JP2003152185A5 - 発光装置及び電流記憶回路 - Google Patents
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Description
特にドレインが2個であるマルチドレイントランジスタを、ダブルドレインランジスタと称する。以下では、ポリシリコン薄膜のダブルドレイントランジスタを用いた電流記憶機能つき画素回路の例を中心に、本発明を説明する。
駆動用素子102の第1要素トランジスタがダイオードとして動作することで、ソース信号線Siから画素201に入力されるビデオ信号電流は、そのまま書込み用素子101、駆動用素子102の第1要素トランジスタを介して、電源線V1〜Vxへ流れることになる。また同時に、ソース信号線Siから画素201に入力されるビデオ信号電流に対応する、駆動用素子102の第1要素トランジスタのゲート電圧が、書込み用素子101を介して、容量素子104に蓄積される。容量素子104に蓄積される電圧は、駆動用素子102の第1要素トランジスタのゲート・ソース間電圧VGSであるから、容量素子104の電圧に応じて、駆動用素子102の第1要素トランジスタがオンとなる。
以上までが、初期化用素子103がない場合には、動作の全容となる。初期化用素子103がある場合には、さらに以下の初期化動作を付加することが可能となる。初期化動作がない場合、各コマの画像は連続して表示されることになり、画像の動き方が滑らかさを十分に備えていない、やや低質の動画像表示となってしまう問題がある。初期化動作により、一コマ一コマの間に非表示のインターバルを設けると、簡便かつ効果的に、この動画質の低下を抑制できる。
各画素の階調は、書き込み期間Ta及び表示期間Tdにおいて発光素子105に流れる電流の大きさで決定される。そして、この電流値は、ソース信号線駆動回路202から画素201に入力される、ビデオ信号電流Ivdにより制御される。そこで、n階調分のビデオ信号電流Ivdを用意すれば、n階調の画像表示ができる。一般にOLED素子の発光輝度Lは、L=c(V)I(V)に示されるとおり、OLED素子に流される電流量I(V)に比例するとされる。よって、n階調分のビデオ信号電流Ivdは、概ね比例配分されたn個の値となる。
(実施例3)
本実施例では、接続配線に接続された各不純物領域間に、2つ以上のチャネル形成領域が設けられた、所謂マルチゲート構造を有する本発明の半導体素子について説明する。なお本実施例では、各接続配線間にチャネル形成領域が2つ設けられたダブルゲート構造の半導体素子について説明するが、本発明はダブルゲート構造に限定されず、各接続配線間にチャネル形成領域が3つ以上設けられたマルチゲート構造を有していても良い。
本実施例では、接続配線に接続された各不純物領域間に、2つ以上のチャネル形成領域が設けられた、所謂マルチゲート構造を有する本発明の半導体素子について説明する。なお本実施例では、各接続配線間にチャネル形成領域が2つ設けられたダブルゲート構造の半導体素子について説明するが、本発明はダブルゲート構造に限定されず、各接続配線間にチャネル形成領域が3つ以上設けられたマルチゲート構造を有していても良い。
本発明の発光装置は、発光素子を電流駆動することにより、発光表示装置中にある発光素子に流れる電流を、次のような場合においても良好に維持することができる。発光素子の電気抵抗が環境温度に大きく依存する場合、発光素子を電圧駆動すると経時的に発光輝度が低下してしまう場合、など。発光素子に流れる電流を良好に維持することにより、発光輝度を良好に保つことができる。その結果、RGBの各サブ画素を独立に形成する型のカラー表示装置では、色ずれの発生も回避できる。
Claims (35)
- 発光素子、第1の半導体素子、第2の半導体素子、ゲート信号線、ソース信号線及び電源線を有し、
前記第1及び第2の半導体素子は、それぞれ、チャネル形成領域と、同じ導電型を示す3つの不純物領域と、ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なるゲート電極を有し、
前記第1の半導体素子は、ゲート電極が前記ゲート信号線に接続され、3つの不純物領域のうち、1つは前記ソース信号線に接続され、他の1つは前記第2の半導体素子のゲート電極に接続され、他の1つは前記第2の半導体素子の不純物領域の1つに接続されており、
前記第2の半導体素子は、3つの不純物領域のうち、前記第1の半導体素子に接続された領域を除いて、他の1つは前記電源線に接続され、他の1つは前記発光素子に接続されていることを特徴とする発光装置。 - 発光素子、第1の半導体素子、第2の半導体素子、容量素子、ゲート信号線、ソース信号線及び電源線を有し、
前記第1及び第2の半導体素子は、それぞれ、チャネル形成領域と、同じ導電型を示す3つの不純物領域と、ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なるゲート電極を有し、
前記第1の半導体素子は、ゲート電極が前記ゲート信号線に接続され、3つの不純物領域のうち、1つは前記ソース信号線に接続され、他の1つは前記第2の半導体素子のゲート電極に接続され、他の1つは前記第2の半導体素子の不純物領域の1つに接続されており、
前記第2の半導体素子は、3つの不純物領域のうち、前記第1の半導体素子に接続された領域を除いて、他の1つは前記電源線に接続され、他の1つは前記発光素子に接続されており、
