方法。 - 請求項1に記載の基板洗浄方法であって、
前記繰り返し工程において、繰り返された前記走査洗浄工程の後に前記基板回転工程および前記走査洗浄工程が少なくとも1回さらに行われ、
前記繰り返し工程における各走査洗浄工程における走査洗浄領域の一部が、前記各走査洗浄工程以前に行われた全ての走査洗浄工程における走査洗浄領域の外に存在することを特徴とする基板洗浄方法。 - 請求項2に記載の基板洗浄方法であって、
前記繰り返し工程の前の前記走査洗浄工程、および、前記繰り返し工程における複数回の前記走査洗浄工程による複数の走査洗浄領域を重ね合わせた領域の輪郭が、前記回転軸を中心とする周方向に周期的な形状となることを特徴とする基板洗浄方法。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板洗浄方法であって、
前記吐出領域を前記基板の前記外縁部に位置させて前記吐出部の移動が停止している状態で、前記洗浄液を前記吐出部から吐出しつつ前記基板を1回転以上回転する回転洗浄工程をさらに備えることを特徴とする基板洗浄方法。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の基板洗浄方法であって、
前記走査洗浄工程において、前記吐出領域の両端部が前記基板のエッジに一致する前記吐出領域の位置から前記洗浄液の吐出が開始され、前記両端部が前記基板のエッジに一致する前記吐出領域の他の位置にて前記洗浄液の吐出が終了することを特徴とする基板洗浄方法。 - 請求項1ないし5のいずれかに記載の基板洗浄方法であって、
前記吐出領域の走査方向が、前記吐出領域が伸びる方向に対して垂直であり、
前記吐出領域の長さが、前記基板の半径の1倍以上、1.7倍以下であることを特徴とする基板洗浄方法。 - 請求項6に記載の基板洗浄方法であって、
前記吐出領域の長さが、前記基板の半径の1.4倍であることを特徴とする基板洗浄方法。 - 円板状の基板を洗浄する基板洗浄装置であって、
回転軸を中心に回転可能であるとともに基板の中心を前記回転軸に合わせつつ前記回転軸に垂直な姿勢で前記基板を保持する保持部と、
前記回転軸を中心に前記保持部を回転する回転機構と、
前記保持部に保持された基板の主面上の直線状の吐出領域に向けて洗浄液を吐出する吐出部と、
前記吐出部を移動することにより、前記吐出領域を前記主面内にて走査する走査機構と、
前記回転機構、前記吐出部および前記走査機構を制御することにより、基板を保持する前記保持部の回転が停止している状態で、洗浄液を前記吐出部から吐出しつつ前記吐出部を移動することにより、前記吐出領域を前記主面内にて前記基板の外縁部の一方側から中央部を経由して他方側へと走査する走査洗浄工程と、前記基板を前記保持部とともに所定角度だけ回転する基板回転工程と、前記走査洗浄工程を繰り返す繰り返し工程とを実行する制御部と、
を備えることを特徴とする基板洗浄装置。 - 請求項8に記載の基板洗浄装置であって、
前記吐出部がスリット状の吐出口を有し、前記吐出口から超音波が付与された前記洗浄液または微小液滴化された前記洗浄液が吐出されることを特徴とする基板洗浄装置。
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