JP5005328B2 - フォトレジスト端面剥離・洗浄方法及び装置 - Google Patents

Description

本発明は、マスク端面に付着したレジストを、マスク表面を傷付けることなく、薬液のみで除去するフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法に関するものである。

集積回路を製造する過程においてマスクを作製する際は、石英板の表面にクロムで回路パターンを形成したマスクに、フォトレジスト（感光性樹脂）を塗布する。塗布機でマスクを高速回転させて表面に薄いレジスト膜を作るが、マスクの４つの端面にもレジストが付着してしまうため、洗浄してレジストを剥離する必要がある。

特許文献１に記載されているように、カラーフォトレジストが一定の膜厚に塗布されたガラス基板の端面に残るカラーフォトレジストに残膜を、機械的に洗浄することの可能な洗浄装置の発明も公開されている。
特開平０５−２６５１９４号公報

しかしながら、特許文献１に記載の発明は、端面に残るフォトレジストの残膜に、円筒状のスポンジローラーの外周面を一定方向に回転させつつ接触させて洗浄するため、スポンジのカス等が付着してしまうことがある。

そこで、本発明は、マスク端面のレジストを機械的にブラシで擦るのではなく、薬液のみで洗浄するフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法を提供することを目的とするものである。

（１）
マスクの左端面及び右端面にスリットノズルを押し当て、マスク端部に保護流体を噴射すると共にマスク表面に保護流体を流しつつ、スリットノズルから薬液を噴射してマスク端面のフォトレジストを除去し、マスクを９０度回転させた後、マスクの前端面及び後端面にスリットノズルを押し当て、マスク端部に保護流体を噴射すると共にマスク表面に保護流体を流しつつ、スリットノズルから薬液を噴射してマスク端面のフォトレジストを除去することを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の構成とした。
（２）
マスク側の面に形成したスリットにマスク端面のフォトレジストを除去する薬液が噴射されるノズルを設置し、マスク端面のフォトレジストを除去する際に前記マスクの左右端面に押し当てられる左右スリットノズルと、前記マスク端部に保護流体を噴射するシャワーノズルと、前記マスク表面に保護流体を流す表面用シャワーノズルと、前記マスク裏面に保護流体を流す裏面用シャワーノズルと、前記マスクの左右端面のフォトレジストを除去した後に前記マスクの他の端面が前記左右スリットノズルに位置するまで前記マスクを回転させるマスクホルダーと、からなることを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄装置の構成とした。
（３）
前記左右スリットノズルの前記スリット入口側のマスクに押し当てられる箇所は斜めにカットした面とし、前記押し当てが、前記マスク端面の角と前記スリットノズルの斜めにカットされた面とが接することを特徴とする（２）に記載のフォトレジスト端面剥離・洗浄装置の構成とした。
（４）
前記薬液が、オゾン水、硫酸・過酸化水素水混合液、弗酸・硝酸混合液又は有機溶剤のいずれかであることを特徴とする（２）又は（３）に記載の
フォトレジスト端面剥離・洗浄装置の構成とした。
（５）
前記保護流体が、水、空気、窒素ガス、アルゴンガス又は有機溶剤のいずれかであることを特徴とする（２）〜（４）の何れかに記載のフォトレジスト端面剥離・洗浄装置の構成とした。

本発明は、以上の構成であるから以下の効果が得られる。第１に、スリットノズルのスリットをマスク端面に押し当てて薬液を噴射し、併せて上方から端部に保護流体を噴射することにより、マスク表面を保護しつつ、端面のみ洗浄することができる。

第２に、薬液のみを使用し、ブラシを使用しないので、マスクにブラシのカス等が付着することはない。薬液がマスク表面に行かないように制御して、端面に噴射するので、効率良くフォトレジストを除去することができる。

本発明は、マスク端面に付着したレジストを、マスク表面を傷付けることなく、薬液のみで除去するという目的を、コの字型に凹んだスリットにマスク端面のフォトレジストを除去する薬液が噴射されるノズルを設置したスリットノズルと、前記スリットノズル上方に設けたマスク端部に保護流体を噴射するシャワーノズルとからなることを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄装置により実現した。

以下に、添付図面に基づいて、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法について詳細に説明する。図１は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置の斜視図である。

フォトレジスト端面剥離・洗浄装置１は、左スリットノズル２、右スリットノズル２ａ、左端部シャワーノズル３、右端部シャワーノズル３ａ、上クランプ４、下クランプ４ａ、マスクホルダー５、表面用シャワーノズル６及び裏面用シャワーノズル６ａ等からなる。

