JP2003187587A - 半導体記憶装置および情報機器 - Google Patents

半導体記憶装置および情報機器

Info

Publication number
JP2003187587A
JP2003187587A JP2001385152A JP2001385152A JP2003187587A JP 2003187587 A JP2003187587 A JP 2003187587A JP 2001385152 A JP2001385152 A JP 2001385152A JP 2001385152 A JP2001385152 A JP 2001385152A JP 2003187587 A JP2003187587 A JP 2003187587A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
word line
signal
redundant
normal
reference cell
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001385152A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3983048B2 (ja
Inventor
Kaname Yamano
要 山野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2001385152A priority Critical patent/JP3983048B2/ja
Priority to TW091134488A priority patent/TW578162B/zh
Priority to US10/308,835 priority patent/US6751131B2/en
Priority to SG200207468-0A priority patent/SG131754A1/en
Priority to DE60223894T priority patent/DE60223894T8/de
Priority to EP02258576A priority patent/EP1321945B1/en
Priority to KR10-2002-0079412A priority patent/KR100459604B1/ko
Priority to CNB021563616A priority patent/CN1288665C/zh
Publication of JP2003187587A publication Critical patent/JP2003187587A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3983048B2 publication Critical patent/JP3983048B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/08Address circuits; Decoders; Word-line control circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/26Sensing or reading circuits; Data output circuits
    • G11C16/28Sensing or reading circuits; Data output circuits using differential sensing or reference cells, e.g. dummy cells
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/08Word line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, for word lines

