CN206259321U - 基板处理装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型涉及一种基板处理装置，处理对于被处理基板的药液涂敷工艺的基板处理装置包括：基板移送部，其沿着预先设定的移送路径来移送基板，并且设置有向上下贯通于基板的移送路径中间的贯通区域；药液涂敷喷嘴，其配置于基板移送部的上部，并且将药液涂敷于基板的上面；清洗单元，其通过贯通区域对药液涂敷喷嘴的喷嘴边缘(lip)进行清洗，据此，可得到的有利的效果在于，可使得药液涂敷喷嘴的清洗结构及工艺简化，并提高收率。

Description

基板处理装置
技术领域
本实用新型涉及一种基板处理装置，更为具体地，涉及一种基板处理装置，所述基板处理装置可使得将药液涂敷于基板的药液涂敷喷嘴的清洗结构以及工艺简化，并且可使得收率提高。
背景技术
在对LCD等平板显示器进行制造的工艺中伴随将抗蚀剂液体等的药液涂敷于由玻璃等制作的被处理基板的表面的涂层(coating)工艺。在LCD的尺寸较小的现有技术中使用了旋转(spin)涂层方法，所述旋转涂层方法在将药液涂敷于被处理基板的中央部的同时，使得被处理基板旋转，据此，将药液涂敷于被处理基板的表面。
但是，随着LCD画面的尺寸大型化，旋转涂层方式几乎不被使用，并且正使用如下方式的涂层方法：使得具有与被处理基板的宽度相对应的长度的狭缝(slit)形态的狭缝喷嘴与被处理基板以相对的形式进行移动，同时从狭缝喷嘴将药液涂敷于被处理基板的表面。
最近，作为一种在所规定的时间将药液涂层于更多数量的被处理基板的表面的方法的部分，在日本公开专利公报第2005-243670号公开一种如下形式的技术：设置有悬浮平台，所述悬浮平台通过沿着基板得到搬入并涂敷且搬出的方向喷出空气来使得基板悬浮，在其两侧设置有形成为吸附板等的基板排出装置，通过停止状态的狭缝喷嘴来将药液供给于连续被供给的被处理基板的表面并进行涂层。
另外，在悬浮式基板涂层器(coater)装置中，若在狭缝喷嘴的出口残留或固着有药液，则具有的问题在于，在对接下来的基板进行药液涂敷工艺时，药液难以被涂敷为均匀的厚度，并且由于药液的不均匀的涂敷，而产生污点，由此，狭缝喷嘴的出口可需要得到周期性地清洗。
但是，在现有的情况下，具有的问题在于，由于通过配置于悬浮平台的上部(狭缝喷嘴的侧部)的清洗模块来实现狭缝喷嘴的清洗，因此为了将清洗模块配置于悬浮平台与狭缝喷嘴之间，狭缝喷嘴与清洗模块必须经过复杂的移动过程，由此，工艺效率及收率低下，并且用于移动清洗模块的移动设备变复杂。
换句话说，在现有的情况下，需要经过如下形式的复杂的移动过程：为了用清洗模块对狭缝喷嘴进行清洗，首先，使得狭缝喷嘴向上部进行向上移动，以便狭缝喷嘴相对于悬浮平台的上面配置于一定高度(在狭缝喷嘴的下部可配置清洗模块的高度)，并且在使得配置于悬浮平台的上部的清洗模块进行水平移动，并配置于狭缝喷嘴的下部的状态下，再次使得狭缝喷嘴向下部进行向下移动，从而使得狭缝喷嘴与清洗模块进行接触。
并且，需要经过如下繁琐的移动过程：即使在通过清洗模块的清洗工艺完成之后，首先，在使得狭缝喷嘴向上部进行向上移动(解除对于清洗模块的接触)的状态下，需要使得清洗模块向狭缝喷嘴的侧部进行水平移动(躲避)，并且为了执行药液涂敷工艺，再次使得狭缝喷嘴向邻接于悬浮平台的上面的高度(实质上，药液得到涂敷的高度)进行向下移动，由此，具有的问题在于，不仅工艺效率低下，而且用于使得清洗模块移动的移动装置变复杂，并且狭缝喷嘴及清洗模块的移动控制较为繁琐与不便。
不仅如此，在现有的情况下，具有的问题在于，由于在悬浮平台的上部实现狭缝喷嘴的清洗，因此在狭缝喷嘴得到去除的异物(例如，药液)掉落至悬浮平台的上面，由此，悬浮平台的上面被二次污染。
由此，最近，虽然用于使得将药液进行涂敷的狭缝喷嘴的清洗工艺简化的多种研究正在进行，但是仍存在不足，因此需要对此的开发。
实用新型内容
本实用新型的目的在于，提供一种基板处理装置，所述基板处理装置可使得涂敷药液的药液涂敷喷嘴的清洗工艺简化。
特别是，本实用新型的目的在于，可缩短在进行药液涂敷喷嘴的清洗工艺时药液涂敷喷嘴及清洗单元的移动路径。
此外，本实用新型的目的在于，可提高基板处理效率及工艺效率，并且可提高收率。
此外，本实用新型的目的在于，将结构简化并且可容易地执行控制。
此外，本实用新型的目的在于，可防止由于从药液涂敷喷嘴去除的异物而导致的二次污染。
根据用于达成所述的本实用新型的目的的本实用新型的优选的实施例，处理对于被处理基板的药液涂敷工艺的基板处理装置包括：基板移送部，其沿着预先设定的移送路径来移送基板，并且设置有向上下贯通于基板的移送路径中间的贯通区域；药液涂敷喷嘴，其配置于基板移送部的上部，并且将药液涂敷于基板的上面；清洗单元，其通过贯通区域对药液涂敷喷嘴的喷嘴边缘(lip)进行清洗。
其目的在于，使得将药液涂敷于基板的表面的药液涂敷喷嘴的清洗工艺简化，并且提高工艺效率。
特别是，本实用新型可得到的有利的效果在于，通过清洗单元来清洗药液涂敷喷嘴，所述清洗单元穿过形成于基板移送部的贯通区域从基板移送部的下部进入，据此，缩短在进行药液涂敷喷嘴的清洗工艺时药液涂敷喷嘴及清洗单元的移动路径(即，移动距离)，并且可使得药液涂敷喷嘴的清洗结构及工艺简化，并提高收率。
换句话说，具有需要经过如下复杂的移动过程的问题：用于清洗药液涂敷喷嘴的清洗模块配置于基板移送部的上部的结构中具有的问题在于，为了用清洗模块对狭缝喷嘴进行清洗，首先，使得狭缝喷嘴向上部进行向上移动，以便狭缝喷嘴相对于悬浮平台的上面配置于一定高度(清洗模块可配置于狭缝喷嘴的下部的高度)，并且在使得配置于悬浮平台的上部的清洗模块进行水平移动并配置于狭缝喷嘴的下部的状态下，再次使得狭缝喷嘴向下部进行向下移动，从而使得狭缝喷嘴与清洗模块接触。