左スリットノズル２及び右スリットノズル２ａは、マスク７側の面をコの字型に溝を設けたスリット２ｂに、マスク７端面のフォトレジストを除去する薬液２ｅが噴射されるノズル２ｃを設置したものである。

左端部シャワーノズル３及び右端部シャワーノズル３ａは、スリットノズル２、２ａの上方に設けたマスク７端部に保護流体３ｂを噴射する穴を複数空けた管である。

上クランプ４及び下クランプ４ａは、マスク７の前端及び後端を上下から挟んで固定する部材である。尚、下クランプ４ａは高さ固定であり、上クランプ４が昇降することにより挟持及び解除を行う。

マスクホルダー５は、マスク７の中心を回転軸として角度を９０度回転させる。尚、回転させる際は、マスクホルダー５はマスク７を支えたまま上昇する。

表面用シャワーノズル６及び裏面用シャワーノズル６ａは、マスク７の後方から前方に向けてマスク７の表面７ａ及び裏面７ｂに保護流体６ｂを流す。尚、保護流体６ｂは、左右端部シャワーノズル３、３ａで噴射する保護流体３ｂと同様のものである。

マスク７は、表面７ａにフォトレジストを塗布した基板である。左端面７ｃ、右端面７ｄ、前端面７ｅ及び後端面７ｆに付着したフォトレジストは不要なので除去する。

マスク７としては、主に６インチの石英基板が使用されるが、半導体基板、ガラス基板又は金属基板等を使用する場合も同様に、端面に付着したフォトレジストを除去することができる。

薬液２ｅとしては、主にオゾン水が使用されるが、硫酸・過酸化水素水混合液（ＳＰＭ）、弗酸（ＨＦ）・硝酸混合液、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）等の有機溶剤を使用して洗浄することもできる。

保護流体３ｂ及び保護流体６ｂとしては、主に純水が使用されるが、空気、窒素ガス若しくはアルゴンガス等のガス流体、又は有機溶剤等を使用して薬液２ｅから保護することもできる。

図２は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の流れを示すフローチャートである。

フォトレジスト端面剥離・洗浄方法８は、マスク搬入８ａ、マスクホルダー下降８ｂ、マスク挟持８ｃ、スリットノズル押当て８ｄ、保護流体噴射８ｅ、薬液噴射８ｆ、スリットノズル退避８ｇ、クランプ解除８ｈ、マスクホルダー上昇８ｉ、マスク９０度回転８ｊ及びマスク搬出８ｋからなる。

まず、マスク搬入８ａからマスクホルダー上昇８ｉまでの工程で、マスク７の左端面７ｃ及び右端面７ｄのフォトレジストを除去する。次に、マスク９０度回転８ｊの工程を行い、マスクホルダー下降８ｂからマスクホルダー上昇８ｉまでの工程で、マスク７の前端面７ｅ及び後端面７ｆのフォトレジストを除去する。最後に、マスク搬出８ｋの工程を行い、最初に戻る。

マスク搬入８ａの工程は、端面にフォトレジストが付着したマスク７を、マスクホルダー５の上に載せる。尚、マスク７をマスクホルダー５に載せる処理を、ロボット等を利用して自動的に行っても良い。

マスクホルダー下降８ｂの工程は、マスクホルダー５を下降させ、マスク７を下クランプ４ａの上に載せる。

マスク挟持８ｃの工程は、上クランプ４を下降させ、マスク７を上クランプ４と下クランプ４ａとで挟んで固定する。

スリットノズル押当て８ｄの工程は、左スリットノズル２を右方向に水平移動させ、マスク７の左端面７ｃに押し当て、また、右スリットノズル２ａを左方向に水平移動させ、マスク７の右端面７ｄに押し当てる。

保護流体噴射８ｅの工程は、左端部シャワーノズル３からマスク７の左端部に保護流体３ｂを噴射し、薬液２ｅがマスク７の表面７ａに掛からないように保護し、また、右端部シャワーノズル３ａからマスク７の右端部に保護流体３ｂを噴射し、薬液２ｅがマスク７の表面７ａに掛からないように保護する。

さらに、表面用シャワーノズル６から保護流体６ｂをマスク７の表面７ａ全体に流し、薬液２ｅから保護すると共に、左端部シャワーノズル３及び右端部シャワーノズル３ａから噴射した保護流体３ｂを一緒に洗い流す。また、裏面用シャワーノズル６ａからも保護流体６ｂをマスク７の裏面７ｂ全体に流し、薬液２ｅから保護する。