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】誤動作することなくリードアクセス時間を短縮
する。 【解決手段】メモリセル読み出し時に使用するリファレ
ンスセル用ワード線RWL0,RWL1のように例えば
2本用意し、各々のワード線には同じ閾値のリファレン
スセルRC0,RC1をそれぞれ接続する。それぞれの
各リファレンスセルRC0,RC1のビット線は共通と
する。リファレンスセル用ワード線RWL0は、メモリ
アレイMAの冗長でないメモリアレイ通常ワード線MW
Lが選択された場合に活性化するワード線とする。一
方、リファレンスセル用RWL1はメモリアレイ冗長ワ
ード線ReWLが選択された場合に活性化するワード線
とする。これによって、データの読み出し時に、リファ
レンスセル用ワード線RWL0(またはリファレンスセ
ル用ワード線RWL1)とメモリアレイ通常ワード線M
WL(またはメモリアレイ通常ワード線ReWL)との
電位が同期して立上がる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電気的にデータを
書き換え可能な不揮発性メモリ、例えばフラッシュEE
PROMなどの半導体記憶装置およびこれを用いた携帯
電話装置などの情報機器に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、電気的にデータを書き換え可能な
不揮発性半導体記憶装置(不揮発性メモリ)、例えばフ
ラッシュEEPROMのデータ読出動作は、図8に示す
ように、リファレンスセルと呼ばれる所定閾値に設定さ
れたメモリセルRC0と、データの読出動作を行うメモ
リアレイのメモリセルMC0とに、同じドレイン電圧を
印加すると共に、リファレンスワード線デコーダと通常
ワード線デコーダにより同じゲート電圧を印加して各々
のメモリセルRC0,MC0にそれぞれ流れる電流値の
差をセンスアンプS/Aで増幅し、その結果を記憶デー
タとして読み出すものである。
【0003】これまでのリファレンスセルRC0へのゲ
ート電圧印加方式として、デバイスに電源電圧が投入さ
れている間常時、リファレンスセルRC0にゲート電圧
が印加される方式(図9〜図11)や、データ読出時に
動作するATD信号に従ってリファレンスセルRC0に
ゲート電圧を印加する方式(図12〜図14)などが採
用されている。以下、これらの各方式についてそれぞれ
具体的に説明する。
【0004】図9は、従来の不揮発性半導体記憶装置の
要部構成例を示すブロック図である。図9では、電源電
圧を投入した状態において、常時、リファレンスセルR
C0,RC1とリファレンスセルRC2の各ワード線に
電圧を印加す方式を示している。
【0005】図9において、不揮発性半導体記憶装置1
0は、複数のリファレンスセルRC0〜RC2で構成さ
れたメモリセルアレイRA(以下リファレンスアレイR
Aという)と、リファレンスセル用ワード線制御回路を
構成するレベルシフタLS0,LS1と、データ記憶領
域であるメモリセルアレイMA(以下メモリアレイMA
という)と、通常ワード線プリデコーダXPDECと、
通常ワード線デコーダXDECと、冗長ワード線プリデ
コーダXPRDECと、冗長ワード線デコーダXRDE
Cとを備えている。
【0006】リファレンスアレイRAには、データ読出
動作時に使用するリファレンスセルRC0と、消去ベリ
ファイ時に使用するリファレンスセルRC1と、データ
書込動作時のベリファイ時に使用するリファレンスセル
RC2とがそれぞれ配置されている。リファレンスセル
RC0,RC1のゲートにはリファレンスセル用ワード
線RWL0が接続され、リファレンスセルRC2のゲー
トにはリファレンスセル用ワード線RWL1が接続され
ている。また、リファレンスセルRC0のドレインには
ビット線RBL0が接続され、リファレンスセルRC1
のドレインにはビット線RBL1が接続され、リファレ
ンスセルRC2のドレインにはビット線RBL2が接続
され、さらに、リファレンスセルRC0〜RC2の各ソ
ースは全て共通ソース線RHSに接続されている。
【0007】レベルシフタLS0,LS1はそれぞれワ
ード線用ノード電圧HWLによって電源供給されてい
る。レベルシフタLS0はリファレンスセル選択信号S
EL0を入力とし、リファレンスセル用ワード線RWL
0に電圧出力してワード線RWLを選択する。また、レ
ベルシフタLS1はリファレンスセル選択信号SEL1
を入力とし、リファレンスセル用ワード線RWL1に電
圧出力してワード線RWL1を選択する。これらのリフ
ァレンスセル選択信号SEL0,SEL1は排他的に動
作し、何れか一方がオン(電源電圧VCC時など)し、
他方がオフする。例えばリファレンスセル選択信号SE
L0がオンした場合にはリファレンスセル用ワード線R
WL0の電位が立ち上がってリファレンスセル用ワード
線RWL0が選択され、また、リファレンスセル選択信
号SEL1がオンした場合にはリファレンスセル用ワー
ド線RWL1の電位が立ち上がってリファレンスセル用
ワード線RWL1が選択される。
【0008】メモリアレイMAには、行方向および列方
向にマトリクス状に複数のメモリセルが記憶素子として
配置されているが、ここでは説明を簡略化するために、
メモリセルMC0,MC1を一例に説明する。メモリセ
ルMC0のゲートにはメモリアレイ通常ワード線MWL
が接続され、メモリセルMC1のゲートにはメモリアレ
イ冗長ワード線ReWLが接続されている。メモリセル
MC0,MC1の各ドレインにはビット線MBLが共通
接続され、メモリセルMC0,MC1の各ソースにはソ
ース線MHSが接続されている。これらのソース線RH
S,MHSはそれぞれ通常接地レベルに保たれるが、テ
ストモード時など特別なモード時において、例えば消去
モードとする場合にはソース線RHS,MHSは高電圧
に制御される。
【0009】通常ワード線プリデコーダXPDECに
は、アドレス信号ADDおよびワード線イネーブルAT
D信号SPWが入力されると共に、冗長判定信号MDが
入力され、これらの信号に応じて通常ワード線選択信号
SXを通常ワード線デコーダXDECに出力する。
【0010】通常ワード線デコーダXDECは、ワード
線用ノード電圧HWLによって電源供給されている。ま
た、通常ワード線デコーダXDECは、通常ワード線プ
リデコーダXPDECからの出力である通常ワード線選
択信号SXが入力され、通常ワード線選択信号SXに応
じて所定のメモリアレイ通常ワード線MWLに電圧出力
して所定のメモリアレイ通常ワード線MWLを選択す
る。
【0011】冗長ワード線プリデコーダXPRDECに
は、アドレス信号ADD、ワード線イネーブルATD信
号SPWおよび冗長ワード線アドレス信号BADDが入
力され、これらの信号に応じて、冗長判定信号MDを通
常ワード線プリデコーダXPDECに出力すると共に、
冗長ワード線選択信号RXを冗長ワード線デコーダXR
DECに出力する。
【0012】冗長ワード線デコーダXRDECは、ワー
ド線用ノード電圧HWLによって電源供給されている。
また、冗長ワード線デコーダXRDECは、冗長ワード
線プリデコーダXPRDECの出力である冗長ワード線
選択信号RXが入力され、冗長ワード線選択信号RXに
応じて所定のメモリアレイ冗長ワード線ReWLに電圧
出力して所定のメモリアレイ冗長ワード線ReWLを選
択する。
【0013】ここで、冗長でないメモリアレイ通常ワー
ド線を選択した場合のリファレンスセル用ワード線制御
回路とメモリアレイ用通常ワード線制御回路およびメモ
リアレイ用冗長ワード線制御回路とによる各ワード線の
選択動作について、以下、図10のタイミングチャート
に従って説明する。
【0014】図10では、上から順番に、電源電圧VC
C、ワード線用ノード電圧HWL、デバイスを活性化す
る制御信号であるチップイネーブル信号CE#、データ
出力を許可する制御信号である出力イネーブル信号OE
#、アドレス遷移検出回路(図示せず)からの出力信号
であるワード線イネーブルATD信号SPW、リファレ
ンスセル用ワード線RWL0の電位、通常ワード線選択
信号SX、メモリアレイ通常ワード線MWLの電位、メ
モリアレイ冗長ワード線ReWLの電位を示している。
これらのチップイネーブル信号CE#および出力イネー
ブル信号OE#は、両信号とも接地レベルにすることで
データ読出動作が可能になる。なお、これらのチップイ
ネーブル信号CE#および出力イネーブル信号OE#は
半導体メモリの一般的な制御信号であるから、図9のブ
ロック図では省いている。
【0015】電気的にデータを書き換え可能なメモリ、
例えばフラッシュEEPROMのような不揮発性半導体
記憶装置10は、電源電圧投入直後においてデータの書
込コマンドや消去コマンドを発行しない限り、データ読
出状態であるのが一般的である。つまり、半導体チップ
を活性化させるチップイネーブル信号CE#と、出力パ
ッドからの出力を許可する出力イネーブル信号OE#と
を接地レベルにすることにより、メモリセルMC0の記
憶情報を読み出すことができる。
【0016】図10に示すように、まず、時刻t0にデ
バイスに対して電源を投入すると、電源電圧VCCは立
ち上がり始める。その後の時刻t1からデータの読み出
しに用いるワード線用ノード電圧HWLが立ち上がり始
める。
【0017】このとき、リファレンスセルRC0のリフ
ァレンスセル選択信号SEL0はオンであり、リファレ
ンスセル選択信号SEL1はオフ(接地レベル)になっ
ているので、レベルシフタLS0を介してリファレンス
セルRC0のワード線RWL0はワード線用ノード電圧
HWL(DC5V程度)にチャージされる。また、ビッ
ト線RBL0が選択され、リファレンスセルRC0の共
通ソース線RHSは接地レベルに制御されている。この
電圧制御状態は、読み出しコマンドが発行された場合も
同様である。
【0018】さらに、デバイスは電源電圧VCCを投入
した直後の時刻t2で、データ読出可能状態であるから
チップイネーブル信号CE#および出力イネーブル信号
OE#を接地レベルに下げることでデータの読み出しが
行われる。
【0019】さらに、時刻t3において、チップイネー
ブルCE#の接地レベルに反応してワード線イネーブル
ATD信号SPWが立ち上がり、次の時刻t4で通常ワ
ード線選択信号SXが立ち上がって電源電圧レベルにな
る。
【0020】さらに、時刻t5で、通常ワード線選択信
号SXの立上りによって所定のメモリアレイ通常ワード
線MWLの電位が立ち上がる。なお、ここでは、メモリ
アレイ冗長ワード線ReWLを選択しない場合であるか
ら、メモリアレイ冗長ワード線ReWLの電位は接地レ
ベルのままである。
【0021】しばらくして、データの読み出しが終了す
ると、時刻t6でワード線イネーブルATD信号SPW
が接地レベルに降下する。これに従って、時刻t7でメ
モリアレイ通常ワード線MWLの電位も接地レベルに降
下する。このときにも、リファレンスセルRC0のリフ
ァレンスセル用ワード線RWL0は終始立ち上がったま
まである。
【0022】次に、冗長ワード線が選択される場合のリ
ファレンスセル用ワード線制御回路とメモリアレイ用通
常ワード線制御回路およびメモリアレイ用冗長ワード線
制御回路とによる各ワード線選択動作について、以下、
図11のタイミングチャートに従って説明する。図11
では、前述した各種信号に、冗長判断信号MDおよび冗
長ワード線選択信号RXを加えると共に、メモリアレイ
通常ワード線MWLが冗長ワード線と置き換えるべきワ
ード線であると仮定する。時刻t0〜時刻t3までは図
10の場合と全く同じであるので、ここではその説明を
省略し、時刻t4からそのワード線選択動作を説明す
る。
【0023】図11に示すように、ワード線イネーブル
ATD信号SPWが立ち上がってしばらくすると、時刻
t4で通常ワード線選択信号SXが立ち上がって電源電
圧レベルになり、メモリアレイ通常ワード線MWLの電
位が立ち上がりかける。ところが、すぐに冗長判断信号
MDが発行されるので、冗長判断信号MDを通常ワード
線プリデコーダXPDECが受けて通常ワード線選択信
号SXを接地レベルに戻し、通常ワード線選択信号SX
を通常ワード線デコーダXDECが受けてメモリアレイ
通常ワード線MWLの電位を接地レベルに戻す。
【0024】これとほぼ同時(時刻t5)に、冗長ワー
ド線プリデコーダXPRDECからの冗長ワード線選択
信号RXが電源電圧レベルになり、メモリアレイ通常ワ
ード線MWLの代わりに、置き換わったメモリアレイ冗
長ワード線ReWLの電位が立ち上がる。
【0025】ここで、メモリアレイ通常ワード線MWL
の電位が立ち上がりかけてから、メモリアレイ冗長ワー
ド線ReWLに切り替わるのは、冗長ワード線プリデコ
ーダXPRDECで置き換えるかどうかを判断している
間に、通常ワード線プリデコーダXPDECが通常ワー
ド線選択信号SXを発行してしまい、冗長判断信号MD
が通常ワード線選択信号SXをキャンセルするのに多少
の時間を要してしまうからである。
【0026】さらに、データの読み出しが終了すると、
時刻t6でワード線イネーブルATD信号SPWはロー
レベル(GNDレベル)となる。これによって時刻t7
で冗長ワード線選択信号RXが立ち下がることによりメ
モリアレイ冗長ワード線ReWLの電位は接地レベルに
降下する。
【0027】ここで、図9では、消去ベリファイ時に使
用するリファレンスセルRC1、データ書込時のベリフ
ァイ時に使用するリファレンスセルRC2も配置してい
る。これらについても簡単にその動作を説明する。
【0028】即ち、メモリアレイMAヘのデータの書込
動作が行われる場合、データの書込が正常であるかどう
かを判定するため、ベリファイ動作が働くが、このと
き、リファレンスセル選択信号SEL1がオン(ハイレ
ベル)となり、リファレンスセル選択信号SEL0はオ
フ(ローレベル)となる。また、このとき、ビット線R
BL2が選択され、データ読出用のリファレンスセルR
C0のビット線RBL0は非選択になる。これによっ
て、リファレンスセルRC2にアクセスすることができ
る。一方、共通ソース線RHSは接地レベルであり、ワ
ード線用ノード電圧HWLを例えば6V程度に昇圧して
ベリファイ動作を行う。
【0029】また、メモリアレイMAに対して消去動作
を行う場合にも、消去処理が正常に行われたかどうかを
判定するベリファイ動作が行われる。この場合、リファ
レンスセル選択信号SEL0がオン(ハイレベル)とな
り、リファレンスセル選択信号SEL1はオフ(ローレ
ベル)になる。この場合には、ビット線RBL1が選択
され、消去ベリファイ用のリファレンスセルRC1にア
クセスすることができる。一方、共通ソース線RHSは
書き込みベリファイ時と同様に接地レベルであり、ワー
ド線用ノード電圧HWLを例えば5V程度に昇圧してベ
リファイ動作を行う。
【0030】図12は、従来の不揮発性半導体記憶装置
の別の要部構成例を示すブロック図である。図12で
は、データ読出時に動作するワード線イネーブルATD
信号SPWに従ってリファレンスセルRCのリファレン
スワード線RWLに電圧を印加する方式を示している。
【0031】図12において、不揮発性半導体記憶装置
11は、リファレンスセルRCを有するメモリセルアレ
イRA(以下リファレンスアレイRAという)と、リフ
ァレンスワード線制御回路CUと、データ記憶領域であ
るメモリセルアレイMA(以下メモリアレイMAとい
う)と、通常ワード線プリデコーダXPDECと、通常
ワード線デコーダXDECと、冗長ワード線プリデコー
ダXPRDECと、冗長ワード線デコーダXRDECと
を備えている。なお、メモリアレイ通常ワード線MW
L、メモリアレイ冗長ワード線ReWLを選択制御する
回路系、メモリアレイMAの回路構成については、図9
の場合と動作が全く同じであるからここではその説明を
省略する。
【0032】リファレンスアレイRAには、データ読出
用のリファレンスセルRCが配置されている。リファレ
ンスセルRCのゲートにはリファレンスワード線RWL
が接続され、リファレンスセルRCのドレインにはビッ
ト線RBLが接続され、リファレンスセルRCのソース
にはソース線RHSが接続されている。このソース線R
HSは通常、接地レベルに保たれるが、テストモードな
ど特別なモード時において、例えば消去する場合にはソ
ース線RHSは高電圧に制御される。なお、ここで、図
12ではデータ読出用のリファレンスセルRCだけを配
置しているが、データ書込や消去のベリファイ処理で使
用する各リファレンスセルは別に設けた他のリファレン
スアレイに配置してもよいし、図12中のリファレンス
アレイRA内に別のリファレンスワード線などと共に追
加して配置してもよい。ここでは、データ読出用のリフ
ァレンスセルRCに着目して説明するため、データ書込
みや消去のベリファイ処理で使用する各リファレンスセ
ルおよび、これらリファレンスセルを制御する配線およ
びその制御回路についてはその説明を省略するものとす
る。
【0033】リファレンスワード線制御回路CUはワー
ド線用ノード電圧HWLによって電源供給されている。
リファレンスワード線制御回路CUはリファレンスワー
ド線RWLの電位を制御する回路であり、データ読出時
に発行されるワード線イネーブルATD信号SPW、テ
ストモ−ド時などに強制的にリファレンスワード線RW
Lを選択制御するテスト時ワード線選択信号SDが入力
され、これらの信号に応じて、所定のリファレンスワー
ド線RWLに電圧出力して所定のリファレンスセル用ワ
ード線RWLを選択する。
【0034】ここで、冗長でない通常ワード線が選択さ
れた場合のリファレンスワード線制御回路とメモリアレ
イ通常ワード線制御回路およびメモリアレイ冗長ワード