前記容量素子の一方の電極は前記第2の半導体素子のゲート電極に接続され、他方の電極は前記電源線に接続されていることを特徴とする発光装置。 - 発光素子、第1の半導体素子、第2の半導体素子、トランジスタ、容量素子、第1のゲート信号と、第2のゲート信号線、ソース信号線及び電源線を有し、
前記第1及び第2の半導体素子は、それぞれ、チャネル形成領域と、同じ導電型を示す3つの不純物領域と、ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なるゲート電極を有し、
前記第1の半導体素子は、ゲート電極が前記第1のゲート信号線に接続され、3つの不純物領域のうち、1つは前記ソース信号線に接続され、他の1つは前記第2の半導体素子のゲート電極に接続され、他の1つは前記第2の半導体素子の不純物領域の1つに接続されており、
前記第2の半導体素子は、3つの不純物領域のうち、前記第1の半導体素子に接続された領域を除いて、他の1つは前記電源線に接続され、他の1つは前記発光素子に接続されており、
前記トランジスタは、ゲート電極が第2のゲート信号線に接続され、ソース及びドレインの一方が前記第2の半導体素子のゲート電極に接続され、他方が前記電源線に接続されていることを特徴とする特徴とする発光装置。 - 発光素子、第1の半導体素子、第2の半導体素子、トランジスタ、容量素子、第1のゲート信号と、第2のゲート信号線、ソース信号線及び電源線を有し、
前記第1及び第2の半導体素子は、それぞれ、チャネル形成領域と、同じ導電型を示す3つの不純物領域と、ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なるゲート電極を有し、
前記第1の半導体素子は、ゲート電極が前記第1のゲート信号線に接続され、3つの不純物領域のうち、1つは前記ソース信号線に接続され、他の1つは前記第2の半導体素子のゲート電極に接続され、他の1つは前記第2の半導体素子の不純物領域の1つに接続さ れており、
前記第2の半導体素子は、3つの不純物領域のうち、前記第1の半導体素子に接続された領域を除いて、他の1つは前記電源線に接続され、他の1つは前記発光素子に接続されており、
前記トランジスタは、ゲート電極が第2のゲート信号線に接続され、ソース及びドレインの一方が前記第2の半導体素子のゲート電極に接続され、他方が前記電源線に接続されおり、
前記容量素子は、一方の電極が前記第2の半導体素子のゲート電極に接続され、他方の電極が前記電源線に接続されていることを特徴とする特徴とする発光装置。 - 請求項1乃至4のいずれか1項において、前記第1の半導体素子は、チャネル形成領域と3つの不純物領域の間の少なくとも一箇所に、低濃度不純物領域を有することを特徴とする発光装置。
- 請求項1乃至4のいずれか1項において、前記第1の半導体素子は、チャネル形成領域と3つの不純物領域の間の少なくとも一箇所に、オフセット領域を有することを特徴とする発光装置。
- 請求項1乃至6のいずれか1項において、前記第2の半導体素子は、チャネル形成領域と3つの不純物領域の間の少なくとも一箇所に、低濃度不純物領域を有することを特徴とする発光装置。
- 請求項1乃至6のいずれか1項において、前記第2の半導体素子は、チャネル形成領域と3つの不純物領域の間の少なくとも一箇所に、オフセット領域を有することを特徴とする発光装置。
- 発光素子、半導体素子、第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、ゲート信号線、ソース信号線及び電源線を有し、
前記第1及び第2のトランジスタは同じ導電型のトランジスタであり、
前記半導体素子は、チャネル形成領域と、同じ導電型を示す3つの不純物領域と、ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なるゲート電極を有し、
前記第1のトランジスタは、ゲート電極が前記ゲート信号線に接続され、ソース及びドレインの一方が前記ソース信号線に、他方が第1の半導体素子のゲート電極に接続されており、
前記第2のトランジスタは、ゲート電極が前記ゲート信号線に接続され、ソース及びドレインの一方が前記ソース信号線に、他方が前記半導体素子の不純物領域の1つに接続されており、
前記半導体素子は、3つの不純物領域のうち、前記第2のトランジスタに接続されている領域を除いて、他の1つは前記電源線に接続され、他の1つは前記発光素子に接続されていることを特徴とする発光装置。 - 発光素子、半導体素子、第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、容量素子、ゲート信号線、ソース信号線及び電源線を有し、
前記第1及び第2のトランジスタは同じ導電型のトランジスタであり、
前記半導体素子は、チャネル形成領域と、同じ導電型を示す3つの不純物領域と、ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なるゲート電極を有し、
前記第1のトランジスタは、ゲート電極が前記ゲート信号線に接続され、ソース及びドレインの一方が前記ソース信号線に、他方が第1の半導体素子のゲート電極に接続されており、
前記第2のトランジスタは、ゲート電極が前記ゲート信号線に接続され、ソース及びドレインの一方が前記ソース信号線に、他方が前記半導体素子の不純物領域の1つに接続されており、
前記半導体素子は、3つの不純物領域のうち、前記第2のトランジスタに接続されている領域を除いて、他の1つは前記電源線に接続され、他の1つは前記発光素子に接続されており、
