JP6321912B2 - 基板の洗浄処理装置及び洗浄処理方法 - Google Patents
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Description
上面に凹溝が一方向及びこの一方向と交差する他方向の二方向に沿って形成された基板の上面を洗浄液を用いて洗浄処理する基板の洗浄処理装置であって、
前記基板を保持する保持手段と、
この保持手段に保持されている前記基板の上面に前記洗浄液を供給する洗浄処理手段と、
前記保持手段を回転方向に駆動する回転駆動手段と、
前記保持手段と前記洗浄処理手段とを前記基板の上面に沿って相対移動させる駆動手段と、
制御手段とを有し、
前記制御手段は、
前記洗浄処理手段から前記洗浄液が前記基板に供給される前に、前記回転駆動手段を制御して、前記保持手段に保持されている前記基板に形成されている前記一方向の凹溝の方向が、前記駆動手段による前記保持手段と前記洗浄処理手段との前記相対移動の方向に沿う方向となるようにし、前記洗浄処理手段から前記洗浄液を供給する状態で、前記駆動手段を制御して、前記洗浄処理手段を前記保持手段に対して、前記相対移動の方向における一端側から他端側に相対移動させた後、前記回転駆動手段により上記保持手段を前記一方向と前記他方向とのなす角度分回転させて、前記他方向の凹溝の方向が、前記駆動手段による前記保持手段と前記洗浄処理手段との前記相対移動の方向に沿う方向となるようにし、その後、前記洗浄処理手段から前記洗浄液を供給する状態で、前記駆動手段を制御して、前記洗浄処理手段を前記保持手段に対して、前記相対移動の方向における前記他端側から前記一端側に相対移動させることを特徴とする。
上面に凹溝が一方向及びこの一方向と交差する他方向の二方向に沿って形成された基板と洗浄液の供給部とを前記基板の上面に沿って相対移動させて、前記基板の上面を前記洗浄液を用いて洗浄処理する基板の洗浄処理方法であって、
保持手段に前記基板を保持する工程と、
前記保持手段に保持されている前記基板を回転させ、前記一方向の凹溝の方向が、前記相対移動の方向に沿う方向となるように前記基板を位置決めする工程と、
その後、前記供給部から前記洗浄液を供給しながら、前記基板と前記供給部とを前記相対移動の方向における一端側から他端側に相対移動させる工程と、
その後、前記保持手段に保持されている前記基板を、前記一方向と前記他方向とのなす角度分回転させて、前記他方向の凹溝の方向が、前記相対移動の方向に沿う方向となるように前記基板を位置決めする工程と、
その後、前記供給部から前記洗浄液を供給しながら、前記基板と前記供給部とを前記相対移動の方向における前記他端側から前記一端側に相対移動させる工程と、
を有することを特徴とする。
まず、図1に示すように、ノズル体15を保持テーブル2の上面から外れる位置までX方向の一端側に移動させた状態で、上記保持テーブル2の上面に基板Wを供給載置する。このとき、図6に示すように上記基板Wは上面に形成されたX溝4aが同時に矢印で示すX方向、つまり同図に鎖線で示す上記ノズル体15の長手方向に対して直交するよう位置決めされる。
Claims (6)
- 上面に凹溝が一方向及びこの一方向と交差する他方向の二方向に沿って形成された基板の上面を洗浄液を用いて洗浄処理する基板の洗浄処理装置であって、
前記基板を保持する保持手段と、
この保持手段に保持されている前記基板の上面に前記洗浄液を供給する洗浄処理手段と、
前記保持手段を回転方向に駆動する回転駆動手段と、
前記保持手段と前記洗浄処理手段とを前記基板の上面に沿って相対移動させる駆動手段と、
制御手段とを有し、
前記制御手段は、
前記洗浄処理手段から前記洗浄液が前記基板に供給される前に、前記回転駆動手段を制御して、前記保持手段に保持されている前記基板に形成されている前記一方向の凹溝の方向が、前記駆動手段による前記保持手段と前記洗浄処理手段との前記相対移動の方向に沿う方向となるようにし、前記洗浄処理手段から前記洗浄液を供給する状態で、前記駆動手段を制御して、前記洗浄処理手段を前記保持手段に対して、前記相対移動の方向における一端側から他端側に相対移動させた後、前記回転駆動手段により上記保持手段を前記一方向と前記他方向とのなす角度分回転させて、前記他方向の凹溝の方向が、前記駆動手段による前記保持手段と前記洗浄処理手段との前記相対移動の方向に沿う方向となるようにし、その後、前記洗浄処理手段から前記洗浄液を供給する状態で、前記駆動手段を制御して、前記洗浄処理手段を前記保持手段に対して、前記相対移動の方向における前記他端側から前記一端側に相対移動させることを特徴とする基板の洗浄処理装置。 - 前記制御手段は、