并且，具有的问题在于，需要经过如下繁琐的移动过程：即使在完成通过清洗模块的清洗工艺之后，首先，在将狭缝喷嘴向上部进行向上移动从而解除对于清洗模块的接触的状态下，需要使得清洗模块向狭缝喷嘴的侧部进行水平移动从而躲避，并且为了执行药液涂敷工艺，再次需要使得狭缝喷嘴向邻接于悬浮平台的上面的高度(即，实质上药液得到涂敷的高度)进行向下移动，由此，不仅降低工艺效率，而且用于移动清洗模块的移动装置变复杂，并且狭缝喷嘴及清洗模块的移动控制较为繁琐与不便。
但是，本实用新型可得到的有利的效果在于，通过清洗单元来清洗药液涂敷喷嘴，所述清洗单元穿过形成于基板移送部的贯通区域从基板移送部的下部进入，据此，由于在进行药液涂敷喷嘴的清洗工艺时，不需要另外调节药液涂敷喷嘴的高度，仅使得清洗单元单纯地进行上下移动就可以，因此可缩短药液涂敷喷嘴的清洗工艺所需要的药液涂敷喷嘴及清洗单元的移动路径，并且提高基板处理效率及工艺效率。
并且，在本实用新型中可得到的有利的效果在于，由于在进行药液涂敷喷嘴的清洗工艺时，不使得药液涂敷喷嘴移动，仅使得清洗单元进行上下移动就可以，因此可使得用于移动清洗模块的移动装置进一步简化，并且可容易地执行药液涂敷喷嘴及清洗单元的移动控制。
此外，在本实用新型中可得到的有利的效果在于，由于在形成于基板移送部的贯通区域上实现药液涂敷喷嘴的清洗，因此在清洗工艺时，从药液涂敷喷嘴清除的异物(例如，药液)不掉落至基板移送部的上面，而是可穿过贯通区域而被收集至基板移送部的下部。由此，预先防止由于从药液涂敷喷嘴清除的异物(例如，药液)掉落至基板移送部的上面而导致的基板移送部的二次污染。
基板移送部可形成为沿着预先设定的移送路径可移送基板的多种结构。
例如，基板移送部构成为，将基板以悬浮于空中的状态进行移送。优选地，基板移送部利用通过超声波而产生的振动能量来将所述基板以悬浮的状态进行移送。
如上所述，可得到的有利的效果在于，通过由超声波而产生的振动能量来使得基板悬浮，据此，可对基板的悬浮力进行精密地控制，并且使得在基板被搬送期间由于外部接触而产生的损伤以及变形最小化。特别是，利用通过超声波而产生的振动能量的悬浮方式可得到的有利的效果在于，由于在基板的整体上可形成均匀的悬浮力，因此在从药液涂敷喷嘴涂敷药液的涂敷区域中更为精确地控制对于药液涂敷喷嘴的基板的配置高度并保持。根据不同的情况，作为基板移送部也可使用喷射气体从而使得基板悬浮的气体喷射部。不同地，也可构成为基板以接触于基板移送部的状态得到移送。
更为具体地，基板移送部包括：第一振动板，其配置于基板的移送路径，并且通过由超声波而产生的振动能量来使得基板悬浮；第二振动板，其沿着基板被移送的方向以从第一振动板隔开的形式配置，并且通过由超声波而产生的振动能量来使得基板悬浮，并且在第一振动板与第二振动板间的得到隔开的之间形成有向上下得到贯通的贯通区域。
优选地，设置于第一振动板与第二振动板之间的贯通区域沿着与基板被移送的方向呈垂直的方向连续地形成。
此时，第一振动板与第二振动板形成为沿着基板被移送的方向能够进行相对移动，并且贯通区域若第一振动板与第二振动板相互隔开，则可形成于第一振动板与第二振动板之间。反之，在第一振动板与第二振动板相互接近的情况下，在药液涂敷单元的下部不存在贯通区域。
在此，所谓的第一振动板与第二振动板沿着基板被移送的方向进行相对移动指的是第一振动板与第二振动板中至少任意一个沿着基板被移送的方向进行移动。
例如，第一振动板以可移动的形式设置，并且可形成为沿着基板被移送的方向能够与得到固定设置的第二振动板接近以及隔开。作为另外的一个例子，第二振动板以可移动的形式设置，并且可形成为沿着基板被移送的方向能够与得到固定设置的第一振动板接近以及隔开。作为又另外的一个例子，第一振动板以可移动的形式设置，并且形成为沿着基板被移送的方向能够与第二振动板接近以及隔开，并且第二振动板也以可移动的形式设置，并且可形成为沿着基板被移送的方向能够与第一振动板接近以及隔开。
如上所述，基板移送部的贯通区域的设置是为了药液涂敷喷嘴的进入，由于仅在药液涂敷喷嘴的清洗工艺时，第一振动板与第二振动板以相互隔开的形式配置，因此在药液涂敷喷嘴的下部设置有贯通区域。但是，在药液被涂敷于基板的上面的药液涂敷工艺中，由于第一振动板与第二振动板以相互接近的形式配置，因此不存在贯通区域，并且在基板经过第一振动板与第二振动板的上部期间，以没有悬浮力的中断(由于贯通区域而产生的悬浮力中断)的形式可使得基板稳定地悬浮。
作为另一个例子，基板移送部构成为配置于药液涂敷喷嘴的下部的振动板，贯通区域可通过去除振动板的一部分来形成。在此，所谓的通过去除振动板的一部分来形成贯通区域指的是在振动板的一部分区域钻孔，或者切开振动板的一部分区域。
清洗单元可构成为直接与喷嘴边缘接触并且以接触的形式对喷嘴边缘进行清洗。更为具体地，清洗单元包括：移送导向部，其沿着与基板被移送的方向呈垂直的方向得到配置；清洗部件，其形成为接触于喷嘴边缘并且随着移送导向部进行直线移动，并清除残留于喷嘴边缘的药液。此时，可得到的有利的效果在于，用类似于橡胶或硅的弹性体形成清洗部件，据此，使得由于清洗部件接触于喷嘴边缘而导致的喷嘴边缘的损伤最小化。
优选地，基板处理装置包括移动部，所述移动部使得清洗单元沿着向上方向移动，以便清洗单元移动至清洗喷嘴边缘的清洗位置以及从喷嘴边缘隔开的等待位置。
在此，所谓的清洗位置指的是清洗单元直接接触于喷嘴边缘的位置，所谓的等待位置指的是为了使得清洗单元不接触于喷嘴边缘，而从喷嘴边缘隔开的位置。更为具体地，清洗单元在等待位置以与基板移送部的下部隔开的形式配置，配置于等待位置的清洗单元从下部向上部穿过贯通区域，并移动至清洗位置。