薬液噴射８ｆの工程は、左スリットノズル２からマスク７の左端面７ｃ（回転後は前端面７ｅ）に薬液２ｅを噴射し、フォトレジストを除去し、また、右スリットノズル２ａからマスク７の右端面７ｄ（回転後は後端面７ｆ）に薬液２ｅを噴射し、フォトレジストを除去する。

スリットノズル退避８ｇの工程は、端面のフォトレジストを除去した後に、左スリットノズル２を左方向に水平移動させ、また、右スリットノズル２ａを右方向に水平移動させる。

クランプ解除８ｈの工程は、上クランプ４を上昇させ、上クランプ４と下クランプ４ａによるマスク７の固定を解除する。

マスクホルダー上昇８ｉの工程は、マスクホルダー５を上昇させ、マスク７を下クランプ４ａからマスクホルダー５に載せ替え、マスクホルダー５に載せたままマスク７を上方に持ち上げる。

ここで、マスク７の左端面７ｃ及び右端面７ｄしか洗浄していない場合は、マスク９０度回転８ｊの工程を行い、前端面７ｅ及び後端面７ｆまで洗浄した場合は、マスク搬出８ｋの工程を行う。

マスク９０度回転８ｊの工程は、マスクホルダー５を９０度回転させ、マスク７の前端面７ｅを左側（又は右側）の位置に、後端面７ｆを右側（又は左側）の位置に移動させる。尚、回転の向きはどちらでも良い。再度、端面のフォトレジストを除去するために、マスクホルダー下降８ｂの工程から繰り返す。

マスク搬出８ｋの工程は、全ての端面のフォトレジストを除去したマスク７を、マスクホルダー５から取り除く。次に、別のマスク７を洗浄する場合は、マスク搬入８ａの工程から繰り返す。尚、洗浄済みのマスク７を取り除き、未洗浄のマスク７をマスクホルダー５に載せる処理を、ロボット等を利用して自動的に行っても良い。

図３は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク搬入時における装置の正面図である。

マスク７を搬入し、マスクホルダー５の上に載せる。尚、装置は初期状態であり、左右スリットノズル３、３ａは退避しており、上クランプ４及びマスクホルダー５は上昇した状態である。

図４は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー下降時における装置の正面図であり、図５は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー下降時における装置の平面図である。

マスク７が載ったマスクホルダー５を下降させ、マスク７を下クランプ４ａに載せ替える。マスクホルダー５はマスク７を離してそのまま下降し、マスク７は下クランプ４ａの左前クランプピン４ｂ、右前クランプピン４ｃ、左後クランプピン４ｄ及び右後クランプピン４ｅで支えられる。

図６は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク挟持時における装置の正面図である。

上クランプ４を下降させ、上クランプ４と下クランプ４ａとでマスク７を挟み込んで固定する。具体的には、上クランプ４の左前クランプピン４ｂと下クランプ４ａの左前クランプピン４ｂでマスク７の前端左側を挟み、上クランプ４の右前クランプピン４ｃと下クランプ４ａの右前クランプピン４ｃでマスク７の前端右側を挟み、上クランプ４の左後クランプピン４ｄと下クランプ４ａの左後クランプピン４ｄでマスク７の後端左側を挟み、上クランプ４の右後クランプピン４ｅと下クランプ４ａの右後クランプピン４ｅでマスク７の後端右側を挟む。

図７は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のスリットノズル押当て時における装置の正面図である。

左スリットノズル２のスリット２ｂをマスク７の左端面７ｃに押し当て、右スリットノズル２ａのスリット２ｂをマスク７の右端面７ｄに押し当てる。尚、スリット２ｂの入口側の角は斜めにカットしており、カット面でマスク７の端面の角を受ける。

図８は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置の正面図であり、図９は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射（片側供給）時における装置の平面図であり、図１０は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射（両側供給）時における装置の平面図であり、図１１は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射（中央供給）時における装置の平面図である。

左右端部シャワーノズル３、３ａからマスク７端部に保護流体３ｂを噴射して表面７ａに薬液２ｅが掛からないように保護しつつ、左右スリットノズル２、２ａから薬液２ｅを噴射してマスク７の端面のフォトレジストを除去する。

薬液２ｅの供給は、ノズル２ｃの一端を供給口２ｄとして薬液２ｅを供給する片側供給と、ノズル２ｃの両端を供給口２ｄとして薬液２ｅを供給する両側供給と、ノズル２ｃの中央を供給口２ｄとして薬液２ｅを供給する中央供給の方法がある。