前記容量素子の一方の電極は前記第1の半導体素子のゲート電極に接続され、他方の電 極は前記電源線に接続されていることを特徴とする発光装置。 - 発光素子、半導体素子、第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、第3のトランジスタ、第1のゲート信号線、第2のゲート信号線、ソース信号線及び電源線を有し、
前記第1及び第2のトランジスタは同じ導電型のトランジスタであり、
前記半導体素子は、チャネル形成領域と、同じ導電型を示す3つの不純物領域と、ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なるゲート電極を有し、
第1のトランジスタは、ゲート電極が前記第1のゲート信号線に、ソース及びドレインの一方が前記ソース信号線に、他方が第1の半導体素子のゲート電極に接続されており、
第2のトランジスタは、ゲート電極が前記第1のゲート信号線に、ソース及びドレインの一方が前記ソース信号線に、他方が前記半導体素子の不純物領域の1つに接続されており、
第3のトランジスタは、ゲート電極が第2のゲート信号線に接続され、ソース及びドレインの一方が前記半導体素子のゲート電極に、他方が前記電源線に接続されており、
前記半導体素子は、3つの不純物領域のうち、前記第2のトランジスタに接続されている領域を除いて、他の1つは前記電源線に接続され、他の1つは前記発光素子に接続されていることを特徴とする発光装置。 - 発光素子、半導体素子、第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、第3のトランジスタ、容量素子、第1のゲート信号線、第2のゲート信号線、ソース信号線と及び電源線を有し、
前記第1及び第2のトランジスタは同じ導電型のトランジスタであり、
前記半導体素子は、チャネル形成領域と、同じ導電型を示す3つの不純物領域と、ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なるゲート電極を有し、
第1のトランジスタは、ゲート電極が前記第1のゲート信号線に、ソース及びドレインの一方が前記ソース信号線に、他方が第1の半導体素子のゲート電極に接続されており、
第2のトランジスタは、ゲート電極が前記第1のゲート信号線に、ソース及びドレインの一方が前記ソース信号線に、他方が前記半導体素子の不純物領域の1つに接続されており、
第3のトランジスタは、ゲート電極が第2のゲート信号線に接続され、ソース及びドレインの一方が前記半導体素子のゲート電極に、他方が前記電源線に接続されており、
前記半導体素子は、3つの不純物領域のうち、前記第2のトランジスタに接続されている領域を除いて、他の1つは前記電源線に接続され、他の1つは前記発光素子に接続されており、
前記容量素子の一方の電極は前記第1の半導体素子のゲート電極に接続され、他方の電極は前記電源線に接続されていることを特徴とする発光装置。 - 請求項9乃至12のいずれか1項において、前記半導体素子は、チャネル形成領域と3つの不純物領域の間の少なくとも一箇所に、低濃度不純物領域を有することを特徴とする発光装置。
- 請求項9乃至12のいずれか1項において、前記半導体素子は、チャネル形成領域と3つの不純物領域の間の少なくとも一箇所に、オフセット領域を有することを特徴とする発光装置。
- 請求項1乃至14のいずれか1項において、前記発光素子は、有機発光ダイオードであることを特徴とする発光装置。
- 請求項1乃至14のいずれか1項において、前記発光素子は、無機発光ダイオードであることを特徴とする発光装置。
- 請求項1乃至14のいずれか1項において、前記発光素子は、FED素子であることを特徴とする発光装置。
- 請求項1乃至17のいずれか1項に記載の発光装置を表示部に用いたことを特徴とする携帯情報端末。
- 請求項1乃至17のいずれか1項に記載の発光装置を表示部に用いたこ とを特徴とするナビゲーションシステム。
- 請求項1乃至17のいずれか1項に記載の発光装置を表示部に用いたことを特徴とする画像再生装置。
- 請求項1乃至17のいずれか1項に記載の発光装置を表示部に用いたことを特徴とするTV放送受信用表示装置。
- 請求項1乃至17のいずれか1項に記載の発光装置を表示部に用いたことを特徴とするパソコン用表示装置。
- 請求項1乃至17のいずれか1項に記載の発光装置を表示部に用いたことを特徴とするデジタルスチルカメラ。
- 請求項1乃至17のいずれか1項に記載の発光装置を表示部に用いたことを特徴とするビデオカメラ。
- 請求項1乃至17のいずれか1項に記載の発光装置を表示部に用いたことを特徴とするパーソナルコンピュータ。
- 請求項1乃至17のいずれか1項に記載の発光装置を表示部に用いたことを特徴とする携帯電話。
- 第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、半導体素子、容量素子、選択信号線、電流データ入力信号線及び電源線を有し、
前記第1及び第2のトランジスタは同じ導電型のトランジスタであり、
前記半導体素子は、チャネル形成領域と、同じ導電型を示す3つの不純物領域と、ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なるゲート電極を有し、
前記容量素子は、一方の電極が前記半導体素子のゲート電極に接続され、他方の電極が前記電源線に接続されており、
第1のトランジスタは、ゲート電極が前記選択信号線に接続され、ソース及びドレインの一方が電流データ入力信号線に、他方が前記半導体素子のゲート電極に接続されており、
第2のトランジスタは、ゲート電極が前記選択信号線に接続され、ソース及びドレインの一方が電流データ入力信号線に、他方が前記半導体素子の不純物領域の1つに接続されており、