線制御回路とによる各ワード線の選択動作について、以
下、図13のタイミングチャートに従って説明する。
【0035】図13においても、図10の場合と同様
に、上から順番に、電源電圧VCC、ワード線用ノード
電圧HWL、デバイスに対して読出動作や書込動作を可
能にする入力制御信号であるチップイネーブル信号CE
#(接地レベルでデバイスが動作可能となる。)、出力
イネーブル信号OE#(接地レベルでデータ読出が可能
となる。)、ワード線イネーブルATD信号SPW、リ
ファレンスセル用ワード線RWLの電位、通常ワード線
選択信号SX,メモリアレイ通常ワード線MWLの電
位、メモリアレイ冗長ワード線ReWLの電位である。
【0036】図13に示すように、まず、時刻t0でデ
バイスに電源を投入し、電源電圧VCCが立ち上がり始
める。さらに、時刻t1からデータ読出用のワード線用
ノード電圧HWLが立ち上がり始める。
【0037】さらに、時刻t2において、フラッシュE
EPROMなどの不揮発性半導体記憶装置11では、電
源を投入した直後、読み出し可能状態であるからチップ
イネーブル信号CE#を接地レベルに立ち下げることで
データ読出動作が行われる。
【0038】さらに、チップイネーブルCE#の立下り
に反応して、時刻t3でワード線イネーブルATD信号
SPWが立ち上がる。これを受けて、リファレンスセル
用ワード線RWLがワード線用ノード電圧HWLにチャ
ージされるのと同時(時刻t4)に、通常ワード線プリ
デコーダXPDECが通常ワード線選択信号SXを発行
する。
【0039】さらに、時刻t5で、通常ワード線選択信
号SXの出力によって通常ワード線デコーダXPDEC
がメモリアレイ通常ワード線MWLの電位を立ち上げ
る。メモリアレイ通常ワード線MWLの電位はデコード
動作を伴っているために、リファレンスセル用ワード線
RWLの電位よりも若干遅れて立ち上がっている。
【0040】しばらくして、データ読出が終了すると、
時刻t6においてワード線イネーブルATD信号SPW
が接地レベルに降下する。これに従って、時刻t7でリ
ファレンスセル用ワード線RWLおよびメモリアレイ通
常ワード線MWLも接地レベルに降下する。
【0041】次に、冗長ワード線が選択される場合のリ
ファレンスセル用ワード線制御回路とメモリアレイ通常
ワード線制御回路およびメモリアレイ冗長ワード線制御
回路とによる各ワード線の選択動作について、以下、図
14のタイミングチャートに従って説明する。図14で
は、前述した各種信号に、冗長判断信号MD、冗長ワー
ド線選択信号RXを加えると共に、メモリアレイ通常ワ
ード線MWLが冗長ワード線と置き換えるべきワード線
であると仮定する。時刻t0〜時刻t3までは図13の
場合と動作が全く同じであるので、ここではその説明を
省略し、時刻t4からそのワード線選択動作について説
明する。
【0042】図13に示すように、ワード線イネーブル
ATD信号SPWが立ち上がってしばらくすると、時刻
t4で通常ワード線選択信号SXが電源電圧レベルにな
り、メモリアレイ通常ワード線MWLの電位が立ち上が
りかける。ところが、すぐに冗長判断信号MDが発行さ
れるので、これを受けて、時刻t5において、通常ワー
ド線選択信号SXが接地レベルに戻り、これを受けてメ
モリアレイ通常ワード線MWLの電位も接地レベルに戻
る。
【0043】これとほぼ同時(時刻t5)に、冗長ワー
ド線選択信号RXが立ち上がって電源電圧レベルにな
り、メモリアレイ通常ワード線MWLに代わって、置き
換わったメモリアレイ冗長ワード線ReWLの電位が立
ち上がる。ここで、メモリアレイ通常ワード線MWLの
電位が立ち上がりかけるのは図11の場合と同様であ
る。
【0044】さらに、データ読出が終了すると、時刻t
6でワード線イネーブルATD信号SPWがローレベル
になる。これに伴って、時刻t7において、冗長ワード
線選択信号RXと共にリファレンスワード線RWLの電
位が接地電圧レベルに立ち下がってメモリアレイ冗長ワ
ード線ReWLの電位も接地電圧レベルに降下する。
【0045】
【発明が解決しようとする課題】近年、半導体記憶装置
に印加する電源電圧レベルは下がる傾向にあるにも関わ
らず、メモリセルの記憶情報の読み出しには更なる高速
化が要求されている。メモリセルからの記憶情報の読み
出しは、例えば図12ではリファレンスセルRCと、デ
ータを読み出すべきメモリセルMC0のゲート電極に同
じ電圧を印加して、両者に流れる電流の差を、差動増幅
器で構成されるセンスアンプS/Aなどでセンスするこ
とによりデータの読出しを行っている。
【0046】即ち、リファレンスアレイのワード線とメ
モリアレイのワード線とが完全に所定の電圧に立ち上が
るのを待ってから、センスを開始するのが誤読み出しの
危険がなく安全である。ところが、リファレンスアレイ
およびメモリアレイの各ワード線が所望の電圧レベルに
達するのを待っていては、読出アクセスタイムの高速化
を達成できないことが多い。したがって、両ワード線の
電位が完全に立ち上がる前からセンスアンプS/Aを動
作させてセンスを行い、アクセスの高速化を実現してい
るケースが殆どである。
【0047】しかしながら、図9および図12の従来技
術においては、メモリアレイ通常ワード線MWLの電位
の立ち上がりよりもリファレンスセル用ワード線RWL
の電位が先に立ち上がっている。これが原因で起こる問
題を、図15〜図17(a)および図17(b)を用い
て、以下に詳細に説明する。
【0048】図15は、フラッシュメモリのような不揮
発性メモリのリファレンスセルRCを左側に、メモリセ
ルMCを右側に示したものである。図15に示すよう
に、スリファレンスセルRCに印加されるゲート電圧を
VgsRとすると、このゲート電圧VgsRは、図9の
リファレンスセル用ワード線RWL0に出力される出力
電圧に相当し、また、図12のリファレンスセル用ワー
ド線RWLに出力される出力電圧にも相当する。リファ
レンスセルRCのドレイン−ソース間には電流IdsR
が流れる。一方、メモリセルMCに印加されるゲート電
圧をVgsMとすると、このゲート電圧VgsMは図9
および図12のメモリアレイ通常ワード線MWLやメモ
リアレイ冗長ワード線ReWLに出力される各出力電圧
に相当する。メモリセルMCのドレイン−ソース間には
電流IdsMが流れる。
【0049】図16は横軸を時間t、縦軸を電圧レベル
Vとした場合の各メモリセルRC,MCからのデータ読
出中の各ワード線電圧レベルVgsR,VgsMを示し
ている。ここでは、センス開始時刻をt(a)、リファ
レンスセルRCのリファレンスセル用ワード線RWLと
メモリセルMCのメモリアレイ通常ワード線MWL(ま
たはメモリアレイ冗長ワード線ReWL)の各電圧レベ
ルが共に所定電圧レベルに一致する時刻をt(b)とし
ている。このセンス開始時刻t(a)では、リファレン
スセルRCのワード線電圧レベルVgsRは、図9およ
び図12の何れの場合でも常に所定電圧レベルに達して
いるものとする。
【0050】図17(a)は、図16に設定したメモリ
アレイ通常ワード線MWLの電位またはメモリアレイ冗
長ワード線ReWLの電位が完全に所定電圧に立ち上が
る以前のセンス開始時刻t(a)において、リファレン
スセルRCおよびメモリセルMCの各ゲート電極に印加
する各ゲート電圧をVgsとして横軸に示すと共に、そ
れぞれの各セルのドレイン−ソース間に流れる電流Id
sを縦軸に示した場合の特性を示している。
【0051】図17(b)は、図16に設定したメモリ
アレイ通常ワード線MWLの電位またはメモリアレイ冗
長ワード線ReWLの電位が完全に所定電圧に立ち上が
った後の時刻t(b)において、図17(a)の場合と
同様に、ゲート電圧Vgs(横軸)に対するリファレン
スセルRCとメモリセルMCに流れる電流Ids(縦
軸)を示している。
【0052】ここで、リファレンスセルRCよりも、デ
ータを読み出すメモリセルMCの方が電流を流す(閾値
が低い)場合の読み出しに悪影響を及ぼすので、このケ
ースに着目して説明する。
【0053】即ち、図16に示したセンス開始時刻t
(a)の直後には、リファレンスセルRCに印加される
リファレンスセル用ワード線RWLの電圧VgsRは略
所定電圧であるが、データを読み出すべきメモリセルM
Cのゲートに印加されるメモリアレイ通常ワード線MW
L(またはメモリアレイ冗長ワード線ReWL)の電圧
VgsMは、リファレンスセルRCに印加されるワード
線電圧VgsRよりも低い(t(a);VgsR>Vg
sM)。このとき、リファレンスセルRCに流れる電流
IdsRとメモリセルMCに流れる電流IdsMとの差
△Ids(a)は、図17(a)に示すように限りなく
小さくなるため、センスアンプS/Aにて正確にセンス
できずに誤動作して、間違ったデータを出力する虞があ
る。
【0054】これに対して、図16に示した時刻t
(b)では、リファレンスセルRCのゲートと、データ
を読み出すべきメモリセルMCのゲートとに印加される
各ワード線電圧VgsR,VgsMは同じ所定電圧に収
束する(t(b);VgsR=VgsM)。このとき、
リファレンスセルRCに流れる電流値IdsRとメモリ
セルMCに流れる電流値IdsMとの差△ids(b)
は拡がり、センスアンプS/Aにて正確にセンスできる
ようになる。このため、誤動作なく正しいデータを出力
することができる。
【0055】ところが、センス開始直後(時刻t
(a))に間違ったデータを一旦出力してしまうと、正
しいデータを出力するのに余分な時間を要することが多
い。このことは、特に冗長ワード線を選択する場合に顕
著に表れる。これは前述した通りであり、通常ワード線
から置き換えられるべき冗長ワード線に切り替わるの
に、ある程度の時間がかかるためである。
【0056】本発明は、上記事情に鑑みて為されたもの
で、誤動作することなくリードアクセス時間を短縮でき
る半導体記憶装置およびこれを用いた情報機器を提供す
ることを目的とする。
【0057】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、複数のメモリセルを含むメモリアレイと、複数のリ
ファレンスセルを含むリファレンスアレイと、アドレス
情報に基づいて所定のメモリセルとリファレンスセルを
選択制御するデコード手段と、このデコード手段で選択
したメモリセルからの読出電圧レベルとデコード手段で
選択したリファレンスセルからの読出電圧レベルを比較
してデータ出力する比較出力手段とを備えた半導体記憶
装置において、デコード手段はメモリセルおよびリファ
レンスセルの各ワード線への各選択信号を同時に出力す
るものであり、そのことにより上記目的が達成される。
【0058】また、好ましくは、本発明の半導体記憶装
置におけるメモリアレイは、通常ワード線毎にそれぞれ
接続される一または複数のメモリセルおよび、冗長ワー
ド線毎にそれぞれ接続される一または複数のメモリセル
を含み、リファレンスアレイは、通常ワード線に接続さ
れるメモリセルと比較される第1リファレンスセルおよ
び、冗長ワード線に接続されるメモリセルと比較される
第2リファレンスセルを含む。
【0059】さらに、好ましくは、本発明の半導体記憶
装置におけるデコード手段は、通常ワード線が選択され
る場合には、第1リファレンスセルに接続される第1ワ
ード線を通常ワード線と同時に選択制御し、冗長ワード
線が選択される場合には、第2リファレンスセルに接続
される第2ワード線を冗長ワード線と同時に選択制御す
る。
【0060】さらに、好ましくは、本発明の半導体記憶
装置におけるデコード手段は、アドレス情報に基づいて
通常ワード線および冗長ワード線の何れを選択すべきか
を判定する選択判定手段と、通常ワード線の選択判定時
にアドレス情報に応じた通常ワード線を選択する通常ワ
ード線制御手段と、冗長ワード線の選択判定時にアドレ
ス情報に応じた冗長ワード線を選択する冗長ワード線制
御手段と、通常ワード線選択判定時に第1ワード線を選
択する第1リファレンスワード線制御手段と、冗長ワー
ド線選択判定時に第2ワード線を選択する第2リファレ
ンスワード線制御手段とを有する。
【0061】さらに、好ましくは、本発明の半導体記憶
装置における第1リファレンスワード線制御手段は、通
常ワード線の選択判定時に通常ワード線の選択信号また
はこれを示す信号が入力され、この通常ワード線の選択
信号またはこれを示す信号をトリガとして第1ワード線
を選択し、第2リファレンスワード線制御手段は、冗長
ワード線の選択判定時に冗長ワード線の選択信号または
これを示す信号が入力され、この冗長ワード線の選択信
号またはこれを示す信号をトリガとして第2ワード線を
選択する。
【0062】さらに、好ましくは、本発明の半導体記憶
装置における第1リファレンスワード線制御手段は第1
テスト信号が入力可能であり、この第1テスト信号によ
って第1リファレンスセルを強制選択し、第2リファレ
ンスワード線制御手段は第2テスト信号が入力可能であ
り、この第2テスト信号によって第2リファレンスセル
を強制選択する。
【0063】さらに、好ましくは、本発明の半導体記憶
装置における第1リファレンスワード線制御手段および
第2リファレンスワード線制御手段の何れにも、アドレ
ス情報の変化を検知して出力されたアドレス遷移検知信
号を入力可能とし、このアドレス遷移検知信号の入力時
にリファレンスワード線制御を可能とする。
【0064】さらに、好ましくは、本発明の半導体記憶
装置における第1リファレンスセルと第2リファレンス
セルは同一の閾値に設定されている。
【0065】さらに、好ましくは、本発明の半導体記憶
装置における第1リファレンスセルと第2リファレンス
セルは同一のビット線に共通接続されている。
【0066】さらに、好ましくは、本発明の半導体記憶
装置における第1リファレンスセルに接続される第1ワ
ード線および、第2リファレンスセルに接続される第2
ワード線の各負荷容量はそれぞれ、通常ワード線および
冗長ワード線の各負荷容量とそれぞれ同一である。ま
た、これらの第1ワード線、第2ワード線、通常ワード
線および冗長ワード線の各負荷容量が全て同一であって
もよい。
【0067】本発明の情報機器は、請求項1〜10の何
れかに記載の半導体記憶装置を用いてデータ読出動作を
行うものであり、そのことにより上記目的が達成され
る。
【0068】上記構成により、以下、その動作を説明す
る。
【0069】所望のメモリセルに対するデータの読み出
しにおいて、冗長ワード線ではない通常ワード線を選択
した場合には、リファレンスアレイでは、冗長ワード線
ではない通常ワード線が選択された場合のワード線の電
位が、メモリアレイの通常ワード線を選択する選択信号
と同期して同時に立ち上がる。また、冗長に置き換えら
れるべきワード線を選択した場合には、リファレンスア
レイでは冗長ワード線が選択された場合のワード線の電
位が、上記と同様に、メモリアレイの冗長ワード線を選
択する選択信号と同期して同時に立ち上がる。
【0070】このようにして、リファレンスセルのワー
ド線の電位と、データを読み出すべきメモリセルのワー
ド線の電位とは同期して同時に立ち上がる。したがっ
て、メモリセルのデータ読出し時において、両ワード線
の電位が共に完全に立ち上がるのを待たなくてもよくな
り、誤動作することなくリードアクセス時間を更に短縮
化することが可能となる。このようなデータ読出速度の
高速化によって、センスマージンを大幅に確保すること
も可能となる。
【0071】また、リファレンスアレイの第1ワード線
または第2ワード線と、メモリアレイの通常ワード線ま
たは冗長ワード線とは、両負荷容量が同じであるので、
両ワード線の立ち上がり時間も更に同一になって、より
誤動作なくリードアクセス時間の更なる短縮を図ること
が可能になる。
【0072】さらに、本発明の半導体記憶装置を容易に
情報機器に用いることが可能となり、データ読出動作に
際して本発明の高速読出効果を奏することが可能とな
る。
【0073】
【発明の実施の形態】以下、本発明の半導体記憶装置の
実施形態を、例えば情報機器に用いる不揮発性半導体記
憶装置に適用させた場合ついて図面を参照しながら説明
する。
【0074】図1は、本発明の不揮発性半導体記憶装置
の一実施形態における基本構成例を示すブロック図であ
る。
【0075】図1において、不揮発性半導体記憶装置2
0は、複数のリファレンスセルRC0,RC1を有する
メモリセルアレイRA(以下リファレンスアレイRAと
いう)と、データ記憶領域であるメインアレイとしての
メモリセルアレイMA(以下メモリアレイMAという)
と、差動増幅器で構成されたセンスアンプS/Aなどの
比較出力手段21と、入力アドレス信号ADDに基づい
て所定のメモリセルとリファレンスセルを選択するデコ
ード手段22とを備えている。
【0076】リファレンスアレイRAでは、メモリアレ
イMAからのデータ読出時に使用するリファレンスセル
用ワード線を例えばリファレンスセル用ワード線RWL
0,RWL1のように少なくとも2本用意する。各リフ
ァレンスセル用ワード線RWL0,RWL1にはそれぞ
れ、ビット線RBLを共有した同じ閾値のリファレンス
セルRC0,RC1がそれぞれ接続されている。これら
の2本のリファレンスセル用ワード線RWL0,RWL
1は、メモリアレイMAの冗長でない後述のメモリアレ
イ通常ワード線MWLが選択された場合に活性化させる
リファレンスセル用ワード線RWL0と、メモリアレイ
MA内の後述するメモリアレイ冗長ワード線ReWLが
選択された場合に活性化させるリファレンスセル用ワー
ド線RWL1とに分けることができる。
【0077】メモリアレイMAは情報記憶領域を構成し
ており、行方向および列方向にマトリクス状に複数のメ