此时，清洗单元从等待位置向清洗位置移动(或从清洗位置向等待位置移动)期间，保持药液涂敷喷嘴的高度(对于基板的药液涂敷喷嘴的间隔高度)一定。如上所述，可得到的有利的效果在于，在药液涂敷喷嘴药液被涂敷之前，使得药液涂敷喷嘴的移动最小化，据此，使得由于药液涂敷喷嘴的移动误差或控制误差而产生的药液涂敷错误最小化。
此外，可包括底涂单元，所述底涂单元在将所述药液涂敷于基板之前，穿过贯通区域在药液涂敷喷嘴的喷嘴边缘形成药液珠(bead)。底涂单元与清洗单元一样，形成为可向将药液珠形成于喷嘴边缘的珠形成位置(参考清洗单元的清洗位置)以及从喷嘴边缘隔开的等待位置移动。
如上所述，可得到的有利的效果在于，通过底涂单元来在喷嘴边缘形成药液珠，所述底涂单元穿过形成于基板移送部的贯通区域从基板移送部的下部进入，据此，缩短在进行药液珠形成工艺时药液涂敷喷嘴及底涂单元的移动路径，并且可使得喷嘴边缘的药液珠形成结构及工艺简化，并提高收率。
并且，在现有技术中，由于底涂单元位于基板的移送路径的上部，因此为了形成喷嘴边缘的珠，而需要向位于从基板移送部充分高的高度的底涂单元移动，为此，起重机架(gantry)(使得药液涂敷喷嘴移动的起重机架)需要形成得非常高。但是，在本实用新型中得到的优点在于，由于底涂单元180位于基板移送部的下部，因此可将起重机架构成得较低，由此，不仅美观上更加整洁，而且可以以使得比现有技术变轻的起重机架仅移动更短的路径的形式控制，从而控制变得容易，可更为廉价地构成起重机架。
根据本实用新型的其他的优选的实施例，处理对于被处理基板的药液涂敷工艺的基板处理装置包括：基板移送部，其包括第一振动板和第二振动板，所述第一振动板配置于基板的移送路径，并且通过由超声波而产生的振动能量来使得基板悬浮，所述第二振动板配置为沿着基板被移送的方向从第一振动板隔开，并且通过由超声波而产生的振动能量来使得基板悬浮，并且在第一振动板与第二振动板之间形成有贯通区域；药液涂敷喷嘴，其配置于基板移送部的上部，并且将药液涂敷于基板的上面；清洗单元，其通过贯通区域以接触的形式对药液涂敷喷嘴的喷嘴边缘(lip)进行清洗；移动部，其使得清洗单元沿着向上方向移动，以便清洗单元移动至清洗喷嘴边缘的清洗位置以及从喷嘴边缘隔开的等待位置。
如上所述，可得到的有利的效果在于，通过清洗单元来清洗药液涂敷喷嘴，所述清洗单元穿过形成于第一振动板与第二振动板之间的贯通区域从基板移送部的下部进入，据此，缩短在进行药液涂敷喷嘴的清洗工艺时药液涂敷喷嘴及清洗单元的移动路径(即，移动距离)，并且可使得药液涂敷喷嘴的清洗结构及工艺简化，并提高收率。
第一振动板与第二振动板形成为沿着基板被移送的方向能够进行相对移动，并且贯通区域若第一振动板与第二振动板相互隔开，则形成于第一振动板与第二振动板之间。
清洗单元包括：移送导向部，其沿着与基板被移送的方向呈垂直的方向得到配置；清洗部件，其形成为接触于喷嘴边缘并且随着移送导向部进行直线移动，并清除残留于喷嘴边缘的药液。
优选地，基板处理装置包括移动部，所述移动部使得清洗单元沿着向上方向移动，以便清洗单元移动至清洗喷嘴边缘的清洗位置以及从喷嘴边缘隔开的等待位置。更为具体地，清洗单元在等待位置以与基板移送部的下部隔开的形式配置，配置于等待位置的清洗单元从下部向上部穿过贯通区域，并移动至清洗位置。
此时，清洗单元从等待位置向清洗位置移动期间，保持对于基板的药液涂敷喷嘴的间隔高度(即，对于基板的药液涂敷喷嘴的间隔高度)一定。或者，在清洗单元从清洗位置向等待位置移动期间，可保持对于基板的药液涂敷喷嘴的间隔高度一定。
此外，可包括底涂单元，所述底涂单元在将所述药液涂敷于基板之前，穿过贯通区域在药液涂敷喷嘴的喷嘴边缘形成药液珠。
如上所述，根据本实用新型，可得到的有利的效果在于，使得药液涂敷喷嘴的清洗工艺简化，并提高工艺效率。
特别是，根据本实用新型，可得到的有利的效果在于，通过清洗单元来清洗药液涂敷喷嘴，所述清洗单元穿过形成于基板移送部的贯通区域从基板移送部的下部进入，据此，缩短在进行药液涂敷喷嘴的清洗工艺时药液涂敷喷嘴及清洗单元的移动路径，并且可使得药液涂敷喷嘴的清洗结构及工艺简化，并提高收率。
换句话说，在用于清洗药液涂敷喷嘴的清洗模块配置于基板移送部的上部的结构中具有的问题在于，需要经过如下复杂的移动过程：为了用清洗模块对狭缝喷嘴进行清洗，首先，使得狭缝喷嘴向上部进行向上移动，以便狭缝喷嘴相对于悬浮平台的上面配置于一定高度(例如，清洗模块可配置于狭缝喷嘴的下部的高度)，并且在使得配置于悬浮平台的上部的清洗模块进行水平移动并配置于狭缝喷嘴的下部的状态下，再次使得狭缝喷嘴向下部进行向下移动，从而使得狭缝喷嘴与清洗模块接触。并且，具有的问题在于，需要经过如下繁琐的移动过程：即使在完成通过清洗模块的清洗工艺之后，首先，在使得狭缝喷嘴向上部进行向上移动从而解除对于清洗模块的接触的状态下，需要通过使得清洗模块向狭缝喷嘴的侧部进行水平移动来进行躲避，并且为了执行药液涂敷工艺，再次需要使得狭缝喷嘴向邻接于悬浮平台的上面的高度(换句话说，实质上药液得到涂敷的高度)进行向下移动，由此，不仅降低工艺效率，而且用于移动清洗模块的移动装置变复杂，并且狭缝喷嘴及清洗模块的移动控制较为繁琐与不便。
但是，根据本实用新型可得到的有利的效果在于，通过清洗单元来清洗药液涂敷喷嘴，所述清洗单元穿过形成于基板移送部的贯通区域从基板移送部的下部进入，据此，由于在进行药液涂敷喷嘴的清洗工艺时，不需要另外调节药液涂敷喷嘴的高度，仅使得清洗单元单纯地进行上下移动就可以，因此可缩短药液涂敷喷嘴的清洗工艺所需要的药液涂敷喷嘴及清洗单元的移动路径，并且提高基板处理效率及工艺效率。