前記半導体素子において、3つの不純物領域のうち前記第2のトランジスタに接続された領域を除いて、他の1つの不純物領域は前記電源線に接続されており、他の1つの不純物領域から出力される電流を回路の出力に用いることを特徴とする電流記憶回路。 - 請求項27において、前記半導体素子は、チャネル形成領域と3つの不純物領域の間の少なくとも一箇所に、低濃度不純物領域を有することを特徴とする電流記憶回路。
- 請求項27において、前記半導体素子は、チャネル形成領域と3つの不純物領域の間の少なくとも一箇所に、オフセット領域を有することを特徴とする電流記憶回路。
- 第1の半導体素子、第2の半導体素子、容量素子、選択信号線、電流データ入力信号線及び電源線を有し、
前記第1及び第2の半導体素子は、それぞれ、チャネル形成領域と、同じ導電型を示す3つの不純物領域と、ゲート絶縁膜を介して前記チャネル形成領域と重なるゲート電極を有し、
前記容量素子は、一方の電極が前記第2の半導体素子のゲート電極に接続され、他方の電極が前記電源線に接続されており、
前記第1の半導体素子は、ゲート電極が選択線に接続され、3つの不純物領域のうち、1つは前記電流データ入力信号線に接続され、他の1つは前記第2の半導体素子のゲート電極に接続され、他の1つは前記第2の半導体素子の不純物領域の1つに接続されており、
前記第2の半導体素子において、3つの不純物領域のうち前記第2のトランジスタに接続された領域を除いて、他の1つの不純物領域は前記電源線に接続されており、他の1つ の不純物領域から出力される電流を回路の出力に用いることを特徴とする電流記憶回路。 - 請求項30において、前記第1の半導体素子は、チャネル形成領域と3つの不純物領域の間の少なくとも一箇所に、低濃度不純物領域を有することを特徴とする電流記憶回路。
- 請求項30において、前記第1の半導体素子は、チャネル形成領域と3つの不純物領域の間の少なくとも一箇所に、オフセット領域を有することを特徴とする電流記憶回路。
- 請求項30乃至32のいずれか1項において、前記第2の半導体素子は、チャネル形成領域と3つの不純物領域の間の少なくとも一箇所に、低濃度不純物領域を有することを特徴とする電流記憶回路。
- 請求項30乃至32のいずれか1項において、前記第2の半導体素子は、チャネル形成領域と3つの不純物領域の間の少なくとも一箇所に、オフセット領域を有することを特徴とする電流記憶回路。
- 請求項27乃至34のいずれか1項に記載の電流記憶回路をソース信号線駆動回路のバッファー回路に用いたことを特徴とする発光装置。
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KR100989708B1 (ko) * | 2004-01-26 | 2010-10-26 | 엘지전자 주식회사 | 이동 통신 단말기의 이중 디스플레이 패널 제어 장치 |
JP2006066757A (ja) * | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体装置 |
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JP2006309110A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-11-09 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 表示装置、アレイ基板、及び表示装置の製造方法 |
US8232598B2 (en) * | 2007-09-20 | 2012-07-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and method for manufacturing the same |
US8878174B2 (en) | 2011-04-15 | 2014-11-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor element, memory circuit, integrated circuit, and driving method of the integrated circuit |
US8681945B2 (en) * | 2011-12-22 | 2014-03-25 | Telefonaktiebolaget Lm Ericsson (Publ) | Calibration of a line driving device |
TWI462080B (zh) * | 2012-08-14 | 2014-11-21 | Au Optronics Corp | 主動式有機發光二極體電路及其操作方法 |
CN102916051B (zh) * | 2012-10-11 | 2015-09-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示装置 |
KR101454190B1 (ko) * | 2012-12-07 | 2014-11-03 | 엘지디스플레이 주식회사 | 어레이 기판 및 이의 제조방법 |
CN103151388B (zh) * | 2013-03-05 | 2015-11-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种多晶硅薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板 |
KR102257058B1 (ko) * | 2013-06-21 | 2021-05-26 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 |
JP5752295B2 (ja) * | 2014-05-29 | 2015-07-22 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置 |
CN104732907B (zh) * | 2015-03-04 | 2018-07-31 | 上海天马微电子有限公司 | 一种多输出元件、栅极驱动电路及显示装置 |
JP2017034060A (ja) * | 2015-07-31 | 2017-02-09 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 半導体装置及び表示装置 |
KR102514412B1 (ko) * | 2016-05-02 | 2023-03-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 반도체소자 및 이를 채용하는 표시장치 |
US10535297B2 (en) * | 2016-11-14 | 2020-01-14 | Int Tech Co., Ltd. | Display comprising an irregular-shape active area and method of driving the display |
CN110824326A (zh) * | 2019-11-15 | 2020-02-21 | 南京宏泰半导体科技有限公司 | 一种mosfet的测试方法 |
CN114974112B (zh) | 2021-03-16 | 2024-07-02 | 上海天马微电子有限公司 | 显示面板及显示装置 |
Family Cites Families (59)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US15960A (en) * | 1856-10-28 | Puppet-valve | ||
US66740A (en) * | 1867-07-16 | Milo a | ||
GB1525405A (en) * | 1974-10-14 | 1978-09-20 | Hitachi Ltd | Liquid crystal display panels |
FR2411512A1 (fr) | 1977-12-06 | 1979-07-06 | Lardy Jean Louis | Porte logique a transistor mos multidrain |
US4537471A (en) * | 1983-12-23 | 1985-08-27 | Hughes Aircraft Company | Liquid crystal pixel driver circuit and matrix display |
JPS60241266A (ja) * | 1984-05-16 | 1985-11-30 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体装置及びその製造方法 |
JPS61290767A (ja) | 1985-06-19 | 1986-12-20 | Hitachi Ltd | Mos電界効果トランジスタ |
US4917467A (en) * | 1988-06-16 | 1990-04-17 | Industrial Technology Research Institute | Active matrix addressing arrangement for liquid crystal display |
US5331192A (en) * | 1989-06-15 | 1994-07-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor device |
EP0403267B1 (en) | 1989-06-15 | 1996-11-27 | Matsushita Electronics Corporation | Semiconductor device |
US5198379A (en) * | 1990-04-27 | 1993-03-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of making a MOS thin film transistor with self-aligned asymmetrical structure |
JPH0492475A (ja) * | 1990-08-08 | 1992-03-25 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 相補型薄膜トランジスタ |
JPH04118964A (ja) | 1990-09-10 | 1992-04-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 薄膜トランジスタ |
US5376561A (en) * | 1990-12-31 | 1994-12-27 | Kopin Corporation | High density electronic circuit modules |