モリセルMC0が記憶素子として配置されているが、こ
こでは説明を簡略化するために、データ記憶用のメモリ
セルMC0と、これを置き換える冗長のメモリセルMC
1とを示して説明する。また、メモリセルMC0のゲー
トにはメモリアレイ通常ワード線MWLが接続され、冗
長のメモリセルMC1のゲートにはメモリアレイ冗長ワ
ード線ReWLが接続されている。これらのメモリセル
MC0,MC1の各ドレインにはビット線MBLが共通
接続されている。
【0078】比較出力手段21は、デコード手段22で
選択したメモリセルMC0(またはMC1)の読出電圧
(または電流)レベルとデコード手段22で選択したリ
ファレンスセルRC0(またはRC1)の読出電圧(ま
たは電流)レベルとを比較してデータ出力する。具体的
に説明すると、例えばセンスアンプS/Aは、デコード
手段22で選択したメモリセルMC0(またはMC1)
およびリファレンスセルRC0(またはRC1)の両ゲ
ートに対して同じゲート電圧をそれぞれ印加して各メモ
リセルMC0(またはMC1)およびリファレンスセル
RC0(またはRC1)にそれぞれ流れる電流値の差を
増幅し、その結果をデータ出力する。
【0079】デコード手段22は、メモリアレイ通常ワ
ード線MWLを選択する場合には、リファレンスセルR
C0に接続されるリファレンスセル用ワード線RWL0
(第1ワード線)をメモリアレイ通常ワード線MWLと
同時に選択制御し、メモリアレイ冗長ワード線RWL1
を選択する場合には、リファレンスセルRC1に接続さ
れるリファレンスセル用ワード線RWL1(第2ワード
線)をメモリアレイ冗長ワード線RWL1と同時に選択
制御する。即ち、デコード手段22は、メモリセルMC
0(またはMC1)およびリファレンスセルRC0(ま
たはRC1)からの各データ読出タイミングを同時に同
期させるように、メモリセルMC0(またはMC1)お
よびリファレンスセルRC0(またはRC1)の両ワー
ド線MWL,RWL0(またはReWL,RWL1)に
各選択信号(ワード線電位を立ち上げる)を同時に同期
させて出力する。
【0080】このように、メモリセルMC0(またはM
C1)およびリファレンスセルRC0(またはRC1)
の両データ読出タイミングを同期させるため、メモリセ
ルMC0(またはMC1)のデータ読出時において、従
来のように両ワード線MWL,RWL0(またはReW
L,RWL1)への電位が共に完全に立ち上がるのを待
たなくてもよく、両ワード線電位の立ち上がり途中であ
っても誤動作なくデータ読出動作を実行できて、リード
アクセス時間を短縮することができる。
【0081】ここで、本発明の不揮発性半導体記憶装置
20の具体例について、以下に図2〜図7を参照しつつ
更に詳細に説明する。
【0082】図2は、図1の不揮発性半導体記憶装置2
0の具体的構成例を示すブロック図である。
【0083】図2において、不揮発性半導体記憶装置2
0の具体的構成例である不揮発性半導体記憶装置30
は、リファレンスアレイRAと、メモリアレイMAと、
アドレス遷移検出回路ATDと、通常ワード線プリデコ
ーダXPDECと、通常ワード線制御手段としての通常
ワード線デコーダXDECと、通常ワード線選択信号遷
移検出回路XREGSと、冗長ワード線プリデコーダX
PRDECと、冗長ワード線制御手段としての冗長ワー
ド線デコーダXRDECと、冗長ワード線選択信号遷移
検出回路XREDSと、ビット線デコーダYDECと、
スイッチング手段YSM,YSR(以下、ビット線選択
トランジスタYSM,YSRという)と、比較出力手段
21としてのセンスアンプS/Aと、第1リファレンス
ワード線制御手段としての通常ワード線選択時用リファ
レンスワード線制御回路RREGUと、第2リファレン
スワード線制御手段としての冗長ワード線選択時用リフ
ァレンスワード線制御回路RREDUとを備えている。
これらの通常ワード線プリデコーダXPDECと、通常
ワード線デコーダXDECと、通常ワード線選択信号遷
移検出回路XREGSと、冗長ワード線プリデコーダX
PRDECと、冗長ワード線デコーダXRDECと、冗
長ワード線選択信号遷移検出回路XREDSと、ビット
線デコーダYDECと、ビット線選択トランジスタYS
M,YSRと、通常ワード線選択時用リファレンスワー
ド線制御回路RREGUと、冗長ワード線選択時用リフ
ァレンスワード線制御回路RREDUとにより図1のデ
コード手段22が構成されている。
【0084】リファレンスアレイRAにおいては、第1
リファレンスセルであるリファレンスセルRC0のゲー
トには第1ワード線としてのリファレンスセル用ワード
線RWL0が接続され、第2リファレンスセルであるリ
ファレンスセルRC1のゲートには第2ワード線として
のリファレンスセル用ワード線RWL1が接続されてい
る。また、リファレンスセルRC0のドレインおよびリ
ファレンスセルRC1のドレインにはビット線RBLが
共通接続され、リファレンスセルRC0,RC1の各ソ
ースはそれぞれソース線RHSにそれぞれ接続されてい
る。
【0085】メモリアレイMAにおいては、メモリセル
MC0のゲートにメモリアレイ通常ワード線MWLが接
続され、メモリセルMC1のゲートにメモリアレイ冗長
ワード線ReWLが接続されている。また、メモリセル
MC0,MC1の各ドレインにはビット線MBLが共通
接続され、メモリセルMC0,MC1の各ソースにはそ
れぞれソース線MHSがそれぞれ接続されている。な
お、これらのソース線RHS,MHSはそれぞれ通常は
接地レベルに保たれるが、テストモード時など特別なモ
ード時において、例えば消去モードとする場合にはソー
ス線RHS,MHSは高電圧に制御される。
【0086】以上のリファレンスセル用ワード線RWL
0,RWL1および、メモリアレイ通常ワード線MWL
およびメモリアレイ冗長ワード線ReWLの各負荷容量
は全て同一(または略同一)になるように設定してい
る。これは、各ワード線電位の立ち上がり時間を同一に
するためである。
【0087】アドレス遷移検出回路ATDは、アドレス
信号ADDおよびチップイネーブル信号CE♯が入力さ
れ、複数本あるアドレス信号線のうち少なくとも1本で
も遷移(アドレス信号ADDが入力されたとき)するか
または、チップイネーブル信号CE♯が接地レベルに降
下した場合に、必要なパルス信号、例えばアドレス遷移
検知信号であるワード線イネーブルATD信号SPW
を、通常ワード線プリデコーダXPDEC、冗長ワード
線プリデコーダXPRDEC、通常ワード線選択時用リ
ファレンスワード線制御回路RREGUおよび冗長ワー
ド線選択時用リファレンスワード線制御回路RREDU
に出力する。また、アドレス遷移検出回路ATDは、必
要なパルス信号として他に、センスアンプイネーブル信
号SAENをセンスアンプS/Aに出力する。
【0088】通常ワード線プリデコーダXPDECに
は、アドレス信号ADDおよびワード線イネーブルAT
D信号SPWが入力されると共に、冗長判定信号MDが
入力可能とされ、ワード線イネーブルATD信号SPW
が入力され、かつ冗長判定信号MDが入力されない場合
に、アドレス信号ADDに応じた通常ワード線選択信号
SXを通常ワード線デコーダXDECおよび通常ワード
線選択信号遷移検出回路XREGSに出力する。
【0089】通常ワード線デコーダXDECは、ワード
線用ノード電圧HWLによって電源供給されている。通
常ワード線デコーダXDECには、通常ワード線プリデ
コーダXPDECから通常ワード線選択信号SXが入力
され、通常ワード線選択信号SXに応じて所定のメモリ
アレイ通常ワード線MWLに電圧出力(ワード線電位を
立ち上げる)して所定のメモリアレイ通常ワード線MW
Lを選択する。
【0090】冗長ワード線プリデコーダXPRDECに
は、アドレス信号ADD、ワード線イネーブルATD信
号SPWおよび冗長ワード線アドレス信号BADDが入
力され、この場合に入力アドレス信号ADDに応じて冗
長判定を行い、その冗長判定時に、冗長判定信号MDを
通常ワード線プリデコーダXPDECに出力すると共
に、冗長ワード線アドレス信号BADDに応じた冗長ワ
ード線選択信号RXを冗長ワード線デコーダXRDEC
および冗長ワード線選択信号遷移検出回路XREDSに
出力する。
【0091】この冗長ワード線プリデコーダXPRDE
Cと通常ワード線プリデコーダXPDECとにより選択
判定手段が構成され、アドレス情報ADDに基づいてメ
モリアレイ通常ワード線MWLおよびメモリアレイ冗長
ワード線ReWLの何れを選択すべきかを判定してい
る。例えば本実施形態では、アドレス信号ADDに応じ
て通常ワード線プリデコーダXPDECからの通常ワー
ド線選択信号SXで選択するメモリアレイ通常ワード線
MWLを、所定のメモリアレイ冗長ワード線ReWLに
置き換える必要がある場合のみ、これをアドレス信号A
DDから冗長ワード線プリデコーダXPRDECが検出
して通常ワード線プリデコーダXPDECに冗長判定信
号MDを発行する。通常ワード線プリデコーダXPDE
Cでは冗長判定信号MDを受けると、通常ワード線選択
信号SXの出力をキャンセルする。一方、冗長ワード線
プリデコーダXPRDECからは、メモリアレイ冗長ワ
ード線ReWLを選択するために冗長ワード線選択信号
RXを出力する。
【0092】冗長ワード線デコーダXRDECは、ワー
ド線用ノード電圧HWLによって電源供給されている。
冗長ワード線デコーダXRDECには、冗長ワード線プ
リデコーダXPRDECから冗長ワード線選択信号RX
が入力され、冗長ワード線選択信号RXに応じて所定の
メモリアレイ冗長ワード線ReWLに電圧出力(ワード
線電位を立ち上げる)して所定のメモリアレイ冗長ワー
ド線ReWLを選択する。
【0093】ビット線デコーダYDECは、その一方出
力端に、ビット線選択トランジスタYSRのゲート電極
に接続されるリファレンスアレイ用ビット線選択ゲート
線RYSELが接続され、その他方出力端に、ビット線
選択トランジスタYSMのゲート電極に接続されるメモ
リアレイ用ビット線選択ゲート線MYSELが接続され
ており、入力アドレス信号ADDに基づいて任意のリフ
ァレンスアレイ用ビット線RBLとメモリアレイ用ビッ
ト線MBLとをそれぞれ選択するデコード動作を行う。
【0094】ビット線選択トランジスタYSR,YSM
は、ビット線デコーダYDECからの選択信号によって
リファレンスアレイRA内の複数ビット線RBLのうち
何れかを選択し、かつメモリアレイMA内の複数のビッ
ト線MBLの何れかを選択することによりセンスアンプ
S/Aの両入力端に接続するものである。即ち、ビット
線選択トランジスタYSRは、リファレンスアレイRA
の任意のビット線RBLの一端と、センスアンプS/A
の一方入力端とを接続制御し、ビット線選択トランジス
タYSMは、メモリアレイMAの任意のビット線MBL
の一端と、センスアンプS/Aの他方入力端とを接続制
御する。
【0095】センスアンプS/Aは、アドレス遷移検出
回路ATDからのセンスアンプイネーブル信号SAEN
を受けて駆動可能となり、そのセンス結果をSAOUT
線にのせてデータ出力する。即ち、センスアンプS/A
は、選択されたメモリセルMC0(またはMC1)およ
びリファレンスセルRC0(またはRC1)にそれぞれ
流れる電流値の差を増幅し、その結果をデータ出力する
ものである。
【0096】通常ワード線選択時用リファレンスワード
線制御回路RREGUは、ワード線用ノード電圧HW
L、ワード線イネーブルATD信号SPW、テスト制御
信号STEN、メモリアレイMAのメモリアレイ通常ワ
ード線MWLの通常ワード線選択制御信号SDM、テス
トで使用する強制選択信号であるテスト時ワード線選択
信号SD0を入力としている。通常ワード線選択時用リ
ファレンスワード線制御回路RREGUは、詳細には図
3および図4にて後述するが、メモリアレイMAの冗長
でないメモリアレイ通常ワード線MWLの選択時に入力
される通常ワード線選択制御信号SDMによってリファ
レンスセル用ワード線RWL0の電位を立ち上げてリフ
ァレンスセル用ワード線RWL0を選択する。
【0097】冗長ワード線選択時用リファレンスワード
線制御回路RREDUは、ワード線用ノード電圧HW
L、ワード線イネーブルATD信号SPW、テスト制御
信号STEN、メモリアレイMAのメモリアレイ冗長ワ
ード線ReWLの冗長ワード線選択制御信号SDR、テ
ストで使用する強制選択信号であるテスト時ワード線選
択信号SD1を入力としている。冗長ワード線選択時用
リファレンスワード線制御回路RREDUは、詳細には
図3および図4にて後述するが、メモリアレイMAのメ
モリアレイ冗長ワード線ReWLの選択時に入力される
冗長ワード線選択制御信号SDRによってリファレンス
セル用ワード線RWL1の電位を立ち上げてリファレン
スセル用ワード線RWL1を選択する。
【0098】ここで、以下に、通常ワード線選択時用リ
ファレンスワード線制御回路RREGUおよび冗長ワー
ド線選択時用リファレンスワード線制御回路RREDU
の具体的回路構成について説明すると共に、データ読出
およびテスト時における本発明のリファレンスワード線
の選択方法について説明する。
【0099】図3は、図2の通常ワード線選択時用リフ
ァレンスワード線制御回路REGUおよび冗長ワード線
選択時用リファレンスワード線制御回路RREDUの一
具体例(インバータ型ワード線ドライバ)を示す回路図
である。
【0100】図3において、上部点線枠内に通常ワード
線選択時用リファレンスワード線制御回路RREGU1
を示し、下部点線枠内に冗長ワード線選択時用リファレ
ンスワード線制御回路RREDU1を示している。
【0101】通常ワード線選択時用リファレンスワード
線制御回路RREGU1は、インバータC0、AND論
理回路C1、P型トランジスタP0、N型トランジスタ
N0〜N3およびワード線ドライブインバータDRV0
で構成されている。
【0102】冗長ワード線選択時用リファレンスワード
線制御回路RREDU1は、通常ワード線選択時用リフ
ァレンスワード線制御回路RREGU1と同様に、イン
バータC0’、AND論理回路C1’、P型トランジス
タP0’、N型トランジスタN0’〜N3’およびワー
ド線ドライブインバータDRV1で構成されている。
【0103】P型トランジスタP0(またはP0’)は
非常に抵抗値が高く設定されており、このドレイン側に
直列接続されるN型トランジスタN0〜N2(またはN
0'〜N2')が全てオン状態になるかまたは、N型トラ
ンジスタN3(またはN3')だけがオン状態になれ
ば、ワード線ドライブインバータDRV0(またはDR
V1)の入力ノードSX0(またはSX1)が接地レベ
ルになって、リファレンスセル用ワード線RWL0(ま
たはRWL1)の電位が立ち上がるようになっている。
なお、括弧( )内は冗長ワード線選択時用リファレン
スワード線制御回路RREDU1が駆動する場合であ
る。
【0104】これらの通常ワード線選択時用リファレン
スワード線制御回路RREGU1および冗長ワード線選
択時用リファレンスワード線制御回路RREDU1には
それぞれ、ワード線用ノード電圧HWL、テスト制御信
号STENおよびワード線イネーブルATD信号SPW
が入力されている。また、通常ワード線選択時用リファ
レンスワード線制御回路RREGUにはテスト時リファ
レンスワード線選択信号SD0(第1テスト信号)およ
び通常ワード線選択制御信号SDMが入力され、冗長ワ
ード線選択時用リファレンスワード線制御回路RRED
U1にはテスト時リファレンスワード線選択信号SD1
(第2テスト信号)および冗長ワード線選択制御信号S
DRが入力されている。
【0105】上記構成により、メモリセル読出時(デー
タ読出時)は、テスト制御信号STEN=0(ローレベ
ル)である。このため、AND論理回路C1(またはC
1')を介するので、テスト時リファレンスワード線選
択信号SD0(またはSD1)が如何なる出力状態であ
ってもN型トランジスタN3(またはN3')はオフ状
態となる。一方、N型トランジスタN0,N0'は共に
インバータC0,C0'の動作によってオン状態になっ
ている。また、メモリセル読出時には、ワード線イネー
ブルATD信号SPWがハイレベル(電源電圧レベル)
になっているので、N型トランジスタN1,N1'は共
にオン状態になっている。さらに、メモリアレイ通常ワ
ード線MWLが選択された場合には、通常ワード線選択
制御信号SDMがハイレベルになっているから、N型ト
ランジスタN2がオン状態になっている。このように、
N型トランジスタN0〜N2が全てオン状態であればノ
ードSX0が接地レベルとなってワード線ドライブイン
バータDRV0からリファレンスワード線RWL0に選
択信号が出力されて、リファレンスワード線RWL0の
電位が立ち上がる。また、メモリアレイ冗長ワード線R
eWLが選択された場合には、冗長ワード線選択制御信
号SDRがハイレベルになっているからN型トランジス
タN2'がオン状態になっている。N型トランジスタN
0'〜N2'が全てオン状態であればノードSX1が接地
レベルとなって、ワード線ドライブインバータDRV1
からリファレンスワード線RWL1に選択信号が出力さ
れて、リファレンスワード線RWL1の電位が立ち上が
る。
【0106】テストモード時、つまりリファレンスセル
を手動で強制的にアクセスする場合には、テスト制御信
号STEN=1(ハイレベル)である。このため、イン
バータC0,C0'の動作でN型トランジスタN0,N
0'はオフ状態になる。したがって、ワード線イネーブ
ルATD信号SPWと通常ワード線選択制御信号SDM
や冗長ワード線選択制御信号SDRに係わらず、データ
読出時の制御は利かなくなる。テストモード時にはテス