并且，根据本实用新型可得到的有利的效果在于，由于在进行药液涂敷喷嘴的清洗工艺时，不使得药液涂敷喷嘴移动，仅使得清洗单元进行上下移动就可以，因此可使得用于移动清洗模块的移动装置更加简化，并且可容易地执行药液涂敷喷嘴及清洗单元的移动控制。
此外，根据本实用新型可得到的有利的效果在于，由于在形成于基板移送部的贯通区域上实现药液涂敷喷嘴的清洗，因此在清洗工艺时，从药液涂敷喷嘴清除的异物(例如，药液)不掉落至基板移送部的上面，而是可穿过贯通区域而被收集至基板移送部的下部。由此，预先防止由于从药液涂敷喷嘴清除的异物(例如，药液)掉落至基板移送部的上面而导致的基板移送部的二次污染。
此外，根据本实用新型可得到的有利的效果在于，在药液涂敷喷嘴药液被涂敷之前，使得药液涂敷喷嘴的移动最小化，据此，使得由于药液涂敷喷嘴的移动误差或控制误差而产生的药液涂敷错误最小化。
此外，根据本实用新型可得到的有利的效果在于，通过底涂单元来在喷嘴边缘形成药液珠，所述底涂单元穿过形成于基板移送部的贯通区域从基板移送部的下部进入，据此，缩短在进行药液珠形成工艺时药液涂敷喷嘴及底涂单元的移动路径，并且可使得喷嘴边缘的药液珠形成结构及工艺简化，并提高收率。
并且，在现有技术中，由于底涂单元位于基板的移送路径的上部，因此为了形成喷嘴边缘的珠，而需要将喷嘴移动至位于从基板移送部较高的位置的底涂单元，为此，导引喷嘴的移动的起重机架(gantry)需要形成得非常高。但是，在本实用新型中得到的优点在于，由于底涂单元180位于基板移送部的下部，因此可将起重机架构成得较低，由此，不仅美观上更加整洁，而且可以以使得比现有技术变轻的起重机架仅移动更短的路径的形式进行控制，并且控制变得容易，可更为廉价地构成起重机架。
附图说明
图1是用于说明根据本实用新型的基板处理装置的图，
图2及图3是用于说明图1的清洗单元的结构的图，
图4至图7是用于说明通过图1的清洗单元的清洗工艺的图，
图8是作为根据本实用新型的基板处理装置，用于说明贯通区域的变形例的图，
图9及图10是作为根据本实用新型的基板处理装置，用于说明底涂(priming)单元的结构及配置结构的图。
具体实施方式
以下，虽然参照附图对本实用新型的优选的实施例进行详细说明，但是本实用新型并非受到实施例的限制或限定。作为参考，本说明中相同的号码实质上指代相同的要素，并且在所述规则下，可引用其他附图中所记载的内容来说明，并且可省略对于从业者判断为显而易见的或反复出现的内容。
图1是用于说明根据本实用新型的基板处理装置的图，图2及图3是用于说明图1的清洗单元的结构的图，图4至图7是用于说明通过图1的清洗单元的清洗工艺的图。
参照图1至图7，根据本实用新型的处理对于被处理基板10的药液涂敷工艺的基板处理装置1包括：基板移送部100，其沿着预先设定的移送路径来移送基板10，并且设置有向上下贯通于基板10的移送路径中间的贯通区域101；药液涂敷喷嘴300，其配置于基板移送部100的上部，并且将药液涂敷于基板10的上面；清洗单元200，其穿过贯通区域101对药液涂敷喷嘴300的喷嘴边缘(lip)310进行清洗。
基板移送部100可形成为沿着预先设定的移送路径可移送基板10的多种结构。
例如，基板移送部100构成为，将基板10以悬浮于空中的状态进行移送。优选地，基板移送部100利用通过超声波而产生的振动能量来将所述基板以悬浮的状态进行移送。
如上所述，可得到的有利的效果在于，通过由超声波而产生的振动能量来使得基板10悬浮，据此，可对基板10的悬浮力进行精密地控制，并且使得在基板10被搬送期间由于外部接触而产生的损伤以及变形最小化。
特别是，利用通过超声波而产生的振动能量的悬浮方式可得到的有利的效果在于，由于在基板10的整体上可形成均匀的悬浮力，因此在从药液涂敷喷嘴涂敷药液的涂敷区域中更为精确地控制并保持对于药液涂敷喷嘴的基板的配置高度。
作为参考，在本实用新型的实施例中，举例说明了基板移送部100利用通过超声波而产生的振动能量来使得基板10悬浮，但是根据不同的情况，作为基板移送部也可使用将气体喷射至基板从而使得基板悬浮的气体喷射部。不同地，也可构成为基板以接触于基板移送部的状态得到移送。
更为具体地，基板移送部100的设置是为了利用由超声波而产生的振动能量来将基板10以悬浮的状态进行移送。
例如，基板移送部100包括以独立的形式得到分割的多个振动板(例如，第一振动板及第二振动板)，以便以相互隔开的形式配置。
在此，所谓的多个振动板以独立的形式得到分割指的是多个振动板以相互隔开的形式配置，并且通过多个振动板的悬浮力分别个别地作用于基板10。
作为参考，基板移送部100包括：装载移送部，其装载基板10；处理(processing)移送部，其在基板10的表面涂敷药液；卸载移送部，其卸载涂敷有药液的基板10。
在清洗处理单元中完成清洗工艺的基板10随着装载移送部被移送至处理移送部，并且在移送至处理移送部的基板10的表面涂敷药液。之后，涂敷有药液的基板10在随着卸载移送部被移送期间，通过加热干燥单元来得到加热，由此药液得到干燥。
更为具体地，参照图2，处理移送部包括至少一个以上的振动板。例如，处理移送部包括：第一振动板112，其配置于基板10的移送路径，并且通过由超声波而产生的振动能量来使得基板10悬浮；第二振动板114，其配置为沿着基板被移送的方向从第一振动板112隔开，并且通过由超声波而产生的振动能量来使得基板10悬浮，并且在第一振动板112与第二振动板114间的得到隔开的之间形成有向上下得到贯通的贯通区域101。根据不同的情况，处理移送部仅构成为一个振动板，或者也可构成为包括三个以上的振动板。
第一振动板112与第二振动板114配置于药液涂敷喷嘴300的下部，并且利用通过超声波而产生的振动能量来相互协助地使得基板10悬浮。
