JP2003168293A5 - - Google Patents

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前記第1の比較電圧発生回路は、所定の定電圧を出力する定電圧発生回路と、前記定電圧発生回路の定電圧出力ノードに一端が接続された第1の抵抗と、前記第1の抵抗の他方の端子に一端が接続された第2の抵抗と、前記第2の抵抗の他方の端子に一端が接続された第3の抵抗とを備え、前記第3の抵抗の他方の端子に前記負電圧ノードが接続された構成とすることができる。前記第2の比較電圧は前記第1の抵抗と前記第2の抵抗が接続されたノードの出力信号であり、前記第1の比較電圧は前記第2の抵抗と前記第3の抵抗が接続されたノードの出力信号である。
前記参照電圧発生回路は、前記定電圧出力ノードに一端が接続された第4の抵抗と、前記第4の抵抗の他方の端子に一端が接続された第5の抵抗とを備え、前記第5の抵抗の他方の端子に接地電圧が接続された構成とすることができる。前記参照電圧は前記第4の抵抗と前記第5の抵抗が接続されたノードの出力信号である。
前記第4の抵抗と前記第5の抵抗の抵抗値を変化させることにより、前記参照電圧発生回路より出力される参照電圧の電圧値を変化させる構成とすることができる。また、前記第1の抵抗、前記第2の抵抗、および前記第3の抵抗の抵抗値を変化させることにより、前記比較電圧発生回路より出力される前記第1の比較電圧と第2の比較電圧の電圧値を変化させる構成とすることができる。
また、前記第1〜第5の抵抗は可変抵抗であり各々直列に接続された複数の抵抗を含み、前記複数の抵抗のうちの少なくとも一部の抵抗にそれぞれ並列にヒューズが接続された構成としてもよい。前記ヒューズのうちすくなくとも一つのヒューズを切断することにより、前記可変抵抗の全体としての抵抗値を変化させることが可能である。前記可変抵抗に含まれる前記ヒューズをトリミングすることにより、前記負電圧が直線的に変化するように前記可変抵抗を構成する抵抗の抵抗値を設定することもできる。
また好ましくは、前記負電圧ノードに一端が接続された出力部抵抗を更に備え、前記出力部抵抗の他方の端子に負荷が接続される。この構成において、前記負荷はメモリセルプレートとすることができる。前記負荷の大きさが搭載メモリビット数によって変化する構成としてもよい。また、前記負荷の大きさが活性化ブロック数によって変化する構成としてもよい。好ましくは、前記出力部抵抗と前記負荷を接続するノードに一端が接続された保護素子を更に備え、前記保護素子の他方の端子は接地電圧に接続されている構成とする。また好ましくは、前記保護素子を介して前記出力部抵抗と前記負荷を接続するノードに電流を供給することを可能とする。
また好ましくは、前記出力部抵抗と前記負荷を接続するノードに接続されたパッドを更に備え、前記パッドを介して、外部から電圧を印加することが可能であり、且つ前記ノードの電圧を検知することが可能である構成とする。また、前記負電圧上昇回路の出力ノードを、前記負電圧ノードに代えて前記出力部抵抗と前記負荷を接続するノードに接続してもよい。
また、上記の構成において好ましくは、前記第1の比較電圧発生回路は、所定の定電圧を出力する定電圧発生回路と、第2の比較電圧発生回路と、第3の比較電圧発生回路により構成する。前記第2の比較電圧発生回路は、前記定電圧発生回路の定電圧出力ノードに一端が接続された第6の抵抗と、前記第6の抵抗の他方の端子に一端が接続された第7の抵抗とを有し、前記第7の抵抗の他方の端子に前記負電圧ノードが接続される。前記第3の比較電圧発生回路は、前記定電圧出力ノードに一端が接続された第8の抵抗と、前記第8の抵抗の他方の端子に一端が接続された第9の抵抗とを有し、前記第9の抵抗の他方の端子に、前記出力部抵抗と前記負荷をつなぐノードが接続される。前記第1の比較電圧は前記第6の抵抗と前記第7の抵抗が接続されたノードの電圧であり、前記第2の比較電圧は前記第8の抵抗と前記第9の抵抗が接続されたノードの電圧である。
この構成において、前記第8の抵抗と前記第9の抵抗の抵抗値を変化させることにより、前記比較電圧発生回路より出力される前記第2の比較電圧の電圧値を変化させる構成としてもよい。また、前記第6の抵抗と前記第7の抵抗の抵抗値を変化させることにより、前記比較電圧発生回路より出力される前記第1の比較電圧の電圧値を変化させる構成としてもよい。
本発明の半導体記憶装置の製造方法は、上記構成の半導体記憶装置のうち、前記負電圧ノードに一端が接続され他方の端子に負荷が接続される出力部抵抗と、前記出力部抵抗と前記負荷を接続するノードに接続されたパッドとを備え、前記パッドを介して外部から電圧を印加することが可能であり、且つ前記ノードの電圧を検知することが可能である半導体記憶装置を製造する方法である。この方法においては、ウエハ検査時に、前記パッドに現れる電圧を検知し、前記可変抵抗に含まれる前記ヒューズをトリミングすることにより前記可変抵抗の抵抗値を調整する。

Claims (28)

  1. 負電圧ノードに所定の負電圧を出力するチャージポンプ回路と、
    前記負電圧ノードの電圧に応じて第1の比較電圧と第2の比較電圧を出力する第1の比較電圧発生回路と、
    参照電圧を出力する参照電圧発生回路と、
    前記参照電圧と前記第1の比較電圧とを比較し、その電圧差を増幅する第1の増幅器と、
    前記第1の増幅器の出力信号に応じて駆動され、前記チャージポンプ回路を駆動する信号を発生するリングオシレータと、
    前記参照電圧と前記第2の比較電圧とを比較し、その電圧差を増幅する第2の増幅器と、