図１２は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をＡ−Ａで切断した側面断面図であり、図１３は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をＢ−Ｂで切断した正面断面図であり、図１４は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をＣ−Ｃで切断した平面断面図である。

保護流体３ｂは、マスク７の上方において前方から後方に掛けて配置された左端部シャワーノズル３から噴射されるが、一定の間隔を置いて空けられた複数の穴から噴射されるため、マスク７の左端部に遮断層のようなものを形成し、端面から飛んでくる薬液２ｅを排除することができる。尚、右端部シャワーノズル３ａについても同様である。

また、表面用シャワーノズル６からマスク７の表面７ａに保護流体６ｂを流すことにより、マスク７の表面７ａ全体が保護流体６ｂで覆われ、薬液２ｅから保護することができる。尚、裏面用シャワーノズル６ａについても同様である。

左スリットノズル２は断面がコの字型であり、右側面の中央が前方から後方に掛けて凹んだスリット２ｂを有する。スリット２ｂには、前方から後方に掛けてノズル２ｃが配置されており、一定の間隔を置いて空けられた複数の穴から薬液２ｅが噴射される。尚、右スリットノズル２ａについても左右対称のため同様である。

左スリットノズル２をマスク７の左端面７ｃに押し当てることでスリット２ｂを塞ぎ、薬液２ｅを噴射した際にマスク７の表面７ａに上がらないように防止する。尚、マスク７の端面が押し当てられる箇所は、斜めにカットした面となっており、面と面ではなく、面と角で接するため、しっかりと押さえることができる。

左スリットノズル２の長さは、マスク７の長さよりも長くなっており、はみ出した前部と後部から洗浄済みの薬液２ｅが排出される。尚、排出される際、マスク７の左端面７ｃと前端面７ｅ又は後端面７ｆとの間の角も洗浄することができる。

図１５は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のスリットノズル退避及びクランプ解除時における装置の正面図であり、図１６は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー上昇時における装置の正面図であり、図１７は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク９０度回転時における装置の平面図である。

マスク７の左端面７ｃ及び右端面７ｄのフォトレジストを除去したら、マスク７を９０度回転させて、マスク７の前端面７ｅ及び後端面７ｆのフォトレジストも除去する。４端面全てのフォトレジストを除去したら、マスク７を搬出する。

まず、押し当てていた左右スリットノズル２、２ａを退避し、上クランプ４を上昇させる。マスクホルダー５を上昇させて、マスク７を下クランプ４ａからマスクホルダー５に載せ替え、そのまま上昇させる。

マスク搬入８ａ時と同様の状態となり、マスクホルダー５を９０度回転させることで、マスク７の前端面７ｅ及び後端面７ｆに左右スリットノズル２、２ａを当てることができるようになる。

図１８は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置のマスクの形状が６角形の場合の平面図であり、図１９は、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置のマスクの形状が６角形でスリットノズルの形状がくの字型の場合の平面図である。

マスク７ｇは、正方形だけでなく、六角形など様々な形状のものであっても対応することが可能である。例えば、六角形の場合は、スリットノズル２ｆはそのままで、マスク７を６０度ずつ回転させ、３回の洗浄を行うことで６つの端面のフォトレジストを除去することができる。

また、スリットノズル２ｇをくの字型にして六角形の２端面を一度に洗浄するようにしても良い。まず、左右の４端面を洗浄し、６０度回転させて残りの端面を洗浄することができる。

以上のように、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法は、スリットノズルのスリットをマスク端面に押し当てて薬液を噴射し、併せて上方から端部に保護流体を噴射することにより、マスク表面を保護しつつ、端面のみ洗浄することができる。

また、薬液のみを使用し、ブラシを使用しないので、マスクにブラシのカス等が付着することはない。薬液がマスク表面に行かないように制御して、端面に噴射するので、効率良くフォトレジストを除去することができる。

以下に、本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置及び方法の実施例を示す。薬液２ｅとして、室温で濃度が１００ｍｇ／Ｌのオゾン水を使用する。