在此，所谓的基板10得到悬浮指的是基板10以具有规定间隔的形式浮于空中的状态，并且悬浮于第一振动板112与第二振动板114的上部的基板10以吸附于沿着移送轨道120a进行直线移动的移送部件120的状态得到移送。
此外，所谓的第一振动板112与第二振动板114相互协助地使得基板10悬浮指的是通过第一振动板112与第二振动板114的悬浮力同时作用于基板10。
第一振动板112与第二振动板114根据所需的条件及设计样式可形成为具有多种形态及尺寸，并且本实用新型并非受到第一振动板112与第二振动板114的形态及尺寸的限制或限定。
例如，第一振动板112与第二振动板114形成为四角板形状，并且在第一振动板112与第二振动板114的底面分别安装有通过振动超声波来使得振动板振动的振动器。
并且，第一振动板112与第二振动板114之间的贯通区域101(间隔间距)可根据药液涂敷喷嘴300及清洗单元200的大小及种类得到变更，并且本实用新型并非受到贯通区域101的尺寸的限制或限定。
优选地，设置于第一振动板112与第二振动板114之间的贯通区域101沿着与基板10被移送的方向呈垂直的方向连续地形成。
更为具体地，第一振动板112与第二振动板114形成为沿着基板10被移送的方向能够进行相对移动，并且贯通区域若第一振动板112与第二振动板114相互隔开，则可形成于第一振动板112与第二振动板114之间。反之，在第一振动板112与第二振动板114相互接近的情况下，在药液涂敷单元的下部不存在贯通区域。
在此，所谓的第一振动板112与第二振动板114沿着基板10被移送的方向进行相对移动指的是第一振动板112与第二振动板114中至少任意一个沿着基板10被移送的方向进行移动。
例如，第一振动板112以可移动的形式设置，并且可形成为沿着基板10被移送的方向能够与得到固定设置的第二振动板114接近以及隔开。作为另外的一个例子，第二振动板114以可移动的形式设置，并且可形成为沿着基板10被移送的方向能够与得到固定设置的第一振动板112接近以及隔开。作为又另外的一个例子，第一振动板112以可移动的形式设置，并且形成为沿着基板10被移送的方向能够与第二振动板114接近以及隔开，并且第二振动板114也以可移动的形式设置，并且可形成为沿着基板10被移送的方向能够与第一振动板112接近以及隔开。作为参考，在图中例示的本实用新型的实施例中，对第一振动板112与第二振动板114全部构成为移动的结构进行举例说明。
如上所述，基板移送部100的贯通区域101的设置是为了药液涂敷喷嘴300的进入，由于仅在药液涂敷喷嘴300的清洗工艺时，第一振动板112与第二振动板114以相互隔开的形式配置，因此在药液涂敷喷嘴300的下部设置有贯通区域101。但是，在药液被涂敷于基板10的上面的药液涂敷工艺中，由于第一振动板112与第二振动板114以相互接近的形式配置，因此不存在贯通区域，并且在基板10经过第一振动板112与第二振动板114的上部期间，以没有悬浮力的中断(由于贯通区域101而产生的悬浮力中断)的形式可使得基板10稳定地悬浮。
并且，移送部件120可构成为沿着移送轨道120a进行直线移动。假设，移送轨道120a以交替的形式排列有N极与S极的永久磁铁，并且可用通过施加于移送部件120的线圈的电流控制而可进行精确的位置控制的线性马达的原理来得到驱动。
药液涂敷喷嘴300形成为，当基板10以悬浮于基板移送部100的上部的状态进行移动期间，将药液PR涂敷于基板10的表面。
在此，通过药液涂敷喷嘴300来涂敷药液的区域也可以是被处理基板10的整体表面，也可以是被分割为多个单元区域的部分。
更为具体地，在药液涂敷喷嘴300的底端部形成有与基板10的宽度相对应的长度的狭缝喷嘴部，并且狭缝喷嘴部的喷嘴边缘(lip)310配置于在第一振动板112与第二振动板114之间所形成的贯通区域101上，并将药液涂敷于基板10的表面。
清洗单元200的设置是为了对药液涂敷喷嘴300的喷嘴边缘(lip)310进行周期性地清洗。
此时，清洗单元200配置于基板移送部100的下部，并且构成为通过形成于基板移送部100的贯通区域101来对药液涂敷喷嘴300的喷嘴边缘(lip)310进行清洗。
如上所述，本实用新型可得到的有利的效果在于，通过清洗单元200来清洗药液涂敷喷嘴300，所述清洗单元200穿过形成于基板移送部100的贯通区域101从基板移送部100的下部进入，据此，缩短在进行药液涂敷喷嘴300的清洗工艺时药液涂敷喷嘴300及清洗单元200的移动路径(即，移动距离)，并且可使得药液涂敷喷嘴300的清洗结构及工艺简化，并提高收率。
换句话说，在用于清洗药液涂敷喷嘴的清洗模块配置于基板移送部的上部的结构中具有的问题在于，需要经过如下复杂的移动过程：为了用清洗模块对狭缝喷嘴进行清洗，首先，使得狭缝喷嘴向上部进行向上移动，以便狭缝喷嘴相对于悬浮平台的上面配置于一定高度(清洗模块可配置于狭缝喷嘴的下部的高度)，并且在使得配置于悬浮平台的上部的清洗模块进行水平移动并配置于狭缝喷嘴的下部的状态下，再次使得狭缝喷嘴向下部进行向下移动，从而使得狭缝喷嘴与清洗模块接触。
并且，具有的问题在于，需要经过如下繁琐的移动过程：即使在完成通过清洗模块的清洗工艺之后，首先，也在使得狭缝喷嘴向上部进行向上移动(解除对于清洗模块的接触)的状态下，需要使得清洗模块向狭缝喷嘴的侧部进行水平移动(躲避)，并且为了执行药液涂敷工艺，再次需要使得狭缝喷嘴向邻接于悬浮平台的上面的高度(实质上，药液得到涂敷的高度)进行向下移动，由此，不仅降低工艺效率，而且用于移动清洗模块的移动装置变复杂，并且狭缝喷嘴及清洗模块的移动控制较为繁琐与不便。