ト時リファレンスワード線選択信号SD0,SD1は、
入力アドレス信号に応じて動作するようになっており、
テスト時リファレンスワード線選択信号SD0=1の場
合、N型トランジスタN3がオンしてノードSX0が接
地レベルになり、ワード線ドライブインバータDRV0
からリファレンスワード線RWL0に選択信号が出力さ
れて、リファレンスワード線RWL0の電位が立ち上が
る。また、テスト時リファレンスワード線選択信号SD
1=1では、N型トランジスタN3'がオンしてノード
SX1が接地レベルとなり、ワード線ドライブインバー
タDRV1からリファレンスワード線RWL1に選択信
号が出力されて、リファレンスワード線RWL1の電位
が立ち上がる。
【0107】以上の図3に示した回路例では、ワード線
ドライバとして、P型トランジスタP0,P0’を高抵
抗素子として使用したインバータタイプとしたが、これ
に限らず、異なるタイプのワード線ドライバであっても
よい。図3のインバータ型ワード線ドライバとは異なる
一例として、図4にラッチ型ワード線ドライバを示して
いる。次に、ラッチ型ワード線ドライバを用いたリファ
レンスワード線のデコード制御について図4を参照して
説明する。
【0108】図4は、図2の通常ワード線選択時用リフ
ァレンスワード線制御回路RREGUおよび冗長ワード
線選択時用リファレンスワード線制御回路RREDUの
他の具体例(ラッチ型ワード線ドライバ)を示す回路図
である。
【0109】図4において、上部点線枠内に通常ワード
線選択時用リファレンスワード線制御回路RREGU2
を示し、下部点線枠内に冗長ワード線選択時用リファレ
ンスワード線制御回路RREDU2を示している。
【0110】通常ワード線選択時用リファレンスワード
線制御回路RREGU2は、インバータC0、AND論
理回路C1、NOR回路C2、P型トランジスタP0,
P1、N型トランジスタN0〜N4およびワード線ドラ
イブインバータDRV0で構成されている。
【0111】冗長ワード線選択時用リファレンスワード
線制御回路RREDU2は、通常ワード線選択時用リフ
ァレンスワード線制御回路RREGU2と同様に、イン
バータC0’、AND論理回路C1’、NOR回路C
2’、P型トランジスタP0’,P1’、N型トランジ
スタN0’〜N4’およびワード線ドライブインバータ
DRV1で構成されている。
【0112】N型トランジスタN1〜N3(またはN
1'〜N3')が全てオン状態でかつ、N型トランジスタ
N0(またはN0’)がオフ状態になるかまたは、N型
トランジスタN4(またはN4')だけがオン状態でか
つ、N型トランジスタN0(またはN0’)がオフ状態
になれば、ワード線ドライブインバータDRV0(また
はDRV1)の入力ノードSX0(またはSX1)が接
地レベルで、ノードSY0(またはSY1)がワード線
用高電圧HWLレベルになって、リファレンスセル用ワ
ード線RWL0(またはRWL1)の電位が立ち上がる
ようになっている。なお、括弧( )内は冗長ワード線
選択時用リファレンスワード線制御回路RREDU2が
駆動する場合である。
【0113】これらの通常ワード線選択時用リファレン
スワード線制御回路RREGU2および冗長ワード線選
択時用リファレンスワード線制御回路RREDU2には
それぞれ、ワード線用ノード電圧HWL、テスト制御信
号STEN、ワード線イネーブルATD信号SPWが入
力されている。また、通常ワード線選択時用リファレン
スワード線制御回路RREGU2にはテスト時リファレ
ンスワード線選択信号SD0および通常ワード線選択制
御信号SDMが入力され、冗長ワード線選択時用リファ
レンスワード線制御回路RREDU2にはテスト時リフ
ァレンスワード線選択信号SD1および冗長ワード線選
択制御信号SDRが入力されている。
【0114】上記構成により、メモリセル読出時(デー
タ読出時)は、テスト制御信号STEN=0(ローレベ
ル)である。このため、AND論理回路C1(またはC
1')を介するので、テスト時リファレンスワード線選
択信号SD0(またはSD1)が如何なる出力状態であ
ってもN型トランジスタN4(またはN4')はオフ状
態となる。一方、N型トランジスタN1,N1'は共に
インバータC0,C0'の動作によってオン状態になっ
ている。また、メモリセル読出時には、ワード線イネー
ブルATD信号SPWがハイレベル(電源電圧レベル)
になっているので、N型トランジスタN2,N2'は共
にオン状態となっている。さらに、メモリアレイ通常ワ
ード線MWLが選択された場合には、通常ワード線選択
制御信号SDMがハイレベルになっているから、N型ト
ランジスタN3がオン状態となっている。これによっ
て、ノードSX0が接地レベルとなり、P型トランジス
タP0がオンすることでノードSY0がワード線用高電
圧HWLレベルになってP型トランジスタP1はオフす
る。このとき、通常ワード線選択制御信号SDMがハイ
レベルであるから、NOR論理回路C2の動作によりN
型トランジスタN0がオフ状態となっており、ノードS
Y0は接地レベルに引かれることはなく、貫通電流の発
生はない。同時に、ノードSX0は接地レベルに引かれ
ていることから、ワード線ドライブインバータDRV0
からリファレンスセル用ワード線RWL0に選択信号が
出力されて、リファレンスセル用ワード線RWL0の電
位が立ち上がることになる。また、メモリアレイ冗長ワ
ード線ReWLが選択された場合は、冗長ワード線選択
制御信号SDRがハイレベルになり、上記と同様の動作
にてノードSX1が接地レベルとなって、ワード線ドラ
イブインバータDRV1からリファレンスセル用ワード
線RWL1に選択信号が出力されて、リファレンスセル
用ワード線RWL1の電位が立ち上がる。
【0115】テストモード時、つまりリファレンスセル
RC0(またはRC1)を手動で強制的にアクセスする
場合には、テスト制御信号STEN=1(ハイレベル)
である。このため、インバータC0,C0'の動作でN
型トランジスタN1,N1'はオフ状態になる。したが
って、ワード線イネーブルATD信号SPWと通常ワー
ド線選択制御信号SDMや冗長ワード線選択信号SDR
の出力状態に係わらず、データ読出時の制御は利かなく
なる。テストモード時にはテスト時リファレンスワード
線選択信号SD0,SD1は、入力アドレス信号に応じ
て動作するようになっており、テスト時リファレンスワ
ード線選択信号SD0=1の場合、N型トランジスタN
4がオンしてノードSX0が接地レベルになることで、
前述した場合と同様に、P型トランジスタP0がオンす
ることでP型トランジスタP1はオフする。このとき、
テスト時リファレンスワード線選択信号SD0=1(ハ
イレベル)であるから、アンド論理回路C1およびNO
R論理回路C2の動作によりN型トランジスタN0がオ
フ状態となる。これらの一連の動作で、リファレンスセ
ル用ワード線RWL0の電位が立ち上がる。また、テス
ト時リファレンスワード線選択信号SD1=1(ハイレ
ベル)では、N型トランジスタN4'がオンで、N型ト
ランジスタN0’がオフし、P型トランジスタP0’が
オンでP型トランジスタP1’はオフしてノードSX1
が接地レベルとなり、リファレンスワード線RWL1の
電位が立ち上がる。
【0116】ここで、注意しなければならないことは、
図4に示したラッチ型ワード線ドライバを使用したタイ
プでは、テスト制御時(テスト制御信号STEN=1)
において、通常ワード線選択制御信号SDMおよび冗長
ワード線選択制御信号SDRを接地レベルにするように
制御する必要がある。さもないと、リファレンスセル用
ワード線RWL0,RWL1の両方が選択されるなど、
テスト時リファレンスワード線選択信号SD0,SD1
で正常に制御できなくなる虞がある。勿論、テスト制御
信号STEN=1のときに、通常ワード線選択制御信号
SDMおよび冗長ワード線選択制御信号SDRが共にロ
ーレベルになるように回路構成しておけば、このような
制御を設ける必要はない。
【0117】このように、ワード線ドライバのタイプに
依存することなく、簡単な回路構成でリファレンスセル
用ワード線RWL0,RWL1を2本にした場合の制御
を実現することができる。また、リファレンスセル用ワ
ード線の本数が3本以上であっても前述した回路構成を
拡張することにより、制御回路を構成することは可能で
ある。前述した図3および図4に示した回路構成はその
一例であって、これまで説明してきた各種機能を満たす
回路構成であればどのような回路構成のものでもよい。
【0118】次に、図2の通常ワード線選択信号遷移検
出回路XREGSおよび冗長ワード線選択信号遷移検出
回路XREDSについて、図5を参照しながら、メモリ
セル読出時におけるメモリアレイ通常ワード線(または
メモリアレイ冗長ワード線)とリファレンスセル用ワー
ド線との選択制御方法と共に詳細に説明する。
【0119】図5は、図2の不揮発性半導体記憶装置に
おけるメモリアレイおよびリファレンスアレイワード線
制御回路の主要構成部分を示すブロック図である。
【0120】通常ワード線選択信号遷移検出回路XRE
GSについて説明する前に、メインメモリ通常ワード線
MWLの選択動作についてさらに詳細に説明する。図5
に示すように、メモリアレイ通常ワード線MWLを選択
するアドレス信号線がn本(nは自然数)の信号線で構
成されているものとする。このアドレス信号ADDが通
常ワード線プリデコーダXPDECに入力されると、そ
の出力である通常ワード線選択信号SXは2のn乗本の
信号線群を介して通常ワード線プリデコーダXPDEC
から通常ワード線デコーダXDECに伝達される。通常
ワード線デコーダXDECでは、この信号線群を介して
伝達された通常ワード線選択信号SXに基づいて、所望
のメインメモリ通常ワード線MWLの電位を立ち上げる
ようになっている。
【0121】通常ワード線選択信号遷移検出回路XRE
GSは、通常ワード線選択信号SXが伝達される2のn
乗本の通常ワード線選択信号線のうち何れか1本でもハ
イレベル電圧に遷移すれば、これを検出して通常ワード
線選択制御信号SDMを通常ワード線選択時用リファレ
ンスワード線制御回路RREGUに出力する。この通常
ワード線選択制御信号SDMはメモリアレイ通常ワード
線MWLの何れかが選択されたことを意味し、この信号
SDMをトリガとして通常ワード線選択時用リファレン
スワード線制御回路RREGUが、リファレンスセル用
ワード線RWL0の電位を立ち上げる仕組みになってい
る。通常ワード線選択制御信号SDMが伝達される信号
線群は、2のn乗本の通常ワード線選択信号SXの信号
線群よりも少ないi本(iは自然数)の信号線群にて構
成することができる。
【0122】なお、本実施形態では、メモリアレイ通常
ワード線MWLの選択を意味する通常ワード線選択制御
信号SDMを出力する通常ワード線選択信号遷移検出回
路XREGSを介して、通常ワード線選択時用リファレ
ンスワード線制御回路RREGUからリフレンスセル用
ワード線RWL0の電位を立ち上げるようにしたが、こ
れに限らず、通常ワード線選択信号遷移検出回路XRE
GSを設けずに、nの2乗本の多数の信号線群を介して
通常ワード線選択信号SXを直接に通常ワード線選択時
用リファレンスワード線制御回路RREGUに入力する
ことにより、通常ワード線選択時用リファレンスワード
線制御回路RREGUからリフレンスセル用ワード線R
WL0の電位を立ち上げるようにしてもよい。また、通
常ワード線選択信号遷移検出回路XREGSを介してリ
ファレンスセル用ワード線RWL0を選択制御する場
合、通常ワード線選択時用リファレンスワード線制御回
路RREGUの構成やそのレイアウト面積を考慮して、
メモリアレイ通常ワード線MWLの選択を意味する通常
ワード線選択信号SXを伝達する信号線を1本の信号線
で構成しても複数本の信号線群で構成してもよい。何れ
にせよ、通常ワード線選択信号遷移検出回路XREGS
を設けた方が、これを設けずに、2のn乗本の多数の信
号線群を介して通常ワード線選択信号SXを直接に通常
ワード線選択時用リファレンスワード線制御回路RRE
GUに入力する場合に比べて、信号線の本数を極端に少
なくすることができる。
【0123】次に、冗長ワード線選択信号遷移検出回路
XREDSについて説明する前に、メインメモリ冗長ワ
ード線ReWLの選択動作についてさらに詳細に説明す
る。図5に示すように、ワード線選択用のアドレス信号
ADDは冗長ワード線プリデコーダXPRDECにも入
力されており、ここでは、冗長ワード線選択信号RXを
冗長ワード線デコーダXRDECに出力する他に、冗長
に置き換えるか否かを判定する冗長判定信号MDを通常
ワード線プリデコーダXPRDECに出力する。冗長ワ
ード線選択信号RXはm(mは自然数)本の信号線群で
構成されているものとする。ここで、mは冗長ワード線
の本数に等しい。この信号群は冗長ワード線デコーダX
RDECに接続されており、冗長ワード線デコーダXR
DECは、この信号線群を介して伝達された冗長ワード
線選択信号RXに基づいて所望のメモリアレイ冗長ワー
ド線ReWLの電位を立ち上げるようになっている。
【0124】冗長ワード線選択信号遷移検出回路XRE
DSは、m本の信号線群のうち何れか1本でもハイレベ
ル電圧に遷移したら、これを検出して冗長ワード線選択
信号RXを冗長ワード線選択時用リファレンスワード線
制御回路RREDUに出力する。この冗長ワード線選択
制御信号SDRは、メモリアレイ冗長ワード線ReWL
の何れかが選択されたことを意味し、この信号SDRを
トリガとして冗長ワード線選択時用リファレンスワード
線制御回路RREDUがリファレンスセル用ワード線R
WL1の電位を立ち上げる仕組みになっている。冗長ワ
ード線選択制御信号SDRは、m本よりも少ないj本
(jは自然数)の信号線群で構成されている。
【0125】なお、本実施形態では、メモリアレイ冗長
ワード線ReWLの選択を意味する冗長ワード線選択制
御信号SDRを出力する冗長ワード線選択信号遷移検出
回路XREDSを介して、冗長ワード線選択時用リファ
レンスワード線制御回路RREDUからリフレンスセル
用ワード線RWL1の電位を立ち上げるようにしたが、
これに限らず、冗長ワード線選択信号遷移検出回路XR
EDSを設けずに、m本の信号線群を介して冗長ワード
線選択信号RXを直接に冗長ワード線選択時用リファレ
ンスワード線制御回路RREDUに入力することによ
り、冗長ワード線選択時用リファレンスワード線制御回
路RREDUからリフレンスセル用ワード線RWL1の
電位を立ち上げるようにしてもよい。また、冗長ワード
線選択信号遷移検出回路XREDSを介してリファレン
スセル用ワード線RWL1を選択制御する場合、冗長ワ
ード線選択時用リファレンスワード線制御回路RRED
Uの構成やそのレイアウト面積を考慮して、メモリアレ
イ冗長ワード線ReWLの選択を意味する冗長ワード線
選択信号RXを伝達する信号線を1本の信号線で構成し
ても複数本の信号線群で構成してもよい。何れにせよ、
冗長ワード線選択信号遷移検出回路XREDSを設けた
方が、これを設けずに、m本の信号線群を介して冗長ワ
ード線選択制御信号RXを直接に冗長ワード線選択時用
リファレンスワード線制御回路RREDUに入力する場
合に比べて、信号線の本数を極端に少なくすることがで
きる。
【0126】また、通常ワード線選択信号SXの遷移を
検出して通常ワード線選択制御信号SDMを通常ワード
線選択時用リファレンスワード線制御回路RREGUに
出力する通常ワード線選択信号遷移検出回路XREGS
を設けた場合、通常ワード線選択制御信号SDMは通常
ワード線選択信号SXよりも出力タイミングが遅延し、
リファレンスセル用ワード線RWL0の電位とメモリア
レイ通常ワード線MWLの電位との立ち上がりに時間差
を生じることが懸念されるが、実際には、通常ワード線
には多数のメモリセルMC0が接続されているため、こ
れらの配線容量(ゲート容量)は殆ど通常ワード線の電
位の立ち上がり遷移を支配している。したがって、通常
ワード線選択信号遷移検出回路XREGSによる選択信
号の遅延がリファレンスセル用ワード線RWL0とメモ
リアレイ通常ワード線MWLの電位の立ち上がりに差を
発生することは殆どない。
【0127】これと同様に、冗長ワード線選択信号RX
の遷移を検出して冗長ワード線選択制御信号SDRを冗
長ワード線選択時用リファレンスワード線制御回路RR
EDUに出力する冗長ワード線選択信号遷移検出回路X
REDSを設けた場合にも、冗長ワード線選択制御信号
SDRは冗長ワード線選択信号RXよりも出力タイミン
グが多少遅延するが、この場合にも、冗長ワード線およ
びメモリセルMC1に配線容量を有するために、冗長ワ
ード線選択信号遷移検出回路XREDSによる冗長ワー
ド線選択制御信号SDRの遅延がリファレンスセル用ワ
ード線RWL1とメモリアレイ冗長ワード線ReWLの
電位の立ち上がりに時間差を発生することは殆どない。
【0128】以上の構成により、以下、その動作を説明
する。冗長でない通常ワード線MWLを選択する場合の
データ読出動作について、図6のタイミングチャートに
従って説明する。
【0129】図6では、タイミングチャートは横軸に時
間t0〜t6、縦軸に各信号の電圧レベルを示してい
る。上から順番に、電源電圧VCC、ワード線用ノード
電圧HWL、デバイスを活性化する制御信号であるチッ
プイネーブル信号CE#、データ出力を許可する制御信
号である出力イネーブル信号OE#、アドレス遷移検出
回路ATDからの出力信号であるワード線イネーブルA
TD信号SPW、通常ワード線選択制御信号SDM、冗
長ワード線選択制御信号SDR、リファレンスセル用ワ
ード線RWL0,RWL1の電位、通常ワード線選択信
号SX、メモリアレイ通常ワード線MWLの電位、メモ