    前記第2の増幅器の出力信号に応じて駆動され、前記負電圧ノードに接続された出力端子を有し、前記出力端子からの出力により前記負電圧ノードの電圧を上昇させる負電圧上昇回路とを備えたことを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 前記第1の比較電圧発生回路は、所定の定電圧を出力する定電圧発生回路と、前記定電圧発生回路の定電圧出力ノードに一端が接続された第1の抵抗と、前記第1の抵抗の他方の端子に一端が接続された第2の抵抗と、前記第2の抵抗の他方の端子に一端が接続された第3の抵抗とを備え、前記第3の抵抗の他方の端子に前記負電圧ノードが接続され、前記第2の比較電圧は前記第1の抵抗と前記第2の抵抗が接続されたノードの出力信号であり、前記第1の比較電圧は前記第2の抵抗と前記第3の抵抗が接続されたノードの出力信号であることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
  3. 前記参照電圧発生回路は、前記定電圧出力ノードに一端が接続された第4の抵抗と、前記第4の抵抗の他方の端子に一端が接続された第5の抵抗とを備え、前記第5の抵抗の他方の端子に接地電圧が接続され、前記参照電圧は前記第4の抵抗と前記第5の抵抗が接続されたノードの出力信号であることを特徴とする請求項2記載の半導体記憶装置。
  4. 前記第4の抵抗と前記第5の抵抗の抵抗値を変化させることにより、前記参照電圧発生回路より出力される参照電圧の電圧値を変化させることが可能である請求項3記載の半導体記憶装置。
  5. 前記第1の抵抗、前記第2の抵抗、および前記第3の抵抗の抵抗値を変化させることにより前記比較電圧発生回路より出力される前記第1の比較電圧と第2の比較電圧の電圧値を変化させることが可能である請求項2記載の半導体記憶装置。
  6. 前記第1〜第5の抵抗は可変抵抗であり各々直列に接続された複数の抵抗を含み、前記複数の抵抗のうちの少なくとも一部の抵抗にそれぞれ並列にヒューズが接続され、前記ヒューズのうちすくなくとも一つのヒューズを切断することにより、前記可変抵抗の全体としての抵抗値を変化させることが可能である請求項2または3に記載の半導体記憶装置。
  7. 前記可変抵抗に含まれる前記ヒューズをトリミングすることにより、前記負電圧が直線的に変化するように前記可変抵抗を構成する抵抗の抵抗値を設定した請求項6記載の半導体記憶装置。
  8. 前記負電圧上昇回路は、前記第2の増幅器の出力信号を受ける制御端子と、正電圧電源に接続された端子と、前記負電圧ノードに接続された端子とを有する第1導電型のトランジスタで構成された請求項1記載の半導体記憶装置。
  9. 前記負電圧上昇回路は、前記第2の増幅器の出力信号を受ける制御端子と、接地電圧以上の電圧を供給する電源に接続された端子と、前記負電圧ノードに接続された端子とを有する第2導電型のトランジスタで構成された請求項1記載の半導体記憶装置。
  10. 前記第1の増幅器と前記第2の増幅器は、カレントミラー型作動増幅器を有し、前記カレントミラー型作動増幅器の定電流源を構成するトランジスタの定電流値が、前記第1の増幅器よりも前記第2の増幅器の方が大きいことを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
  11. 前記第1の増幅器と前記第2の増幅器は、三段構成のカレントミラー型作動増幅器を有することを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
  12. 前記第1の比較電圧と前記第2の比較電圧は互いに異なる電圧であることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
  13. 前記参照電圧発生回路より出力され、前記第1の増幅器と前記第2の増幅器に入力される前記参照電圧が、接地電圧以上であることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
  14. 前記負電圧上昇回路を構成するトランジスタの寸法を、前記負電圧ノードに接続される負荷の大きさに応じて変化させることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
  15. 前記負電圧ノードに一端が接続された出力部抵抗を更に備え、前記出力部抵抗の他方の端子に負荷が接続されることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
  16. 前記負荷はメモリセルプレートであることを特徴とする請求項15記載の半導体記憶装置。
  17. 前記負荷の大きさが搭載メモリビット数によって変化することを特徴とする請求項16記載の半導体記憶装置。
  18. 前記負荷の大きさが活性化ブロック数によって変化することを特徴とする請求項16記載の半導体記憶装置。
  19. 前記出力部抵抗と前記負荷を接続するノードに一端が接続された保護素子を更に備え、前記保護素子の他方の端子は接地電圧に接続されていることを特徴とする請求項15記載の半導体記憶装置。
  20. 前記保護素子を介して前記出力部抵抗と前記負荷を接続するノードに電流を供給することが可能である請求項19記載の半導体記憶装置。
  21. 前記出力部抵抗と前記負荷を接続するノードに接続されたパッドを更に備え、前記パッドを介して、外部から電圧を印加することが可能であり、且つ前記ノードの電圧を検知することが可能であることを特徴とする請求項15記載の半導体記憶装置。
  22. 前記負電圧上昇回路の出力ノードが、前記負電圧ノードに代えて前記出力部抵抗と前記負荷を接続するノードに接続されたことを特徴とする請求項15記載の半導体記憶装置。
  23. 前記第1の比較電圧発生回路は、所定の定電圧を出力する定電圧発生回路と、第2の比較電圧発生回路と、第3の比較電圧発生回路により構成され、
    前記第2の比較電圧発生回路は、前記定電圧発生回路の定電圧出力ノードに一端が接続された第6の抵抗と、前記第6の抵抗の他方の端子に一端が接続された第7の抵抗とを有し、前記第7の抵抗の他方の端子に前記負電圧ノードが接続され、