但是，本实用新型可得到的有利的效果在于，通过清洗单元200来清洗药液涂敷喷嘴300，所述清洗单元200穿过形成于基板移送部100的贯通区域101从基板移送部100的下部进入，据此，由于在进行药液涂敷喷嘴300的清洗工艺时，不需要另外调节药液涂敷喷嘴300的高度，仅使得清洗单元200单纯地进行上下移动就可以，因此可缩短药液涂敷喷嘴300的清洗工艺所需要的药液涂敷喷嘴300及清洗单元200的移动路径，并且提高基板10处理效率及工艺效率。
并且，在本实用新型中可得到的有利的效果在于，由于在进行药液涂敷喷嘴300的清洗工艺时，不使得药液涂敷喷嘴300移动，仅使得清洗单元200进行上下移动就可以，因此可使得用于移动清洗模块的移动装置更加简化，并且可容易地执行药液涂敷喷嘴300及清洗单元200的移动控制。
此外，在本实用新型中可得到的有利的效果在于，由于在形成于基板移送部100的贯通区域上实现药液涂敷喷嘴300的清洗，因此在清洗工艺时，从药液涂敷喷嘴300清除的异物(例如，药液)不掉落至基板移送部100的上面，而是可通过贯通区域收集至基板移送部100的下部。由此，预先防止由于从药液涂敷喷嘴300清除的异物(例如，药液)掉落至基板移送部100的上面而导致的基板移送部100的二次污染。
清洗单元200可形成为可清洗药液涂敷喷嘴300的喷嘴边缘310的多种结构，并且本实用新型并非受到清洗单元200的种类及清洗方式的限制或限定。
例如，清洗单元200构成为直接与喷嘴边缘310接触并且以接触的形式对喷嘴边缘310进行清洗。更为具体地，清洗单元200包括：移送导向部220，其沿着与基板10被移送的方向呈垂直的方向得到配置；清洗部件210，其形成为接触于喷嘴边缘310并且随着移送导向部220进行直线移动，并清除残留于喷嘴边缘310的药液。根据不同的情况，清洗单元也可构成为通过非接触方式来清洗喷嘴边缘。
移送导向部220的设置是为了沿着药液涂敷喷嘴300的长度方向(与基板10被移送的方向呈垂直的方向)对清洗部件210的直线移动进行引导。例如，作为移送导向部220可使用常用的导向轨道(guide rail)。
清洗部件210在接触于药液涂敷喷嘴300的喷嘴边缘310的状态下，随着移送导向部220进行直线移动，由此，清除残留于喷嘴边缘310的药液。此时，可得到的有利的效果在于，用类似于橡胶或硅的弹性体形成清洗部件210，据此，使得由于清洗部件210接触于喷嘴边缘310而导致的喷嘴边缘310的损伤最小化。
优选地，基板处理装置包括移动部230，所述移动部230使得清洗单元200沿着向上方向移动，以便清洗单元200移动至清洗喷嘴边缘310的清洗位置P1以及从喷嘴边缘310隔开的等待位置P2。
在此，所谓的清洗位置P1指的是清洗单元200直接接触于喷嘴边缘310的位置，所谓的等待位置P2指的是为了使得清洗单元200不接触于喷嘴边缘310，而与喷嘴边缘310隔开的位置。更为具体地，清洗单元200在等待位置P2以与基板移送部100的下部隔开的形式配置，配置于等待位置P2的清洗单元200从下部向上部穿过贯通区域，并移动至清洗位置P1。
移动部230的设置是为了使得清洗单元200选择性地移动至清洗位置P1或等待位置P2。例如，移动部230可构成为利用导螺杆(lead screw)或线性马达等的常用的直线驱动装置。
作为参考，在药液被涂敷于基板10的上面期间，清洗单元200配置于等待位置P2，若完成药液的涂敷，则清洗单元200移动至清洗位置P1。
此时，清洗单元200从等待位置P2向清洗位置P1移动(或从清洗位置P1向等待位置P2移动)期间，保持药液涂敷喷嘴300的高度(对于基板10的药液涂敷喷嘴300的间隔高度)一定。换句话说，在清洗单元200穿过形成于基板移送部100的贯通区域101从而进入(配置)至药液涂敷喷嘴300的下部的结构中，由于不需要另外调节药液涂敷喷嘴300的高度，而仅对清洗单元200的高度进行调节(从等待位置P2向清洗位置P1移动)就可以，因此能够保持药液涂敷喷嘴300的高度一定。如上所述，可得到的有利的效果在于，在药液涂敷喷嘴300药液被涂敷之前，使得药液涂敷喷嘴300的移动最小化，据此，使得由于药液涂敷喷嘴300的移动误差或控制误差而产生的药液涂敷错误最小化。
另外，图8是作为根据本实用新型的基板处理装置，用于说明贯通区域的变形例的图，图9及图10是作为根据本实用新型的基板处理装置，用于说明底涂单元200'的结构及配置结构的图。并且，对于与所述构成相同及相当于相同的部分赋予相同或相当于相同的参照标号，并且省略对其的详细说明。
参照图8，基板处理装置包括：基板移送部100，其设置有贯通区域101；药液涂敷喷嘴300；清洗单元200，其通过贯通区域101对药液涂敷喷嘴300的喷嘴边缘310进行清洗，基板移送部100构成为配置于药液涂敷喷嘴300的下部的振动板110'，贯通区域101'能够通过去除振动板110'的一部分来形成。
在此，所谓的通过去除振动板110'的一部分来形成贯通区域101'指的是在振动板110'的一部分区域钻孔，或者切开振动板110'的一部分区域。
可得到的有利的效果在于，即使在基板移送部100仅构成为一个振动板110'的情况下，在振动板110'形成贯通区域101'，并且通过清洗单元200来清洗药液涂敷喷嘴300，所述清洗单元200穿过贯通区域101'从振动板110'的下部进入，据此，缩短在进行药液涂敷喷嘴300的清洗工艺时药液涂敷喷嘴300及清洗单元200的移动路径(即，移动距离)，并且可使得药液涂敷喷嘴300的清洗结构及工艺简化，并提高收率。
此外，参照图9及图10，基板处理装置可包括底涂单元200'，所述底涂单元200'在将所述药液涂敷于基板10之前，穿过贯通区域101在药液涂敷喷嘴300的喷嘴边缘310形成药液珠。