リアレイ冗長ワード線ReWLの電位を示している。こ
れらのチップイネーブル信号CE#および出力イネーブ
ル信号OE#は、両信号とも接地レベルにすることでデ
ータ読出動作が可能になる。
【0130】図6に示すように、まず、時刻t0でデバ
イスに電源を投入した後、時刻tlからデータ読出に用
いるワード線用ノード電圧HWLが立ち上がり始める。
【0131】時刻t2において、フラッシュEEPRO
Mなどの不揮発性半導体記憶装置30では、電源投入直
後、データ読出可能状態であるからチップイネーブル信
号CE#を接地レベルにすることでデータの読み出しが
行われる。
【0132】時刻t3で、チップイネーブル信号CE#
の電位の立ち下がりに反応してワード線イネーブルAT
D信号SPWの電位が立ち上がり、これを受けて、通常
ワード線プリデコーダXPDECは通常ワード線選択信
号SXを立ち上げて通常ワード線デコーダXDECと通
常ワード線選択信号遷移検出回路XREGSとに出力す
る。
【0133】時刻t4で、通常ワード線デコーダXDE
Cは、通常ワード線選択信号SXの電位の立ち上がりを
受けて所定のメモリアレイ通常ワード線MWLの電位を
立ち上げ始める。
【0134】一方、通常ワード線選択信号遷移検出回路
XREGSは、通常ワード線選択信号SXの遷移を検出
(ハイレベル電圧を検出)して通常ワード線選択制御信
号SDMを通常ワード線選択時用リファレンスワード線
制御回路RREGUに出力する。さらに、通常ワード線
選択時用リファレンスワード線制御回路RREGUは、
通常ワード線選択制御信号SDMが電源電圧レベルにな
るのを検出して、所定のリファレンスセル用ワード線R
WL0の電位を立ち上げ始める。前述したように、通常
ワード線選択信号遷移検出回路XREGSによる動作時
間がワード線配線容量によってある程度吸収されるの
で、所定リファレンスセル用ワード線RWL0の電位の
立ち上がり時期と、所定のメモリアレイ通常ワード線M
WLの電位の立ち上がり時期とは、殆ど同時期に立ち上
げることができる。
【0135】しばらくして、データの読み出しが終了す
ると、時刻t5にてワード線イネーブルATD信号SP
Wはローレベルに立ち下がる。これにしたがって、時刻
t6でリファレンスセル用ワード線RWL0およびメモ
リアレイ通常ワード線MWLは共に接地レベルに降下す
る。
【0136】このようにして、リファレンスセル用ワー
ド線RWL0の電位を、メモリアレイ通常ワード線MW
L0を選択する通常ワード線選択信号SXまたはこれを
意味する通常ワード線選択制御信号SDMをトリガとし
て立ち上げてやれば、リファレンスセル用ワード線RW
L0とメモリアレイ通常ワード線MWL0の負荷容量を
互いに等しくしている効果も合わせて、両ワード線の立
ち上がり遷移は限りなく一致する。したがって、センス
アンプS/Aはデータの読み出し開始時であっても誤読
み出しする可能性が極端に低くなる。また、誤読み出し
する危険度が大幅に下がれば、データの読み出し開始の
タイミングを更に速くすることができ、これによって、
データの誤読み出しなくデータ読出スピードのいっそう
の高速化を図ることができる。
【0137】次に、冗長ワード線を選択する場合のデー
タ読出動作について、図7のタイミングチャートに従っ
て説明する。図7では、前述した各種信号に、冗長判断
信号MDおよび冗長ワード線選択信号RXを加えると共
に、メモリアレイ通常ワード線MWLが冗長ワード線と
置き換えるべきワード線であると仮定する。時刻t0〜
時刻t3までは図6の場合と全く同じであるので、ここ
ではその説明を省略し、時刻t4からそのワード線選択
動作を説明する。
【0138】ワード線イネーブルATD信号SPWが立
ち上がってしばらくすると、時刻t4で通常ワード線選
択信号SXが電源電圧レベルになる。通常ワード線選択
信号遷移検出回路XREGSは、通常ワード線選択信号
SXの遷移を検出(ハイレベル電圧を検出)して通常ワ
ード線選択制御信号SDMを立ち上げる。これらの動作
を受けることで、リファレンスセル用ワード線RWL0
およびメモリアレイ通常ワード線MWLの両電位が共に
立ち上がりかける。
【0139】ところがすぐに、時刻t4で冗長ワード線
プリデコーダXPRDECから通常ワード線プリデコー
ダXPDECに冗長判断信号MDが出力される。通常ワ
ード線選択信号SXと通常ワード線の選択を意味する通
常ワード線選択制御信号SDMとが共にローレベルに降
下する。このため、リファレンスセル用ワード線RWL
0とメモリアレイ通常ワード線MWLとは接地レベルに
移行する。
【0140】このように、冗長判断信号MDが発行され
ると、冗長ワード線プリデコーダXPRDECは、冗長
ワード線選択信号RXを冗長ワード線デコーダXRDE
Cと冗長ワード線選択信号遷移検出回路XREDSとに
出力する。
【0141】すると、冗長ワード線選択信号遷移検出回
路XREDSは、冗長ワード線選択信号RXの遷移を検
出(ハイレベル電圧を検出)して冗長ワード線選択制御
信号SDRを冗長ワード線選択時用リファレンスワード
線制御回路RREDUに出力する。
【0142】時刻t5で、冗長ワード線選択時用リファ
レンスワード線制御回路RREDUは冗長ワード線選択
制御信号SDRの電位の立ち上がりを受けてリファレン
スセル用ワード線RWL1の電位を立ち上げ始める。こ
れと同時に、冗長ワード線デコーダXRDECも冗長ワ
ード線選択信号RXの電位の立ち上がりを受けて所定の
メモリアレイ冗長ワード線ReWLの電位を立ち上げ始
める。
【0143】なお、ここでは、メモリアレイ通常ワード
線MWLの電位が立ち上がりかけてから、それをキャン
セルして対応メモリアレイ冗長ワード線ReWLに切り
替えられている。これは、前述したように、冗長ワード
線プリデコーダXPRDECにおいて、アドレス信号A
DDに応じて所定のメモリアレイ通常ワード線MWLを
所定のメモリアレイ冗長ワード線ReWLに置き換える
かどうかを判断している間に通常ワード線プリデコーダ
XPDECが通常ワード線選択信号SXを先に発行して
しまい、冗長判断信号MDが、立ち上がりかけた通常ワ
ード線選択信号SXをキャンセル処理するのに多少の時
間を要してしまうからである。
【0144】しばらくして、データの読み出しが終了す
ると、時刻t6でワード線イネーブルATD信号SPW
がローレベルに立ち下がり、これに伴って、時刻t7で
リファレンスセル用ワード線RWL1およびメモリアレ
イ冗長ワード線ReWL共に接地レベルに降下する。
【0145】以上のように、入力アドレス信号に基づい
て選択した所定のメモリアレイ通常ワード線MWLが所
定のメモリアレイ冗長ワード線ReWLに置き換える必
要がある場合に、通常、冗長判定処理が行われてから通
常ワード線選択信号SXのキャンセル処理を実行し、そ
の後に、冗長ワード線の選択制御処理を経るため、メモ
リアレイ冗長ワード線ReWLの電位の立ち上がり時期
が、どうしてもメモリアレイ通常ワード線MWLの電位
の立ち上がり時期よりも遅延してしまう。このため、従
来のリファレンスワード線制御方式であれば、リファレ
ンスセル用ワード線RWLの電位の立ち上がり時期とメ
モリアレイ冗長ワード線ReWLの電位の立ち上がり時
期とに、かなりの時間差が発生してしまう。
【0146】ところが、本発明では、置き換えるべきメ
モリアレイ通常ワード線MWLからメモリアレイ冗長ワ
ード線ReWLへの置き換えで発生した遅延期間を、リ
ファレンスセル用ワード線RWLを複数本(ここではR
WL0,RWL1の2本)用意し、メモリアレイMAで
のメモリアレイ通常ワード線MWLの置き換えを同様に
リファレンスセル用ワード線RWLでも行うようにして
おり、これによって遅延時間を吸収している。即ち、通
常ワード線プリデコーダXPDECおよび冗長ワード線
プリデコーダXPRDECにより選択判定手段が構成さ
れており、選択判定手段はアドレス情報に基づいてメモ
リアレイ通常ワード線MWLおよびメモリアレイ冗長ワ
ード線ReWLの何れを選択すべきかを判定するように
している。その判定後に、通常ワード線デコーダXDE
C(または冗長ワード線デコーダXRDEC)によりメ
モリアレイ通常ワード線MWL(またはメモリアレイ冗
長ワード線ReWL)を選択すると共に、通常ワード線
選択時用リファレンスワード線制御回路RREGU(ま
たは冗長ワード線選択時用リファレンスワード線制御回
路RREDU)によりリフレンスセル用ワード線RWL
0(またはリフレンスセル用ワード線RWL1)を選択
するようにしている。したがって、メモリアレイ冗長ワ
ード線ReWLを選択した場であっても、センスアンプ
S/Aのセンス感度を損なうことなくデータ読出時間の
短縮化を図ることができる。
【0147】以上により、本実施形態によれば、リファ
レンスセル用ワード線RWL0(またはRWL1)の電
位と読み出すメモリアレイ通常ワード線MWL(メモリ
アレイ冗長ワード線ReWL)の電位とを同期して立ち
上げるようにしているので、センスアンプS/Aによる
センス時期をその立ち上がり時点側により早く、アドレ
ス遷移検出回路ATDにて設定しても誤動作などの問題
がなく高速なデータ読出を行うことができる。また、こ
れによって、確実なデータの読み出しのために、センス
マージンを大幅に確保することも可能となる。
【0148】なお、上記実施形態では、特に説明しなか
ったが、本実施形態の半導体記憶装置を携帯電話装置や
PDA(携帯情報端末装置)に代表される情報機器に容
易に組み込むことができて、本発明の高速読出効果を得
ることができる。例えば携帯電話装置では音声情報を送
受信するだけではなく、メールなどの文字情報や画像情
報も送受信することができる。これらの情報はフラッシ
ュメモリなどの不揮発性半導体記憶装置に記憶され、そ
の情報は大容量化する傾向にある。したがって、これら
の情報処理には更なる高速化が要求されている。具体的
に例を挙げると、送信するデータの圧縮および伸張する
場合のデータ読み出し時間の短縮や、これらのデータ圧
縮および伸張を制御するプログラムなどの制御コードの
読み出し、その実行速度の短縮などがある。このよう
に、本発明の半導体記憶装置は、情報および制御コード
記憶手段に容易に組み込むことができて、上記したよう
に情報処理の高速化の要求に応えることができる。
【0149】例えば図18に示すように、携帯電話装置
などの情報機器40が、情報および制御コード記憶手段
と、操作キーなどの操作入力手段と、初期画面や情報処
理結果などを表示する液晶表示装置などの表示手段と、
情報を送受信する送受信手段と、操作入力手段からの入
力操作指令を受けて、所定の情報処理プログラムやその
データに基づいて、例えば情報の送受信時などに情報お
よび制御コード記憶手段に対して情報の読出/書込処理
(メモリ動作)などを行いつつ各種情報処理を行うCP
U(中央処理演算装置)とを有する場合にも、本発明の
半導体記憶装置を、上記情報および制御コード記憶手段
に容易に用いることができて、本発明の高速読出効果を
奏するものである。
【0150】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、リファ
レンスセルのワード線電位と読み出すメモリアレイのメ
モリセルのワード線電位とは同期させて立ち上げるの
で、従来のように何れかのワード線が完全に立ち上がる
のを待たずにデータの読み出しを開始しても誤動作がな
くデータ読出速度の高速化を図ることができる。また、
これによって、確実なデータの読み出しのために、セン
スマージンを大幅に確保することもできる。
【0151】また、リファレンスアレイの第1ワード線
(または第2ワード線)と、メモリアレイの通常ワード
線(または冗長ワード線)とは、両負荷容量が同じであ
るので、両ワード線の立ち上がり時間も更に同一になっ
て、より誤動作がなくリードアクセス時間の更なる短縮
を図ることができる。
【0152】さらに、本発明の半導体記憶装置を容易に
情報機器に用いることができて、データ読出動作に際し
て本発明の高速読出効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の不揮発性半導体記憶装置の一実施形態
における基本構成例を示すブロック図である。
【図2】図1の不揮発性半導体記憶装置の具体的構成例
を示すブロック図である。
【図3】図2の通常ワード線選択時用リファレンスワー
ド線制御回路および冗長ワード線選択時用リファレンス
ワード線制御回路の一具体例を示す回路図である。
【図4】図2の通常ワード線選択時用リファレンスワー
ド線制御回路および冗長ワード線選択時用リファレンス
ワード線制御回路の他の具体例を示す回路図である。
【図5】図2の不揮発性半導体記憶装置におけるメモリ
アレイワード線制御回路およびリファレンスセル用ワー
ド線制御回路の主要構成部分を示すブロック図である。
【図6】図2の不揮発性半導体記憶装置において通常ワ
ード線を選択する場合のワード線選択動作を示すタイミ
ングチャートである。
【図7】図2の不揮発性半導体記憶装置において冗長ワ
ード線を選択する場合のワード線選択動作を示すタイミ
ングチャートである。
【図8】従来の不揮発性半導体記憶装置の基本構成例を
示すブロック図である。
【図9】従来の不揮発性半導体記憶装置の具体的構成例
を示すブロック図である。
【図10】図9の不揮発性半導体記憶装置において、冗
長でないメモリアレイ通常ワード線を選択する場合のワ
ード線選択動作を示すタイミングチャートである。
【図11】図9の不揮発性半導体記憶装置において、冗
長ワード線を選択する場合のワード線選択動作を示すタ
イミングチャートである。
【図12】従来の不揮発性半導体記憶装置の別の具体的
構成例を示すブロック図である。
【図13】図12の不揮発性半導体記憶装置において、
冗長でないメモリアレイ通常ワード線を選択する場合の
ワード線選択動作を示すタイミングチャートである。
【図14】図12の不揮発性半導体記憶装置において、
冗長ワード線を選択する場合のワード線選択動作を示す
タイミングチャートである。
【図15】リファレンスセルとメモリセルからの両デー
タ読出中の制御電圧および駆動電流を示した図である。
【図16】リファレンスセル用ワード線の電位とメモリ
アレイ通常ワード線(またはメモリアレイ冗長ワード
線)の電位との立ち上がりに対するセンスタイミングを
示す図である。
【図17】(a)は、図16に示した時刻t(a)にお
けるメモリセル及びリファレンスセルに流れる電流を示
した図、(b)は、図16に示した時刻t(b)におけ
るメモリセル及びリファレンスセルに流れる電流を示し
た図である。
【図18】本発明の半導体記憶装置を情報機器に適用さ
せた場合の情報機器の基本構成を示すブロック図であ
る。
【符号の説明】
20,30 不揮発性半導体記憶装置 21 比較出力手段 22 デコード手段 40 情報機器 RA リファレンスアレイ RWL,RWL0,RWL1 リファレンスセル用ワ
ード線 RC,RC0,RC1 リファレンスセル MA メモリアレイ MWL メモリアレイ通常ワード線 MC,MC0,MC1 メモリセル ReWL メモリアレイ冗長ワード線 XPDEC 通常ワード線プリデコーダ XDEC 通常ワード線デコーダ XREGS 通常ワード線選択信号遷移検出回路 RREGU 通常ワード線選択時用リファレンスワー
ド線制御回路 XPRDEC 冗長ワード線プリデコーダ XRDEC 冗長ワード線デコーダ XREDS 冗長ワード線選択信号遷移検出回路 RREDU 冗長ワード線選択時用リファレンスワー
ド線制御回路 YDEC ビット線デコーダ YSM,YSR ビット線選択トランジスタ MBL メモリセル用ビット線 S/A センスアンプ SPW ワード線イネーブルATD信号 ADD アドレス信号 BADD 冗長ワード線アドレス信号 SX 通常ワード線選択信号 SDM 通常ワード線選択制御信号 MD 冗長判定信号 RX 冗長ワード線選択信号 SDR 冗長ワード線選択制御信号 STEN テスト制御信号 SD,SD0,SD1 テスト時ワード線用選択信号
(テスト時用選択信号) HWL ワード線用電圧ノード MYSEL メインアレイ用ビット線選択ゲート RYSEL リファレンスセルアレイ用ビット線選択
ゲート ATD アドレス遷移検出回路 SAEN センスアンプイネーブルATD信号 RBL,RBL0,RBL1,RBL2 リファレン
スセル用ビット線 RHS リファレンスセル用ソース線 MHS メモリセル用ソース線 SAOUT センスアンプ出力 C0,C0’ インバータ C1,C1’ AND論理回路 C2,C2’ NOR論理回路 P0,P0’,P1,P1’ P型トランジスタ N0,N0’,N1,N1’,N2,N2’,N3,N
3’,N4,N4’N型トランジスタ SX0,SX1 リファレンスワード線ドライバ入力 SY0,SY1 ラッチ型ワード線ドライバ内部ノー
ド DRV0,DRV1 リファレンスワード線ドライブ
インバータ t0〜t7,t(a),t(b) 時刻 CE♯ チップイネーブル信号 OE♯ 出力イネーブル信号 VCC 電源電圧 SEL0,SEL1 リファレンスセル選択信号 LS0,LS1 レベルシフタ CU リファレンスワード線制御回路 VgsR リファレンスセルワード線ノード VgsM メモリセルワード線ノード Vgs ワード線ノード IdeR リファレンスセルのドレイン−ソース間電
流 IdsM メモリセルのドレイン−ソース間電流 ΔIds(a),ΔIds(b) リファレンスセル
とメモリセルのドレイン−ソース間電流の差 Ids ドレイン−ソース間電流
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11C 17/00 624