フォトレジストの種類が、化学増幅型ポジレジストの場合においては、１分間当たり約３５０ｃｃのオゾン水を、約４５℃に加温して約１５分間噴射した。

また、フォトレジストの種類が、化学増幅型ネガレジストの場合においては、１分間当たり約３５０ｃｃのオゾン水を、約４２℃に加温して約１０分間噴射した。

尚、マスク７の表面７ａには、１分間当たり約１．５Ｌの保護用純水を流し、マスク７の裏面には、１分間当たり約１．０Ｌの保護用純水を流した。

いずれの場合も、フォトレジストの膜厚は約３０００〜９０００オングストロームであり、洗浄後、実体顕微鏡で確認したところ、端面のフォトレジストは除去されていた。

本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置の斜視図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の流れを示すフローチャートである。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク搬入時における装置の正面図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー下降時における装置の正面図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー下降時における装置の平面図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク挟持時における装置の正面図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のスリットノズル押当て時における装置の正面図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置の正面図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射（片側供給）時における装置の平面図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射（両側供給）時における装置の平面図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射（中央供給）時における装置の平面図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をＡ−Ａで切断した側面断面図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をＢ−Ｂで切断した正面断面図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法の保護流体噴射及び薬液噴射時における装置をＣ−Ｃで切断した平面断面図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のスリットノズル退避及びクランプ解除時における装置の正面図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスクホルダー上昇時における装置の正面図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄方法のマスク９０度回転時における装置の平面図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置のマスクの形状が６角形の場合の平面図である。 本発明であるフォトレジスト端面剥離・洗浄装置のマスクの形状が６角形でスリットノズルの形状がくの字型の場合の平面図である。

符号の説明

１ フォトレジスト端面剥離・洗浄装置
２ 左スリットノズル
２ａ 右スリットノズル
２ｂ スリット
２ｃ ノズル
２ｄ 供給口
２ｅ 薬液
２ｆ スリットノズル
２ｇ スリットノズル
３ 左端部シャワーノズル
３ａ 右端部シャワーノズル
３ｂ 保護流体
４ 上クランプ
４ａ 下クランプ
４ｂ 左前クランプピン
４ｃ 右前クランプピン
４ｄ 左後クランプピン
４ｅ 右後クランプピン
５ マスクホルダー
６ 表面用シャワーノズル
６ａ 裏面用シャワーノズル
６ｂ 保護流体
７ マスク
７ａ 表面
７ｂ 裏面
７ｃ 左端面
７ｄ 右端面
７ｅ 前端面
７ｆ 後端面
７ｇ マスク
８ フォトレジスト端面剥離・洗浄方法
８ａ マスク搬入
８ｂ マスクホルダー下降
８ｃ マスク挟持
８ｄ スリットノズル押当て
８ｅ 保護流体噴射
８ｆ 薬液噴射
８ｇ スリットノズル退避
８ｈ クランプ解除
８ｉ マスクホルダー上昇
８ｊ マスク９０度回転
８ｋ マスク搬出

Claims (5)

1. マスクの左端面及び右端面にスリットノズルを押し当て、マスク端部に保護流体を噴射すると共にマスク表面に保護流体を流しつつ、スリットノズルから薬液を噴射してマスク端面のフォトレジストを除去し、マスクを９０度回転させた後、マスクの前端面及び後端面にスリットノズルを押し当て、マスク端部に保護流体を噴射すると共にマスク表面に保護流体を流しつつ、スリットノズルから薬液を噴射してマスク端面のフォトレジストを除去することを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄方法。
2. マスク側の面に形成したスリットにマスク端面のフォトレジストを除去する薬液が噴射されるノズルを設置し、マスク端面のフォトレジストを除去する際に前記マスクの左右端面に押し当てられる左右スリットノズルと、
   前記マスク端部に保護流体を噴射するシャワーノズルと、
   前記マスク表面に保護流体を流す表面用シャワーノズルと、
   前記マスク裏面に保護流体を流す裏面用シャワーノズルと、
   前記マスクの左右端面のフォトレジストを除去した後に前記マスクの他の端面が前記左右スリットノズルに位置するまで前記マスクを回転させるマスクホルダーと、
   からなることを特徴とするフォトレジスト端面剥離・洗浄装置。
3. 前記左右スリットノズルの前記スリット入口側のマスクに押し当てられる箇所は斜めにカットした面とし、前記押し当てが、前記マスク端面の角と前記スリットノズルの斜めにカットされた面とが接することを特徴とする請求項２に記載のフォトレジスト端面剥離・洗浄装置。
4. 前記薬液が、オゾン水、硫酸・過酸化水素水混合液、弗酸・硝酸混合液又は有機溶剤のいずれかであることを特徴とする請求項２又は請求項３に記載のフォトレジスト端面剥離・洗浄装置。
5. 前記保護流体が、水、空気、窒素ガス、アルゴンガス又は有機溶剤のいずれかであることを特徴とする請求項２〜請求項４の何れか１項に記載のフォトレジスト端面剥離・洗浄装置。

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