前記一方向の凹溝の方向が前記駆動手段による前記保持手段と前記洗浄処理手段との前記相対移動の方向に沿う状態での、前記保持手段と前記洗浄処理手段との前記相対移動と、
前記他方向の凹溝の方向が前記駆動手段による前記保持手段と前記洗浄処理手段との前記相対移動の方向に沿う状態での、前記保持手段と前記洗浄処理手段との前記相対移動と、
を交互に複数回繰り返して行なうように制御することを特徴とする請求項1に記載の基板の洗浄装置。 - 上面に凹溝が一方向及びこの一方向と交差する他方向の二方向に沿って形成された基板の上面を洗浄液を用いて洗浄処理する基板の洗浄処理装置であって、
前記基板を保持する保持手段と、
この保持手段に保持されている前記基板の上面に前記洗浄液を供給する洗浄処理手段と、
前記保持手段を回転方向に駆動する回転駆動手段と、
前記保持手段と前記洗浄処理手段とを前記基板の上面に沿って相対移動させる駆動手段と、
制御手段とを有し、
前記制御手段は、
前記洗浄処理手段から前記洗浄液が前記基板に供給される前に、前記回転駆動手段を制御して、前記保持手段に保持されている前記基板に形成されている前記一方向の凹溝の方向が、前記駆動手段による前記保持手段と前記洗浄処理手段との前記相対移動の方向に沿う方向となるようにし、前記洗浄処理手段から前記洗浄液を供給する状態で、前記駆動手段を制御して、前記洗浄処理手段の前記保持手段に対する、前記相対移動の方向における一端側から他端側への相対移動と、前記他端側から前記一端側への相対移動とを連続して行なわせ、その後、前記回転駆動手段により上記保持手段を前記一方向と前記他方向とのなす角度分回転させて、前記他方向の凹溝の方向が、前記駆動手段による前記保持手段と前記洗浄処理手段との前記相対移動の方向に沿う方向となるようにし、その後、前記洗浄処理手段から前記洗浄液を供給する状態で、前記駆動手段を制御して、前記洗浄処理手段の前記保持手段に対する、前記相対移動の方向における一端側から他端側への相対移動と、前記他端側から前記一端側への相対移動とを連続して行なわせることを特徴とする基板の洗浄処理装置。 - 前記保持手段と前記洗浄処理手段との相対的な移動回数と前記基板の回転角度を、前記一方向と前記他方向の凹溝ごとに記憶する記憶手段をさらに有し、
前記制御手段は、前記記憶手段に記憶された前記移動回数に基づいて前記駆動手段を、前記記憶手段に記憶された前記回転角度に基づいて前記回転駆動手段をそれぞれ制御することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の基板の洗浄処理装置。 - 前記洗浄処理手段は、前記洗浄液を前記相対移動の方向に対して直交する方向に沿ってカーテン状に供給するスリットを有するノズル体であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載された基板の洗浄処理装置。
- 上面に凹溝が一方向及びこの一方向と交差する他方向の二方向に沿って形成された基板と洗浄液の供給部とを前記基板の上面に沿って相対移動させて、前記基板の上面を前記洗浄液を用いて洗浄処理する基板の洗浄処理方法であって、
保持手段に前記基板を保持する工程と、
前記保持手段に保持されている前記基板を回転させ、前記一方向の凹溝の方向が、前記相対移動の方向に沿う方向となるように前記基板を位置決めする工程と、
その後、前記供給部から前記洗浄液を供給しながら、前記基板と前記供給部とを前記相対移動の方向における一端側から他端側に相対移動させる工程と、
その後、前記保持手段に保持されている前記基板を、前記一方向と前記他方向とのなす角度分回転させて、前記他方向の凹溝の方向が、前記相対移動の方向に沿う方向となるように前記基板を位置決めする工程と、
その後、前記供給部から前記洗浄液を供給しながら、前記基板と前記供給部とを前記相対移動の方向における前記他端側から前記一端側に相対移動させる工程と、
を有することを特徴とする基板の洗浄処理方法。
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JP2013072364A JP6321912B2 (ja) | 2013-03-29 | 2013-03-29 | 基板の洗浄処理装置及び洗浄処理方法 |
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JP2013072364A JP6321912B2 (ja) | 2013-03-29 | 2013-03-29 | 基板の洗浄処理装置及び洗浄処理方法 |
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