    前記第3の比較電圧発生回路は、前記定電圧出力ノードに一端が接続された第8の抵抗と、前記第8の抵抗の他方の端子に一端が接続された第9の抵抗とを有し、前記第9の抵抗の他方の端子に、前記出力部抵抗と前記負荷をつなぐノードが接続され、
    前記第1の比較電圧は前記第6の抵抗と前記第7の抵抗が接続されたノードの電圧であり、前記第2の比較電圧は前記第8の抵抗と前記第9の抵抗が接続されたノードの電圧であることを特徴とする請求項15記載の半導体記憶装置。
  24. 前記第8の抵抗と前記第9の抵抗の抵抗値を変化させることにより、前記比較電圧発生回路より出力される前記第2の比較電圧の電圧値を変化させることを可能とした請求項23記載の半導体記憶装置。
  25. 前記第6の抵抗と前記第7の抵抗の抵抗値を変化させることにより、前記比較電圧発生回路より出力される前記第1の比較電圧の電圧値を変化させることを可能とした請求項23記載の半導体記憶装置。
  26. 前記第1の増幅器および前記第2の増幅器における各検知電圧の電圧差が、前記第1の増幅器のオフセット電圧と前記第2の増幅器のオフセット電圧の和の最大値よりも大きいことを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
  27. 前記参照電圧発生回路の出力が供給される参照電圧ノードと接地電圧との間に、コンデンサが挿入されていることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
  28. 請求項6に記載の半導体記憶装置の構成に加えて、前記負電圧ノードに一端が接続され他方の端子に負荷が接続される出力部抵抗と、前記出力部抵抗と前記負荷を接続するノードに接続されたパッドとを更に備え、前記パッドを介して外部から電圧を印加することが可能であり、且つ前記ノードの電圧を検知することが可能である半導体記憶装置を製造する方法であって、
    ウエハ検査時に、前記パッドに現れる電圧を検知し、前記可変抵抗に含まれる前記ヒューズをトリミングすることにより前記可変抵抗の抵抗値を調整することを特徴とする半導体記憶装置の製造方法。
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US10/306,588 US6741118B2 (en) 2001-11-29 2002-11-27 Semiconductor integrated circuit device and method of manufacturing the same
CNB02152792XA CN1194411C (zh) 2001-11-29 2002-11-28 半导体集成电路装置及其制造方法
KR10-2002-0075204A KR100498217B1 (ko) 2001-11-29 2002-11-29 반도체 집적 회로장치

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Families Citing this family (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002208275A (ja) * 2001-01-11 2002-07-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体集積回路およびその検査方法
US20020138580A1 (en) * 2001-03-21 2002-09-26 Binnus Al-Kazily Location based information delivery
US7180322B1 (en) 2002-04-16 2007-02-20 Transmeta Corporation Closed loop feedback control of integrated circuits
US7941675B2 (en) 2002-12-31 2011-05-10 Burr James B Adaptive power control
US7570106B2 (en) * 2002-09-27 2009-08-04 Oki Semiconductor Co., Ltd. Substrate voltage generating circuit with improved level shift circuit
DE10248498A1 (de) * 2002-10-17 2004-05-06 Infineon Technologies Ag Schaltungsanordnung zur Spannungsregelung
US7953990B2 (en) 2002-12-31 2011-05-31 Stewart Thomas E Adaptive power control based on post package characterization of integrated circuits
US7228242B2 (en) 2002-12-31 2007-06-05 Transmeta Corporation Adaptive power control based on pre package characterization of integrated circuits
US7649402B1 (en) * 2003-12-23 2010-01-19 Tien-Min Chen Feedback-controlled body-bias voltage source
US7012461B1 (en) 2003-12-23 2006-03-14 Transmeta Corporation Stabilization component for a substrate potential regulation circuit
US7692477B1 (en) 2003-12-23 2010-04-06 Tien-Min Chen Precise control component for a substrate potential regulation circuit
US7129771B1 (en) 2003-12-23 2006-10-31 Transmeta Corporation Servo loop for well bias voltage source
JP4383159B2 (ja) * 2003-12-25 2009-12-16 Necエレクトロニクス株式会社 チャージポンプ回路
JP4425727B2 (ja) * 2004-02-27 2010-03-03 Necエレクトロニクス株式会社 電源回路
KR100567533B1 (ko) * 2004-03-03 2006-04-03 주식회사 하이닉스반도체 차지 펌프 회로
US7119604B2 (en) * 2004-06-17 2006-10-10 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Back-bias voltage regulator having temperature and process variation compensation and related method of regulating a back-bias voltage
US7562233B1 (en) 2004-06-22 2009-07-14 Transmeta Corporation Adaptive control of operating and body bias voltages
US7774625B1 (en) 2004-06-22 2010-08-10 Eric Chien-Li Sheng Adaptive voltage control by accessing information stored within and specific to a microprocessor
JP4996046B2 (ja) * 2004-08-30 2012-08-08 富士通セミコンダクター株式会社 半導体装置の中間電位生成回路
KR100623598B1 (ko) * 2004-12-28 2006-09-14 주식회사 하이닉스반도체 내부 전원전압 발생장치를 구비하는 반도체메모리소자
KR100752643B1 (ko) * 2005-03-14 2007-08-29 삼성전자주식회사 입력 전압에 적응적으로 제어되는 전압 승압 장치
US20060232326A1 (en) * 2005-04-18 2006-10-19 Helmut Seitz Reference circuit that provides a temperature dependent voltage
JP2007122814A (ja) * 2005-10-28 2007-05-17 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体集積回路及びリーク電流低減方法
KR100650768B1 (ko) * 2005-11-10 2006-11-27 주식회사 하이닉스반도체 셀 트랜지스터의 문턱전압 트리밍 회로 및 그 방법
KR100728904B1 (ko) * 2005-12-28 2007-06-15 주식회사 하이닉스반도체 전압 발생기 및 이를 포함하는 반도체 메모리 장치
JP2007304698A (ja) * 2006-05-09 2007-11-22 Nec Electronics Corp 電源回路及び液晶表示装置
US20080061842A1 (en) * 2006-09-07 2008-03-13 Micron Technology, Inc. Circuit and method for detecting timed amplitude reduction of a signal relative to a threshold voltage
US7560959B2 (en) * 2006-09-18 2009-07-14 Micron Technology, Inc. Absolute value peak differential voltage detector circuit and method
US7741900B1 (en) 2006-11-02 2010-06-22 Marvell International Ltd. Bias setting device
JP2009260072A (ja) * 2008-04-17 2009-11-05 Toshiba Corp 半導体装置
KR100925392B1 (ko) 2008-07-28 2009-11-09 주식회사 하이닉스반도체 음 전압 생성 회로 및 이를 이용한 반도체 메모리 장치
US7911261B1 (en) * 2009-04-13 2011-03-22 Netlogic Microsystems, Inc. Substrate bias circuit and method for integrated circuit device
JP5564829B2 (ja) * 2009-05-14 2014-08-06 富士通セミコンダクター株式会社 半導体記憶装置及びその制御方法
JP5376516B2 (ja) * 2009-07-27 2013-12-25 スパンション エルエルシー 半導体装置
US8120411B1 (en) * 2009-07-31 2012-02-21 Altera Corporation Charge pump with ramp rate control
US8736358B2 (en) * 2010-07-21 2014-05-27 Macronix International Co., Ltd. Current source with tunable voltage-current coefficient
JP5718067B2 (ja) * 2011-01-17 2015-05-13 ラピスセミコンダクタ株式会社 昇圧システム、診断方法、及び診断プログラム
KR101890427B1 (ko) * 2011-12-28 2018-08-22 에스케이하이닉스 주식회사 내부전압생성회로
CN102654989B (zh) * 2012-05-04 2014-06-11 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示器的背光模块驱动方法及其系统
CN102710849B (zh) * 2012-05-14 2014-06-25 惠州Tcl移动通信有限公司 一种通过闪光灯提示电池电量偏低的移动终端
KR101458964B1 (ko) * 2012-10-17 2014-11-12 세영정보통신(주) 정전압과 정전류와 pwm을 이용한 led제어장치
US9336873B2 (en) * 2013-12-02 2016-05-10 Intel Corporation Apparatus for time domain offset cancellation to improve sensing margin resistive memories
CN104199500B (zh) * 2014-07-31 2017-02-08 歌尔科技有限公司 高电压发生电路、方法、电源控制电路以及电子系统
CN104243702B (zh) * 2014-09-05 2017-04-19 宇龙计算机通信科技(深圳)有限公司 一种低电量提示方法、装置及终端设备
CN107481760B (zh) * 2016-06-08 2020-06-02 中芯国际集成电路制造(天津)有限公司 负压输出电路
CN110622403B (zh) 2017-05-09 2023-01-10 索尼半导体解决方案公司 电源电路
US10826388B2 (en) * 2018-12-11 2020-11-03 Texas Instruments Incorporated Charge pump circuits
GB201906204D0 (en) * 2019-05-02 2019-06-19 Nordic Semiconductor Asa Voltage monitoring
JP2021145529A (ja) * 2020-03-13 2021-09-24 キオクシア株式会社 電子回路及び半導体装置
CN112004292B (zh) * 2020-08-03 2023-04-18 广州视源电子科技股份有限公司 一种led过压保护电路、电源模块以及电子设备
JP7383831B2 (ja) * 2020-09-23 2023-11-20 キオクシア株式会社 半導体記憶装置及びメモリシステム

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4769784A (en) * 1986-08-19 1988-09-06 Advanced Micro Devices, Inc. Capacitor-plate bias generator for CMOS DRAM memories
US4794278A (en) * 1987-12-30 1988-12-27 Intel Corporation Stable substrate bias generator for MOS circuits
JPH0494566A (ja) * 1990-08-10 1992-03-26 Sharp Corp 半導体記憶装置の基板バイアス発生回路
IT1258242B (it) * 1991-11-07 1996-02-22 Samsung Electronics Co Ltd Dispositivo di memoria a semiconduttore includente circuiteria di pompaggio della tensione di alimentazione
CN1126112C (zh) * 1994-11-29 2003-10-29 三菱电机株式会社 产生正负高压的电源输出电位复位电路
JP2812230B2 (ja) * 1995-02-15 1998-10-22 日本電気株式会社 バイアス電圧発生回路
JP3245037B2 (ja) * 1996-02-05 2002-01-07 株式会社東芝 半導体集積回路装置
US5703827A (en) * 1996-02-29 1997-12-30 Monolithic System Technology, Inc. Method and structure for generating a boosted word line voltage and a back bias voltage for a memory array
JP3450629B2 (ja) * 1997-02-26 2003-09-29 株式会社東芝 負電圧検知回路及び不揮発性半導体記憶装置
TW423162B (en) * 1997-02-27 2001-02-21 Toshiba Corp Power voltage supplying circuit and semiconductor memory including the same
US6115295A (en) * 1997-07-31 2000-09-05 Texas Instruments Incorporated Efficient back bias (VBB) detection and control scheme for low voltage DRAMS
US6424203B1 (en) * 2001-02-02 2002-07-23 Semiconductor Components Industries Llc Power supply circuit and method

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