底涂单元200'与清洗单元200一样，形成为可向将药液珠形成于喷嘴边缘310的珠形成位置(参考清洗单元的清洗位置)以及从喷嘴边缘310隔开的等待位置P2移动。
作为底涂单元200'可使用能够将药液珠形成于药液涂敷喷嘴300的喷嘴边缘310的多种底涂装置，并且本实用新型并非受到其种类及特性的限制或限定。
例如，底涂单元180包括：底涂滚轮(roller)181，其以喷嘴边缘310的前端接近并排出药液的形式形成，并通过伺服马达(servomotor)181a进行旋转驱动；外壳182，其以仅底涂滚轮181的一部分露出于外部的形式包裹底涂滚轮181；稀释剂(thinner)涂敷机183，其为了清洗在喷嘴边缘310的珠形成工艺中粘于底涂滚轮181的表面的药液，而在珠形成工艺之后，将稀释剂涂敷于旋转的底涂滚轮181的表面；第一挤压机(squeezer)184，其以物理的形式接触粘于底涂滚轮181的表面的药液并刮掉去除；清洗液收容部185，其通过浸渍(dipping)底涂滚轮181来清洗表面；清洗液喷射机186，其用喷嘴(jet)将液体清洗液喷射至底涂滚轮181的表面；第二挤压机187，其为了去除残存于底涂滚轮181的表面的稀释剂而以与底涂滚轮181的表面接触的状态进行刮掉底涂；用于干燥的排气部(未示出)，其为了干燥底涂滚轮181的表面，而对底涂滚轮181表面吸入空气，从而使得表面的液体等干燥，并向外部排出。
如上所述，本实用新型可得到的有利的效果在于，通过底涂单元200'来在喷嘴边缘310形成药液珠，所述底涂单元200'穿过形成于基板移送部100的贯通区域101从基板移送部100的下部进入，据此，缩短在进行药液珠形成工艺时药液涂敷喷嘴300及底涂单元200'的移动路径，并且可使得喷嘴边缘310的药液珠形成结构及工艺简化，并提高收率。
特别是，本实用新型可得到的有利的效果在于，通过底涂单元200'来在喷嘴边缘310形成药液珠，所述底涂单元200'穿过形成于基板移送部100的贯通区域101从基板移送部100的下部进入，据此，由于在进行药液珠形成工艺时，不需要另外调节药液涂敷喷嘴300的高度，仅使得底涂单元200'单纯地进行上下移动就可以，因此可缩短药液珠形成工艺所需要的药液涂敷喷嘴300及底涂单元200'的移动路径，并且提高基板10处理效率及工艺效率。
并且，在现有技术中，由于底涂单元200'位于基板10的移送路径的上部，因此为了形成喷嘴边缘310的珠，而需要向位于从基板移送部100充分高的高度的底涂单元200'移动，为此，起重机架(使得药液涂敷喷嘴300移动的起重机架)需要形成得非常高。但是，在本实用新型中得到的优点在于，由于底涂单元180位于基板移送部100的下部，因此可将起重机架构成得较低，由此，不仅美观上更加整洁，而且能够以使得比现有技术变轻的起重机架仅移动更短的路径的形式控制，从而控制变得容易，可更为廉价地构成起重机架。
如上所述，虽然参照本实用新型的优选实施例进行说明，但是可理解为，如果是相应技术领域的熟练的从业者，在不超过记载于下述的专利权利要求书的本实用新型的思想及领域的范围内可对本实用新型进行多种修改及变更。
标号说明
1：基板处理系统10：基板
100：基板移送部101：贯通区域
112：第一振动板114：第二振动板
120：移送部件180：底涂单元
200：清洗单元210：清洗部件
220：移送导向部230：移动部
300：药液涂敷喷嘴

Claims (26)

1.一种基板处理装置，所述基板处理装置处理对于被处理基板的药液涂敷工艺，其特征在于，包括：
基板移送部，其沿着预先设定的移送路径来移送基板，并且设置有向上下贯通于所述基板的移送路径中间的贯通区域；
药液涂敷喷嘴，其配置于所述基板移送部的上部，并且将药液涂敷于所述基板的上面；
清洗单元，其通过所述贯通区域对所述药液涂敷喷嘴的喷嘴边缘进行清洗。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述清洗单元以接触的形式对所述喷嘴边缘进行清洗。
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述清洗单元包括：
移送导向部，其沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向得到配置；
清洗部件，其形成为接触于所述喷嘴边缘，并且随着所述移送导向部进行直线移动，并清除残留于所述喷嘴边缘的所述药液。
4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，
所述清洗部件是弹性体。
5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，包括：
移动部，所述移动部使得所述清洗单元沿着向上方向移动，以便所述清洗单元移动至清洗所述喷嘴边缘的清洗位置以及从所述喷嘴边缘隔开的等待位置。
6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
在所述药液被涂敷于所述基板的上面期间，所述清洗单元配置于所述等待位置，
若完成所述药液的涂敷，则所述清洗单元移动至所述清洗位置。
7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，
所述清洗单元在所述等待位置以与所述基板移送部的下部隔开的形式配置，
配置于所述等待位置的所述清洗单元从下部向上部穿过所述贯通区域，并移动至所述清洗位置。
8.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