US5258325A (en) * | 1990-12-31 | 1993-11-02 | Kopin Corporation | Method for manufacturing a semiconductor device using a circuit transfer film |
JPH04267551A (ja) * | 1991-02-22 | 1992-09-24 | Casio Comput Co Ltd | 薄膜トランジスタ |
JP2775040B2 (ja) * | 1991-10-29 | 1998-07-09 | 株式会社 半導体エネルギー研究所 | 電気光学表示装置およびその駆動方法 |
JPH05235339A (ja) * | 1992-02-24 | 1993-09-10 | Matsushita Electron Corp | Misトランジスタ |
JPH07106581A (ja) | 1993-10-04 | 1995-04-21 | Casio Comput Co Ltd | 半導体装置 |
US5620906A (en) * | 1994-02-28 | 1997-04-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for producing semiconductor device by introducing hydrogen ions |
JPH07263703A (ja) | 1994-03-18 | 1995-10-13 | Sharp Corp | 半導体装置及び表示装置駆動回路 |
JP3197431B2 (ja) | 1994-05-26 | 2001-08-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置作製方法、半導体装置、電気光学装置の作製方法、電気光学装置および液晶表示装置 |
JP3364559B2 (ja) * | 1995-10-11 | 2003-01-08 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
JPH09319323A (ja) | 1996-05-28 | 1997-12-12 | Toshiba Microelectron Corp | 定電流駆動回路 |
JP3440764B2 (ja) | 1996-07-03 | 2003-08-25 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置 |
TW324862B (en) * | 1996-07-03 | 1998-01-11 | Hitachi Ltd | Liquid display apparatus |
JPH10144928A (ja) * | 1996-11-08 | 1998-05-29 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及びその作製方法 |
US6310363B1 (en) * | 1998-05-15 | 2001-10-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Thin-film transistor and semiconductor device using thin-film transistors with N and P impurities in the source and drain regions |
US5930632A (en) * | 1997-12-01 | 1999-07-27 | Advanced Micro Devices | Process of fabricating a semiconductor device having cobalt niobate gate electrode structure |
JPH11177102A (ja) * | 1997-12-08 | 1999-07-02 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置およびその作製方法 |
GB9812742D0 (en) | 1998-06-12 | 1998-08-12 | Philips Electronics Nv | Active matrix electroluminescent display devices |
JP2000187243A (ja) | 1998-12-22 | 2000-07-04 | Sony Corp | 電気光学装置、電気光学装置用の駆動基板、及びこれらの製造方法 |
JP2000221903A (ja) | 1999-01-29 | 2000-08-11 | Sanyo Electric Co Ltd | エレクトロルミネッセンス表示装置 |
JP3686769B2 (ja) * | 1999-01-29 | 2005-08-24 | 日本電気株式会社 | 有機el素子駆動装置と駆動方法 |
JP3353731B2 (ja) | 1999-02-16 | 2002-12-03 | 日本電気株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子駆動装置 |
JP3259774B2 (ja) | 1999-06-09 | 2002-02-25 | 日本電気株式会社 | 画像表示方法および装置 |
JP4092857B2 (ja) * | 1999-06-17 | 2008-05-28 | ソニー株式会社 | 画像表示装置 |