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のメモリセルを含むメモリアレイ
    と、複数のリファレンスセルを含むリファレンスアレイ
    と、アドレス情報に基づいて所定のメモリセルとリファ
    レンスセルを選択制御するデコード手段と、該デコード
    手段で選択したメモリセルからの読出電圧レベルと該デ
    コード手段で選択したリファレンスセルからの読出電圧
    レベルを比較してデータ出力する比較出力手段とを備え
    た半導体記憶装置において、該デコード手段は該メモリ
    セルおよびリファレンスセルの各ワード線への各選択信
    号を同時に出力する半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記メモリアレイは、通常ワード線毎に
    それぞれ接続される一または複数のメモリセルおよび、
    冗長ワード線毎にそれぞれ接続される一または複数のメ
    モリセルを含み、前記リファレンスアレイは、該通常ワ
    ード線に接続されるメモリセルと比較される第1リファ
    レンスセルおよび、該冗長ワード線に接続されるメモリ
    セルと比較される第2リファレンスセルを含む請求項1
    記載の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記デコード手段は、前記通常ワード線
    が選択される場合には、前記第1リファレンスセルに接
    続される第1ワード線を該通常ワード線と同時に選択制
    御し、前記冗長ワード線が選択される場合には、前記第
    2リファレンスセルに接続される第2ワード線を該冗長
    ワード線と同時に選択制御する請求項2記載の半導体記
    憶装置。
  4. 【請求項4】 前記デコード手段は、アドレス情報に基
    づいて該通常ワード線および冗長ワード線の何れを選択
    すべきかを判定する選択判定手段と、該通常ワード線の
    選択判定時に該アドレス情報に応じた通常ワード線を選
    択する通常ワード線制御手段と、該冗長ワード線の選択
    判定時にアドレス情報に応じた冗長ワード線を選択する
    冗長ワード線制御手段と、該通常ワード線選択判定時に
    前記第1ワード線を選択する第1リファレンスワード線
    制御手段と、該冗長ワード線選択判定時に前記第2ワー
    ド線を選択する第2リファレンスワード線制御手段とを
    有した請求項3記載の半導体記憶装置。
  5. 【請求項5】 前記第1リファレンスワード線制御手段
    は、前記通常ワード線の選択判定時に該通常ワード線の
    選択信号またはこれを示す信号が入力され、該通常ワー
    ド線の選択信号またはこれを示す信号をトリガとして前
    記第1ワード線を選択し、前記第2リファレンスワード
    線制御手段は、前記冗長ワード線の選択判定時に該冗長
    ワード線の選択信号またはこれを示す信号が入力され、
    該冗長ワード線の選択信号またはこれを示す信号をトリ
    ガとして前記第2ワード線を選択する請求項4記載の半
    導体記憶装置。
  6. 【請求項6】 前記第1リファレンスワード線制御手段
    は第1テスト信号が入力可能であり、該第1テスト信号
    によって前記第1リファレンスセルを強制選択し、前記
    第2リファレンスワード線制御手段は第2テスト信号が
    入力可能であり、該第2テスト信号によって前記第2リ
    ファレンスセルを強制選択する請求項4記載の半導体記
    憶装置。
  7. 【請求項7】 前記第1リファレンスワード線制御手段
    および第2リファレンスワード線制御手段の何れにも、
    アドレス情報の変化を検知して出力されたアドレス遷移
    検知信号を入力可能とし、該アドレス遷移検知信号の入
    力時にリファレンスワード線制御を可能とする請求項4
    記載の半導体記憶装置。
  8. 【請求項8】 前記第1リファレンスセルと第2リファ
    レンスセルは同一の閾値に設定されている請求項2また
    は3記載の半導体記憶装置。
  9. 【請求項9】 前記第1リファレンスセルと第2リファ
    レンスセルは同一のビット線に共通接続されている請求
    項2または3記載の半導体記憶装置。
  10. 【請求項10】 前記第1リファレンスセルに接続され
    る第1ワード線および、前記第2リファレンスセルに接
    続される第2ワード線の各負荷容量はそれぞれ、前記通
    常ワード線および冗長ワード線の各負荷容量とそれぞれ
    同一である請求項2または3記載の半導体記憶装置。
  11. 【請求項11】 請求項1〜10の何れかに記載の半導
    体記憶装置を用いてデータ読出動作を行う情報機器。
JP2001385152A 2001-12-18 2001-12-18 半導体記憶装置および情報機器 Expired - Fee Related JP3983048B2 (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001385152A JP3983048B2 (ja) 2001-12-18 2001-12-18 半導体記憶装置および情報機器
TW091134488A TW578162B (en) 2001-12-18 2002-11-27 Semiconductor storage device and information apparatus
US10/308,835 US6751131B2 (en) 2001-12-18 2002-12-02 Semiconductor storage device and information apparatus
SG200207468-0A SG131754A1 (en) 2001-12-18 2002-12-05 Semiconductor storage device and information apparatus
DE60223894T DE60223894T8 (de) 2001-12-18 2002-12-12 Halbleiterspeicheranordnung und Informationsgerät
EP02258576A EP1321945B1 (en) 2001-12-18 2002-12-12 Semiconductor storage device and information apparatus
KR10-2002-0079412A KR100459604B1 (ko) 2001-12-18 2002-12-13 반도체 기억장치 및 정보기기
CNB021563616A CN1288665C (zh) 2001-12-18 2002-12-18 半导体贮存器件和信息设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001385152A JP3983048B2 (ja) 2001-12-18 2001-12-18 半導体記憶装置および情報機器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003187587A true JP2003187587A (ja) 2003-07-04
JP3983048B2 JP3983048B2 (ja) 2007-09-26