所述清洗单元从所述等待位置向所述清洗位置移动期间，保持所述药液涂敷喷嘴的高度一定。
9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述贯通区域沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向连续地形成。
10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述基板移送部将所述基板以悬浮于空中的状态进行移送。
11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，
所述基板移送部利用通过超声波而产生的振动能量来将所述基板以悬浮的状态进行移送。
12.根据权利要求11所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板移送部包括：
第一振动板，其配置于所述基板的移送路径，并且通过由超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮；
第二振动板，其配置为沿着所述基板被移送的方向从所述第一振动板隔开，并且通过由超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮，
所述贯通区域形成于所述第一振动板与所述第二振动板之间。
13.根据权利要求12所述的基板处理装置，其特征在于，
所述第一振动板与所述第二振动板形成为沿着所述基板被移送的方向进行相对移动，
所述贯通区域若所述第一振动板与所述第二振动板相互隔开，则形成于所述第一振动板与所述第二振动板之间。
14.根据权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，
所述第一振动板形成为可沿着所述基板被移送的方向与所述第二振动板接近以及隔开。
15.根据权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，
所述第二振动板形成为可沿着所述基板被移送的方向与所述第一振动板接近以及隔开。
16.根据权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于，
所述第一振动板形成为可沿着所述基板被移送的方向与所述第二振动板接近以及隔开，
所述第二振动板形成为可沿着所述基板被移送的方向与所述第一振动板接近以及隔开。
17.根据权利要求11所述的基板处理装置，其特征在于，
所述基板移送部包括配置于所述药液涂敷喷嘴的下部的振动板，
所述贯通区域通过去除所述振动板的一部分来形成。
18.根据权利要求1至17中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，
还包括底涂单元，所述底涂单元在将所述药液涂敷于所述基板之前，通过所述贯通区域在所述药液涂敷喷嘴的喷嘴边缘形成药液珠。
19.一种基板处理装置，所述基板处理装置处理对于被处理基板的药液涂敷工艺，其特征在于，包括：
基板移送部，其包括第一振动板和第二振动板，所述第一振动板配置于基板的移送路径，并且通过由超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮，所述第二振动板配置为沿着所述基板被移送的方向从所述第一振动板隔开，并且通过由超声波而产生的振动能量来使得所述基板悬浮，并且在所述第一振动板与所述第二振动板之间形成有贯通区域；
药液涂敷喷嘴，其配置于所述基板移送部的上部，并且将药液涂敷于所述基板的上面；
清洗单元，其通过所述贯通区域以接触的形式对所述药液涂敷喷嘴的喷嘴边缘进行清洗；
移动部，其使得所述清洗单元沿着向上方向移动，以便所述清洗单元移动至清洗所述喷嘴边缘的清洗位置以及从所述喷嘴边缘隔开的等待位置。
20.根据权利要求19所述的基板处理装置，其特征在于，所述清洗单元包括：
移送导向部，其沿着与所述基板被移送的方向呈垂直的方向得到配置；
清洗部件，其形成为接触于所述喷嘴边缘，并且随着所述移送导向部进行直线移动，并清除残留于所述喷嘴边缘的所述药液。
21.根据权利要求19所述的基板处理装置，其特征在于，
在所述药液被涂敷于所述基板的上面期间，所述清洗单元配置于所述等待位置，
若完成所述药液的涂敷，则所述清洗单元移动至所述清洗位置。
22.根据权利要求21所述的基板处理装置，其特征在于，
所述清洗单元在所述等待位置以与所述基板移送部的下部隔开的形式配置，
配置于所述等待位置的所述清洗单元从下部向上部穿过所述贯通区域，并移动至所述清洗位置。
23.根据权利要求19所述的基板处理装置，其特征在于，
在所述清洗单元从所述等待位置向所述清洗位置移动期间，所述药液涂敷喷嘴的高度保持一定。
24.根据权利要求19所述的基板处理装置，其特征在于，
所述第一振动板与所述第二振动板形成为沿着所述基板被移送的方向能够进行相对移动，
所述贯通区域若所述第一振动板与所述第二振动板相互隔开，则形成于所述第一振动板与所述第二振动板之间。
25.根据权利要求24所述的基板处理装置，其特征在于，
所述第一振动板形成为可沿着所述基板被移送的方向与所述第二振动板接近以及隔开，
所述第二振动板形成为可沿着所述基板被移送的方向与所述第一振动板接近以及隔开。
26.根据权利要求19至25中任意一项所述的基板处理装置，其特征在于，
还包括底涂单元，所述底涂单元在将所述药液涂敷于所述基板之前，通过所述贯通区域在所述药液涂敷喷嘴的喷嘴边缘形成药液珠。
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