JP2001056667A (ja) | 1999-08-18 | 2001-02-27 | Tdk Corp | 画像表示装置 |
JP4700156B2 (ja) * | 1999-09-27 | 2011-06-15 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
TW591584B (en) | 1999-10-21 | 2004-06-11 | Semiconductor Energy Lab | Active matrix type display device |
JP2001147659A (ja) | 1999-11-18 | 2001-05-29 | Sony Corp | 表示装置 |
TW525122B (en) | 1999-11-29 | 2003-03-21 | Semiconductor Energy Lab | Electronic device |
JP2001296553A (ja) | 2000-04-14 | 2001-10-26 | Advanced Display Inc | 表示装置および表示装置の製造方法 |
US20010030511A1 (en) * | 2000-04-18 | 2001-10-18 | Shunpei Yamazaki | Display device |
JP4014831B2 (ja) | 2000-09-04 | 2007-11-28 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | El表示装置及びその駆動方法 |
SG114502A1 (en) * | 2000-10-24 | 2005-09-28 | Semiconductor Energy Lab | Light emitting device and method of driving the same |
TW545080B (en) | 2000-12-28 | 2003-08-01 | Semiconductor Energy Lab | Light emitting device and method of manufacturing the same |
SG115435A1 (en) * | 2000-12-28 | 2005-10-28 | Semiconductor Energy Lab | Luminescent device |
CN100430515C (zh) | 2001-02-01 | 2008-11-05 | 株式会社半导体能源研究所 | 沉积装置和沉积方法 |
SG118118A1 (en) | 2001-02-22 | 2006-01-27 | Semiconductor Energy Lab | Organic light emitting device and display using the same |
JP4265733B2 (ja) | 2001-06-01 | 2009-05-20 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 有機el素子及びその作製方法、発光装置、電気器具 |
US7199515B2 (en) * | 2001-06-01 | 2007-04-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organic light emitting element and light emitting device using the element |
JP2003005966A (ja) | 2001-06-25 | 2003-01-10 | Mitsubishi Electric Corp | プログラム自動生成装置 |
KR100945467B1 (ko) * | 2001-10-09 | 2010-03-05 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 스위칭소자, 표시장치, 그 스위칭소자를 사용한 발광장치및 반도체장치 |
JP4202012B2 (ja) | 2001-11-09 | 2008-12-24 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置及び電流記憶回路 |
US6815723B2 (en) | 2001-12-28 | 2004-11-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device, method of manufacturing the same, and manufacturing apparatus therefor |
US6809481B2 (en) | 2002-02-28 | 2004-10-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and electric device using the same |
JP4046267B2 (ja) * | 2002-03-26 | 2008-02-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置 |
JP4034122B2 (ja) | 2002-05-31 | 2008-01-16 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置及び素子基板 |
-
2001
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