Family

ID=19187792

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001385152A Expired - Fee Related JP3983048B2 (ja) 2001-12-18 2001-12-18 半導体記憶装置および情報機器

Country Status (8)

Country Link
US (1) US6751131B2 (ja)
EP (1) EP1321945B1 (ja)
JP (1) JP3983048B2 (ja)
KR (1) KR100459604B1 (ja)
CN (1) CN1288665C (ja)
DE (1) DE60223894T8 (ja)
SG (1) SG131754A1 (ja)
TW (1) TW578162B (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006129344A1 (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Spansion Llc 半導体装置
JP2011151404A (ja) * 2011-03-03 2011-08-04 Spansion Llc 半導体装置
US8553456B2 (en) 2009-04-30 2013-10-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Flash memory device having improved read operation speed

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004013961A (ja) * 2002-06-04 2004-01-15 Mitsubishi Electric Corp 薄膜磁性体記憶装置
US7372731B2 (en) * 2003-06-17 2008-05-13 Sandisk Il Ltd. Flash memories with adaptive reference voltages
US7180782B2 (en) * 2005-06-10 2007-02-20 Macronix International Co., Ltd. Read source line compensation in a non-volatile memory
TWI316712B (en) * 2006-06-27 2009-11-01 Silicon Motion Inc Non-volatile memory, repair circuit, and repair method thereof
JP2008192232A (ja) * 2007-02-05 2008-08-21 Spansion Llc 半導体装置およびその制御方法
US7643337B2 (en) * 2007-07-17 2010-01-05 Macronix International Co., Ltd. Multi-bit flash memory and reading method thereof
US8072802B2 (en) * 2008-12-05 2011-12-06 Spansion Llc Memory employing redundant cell array of multi-bit cells
JP5494455B2 (ja) * 2010-12-09 2014-05-14 富士通セミコンダクター株式会社 半導体記憶装置
KR102162701B1 (ko) * 2013-07-30 2020-10-07 에스케이하이닉스 주식회사 비휘발성 메모리 장치 및 이를 이용하는 반도체 시스템
JP6356837B1 (ja) * 2017-01-13 2018-07-11 ウィンボンド エレクトロニクス コーポレーション 半導体記憶装置および読出し方法
US10546629B1 (en) * 2018-10-10 2020-01-28 Micron Technology, Inc. Memory cell sensing based on precharging an access line using a sense amplifier

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57203291A (en) 1981-06-09 1982-12-13 Mitsubishi Electric Corp Memory circuit
JPS59185097A (ja) * 1983-04-04 1984-10-20 Oki Electric Ind Co Ltd 自己診断機能付メモリ装置
JPS6177946A (ja) * 1984-09-26 1986-04-21 Hitachi Ltd 半導体記憶装置
JPH04356799A (ja) * 1990-08-29 1992-12-10 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
EP0798727B1 (en) * 1996-03-29 2004-05-26 STMicroelectronics S.r.l. Data reading path management architecture for a memory device, particularly for non-volatile memories
US6535434B2 (en) * 2001-04-05 2003-03-18 Saifun Semiconductors Ltd. Architecture and scheme for a non-strobed read sequence

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006129344A1 (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Spansion Llc 半導体装置
US7376033B2 (en) 2005-05-30 2008-05-20 Spansion Llc Semiconductor device and programming method therefor
JPWO2006129344A1 (ja) * 2005-05-30 2008-12-25 スパンション エルエルシー 半導体装置
JP4804459B2 (ja) * 2005-05-30 2011-11-02 スパンション エルエルシー 半導体装置
US8553456B2 (en) 2009-04-30 2013-10-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Flash memory device having improved read operation speed
JP2011151404A (ja) * 2011-03-03 2011-08-04 Spansion Llc 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP1321945A1 (en) 2003-06-25
KR20030051286A (ko) 2003-06-25
EP1321945B1 (en) 2007-12-05
US20030112664A1 (en) 2003-06-19
DE60223894T2 (de) 2008-10-23
SG131754A1 (en) 2007-05-28
CN1427417A (zh) 2003-07-02
KR100459604B1 (ko) 2004-12-03
DE60223894T8 (de) 2009-02-12
JP3983048B2 (ja) 2007-09-26
TW578162B (en) 2004-03-01
CN1288665C (zh) 2006-12-06
US6751131B2 (en) 2004-06-15
TW200304149A (en) 2003-09-16
DE60223894D1 (de) 2008-01-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100228621B1 (ko) 기록 주기동안 데이터의 변화에 따라 등화하는 열을 가지는 반도체 메모리
US6111808A (en) Semiconductor memory device
US20050237784A1 (en) Nonvolatile ferroelectric memory device with split word lines
JP4907957B2 (ja) Nandフラッシュメモリ装置及びそれのプログラム方法
JP4499103B2 (ja) 不揮発性記憶装置の初期化制御方法
JP2003187587A (ja) 半導体記憶装置および情報機器
US20090185424A1 (en) Decoding control with address transition detection in page erase function
US7760579B2 (en) Flash memory device and block selection circuit thereof
JPH07201191A (ja) 不揮発性半導体メモリ装置
JPH097380A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
US5473565A (en) Method of flash writing with small operation current and semiconductor memory circuit according to the method
JP2005285223A (ja) 不揮発性半導体記憶装置及びそのデータ書き換え方法
JP3693504B2 (ja) メモリデバイス
WO2006090442A1 (ja) 半導体装置およびその制御方法
JP4680195B2 (ja) 半導体装置及びソース電圧制御方法
US7120041B2 (en) Memory device with programmable parameter controller
US6178118B1 (en) Electrically programmable semiconductor device with multi-level wordline voltages for programming multi-level threshold voltages
JPH10154393A (ja) スタティック型半導体記憶装置
US20070285990A1 (en) Semiconductor device and method for compensating voltage drop of a bit line
JP2003228991A (ja) 半導体記憶装置および電子情報機器
JP2013030269A (ja) 不揮発性記憶装置
JP2001266585A (ja) Mrom回路
JPH09204790A (ja) 半導体記憶装置
US9542984B2 (en) Semiconductor memory apparatus and operation method using the same
JPH0426996A (ja) 不揮発性半導体記憶装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040618

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070124

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070201

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070330

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070703

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070703

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100713

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3983048

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110713

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110713

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120713

Year of fee payment: 5

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120713

Year of fee payment: 5

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120713

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130713

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees